JPH09178901A - 屈折率分布型光学材料、及びその製造方法 - Google Patents
屈折率分布型光学材料、及びその製造方法Info
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- JPH09178901A JPH09178901A JP7339530A JP33953095A JPH09178901A JP H09178901 A JPH09178901 A JP H09178901A JP 7339530 A JP7339530 A JP 7339530A JP 33953095 A JP33953095 A JP 33953095A JP H09178901 A JPH09178901 A JP H09178901A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 屈折率分布型の光学材料を提供することを目
的とする。 【解決手段】 フォトブリーチングを起こし得る原子団
を有する材料に対して光照射してなり、位置によって屈
折率が異なる屈折率分布型光学材料。
的とする。 【解決手段】 フォトブリーチングを起こし得る原子団
を有する材料に対して光照射してなり、位置によって屈
折率が異なる屈折率分布型光学材料。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば光ファイ
バ、複写機、ファクシミリ、ＬＥＤプリンタ、ＯＨＰ等
に使用される等倍型、拡大型、縮小型読み取りレンズ、
波長選択透過板、視野選択フィルム、特に次世代各種液
晶ディスプレイに使われるマイクロレンズアレイ、ホロ
グラム、あるいはコンタクトレンズや眼鏡用レンズ、光
収束あるいは分散型レンズ等に用いられる光学材料に関
する。
バ、複写機、ファクシミリ、ＬＥＤプリンタ、ＯＨＰ等
に使用される等倍型、拡大型、縮小型読み取りレンズ、
波長選択透過板、視野選択フィルム、特に次世代各種液
晶ディスプレイに使われるマイクロレンズアレイ、ホロ
グラム、あるいはコンタクトレンズや眼鏡用レンズ、光
収束あるいは分散型レンズ等に用いられる光学材料に関
する。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】近年、超高速度で大容
量の情報を伝達する光通信の重要性は極めて大きい。日
本においては、光ファイバが、既に、北海道から九州ま
で敷設されている。しかし、これが拡張され、各家庭ま
でネットワーク化される為には、各種の問題が有る。
量の情報を伝達する光通信の重要性は極めて大きい。日
本においては、光ファイバが、既に、北海道から九州ま
で敷設されている。しかし、これが拡張され、各家庭ま
でネットワーク化される為には、各種の問題が有る。
【０００３】例えば、これまでの石英ガラス製の光ファ
イバには、次のような問題が有る。先ず、石英ガラス製
の光ファイバは脆く、折れ易い。又、直径が数μｍ程度
のものしか作れていない。この為、光ファイバを接続し
たり、分岐が必要である。しかし、接続や分岐を多く必
要とすると、その作業は大変である。ところで、石英ガ
ラスに代わる光ファイバの材料としてプラスチックが提
案されている。このプラスチック製の光ファイバは大口
径のものを作れることから、接続や分岐の作業は容易で
ある。かつ、柔軟性も有る。このようなことから、近
年、その研究が盛んに行われている。
イバには、次のような問題が有る。先ず、石英ガラス製
の光ファイバは脆く、折れ易い。又、直径が数μｍ程度
のものしか作れていない。この為、光ファイバを接続し
たり、分岐が必要である。しかし、接続や分岐を多く必
要とすると、その作業は大変である。ところで、石英ガ
ラスに代わる光ファイバの材料としてプラスチックが提
案されている。このプラスチック製の光ファイバは大口
径のものを作れることから、接続や分岐の作業は容易で
ある。かつ、柔軟性も有る。このようなことから、近
年、その研究が盛んに行われている。
【０００４】これまで開発されて来たステップインデッ
クス（ＳＩ）型光ファイバを図１７に示す。このＳＩ型
光ファイバはコア３０とクラッド３１とからなる。コア
３０の屈折率はクラッド３１の屈折率よりも大きい。し
かし、ＳＩ型光ファイバはパルス幅を短く出来ないの
で、大容量の情報を超高速で伝達することが出来ない。
クス（ＳＩ）型光ファイバを図１７に示す。このＳＩ型
光ファイバはコア３０とクラッド３１とからなる。コア
３０の屈折率はクラッド３１の屈折率よりも大きい。し
かし、ＳＩ型光ファイバはパルス幅を短く出来ないの
で、大容量の情報を超高速で伝達することが出来ない。
【０００５】これを克服するものとして、グレイテッド
インデェクス（ＧＩ）型光ファイバが提案された。尚、
このＧＩ型光ファイバは、図１８に示される如く、ファ
イバの半径向に沿って連続した屈折率分布を有する。例
えば、特開昭６２−２５７０５号公報では、屈折率及び
反応比の異なる二種類以上のビニルモノマ、及び光重合
開始剤を容器に入れ、光重合させることによって、図１
８に示される屈折率分布型の材料を得ている。特開平７
−５６０２６号公報では、光反応性の活性基を有する重
合体Ａと、この重合体Ａより屈折率の低い化合物Ｂの拡
散溶液とを用い、重合体Ａの外周からその内部に化合物
Ｂを拡散させ、外周部から中心部にかけて化合物Ｂの濃
度が次第に減少した濃度分布を有する材料を得る。この
後、光反応性の活性基と化合物Ｂとを反応させ、化合物
Ｂを固定し、図１８に示される屈折率分布型の材料を得
ている。その他にも、特開昭６２−２０９４０２号公
報、特開平３−１９２３１０号公報、ＷＯ９３／１９５
０５国際公開特許公報、特開平５−６０９３１号公報、
ＷＯ９４／０４９４９国際公開特許公報なども知られて
いる。いずれも、二種類以上のポリマ（又はモノマ）を
ブレンドしたり、分散させたりして、図１８に示される
屈折率分布型の材料を得ている。
インデェクス（ＧＩ）型光ファイバが提案された。尚、
このＧＩ型光ファイバは、図１８に示される如く、ファ
イバの半径向に沿って連続した屈折率分布を有する。例
えば、特開昭６２−２５７０５号公報では、屈折率及び
反応比の異なる二種類以上のビニルモノマ、及び光重合
開始剤を容器に入れ、光重合させることによって、図１
８に示される屈折率分布型の材料を得ている。特開平７
−５６０２６号公報では、光反応性の活性基を有する重
合体Ａと、この重合体Ａより屈折率の低い化合物Ｂの拡
散溶液とを用い、重合体Ａの外周からその内部に化合物
Ｂを拡散させ、外周部から中心部にかけて化合物Ｂの濃
度が次第に減少した濃度分布を有する材料を得る。この
後、光反応性の活性基と化合物Ｂとを反応させ、化合物
Ｂを固定し、図１８に示される屈折率分布型の材料を得
ている。その他にも、特開昭６２−２０９４０２号公
報、特開平３−１９２３１０号公報、ＷＯ９３／１９５
０５国際公開特許公報、特開平５−６０９３１号公報、
ＷＯ９４／０４９４９国際公開特許公報なども知られて
いる。いずれも、二種類以上のポリマ（又はモノマ）を
ブレンドしたり、分散させたりして、図１８に示される
屈折率分布型の材料を得ている。
【０００６】尚、ＧＩ型光ファイバをアレイ化し、レン
ズの長さ、物体面との距離を調整して正立等倍像を作る
ことができる。そして、マイクロレンズや光ファイバに
よるアレイ化した長尺状のレンズについては、特開昭６
２−２５７０５号公報、特開平５−８０９８１号公報、
特開平３−１７４１０５公報などに記載が有る。ところ
で、屈折率分布型の材料（光ファイバ）は、式（１）で
表される屈折率分布曲線を有するものが理想的と言われ
ている。
ズの長さ、物体面との距離を調整して正立等倍像を作る
ことができる。そして、マイクロレンズや光ファイバに
よるアレイ化した長尺状のレンズについては、特開昭６
２−２５７０５号公報、特開平５−８０９８１号公報、
特開平３−１７４１０５公報などに記載が有る。ところ
で、屈折率分布型の材料（光ファイバ）は、式（１）で
表される屈折率分布曲線を有するものが理想的と言われ
ている。
【０００７】 ｎ＝ｎ0 （１−ａ・ｒ2 ） （１） 但し、ｎ＝光ファイバの中心部より半径ｒ離れた位置で
の屈折率 ｎ0 ＝光ファイバの中心部での屈折率 ａ＝光ファイバの屈折率分布定数 前記の図１８と式（１）との対比から判る通り、これま
でのＧＩ型光ファイバは優れたものとは言えない。
の屈折率 ｎ0 ＝光ファイバの中心部での屈折率 ａ＝光ファイバの屈折率分布定数 前記の図１８と式（１）との対比から判る通り、これま
でのＧＩ型光ファイバは優れたものとは言えない。
【０００８】又、屈折率が異なる二種類以上のポリマを
混合することにより得た屈折率分布型の材料は、屈折率
分布にゆらぎが認められものが多い。かつ、透明性が低
下する。更には、光散乱も起こり易い。しかも、連続製
造が難しい為、長いものが得られ難い。又、ファイバの
径が細いものでは、明るさが不足する。逆に、ファイバ
の径が大きいと、多数本のファイバを並べてアレイ化し
たもので得られる画像は、画像の重なり度合いが不均一
となる。この結果、鮮明な画像が得られない。
混合することにより得た屈折率分布型の材料は、屈折率
分布にゆらぎが認められものが多い。かつ、透明性が低
下する。更には、光散乱も起こり易い。しかも、連続製
造が難しい為、長いものが得られ難い。又、ファイバの
径が細いものでは、明るさが不足する。逆に、ファイバ
の径が大きいと、多数本のファイバを並べてアレイ化し
たもので得られる画像は、画像の重なり度合いが不均一
となる。この結果、鮮明な画像が得られない。
【０００９】この為、大スケールの液晶ディスプレイへ
の利用は難しい。従って、本発明は、屈折率分布型の光
学材料を提供することを目的とする。又、フレキシブル
で、大口径、かつ、長いものを得ることが出来る光学材
料を提供することを目的とする。又、ファイバだけでな
く、フィルム、板、その他どのような形状のものにも通
用可能な光学材料を提供することを目的とする。
の利用は難しい。従って、本発明は、屈折率分布型の光
学材料を提供することを目的とする。又、フレキシブル
で、大口径、かつ、長いものを得ることが出来る光学材
料を提供することを目的とする。又、ファイバだけでな
く、フィルム、板、その他どのような形状のものにも通
用可能な光学材料を提供することを目的とする。
【００１０】例えば、光ファイバ、マイクロアレイレン
ズ、光回路素子、液晶ディスプレイ、光ＩＣ、レーザプ
リンタ、ビデオカメラ等の光学素子、その他コンタクト
レンズや眼鏡用レンズとして利用できる光学材料を提供
することを目的とする。
ズ、光回路素子、液晶ディスプレイ、光ＩＣ、レーザプ
リンタ、ビデオカメラ等の光学素子、その他コンタクト
レンズや眼鏡用レンズとして利用できる光学材料を提供
することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】前記本発明の目的は、フ
ォトブリーチングを起こし得る原子団を有する材料に対
して光照射してなり、位置によって屈折率が異なること
を特徴とする屈折率分布型光学材料によって達成され
る。特に、フォトブリーチングを起こし得る原子団を有
する材料に対して光照射してなり、屈折率が中心位置か
ら外側に向かってほぼ連続的に変化してなることを特徴
とする屈折率分布型光学材料によって達成される。
ォトブリーチングを起こし得る原子団を有する材料に対
して光照射してなり、位置によって屈折率が異なること
を特徴とする屈折率分布型光学材料によって達成され
る。特に、フォトブリーチングを起こし得る原子団を有
する材料に対して光照射してなり、屈折率が中心位置か
ら外側に向かってほぼ連続的に変化してなることを特徴
とする屈折率分布型光学材料によって達成される。
【００１２】或いは、フォトブリーチングを起こし得る
原子団を有する材料に対して光照射してなり、屈折率が
中心位置から外側に向かってほぼ二次関数的に変化して
なることを特徴とする屈折率分布型光学材料によって達
成される。若しくは、フォトブリーチングを起こし得る
原子団を有する材料に対して光照射してなり、屈折率が
段階的に変化してなることを特徴とする屈折率分布型光
学材料によって達成される。
原子団を有する材料に対して光照射してなり、屈折率が
中心位置から外側に向かってほぼ二次関数的に変化して
なることを特徴とする屈折率分布型光学材料によって達
成される。若しくは、フォトブリーチングを起こし得る
原子団を有する材料に対して光照射してなり、屈折率が
段階的に変化してなることを特徴とする屈折率分布型光
学材料によって達成される。
【００１３】尚、上記のフォトブリーチングを起こし得
る原子団を有する材料は、フレキシブルな点から、プラ
スチック（樹脂、重合体）が好ましい。特に、フォトブ
リーチングを起こし得る原子団が主鎖及び／又は側鎖に
ある重合体が好ましい。例えば、フォトブリーチングを
起こし得る化合物Ａと重合性モノマＢとの反応・重合物
からなるプラスチック、フォトブリーチングを起こし得
る化合物Ａと重合体Ｃとの反応物からなるプラスチッ
ク、フォトブリーチングを起こし得る化合物Ａと重合体
Ｄとの混合物からなるプラスチックが挙げられる。更に
は、主鎖骨格にＳｉを持つシリコン系樹脂も挙げられ
る。
る原子団を有する材料は、フレキシブルな点から、プラ
スチック（樹脂、重合体）が好ましい。特に、フォトブ
リーチングを起こし得る原子団が主鎖及び／又は側鎖に
ある重合体が好ましい。例えば、フォトブリーチングを
起こし得る化合物Ａと重合性モノマＢとの反応・重合物
からなるプラスチック、フォトブリーチングを起こし得
る化合物Ａと重合体Ｃとの反応物からなるプラスチッ
ク、フォトブリーチングを起こし得る化合物Ａと重合体
Ｄとの混合物からなるプラスチックが挙げられる。更に
は、主鎖骨格にＳｉを持つシリコン系樹脂も挙げられ
る。
【００１４】ところで、フォトブリーチングを起こし得
る化合物Ａは、分子内でフォトブリーチングが起きる構
造を持つもの、分子間でフォトブリーチングが起きる構
造を持つものとに分けられる。例えば、光エネルギを吸
収して電子が分子内（原子団内）移動し、二重結合が切
断され、環化が起き得る構造を持つ。あるいは、二重結
合を持ち、更に前記二重結合が分子内（原子団内）で環
化し易い構造を有する。このような化合物としては、例
えば芳香族アルキレート、ヒドロ芳香族炭化水素系化合
物、ビシクロヘプタン、カルボン酸誘導体、ノルボルナ
ジエン誘導体、シクロオレフィン系化合物、高共役トロ
ポロン系化合物、無色のアゾ系化合物、アントラセン及
びその誘導体、アルデヒド類、ケトン類等が挙げられ
る。
る化合物Ａは、分子内でフォトブリーチングが起きる構
造を持つもの、分子間でフォトブリーチングが起きる構
造を持つものとに分けられる。例えば、光エネルギを吸
収して電子が分子内（原子団内）移動し、二重結合が切
断され、環化が起き得る構造を持つ。あるいは、二重結
合を持ち、更に前記二重結合が分子内（原子団内）で環
化し易い構造を有する。このような化合物としては、例
えば芳香族アルキレート、ヒドロ芳香族炭化水素系化合
物、ビシクロヘプタン、カルボン酸誘導体、ノルボルナ
ジエン誘導体、シクロオレフィン系化合物、高共役トロ
ポロン系化合物、無色のアゾ系化合物、アントラセン及
びその誘導体、アルデヒド類、ケトン類等が挙げられ
る。
【００１５】前記化合物Ａと反応する重合性モノマＢ
は、二重結合又は三重結合を有する。このような化合物
としては、例えばビニル系化合物、アクリル系化合物、
メタクリル系化合物等が挙げられる。この他にも、ｐ−
フェレンビスエチニルベンゼン、ｐ−ジエチニルベンゼ
ン、３，３’−オキシジ（ｐ−フェニレン）ビス２，
４，５−トリフェニルシクロペンタジエノン等の多フェ
ニル置換ポリフェニレン、或いはポリフェニレンエーテ
ル化合物をＤｉｅｌｓ−Ａｌｄｅｒ反応により得た透明
な耐高温性重合体を用いることも出来る。
は、二重結合又は三重結合を有する。このような化合物
としては、例えばビニル系化合物、アクリル系化合物、
メタクリル系化合物等が挙げられる。この他にも、ｐ−
フェレンビスエチニルベンゼン、ｐ−ジエチニルベンゼ
ン、３，３’−オキシジ（ｐ−フェニレン）ビス２，
４，５−トリフェニルシクロペンタジエノン等の多フェ
ニル置換ポリフェニレン、或いはポリフェニレンエーテ
ル化合物をＤｉｅｌｓ−Ａｌｄｅｒ反応により得た透明
な耐高温性重合体を用いることも出来る。
【００１６】又、前記本発明の目的は、フォトブリーチ
ングを起こし得る原子団を有する材料に対して不均一的
に光照射することを特徴とする屈折率分布型光学材料の
製造方法によって達成される。又、フォトブリーチング
を起こし得る原子団を有する材料に対して不均一的に光
照射することを特徴とする屈折率が段階的に変化してな
る屈折率分布型光学材料の製造方法によって達成され
る。特に、フォトブリーチングを起こし得る原子団を有
する材料に対して、屈折率が段階的に変化（減少または
増加、あるいはパルス状）するよう光照射することを特
徴とする屈折率分布型光学材料の製造方法によって達成
される。
ングを起こし得る原子団を有する材料に対して不均一的
に光照射することを特徴とする屈折率分布型光学材料の
製造方法によって達成される。又、フォトブリーチング
を起こし得る原子団を有する材料に対して不均一的に光
照射することを特徴とする屈折率が段階的に変化してな
る屈折率分布型光学材料の製造方法によって達成され
る。特に、フォトブリーチングを起こし得る原子団を有
する材料に対して、屈折率が段階的に変化（減少または
増加、あるいはパルス状）するよう光照射することを特
徴とする屈折率分布型光学材料の製造方法によって達成
される。
【００１７】又、フォトブリーチングを起こし得る化合
物と重合性モノマとを反応させ、主鎖及び／又は側鎖に
フォトブリーチングを起こし得る原子団を有する材料を
得、この後、不均一的に光照射することを特徴とする屈
折率が段階的に変化してなる屈折率分布型光学材料の製
造方法によって達成される。特に、フォトブリーチング
を起こし得る化合物と重合性モノマとを反応させ、主鎖
及び／又は側鎖にフォトブリーチングを起こし得る原子
団を有する材料を得、この後、屈折率が段階的に変化
（減少または増加、あるいはパルス状）するよう光照射
することを特徴とする屈折率分布型光学材料の製造方法
によって達成される。
物と重合性モノマとを反応させ、主鎖及び／又は側鎖に
フォトブリーチングを起こし得る原子団を有する材料を
得、この後、不均一的に光照射することを特徴とする屈
折率が段階的に変化してなる屈折率分布型光学材料の製
造方法によって達成される。特に、フォトブリーチング
を起こし得る化合物と重合性モノマとを反応させ、主鎖
及び／又は側鎖にフォトブリーチングを起こし得る原子
団を有する材料を得、この後、屈折率が段階的に変化
（減少または増加、あるいはパルス状）するよう光照射
することを特徴とする屈折率分布型光学材料の製造方法
によって達成される。
【００１８】又、フォトブリーチングを起こし得る原子
団を有する材料に対して不均一的に光照射することを特
徴とする屈折率が中心位置から外側に向かってほぼ連続
的に変化してなる屈折率分布型光学材料の製造方法によ
って達成される。特に、フォトブリーチングを起こし得
る原子団を有する材料に対して、屈折率が中心位置から
外側に向かってほぼ連続的に変化（減少または増加）す
るよう光照射することを特徴とする屈折率分布型光学材
料の製造方法によって達成される。
団を有する材料に対して不均一的に光照射することを特
徴とする屈折率が中心位置から外側に向かってほぼ連続
的に変化してなる屈折率分布型光学材料の製造方法によ
って達成される。特に、フォトブリーチングを起こし得
る原子団を有する材料に対して、屈折率が中心位置から
外側に向かってほぼ連続的に変化（減少または増加）す
るよう光照射することを特徴とする屈折率分布型光学材
料の製造方法によって達成される。
【００１９】又、フォトブリーチングを起こし得る化合
物と重合性モノマとを反応させ、主鎖及び／又は側鎖に
フォトブリーチングを起こし得る原子団を有する材料を
得、この後、不均一的に光照射することを特徴とする屈
折率が中心位置から外側に向かってほぼ連続的に変化し
てなる屈折率分布型光学材料の製造方法によって達成さ
れる。特に、フォトブリーチングを起こし得る化合物と
重合性モノマとを反応させ、主鎖及び／又は側鎖にフォ
トブリーチングを起こし得る原子団を有する材料を得、
この後、屈折率が中心位置から外側に向かってほぼ連続
的に変化（減少または増加）するよう光照射することを
特徴とする屈折率分布型光学材料の製造方法によって達
成される。
物と重合性モノマとを反応させ、主鎖及び／又は側鎖に
フォトブリーチングを起こし得る原子団を有する材料を
得、この後、不均一的に光照射することを特徴とする屈
折率が中心位置から外側に向かってほぼ連続的に変化し
てなる屈折率分布型光学材料の製造方法によって達成さ
れる。特に、フォトブリーチングを起こし得る化合物と
重合性モノマとを反応させ、主鎖及び／又は側鎖にフォ
トブリーチングを起こし得る原子団を有する材料を得、
この後、屈折率が中心位置から外側に向かってほぼ連続
的に変化（減少または増加）するよう光照射することを
特徴とする屈折率分布型光学材料の製造方法によって達
成される。
【００２０】又、フォトブリーチングを起こし得る化合
物を重合体に付加させ、主鎖及び／又は側鎖にフォトブ
リーチングを起こし得る原子団を有する材料を得、この
後、不均一的に光照射することを特徴とする屈折率が中
心位置から外側に向かってほぼ連続的に変化してなる屈
折率分布型光学材料の製造方法によって達成される。特
に、フォトブリーチングを起こし得る化合物を重合体に
付加させ、主鎖及び／又は側鎖にフォトブリーチングを
起こし得る原子団を有する材料を得、この後、屈折率が
中心位置から外側に向かってほぼ連続的に変化（減少ま
たは増加）するよう光照射することを特徴とする屈折率
分布型光学材料の製造方法によって達成される。
物を重合体に付加させ、主鎖及び／又は側鎖にフォトブ
リーチングを起こし得る原子団を有する材料を得、この
後、不均一的に光照射することを特徴とする屈折率が中
心位置から外側に向かってほぼ連続的に変化してなる屈
折率分布型光学材料の製造方法によって達成される。特
に、フォトブリーチングを起こし得る化合物を重合体に
付加させ、主鎖及び／又は側鎖にフォトブリーチングを
起こし得る原子団を有する材料を得、この後、屈折率が
中心位置から外側に向かってほぼ連続的に変化（減少ま
たは増加）するよう光照射することを特徴とする屈折率
分布型光学材料の製造方法によって達成される。
【００２１】又、フォトブリーチングを起こし得る化合
物と重合体とを混合し、この後、不均一的に光照射する
ことを特徴とする屈折率が中心位置から外側に向かって
ほぼ連続的に変化してなる屈折率分布型光学材料の製造
方法によって達成される。特に、フォトブリーチングを
起こし得る化合物と重合体とを混合し、この後、屈折率
が中心位置から外側に向かってほぼ連続的に変化（減少
または増加）するよう光照射することを特徴とする屈折
率分布型光学材料の製造方法によって達成される。
物と重合体とを混合し、この後、不均一的に光照射する
ことを特徴とする屈折率が中心位置から外側に向かって
ほぼ連続的に変化してなる屈折率分布型光学材料の製造
方法によって達成される。特に、フォトブリーチングを
起こし得る化合物と重合体とを混合し、この後、屈折率
が中心位置から外側に向かってほぼ連続的に変化（減少
または増加）するよう光照射することを特徴とする屈折
率分布型光学材料の製造方法によって達成される。
【００２２】又、フォトブリーチングを起こし得る主鎖
骨格にＳｉを持つシリコン系樹脂に、不均一的に光照射
することを特徴とする屈折率が中心位置から外側に向か
ってほぼ連続的に変化してなる屈折率分布型光学材料の
製造方法によって達成される。特に、フォトブリーチン
グを起こし得る主鎖骨格にＳｉを持つシリコン系樹脂
に、屈折率が中心位置から外側に向かってほぼ連続的に
変化（減少または増加）するよう光照射することを特徴
とする屈折率分布型光学材料の製造方法によって達成さ
れる。
骨格にＳｉを持つシリコン系樹脂に、不均一的に光照射
することを特徴とする屈折率が中心位置から外側に向か
ってほぼ連続的に変化してなる屈折率分布型光学材料の
製造方法によって達成される。特に、フォトブリーチン
グを起こし得る主鎖骨格にＳｉを持つシリコン系樹脂
に、屈折率が中心位置から外側に向かってほぼ連続的に
変化（減少または増加）するよう光照射することを特徴
とする屈折率分布型光学材料の製造方法によって達成さ
れる。
【００２３】
【発明の実施の形態】本発明の屈折率分布型光学材料
は、フォトブリーチングを起こし得る原子団を有する材
料に対して光照射してなり、位置によって屈折率が異な
ることを特徴とする。特に、フォトブリーチングを起こ
し得る原子団を有する材料に対して光照射してなり、屈
折率が中心位置から外側に向かってほぼ連続的に変化
（減少または増加）してなることを特徴とする。或い
は、フォトブリーチングを起こし得る原子団を有する材
料に対して光照射してなり、屈折率が中心位置から外側
に向かってほぼ二次関数的に変化（減少または増加）し
てなることを特徴とする。若しくは、フォトブリーチン
グを起こし得る原子団を有する材料に対して光照射して
なり、屈折率が段階的に変化（減少または増加、あるい
はパルス状）してなることを特徴とする。
は、フォトブリーチングを起こし得る原子団を有する材
料に対して光照射してなり、位置によって屈折率が異な
ることを特徴とする。特に、フォトブリーチングを起こ
し得る原子団を有する材料に対して光照射してなり、屈
折率が中心位置から外側に向かってほぼ連続的に変化
（減少または増加）してなることを特徴とする。或い
は、フォトブリーチングを起こし得る原子団を有する材
料に対して光照射してなり、屈折率が中心位置から外側
に向かってほぼ二次関数的に変化（減少または増加）し
てなることを特徴とする。若しくは、フォトブリーチン
グを起こし得る原子団を有する材料に対して光照射して
なり、屈折率が段階的に変化（減少または増加、あるい
はパルス状）してなることを特徴とする。
【００２４】尚、フォトブリーチングを起こし得る原子
団を有する材料はプラスチックである。特に、フォトブ
リーチングを起こし得る原子団が主鎖及び／又は側鎖に
ある重合体である。例えば、フォトブリーチングを起こ
し得る化合物Ａと重合性モノマＢとの反応・重合物から
なるプラスチック、フォトブリーチングを起こし得る化
合物Ａと重合体Ｃとの反応物からなるプラスチック、フ
ォトブリーチングを起こし得る化合物Ａと重合体Ｄとの
混合物からなるプラスチックが挙げられる。更には、主
鎖骨格にＳｉを持つシリコン系樹脂も挙げられる。
団を有する材料はプラスチックである。特に、フォトブ
リーチングを起こし得る原子団が主鎖及び／又は側鎖に
ある重合体である。例えば、フォトブリーチングを起こ
し得る化合物Ａと重合性モノマＢとの反応・重合物から
なるプラスチック、フォトブリーチングを起こし得る化
合物Ａと重合体Ｃとの反応物からなるプラスチック、フ
ォトブリーチングを起こし得る化合物Ａと重合体Ｄとの
混合物からなるプラスチックが挙げられる。更には、主
鎖骨格にＳｉを持つシリコン系樹脂も挙げられる。
【００２５】フォトブリーチングを起こし得る化合物Ａ
は、分子内でフォトブリーチングが起きる構造を持つも
の、分子間でフォトブリーチングが起きる構造を持つも
のとに分けられる。例えば、光エネルギを吸収して電子
が分子内（原子団内）移動し、二重結合が切断され、環
化が起き得る構造を持つ。あるいは、二重結合を持ち、
更に前記二重結合が分子内（原子団内）で環化し易い構
造を有する。このような化合物としては、例えば芳香族
アルキレート〔例えば、１，２，４−トリ−ｔ−ブチル
ベンセン、１，２−ジメチルベンゼン〕、ヒドロ芳香族
炭化水素系化合物〔例えば、１，２−ジヒドロフタリッ
クアンヒドライド、２−ピロン誘導体、４，５−ジフェ
ニル−２−ピロン誘導体、３−ヒドロキシフタル酸無水
物、ヒドロキシクマリン〕、アントラセン及びその誘導
体、ビシクロヘプタン、カルボン酸誘導体〔例えば、
〔２，２，１，０，０〕２，３−ジカルボキシレー
ト〕、ノルボルナジエン誘導体、シクロオレフィン系化
合物〔例えば、１，５−シクロヘキサジエン、１，５−
シクロオクタジエン、１，５，５−トリメチルジエノ
ン、１，４−ジフェニルブタジエン、１，６−ジフェニ
ルヘキサトリエン、１，２，３，４，５−ペンタフェニ
ルシクロヘキサジエン、１，３，５，３，８−ジメチル
オクタジエン〕、高共役トロポロン系化合物〔例えば、
γ−トロポロンメチル〕、無色のアゾ系化合物〔例え
ば、トリアゾロン〕、ケトン類〔例えば、アセトフェノ
ン、ヘキサフルオロアセトン〕、アルデヒド類〔例え
ば、トリフルオロアセトアルデヒド〕等が有る。
は、分子内でフォトブリーチングが起きる構造を持つも
の、分子間でフォトブリーチングが起きる構造を持つも
のとに分けられる。例えば、光エネルギを吸収して電子
が分子内（原子団内）移動し、二重結合が切断され、環
化が起き得る構造を持つ。あるいは、二重結合を持ち、
更に前記二重結合が分子内（原子団内）で環化し易い構
造を有する。このような化合物としては、例えば芳香族
アルキレート〔例えば、１，２，４−トリ−ｔ−ブチル
ベンセン、１，２−ジメチルベンゼン〕、ヒドロ芳香族
炭化水素系化合物〔例えば、１，２−ジヒドロフタリッ
クアンヒドライド、２−ピロン誘導体、４，５−ジフェ
ニル−２−ピロン誘導体、３−ヒドロキシフタル酸無水
物、ヒドロキシクマリン〕、アントラセン及びその誘導
体、ビシクロヘプタン、カルボン酸誘導体〔例えば、
〔２，２，１，０，０〕２，３−ジカルボキシレー
ト〕、ノルボルナジエン誘導体、シクロオレフィン系化
合物〔例えば、１，５−シクロヘキサジエン、１，５−
シクロオクタジエン、１，５，５−トリメチルジエノ
ン、１，４−ジフェニルブタジエン、１，６−ジフェニ
ルヘキサトリエン、１，２，３，４，５−ペンタフェニ
ルシクロヘキサジエン、１，３，５，３，８−ジメチル
オクタジエン〕、高共役トロポロン系化合物〔例えば、
γ−トロポロンメチル〕、無色のアゾ系化合物〔例え
ば、トリアゾロン〕、ケトン類〔例えば、アセトフェノ
ン、ヘキサフルオロアセトン〕、アルデヒド類〔例え
ば、トリフルオロアセトアルデヒド〕等が有る。
【００２６】化合物Ａと反応する重合性モノマＢは、二
重結合又は三重結合を有する。このような化合物として
は、例えばビニル系化合物〔例えば、スチレン、塩化ス
チレン、酢酸ビニル、α−メチルスチレン、ｐ−クロロ
スチレン、アクリロニトリル、フェニル酢酸ビニル、安
息香酸ビニル、ビニルナフタレン、塩化ビニリデン〕、
アクリル系化合物〔例えば、アクリル酸エチル、アクリ
ル酸ブチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸フ
ェニル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸アダマンチ
ル、アクリル酸ボルニル、アクリル酸ヒドロキシアルキ
ル、アクリル酸パーフルオロアルキル、ジグリセリンテ
トラ（メタ）アクリレート〕、メタクリル系化合物〔例
えば、メタクリル酸アダマンチル、メタクリル酸ヒドロ
キシアルキル、メタクリル酸ボルニル、メタクリル酸ナ
フチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸エ
チル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ブチル、メ
タクリロニトリル、メタクリル酸メチル、２，２，２−
トリフルオロエチルメタクリレート、４−メチルシクロ
ヘキシルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、
１−フェニルエチルメタクリレート、１−フェニルシク
ロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート〕
等が挙げられる。
重結合又は三重結合を有する。このような化合物として
は、例えばビニル系化合物〔例えば、スチレン、塩化ス
チレン、酢酸ビニル、α−メチルスチレン、ｐ−クロロ
スチレン、アクリロニトリル、フェニル酢酸ビニル、安
息香酸ビニル、ビニルナフタレン、塩化ビニリデン〕、
アクリル系化合物〔例えば、アクリル酸エチル、アクリ
ル酸ブチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸フ
ェニル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸アダマンチ
ル、アクリル酸ボルニル、アクリル酸ヒドロキシアルキ
ル、アクリル酸パーフルオロアルキル、ジグリセリンテ
トラ（メタ）アクリレート〕、メタクリル系化合物〔例
えば、メタクリル酸アダマンチル、メタクリル酸ヒドロ
キシアルキル、メタクリル酸ボルニル、メタクリル酸ナ
フチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸エ
チル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ブチル、メ
タクリロニトリル、メタクリル酸メチル、２，２，２−
トリフルオロエチルメタクリレート、４−メチルシクロ
ヘキシルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、
１−フェニルエチルメタクリレート、１−フェニルシク
ロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート〕
等が挙げられる。
【００２７】この他にも、ｐ−フェレンビスエチニルベ
ンゼン、ｐ−ジエチニルベンゼン、３，３’−オキシジ
（ｐ−フェニレン）ビス２，４，５−トリフェニルシク
ロペンタジエノン等の多フェニル置換ポリフェニレン、
或いはポリフェニレンエーテル化合物をＤｉｅｌｓ−Ａ
ｌｄｅｒ反応により得た透明な耐高温性重合体を用いる
ことも出来る。
ンゼン、ｐ−ジエチニルベンゼン、３，３’−オキシジ
（ｐ−フェニレン）ビス２，４，５−トリフェニルシク
ロペンタジエノン等の多フェニル置換ポリフェニレン、
或いはポリフェニレンエーテル化合物をＤｉｅｌｓ−Ａ
ｌｄｅｒ反応により得た透明な耐高温性重合体を用いる
ことも出来る。
【００２８】又、本発明の屈折率分布型光学材料の製造
方法は、フォトブリーチングを起こし得る原子団を有す
る材料に対して不均一的に光照射することを特徴とす
る。特に、フォトブリーチングを起こし得る原子団を有
する材料に対して、屈折率が中心位置から外側に向かっ
てほぼ連続的に変化（減少または増加）するよう光照射
することを特徴とする。あるいは、フォトブリーチング
を起こし得る原子団を有する材料に対して、屈折率が段
階的に変化（減少または増加、あるいはパルス状）する
よう光照射することを特徴とする。特に、フォトブリー
チングを起こし得る化合物と重合性モノマとを反応さ
せ、主鎖及び／又は側鎖にフォトブリーチングを起こし
得る原子団を有する材料を得、この後、屈折率が段階的
に変化（減少または増加、あるいはパルス状）するよう
光照射することを特徴とする。
方法は、フォトブリーチングを起こし得る原子団を有す
る材料に対して不均一的に光照射することを特徴とす
る。特に、フォトブリーチングを起こし得る原子団を有
する材料に対して、屈折率が中心位置から外側に向かっ
てほぼ連続的に変化（減少または増加）するよう光照射
することを特徴とする。あるいは、フォトブリーチング
を起こし得る原子団を有する材料に対して、屈折率が段
階的に変化（減少または増加、あるいはパルス状）する
よう光照射することを特徴とする。特に、フォトブリー
チングを起こし得る化合物と重合性モノマとを反応さ
せ、主鎖及び／又は側鎖にフォトブリーチングを起こし
得る原子団を有する材料を得、この後、屈折率が段階的
に変化（減少または増加、あるいはパルス状）するよう
光照射することを特徴とする。
【００２９】又、フォトブリーチングを起こし得る化合
物と重合性モノマとを反応させ、主鎖及び／又は側鎖に
フォトブリーチングを起こし得る原子団を有する材料を
得、この後、不均一的に光照射することを特徴とする。
特に、フォトブリーチングを起こし得る化合物と重合性
モノマとを反応させ、主鎖及び／又は側鎖にフォトブリ
ーチングを起こし得る原子団を有する材料を得、この
後、屈折率が中心位置から外側に向かってほぼ連続的に
変化（減少または増加）するよう光照射することを特徴
とする。
物と重合性モノマとを反応させ、主鎖及び／又は側鎖に
フォトブリーチングを起こし得る原子団を有する材料を
得、この後、不均一的に光照射することを特徴とする。
特に、フォトブリーチングを起こし得る化合物と重合性
モノマとを反応させ、主鎖及び／又は側鎖にフォトブリ
ーチングを起こし得る原子団を有する材料を得、この
後、屈折率が中心位置から外側に向かってほぼ連続的に
変化（減少または増加）するよう光照射することを特徴
とする。
【００３０】又、フォトブリーチングを起こし得る化合
物を重合体に付加させ、主鎖及び／又は側鎖にフォトブ
リーチングを起こし得る原子団を有する材料を得、この
後、不均一的に光照射することを特徴とする。特に、フ
ォトブリーチングを起こし得る化合物を重合体に付加さ
せ、主鎖及び／又は側鎖にフォトブリーチングを起こし
得る原子団を有する材料を得、この後、屈折率が中心位
置から外側に向かってほぼ連続的に変化（減少または増
加）するよう光照射することを特徴とする。
物を重合体に付加させ、主鎖及び／又は側鎖にフォトブ
リーチングを起こし得る原子団を有する材料を得、この
後、不均一的に光照射することを特徴とする。特に、フ
ォトブリーチングを起こし得る化合物を重合体に付加さ
せ、主鎖及び／又は側鎖にフォトブリーチングを起こし
得る原子団を有する材料を得、この後、屈折率が中心位
置から外側に向かってほぼ連続的に変化（減少または増
加）するよう光照射することを特徴とする。
【００３１】又、フォトブリーチングを起こし得る化合
物と重合体とを混合し、この後、不均一的に光照射する
ことを特徴とする。特に、フォトブリーチングを起こし
得る化合物と重合体とを混合し、この後、屈折率が中心
位置から外側に向かってほぼ連続的に変化（減少または
増加）するよう光照射することを特徴とする。又、フォ
トブリーチングを起こし得る主鎖骨格にＳｉを持つシリ
コン系樹脂に、不均一的に光照射することを特徴とす
る。特に、フォトブリーチングを起こし得る主鎖骨格に
Ｓｉを持つシリコン系樹脂に、屈折率が中心位置から外
側に向かってほぼ連続的に変化（減少または増加）する
よう光照射することを特徴とする。
物と重合体とを混合し、この後、不均一的に光照射する
ことを特徴とする。特に、フォトブリーチングを起こし
得る化合物と重合体とを混合し、この後、屈折率が中心
位置から外側に向かってほぼ連続的に変化（減少または
増加）するよう光照射することを特徴とする。又、フォ
トブリーチングを起こし得る主鎖骨格にＳｉを持つシリ
コン系樹脂に、不均一的に光照射することを特徴とす
る。特に、フォトブリーチングを起こし得る主鎖骨格に
Ｓｉを持つシリコン系樹脂に、屈折率が中心位置から外
側に向かってほぼ連続的に変化（減少または増加）する
よう光照射することを特徴とする。
【００３２】尚、本発明において、材料を、予め、所望
の形状にしてから光照射（フォトブリーチング）しても
良い。あるいは、材料を光照射（フォトブリーチング）
してから所望の形状にしても良い。例えば、紫外線また
は可視光の照射（フォトブリーチング）により、屈折率
が中心位置から外側に向かって減少してなる光学材料を
得た後、これを延伸して光ファイバを得ることが出来
る。あるいは、ファイバ状のものを得た後、紫外線また
は可視光を照射（フォトブリーチング）して、光ファイ
バを得るようにしても良い。
の形状にしてから光照射（フォトブリーチング）しても
良い。あるいは、材料を光照射（フォトブリーチング）
してから所望の形状にしても良い。例えば、紫外線また
は可視光の照射（フォトブリーチング）により、屈折率
が中心位置から外側に向かって減少してなる光学材料を
得た後、これを延伸して光ファイバを得ることが出来
る。あるいは、ファイバ状のものを得た後、紫外線また
は可視光を照射（フォトブリーチング）して、光ファイ
バを得るようにしても良い。
【００３３】又、フィルム状のものを得た後、紫外線ま
たは可視光を照射（フォトブリーチング）して、マイク
ロレンズアレイを得ることが出来る。又、円板状、板
状、或いは各種成形物に合った形状のものを得、そして
位置によって照射時間や光強度を連続的（又は、不連続
的）に変化させて照射（フォトブリーチング）し、目的
に適った近眼、老眼、或いは遠近両用コンタクトレンズ
や眼鏡用レンズ、或いは光集束、光発散プラスチックレ
ンズを得ることが出来る。
たは可視光を照射（フォトブリーチング）して、マイク
ロレンズアレイを得ることが出来る。又、円板状、板
状、或いは各種成形物に合った形状のものを得、そして
位置によって照射時間や光強度を連続的（又は、不連続
的）に変化させて照射（フォトブリーチング）し、目的
に適った近眼、老眼、或いは遠近両用コンタクトレンズ
や眼鏡用レンズ、或いは光集束、光発散プラスチックレ
ンズを得ることが出来る。
【００３４】要するに、フォトブリーチングを起こし得
る原子団を有する材料を、目的とする光学素子の形状に
応じて、例えばファイバ状、ロッド状、棒状、円板状、
レンズ形状、板状、フィルム状の形状に成形した後、目
的とする光学素子の屈折率分布を有するように紫外線ま
たは可視光を照射（フォトブリーチング）する。これに
よって、目的とする光学素子が得られる。あるいは、フ
ォトブリーチングを起こし得る原子団を有する材料を、
目的とする光学素子の屈折率分布を有するように紫外線
または可視光を照射（フォトブリーチング）した後、目
的とする光学素子の形状に成形する。これによっても、
目的とする光学素子が得られる。
る原子団を有する材料を、目的とする光学素子の形状に
応じて、例えばファイバ状、ロッド状、棒状、円板状、
レンズ形状、板状、フィルム状の形状に成形した後、目
的とする光学素子の屈折率分布を有するように紫外線ま
たは可視光を照射（フォトブリーチング）する。これに
よって、目的とする光学素子が得られる。あるいは、フ
ォトブリーチングを起こし得る原子団を有する材料を、
目的とする光学素子の屈折率分布を有するように紫外線
または可視光を照射（フォトブリーチング）した後、目
的とする光学素子の形状に成形する。これによっても、
目的とする光学素子が得られる。
【００３５】本発明は、屈折率の制御に、量子化学的現
象に基づくフォトブリーチングを利用した点に特徴が有
る。フォトブリーチングは、色素に紫外線や可視光を照
射することにより生じる褪色現象として知られている。
例えば、
象に基づくフォトブリーチングを利用した点に特徴が有
る。フォトブリーチングは、色素に紫外線や可視光を照
射することにより生じる褪色現象として知られている。
例えば、
【００３６】
【化１】
【００３７】の光化学反応から判る通り、発色団（−Ｎ
＝Ｎ−）の二重結合が切れ、フェニル基のＨを貰うと共
に、環化し、発色の機能を失う。そして、一般的に、共
役結合を有する化合物に光照射すると、ある電子が光エ
ネルギを吸収して遷移（例えば、π→π* ）が起きる。
場合によっては、電子の移動に伴って分子内で光化学反
応が起きる。そして、二重結合が減少すると、最大吸収
波長λｍａｘは短波長側にシフトし、かつ、吸光も弱く
なる。
＝Ｎ−）の二重結合が切れ、フェニル基のＨを貰うと共
に、環化し、発色の機能を失う。そして、一般的に、共
役結合を有する化合物に光照射すると、ある電子が光エ
ネルギを吸収して遷移（例えば、π→π* ）が起きる。
場合によっては、電子の移動に伴って分子内で光化学反
応が起きる。そして、二重結合が減少すると、最大吸収
波長λｍａｘは短波長側にシフトし、かつ、吸光も弱く
なる。
【００３８】すなわち、フォトブリーチングが起きる
と、図１に示される如く、吸光最大波長λｍａｘは短波
長側にシフトし、かつ、吸光も弱くなる。このフォトブ
リーチングに伴う物質の吸光係数は次の式（２）や式
（３）で示すように変化する。
と、図１に示される如く、吸光最大波長λｍａｘは短波
長側にシフトし、かつ、吸光も弱くなる。このフォトブ
リーチングに伴う物質の吸光係数は次の式（２）や式
（３）で示すように変化する。
【００３９】
【数１】
【００４０】従って、物質の吸光係数は、ブリーチング
時間、温度、照射光強度、波長などの関数となる。従っ
て、ブリーチング条件を変えることにより物質の吸光度
を制御できる。一方、屈折率変化と吸光係数とは式
（４）の関係を持っている。
時間、温度、照射光強度、波長などの関数となる。従っ
て、ブリーチング条件を変えることにより物質の吸光度
を制御できる。一方、屈折率変化と吸光係数とは式
（４）の関係を持っている。
【００４１】
【数２】
【００４２】従って、フォトブリーチングを起こすこと
により、吸光係数α及びλｍａｘ等の変化と連動して屈
折率は小さくなる。よって、ブリーチング条件（照射光
の波長や強度、照射時間、照射位置、温度）を選択する
ことにより半径ｒの二乗で変化する屈折率分布を得るこ
とが可能である。すなわち、屈折率が中心位置から外側
に向かって二次関数的に減少〔式（１）を満足〕する光
学材料を得ることが出来る。
により、吸光係数α及びλｍａｘ等の変化と連動して屈
折率は小さくなる。よって、ブリーチング条件（照射光
の波長や強度、照射時間、照射位置、温度）を選択する
ことにより半径ｒの二乗で変化する屈折率分布を得るこ
とが可能である。すなわち、屈折率が中心位置から外側
に向かって二次関数的に減少〔式（１）を満足〕する光
学材料を得ることが出来る。
【００４３】ところで、均一に重合したロッドを回転さ
せながら紫外線（又は、可視光）を照射し、その後、延
伸によってファイバ化することにより光ファイバが得ら
れる。従って、極めて簡単に光ファイバが得られる。
又、相分離が起きることもないので、光散乱が少なく、
透明度が向上などの利点がある。又、重合した後、精製
することにより、重合開始剤やゲル成分及び未反応モノ
マなどを除去することも出来る。従って、光学的品質及
び力学的強度の向上が図れる。更には、押出機、紫外線
照射装置、延伸機を用いることにより、特にこれらが結
合された装置を用いることにより長い屈折率分布型光フ
ァイバを簡単に作製できる。
せながら紫外線（又は、可視光）を照射し、その後、延
伸によってファイバ化することにより光ファイバが得ら
れる。従って、極めて簡単に光ファイバが得られる。
又、相分離が起きることもないので、光散乱が少なく、
透明度が向上などの利点がある。又、重合した後、精製
することにより、重合開始剤やゲル成分及び未反応モノ
マなどを除去することも出来る。従って、光学的品質及
び力学的強度の向上が図れる。更には、押出機、紫外線
照射装置、延伸機を用いることにより、特にこれらが結
合された装置を用いることにより長い屈折率分布型光フ
ァイバを簡単に作製できる。
【００４４】フォトブリーチングに用いる光源として
は、１５０〜６００ｎｍの波長の光を発する炭素アーク
灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、低圧水銀灯、ケミカル
ランプ、キセノンランプ、レーザ光などが挙げられる。
は、１５０〜６００ｎｍの波長の光を発する炭素アーク
灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、低圧水銀灯、ケミカル
ランプ、キセノンランプ、レーザ光などが挙げられる。
【００４５】
【実施例１】フォトブリーチング条件と屈折率との関係
を把握することは大事である。その為、次の予備実験を
行った。先ず、ＰＭＭＡを合成した。そして、２０ｇ
（１９９．８ｍｍｏｌ）のＰＭＭＡをテトラヒドロフラ
ン（ＴＨＦ）に溶かした。次いで、５ｇ（３３．８ｍｍ
ｏｌ）の無水フタル酸を均一に混ぜた。この混合溶液を
用いて、キャスト法により１０μｍ厚のサンプル（薄
膜）を製作した。
を把握することは大事である。その為、次の予備実験を
行った。先ず、ＰＭＭＡを合成した。そして、２０ｇ
（１９９．８ｍｍｏｌ）のＰＭＭＡをテトラヒドロフラ
ン（ＴＨＦ）に溶かした。次いで、５ｇ（３３．８ｍｍ
ｏｌ）の無水フタル酸を均一に混ぜた。この混合溶液を
用いて、キャスト法により１０μｍ厚のサンプル（薄
膜）を製作した。
【００４６】そして、図２に示す光照射（フォトブリー
チング）装置を用いて、前記サンプルに光を照射した。
照射時のサンプル温度は５０℃、１００℃である。照射
光の波長λは０．３３μｍ、０．４３μｍ、０．５３μ
ｍである。光源の出力は７０ｍＷ／ｃｍ2 である。照射
時間は４００秒、８００秒、１２００秒である。尚、図
２中、１は光源、２，６はミラー、３，４はレンズ、５
はフィルタ、７はサンプル、８は台である。
チング）装置を用いて、前記サンプルに光を照射した。
照射時のサンプル温度は５０℃、１００℃である。照射
光の波長λは０．３３μｍ、０．４３μｍ、０．５３μ
ｍである。光源の出力は７０ｍＷ／ｃｍ2 である。照射
時間は４００秒、８００秒、１２００秒である。尚、図
２中、１は光源、２，６はミラー、３，４はレンズ、５
はフィルタ、７はサンプル、８は台である。
【００４７】この光照射したサンプル７について屈折率
を調べたので、図３〜図８（縦軸は屈折率の差Δｎ、横
軸は表面からの深さ）に示す。図３は、照射時のサンプ
ル温度が５０℃、波長λが０．３３μｍの場合の屈折率
分布を示す。図３中、１は照射時間が０秒、２は照射時
間が４００秒、３は照射時間が８００秒、４は照射時間
が１２００秒である。
を調べたので、図３〜図８（縦軸は屈折率の差Δｎ、横
軸は表面からの深さ）に示す。図３は、照射時のサンプ
ル温度が５０℃、波長λが０．３３μｍの場合の屈折率
分布を示す。図３中、１は照射時間が０秒、２は照射時
間が４００秒、３は照射時間が８００秒、４は照射時間
が１２００秒である。
【００４８】図４は、照射時のサンプル温度が１００
℃、波長λが０．３３μｍの場合の屈折率分布を示す。
図４中、１は照射時間が０秒、２は照射時間が４００
秒、３は照射時間が８００秒、４は照射時間が１２００
秒である。図５は、照射時のサンプル温度が５０℃、波
長λが０．４３μｍの場合の屈折率分布を示す。図５
中、１は照射時間が０秒、２は照射時間が４００秒、３
は照射時間が８００秒、４は照射時間が１２００秒であ
る。
℃、波長λが０．３３μｍの場合の屈折率分布を示す。
図４中、１は照射時間が０秒、２は照射時間が４００
秒、３は照射時間が８００秒、４は照射時間が１２００
秒である。図５は、照射時のサンプル温度が５０℃、波
長λが０．４３μｍの場合の屈折率分布を示す。図５
中、１は照射時間が０秒、２は照射時間が４００秒、３
は照射時間が８００秒、４は照射時間が１２００秒であ
る。
【００４９】図６は、照射時のサンプル温度が１００
℃、波長λが０．４３μｍの場合の屈折率分布を示す。
図６中、１は照射時間が０秒、２は照射時間が４００
秒、３は照射時間が８００秒、４は照射時間が１２００
秒である。図７は、照射時のサンプル温度が５０℃、波
長λが０．５３μｍの場合の屈折率分布を示す。図７
中、１は照射時間が０秒、２は照射時間が４００秒、３
は照射時間が８００秒、４は照射時間が１２００秒であ
る。
℃、波長λが０．４３μｍの場合の屈折率分布を示す。
図６中、１は照射時間が０秒、２は照射時間が４００
秒、３は照射時間が８００秒、４は照射時間が１２００
秒である。図７は、照射時のサンプル温度が５０℃、波
長λが０．５３μｍの場合の屈折率分布を示す。図７
中、１は照射時間が０秒、２は照射時間が４００秒、３
は照射時間が８００秒、４は照射時間が１２００秒であ
る。
【００５０】図８は、照射時のサンプル温度が１００
℃、波長λが０．５３μｍの場合の屈折率分布を示す。
図８中、１は照射時間が０秒、２は照射時間が４００
秒、３は照射時間が８００秒、４は照射時間が１２００
秒である。図３〜図８から次のことが判る。 （１） いずれの場合でも、サンプルの正面（表面、光
の入射面）からサンプルの裏面に向かって、屈折率が連
続に変化している。そして、サンプルの表面（深さ０）
では屈折率が最小である。又、回帰分析によれば、屈折
率分布のプロファイルは式（１）に近似したものであ
る。 （２） 照射光の波長が短いほど、屈折率の変化が大き
い。逆に、照射光の波長が長くなるほど、屈折率の変化
が小さい。 （３） 照射時の温度が高いほど、フォトブリーチング
の進行が速い。温度が低いと、フォトブリーチングの進
行は遅い。 （４） 屈折率の変化と照射時間とは一次式の関係では
ないが、照射時間が長くなるほど屈折率の変化が大きく
なる。
℃、波長λが０．５３μｍの場合の屈折率分布を示す。
図８中、１は照射時間が０秒、２は照射時間が４００
秒、３は照射時間が８００秒、４は照射時間が１２００
秒である。図３〜図８から次のことが判る。 （１） いずれの場合でも、サンプルの正面（表面、光
の入射面）からサンプルの裏面に向かって、屈折率が連
続に変化している。そして、サンプルの表面（深さ０）
では屈折率が最小である。又、回帰分析によれば、屈折
率分布のプロファイルは式（１）に近似したものであ
る。 （２） 照射光の波長が短いほど、屈折率の変化が大き
い。逆に、照射光の波長が長くなるほど、屈折率の変化
が小さい。 （３） 照射時の温度が高いほど、フォトブリーチング
の進行が速い。温度が低いと、フォトブリーチングの進
行は遅い。 （４） 屈折率の変化と照射時間とは一次式の関係では
ないが、照射時間が長くなるほど屈折率の変化が大きく
なる。
【００５１】従って、本発明では、光照射を施す条件は
次のようにすることが好ましい。温度は高い程、ブリー
チングの進行が速い。しかし、ガラス転移温度Ｔｇを大
きく越えた高すぎる温度では、材料の物理的特性の低下
が考えられるから、Ｔｇ−５５℃〜Ｔｇ＋５５℃とす
る。照射光の波長は０．２μｍ〜０．４μｍのものとし
た。もっと短波長の光を用いると、フォトブリーチング
の進行が速くなる。しかし、その場合、多くの結合が切
断される為、ポリマのダメージが大きくなる。従って、
０．２μｍ以上の波長のものを用いるのが好ましい。
次のようにすることが好ましい。温度は高い程、ブリー
チングの進行が速い。しかし、ガラス転移温度Ｔｇを大
きく越えた高すぎる温度では、材料の物理的特性の低下
が考えられるから、Ｔｇ−５５℃〜Ｔｇ＋５５℃とす
る。照射光の波長は０．２μｍ〜０．４μｍのものとし
た。もっと短波長の光を用いると、フォトブリーチング
の進行が速くなる。しかし、その場合、多くの結合が切
断される為、ポリマのダメージが大きくなる。従って、
０．２μｍ以上の波長のものを用いるのが好ましい。
【００５２】照射光の強度を高くするほどフォトブリー
チングの進行が速い。例えば、照射光の強度を１０倍に
すると、同じ深度までのフォトブリーチング所要時間は
１０分の１までに短縮できる。しかし、余りにも高いエ
ネルギーの為、多くの結合が切断される。かつ、余計な
光反応（例えば、分解、脱離など）が起こり易くなる。
従って、５〜７００ｍＷ／ｃｍ2 程度の光源が望まし
い。
チングの進行が速い。例えば、照射光の強度を１０倍に
すると、同じ深度までのフォトブリーチング所要時間は
１０分の１までに短縮できる。しかし、余りにも高いエ
ネルギーの為、多くの結合が切断される。かつ、余計な
光反応（例えば、分解、脱離など）が起こり易くなる。
従って、５〜７００ｍＷ／ｃｍ2 程度の光源が望まし
い。
【００５３】尚、本実施例で示した如く、フォトブリー
チングを起こし得る原子団（基）は化学的に固定（結
合）されていなくても良い。しかし、化学的に固定され
ていない場合には、性能の長期安定性に問題が考えられ
る。従って、実施例２〜実施例４では、フォトブリーチ
ングを起こし得る原子団（基）をポリマの主鎖や側鎖に
持たせるようにした。
チングを起こし得る原子団（基）は化学的に固定（結
合）されていなくても良い。しかし、化学的に固定され
ていない場合には、性能の長期安定性に問題が考えられ
る。従って、実施例２〜実施例４では、フォトブリーチ
ングを起こし得る原子団（基）をポリマの主鎖や側鎖に
持たせるようにした。
【００５４】
【実施例２】トロボロン１５．０ｇ（１２３．３ｍｍｏ
ｌ）、トリエチルアミン１２．５ｇ（１２３．３ｍｍｏ
ｌ）、ＴＨＦ８０ｍｌを５００ｍｌの４口フラスコに入
れて攪拌しながら、メタクリル酸クロリド１３．３ｇ
（１２７．２ｍｍｏｌ）を滴下した。そして、一晩攪拌
した後、抽出し、カラムで精製した。
ｌ）、トリエチルアミン１２．５ｇ（１２３．３ｍｍｏ
ｌ）、ＴＨＦ８０ｍｌを５００ｍｌの４口フラスコに入
れて攪拌しながら、メタクリル酸クロリド１３．３ｇ
（１２７．２ｍｍｏｌ）を滴下した。そして、一晩攪拌
した後、抽出し、カラムで精製した。
【００５５】得たエステルモノマ８ｇとメタクリル酸メ
チル２５ｇと重合開始剤ＡＩＢＮ３０ｍｇとを封管用ア
ンプルに入れ、６５℃で２４時間かけて重合させた。得
られたロッドを取り出し、両端をカットした。このロッ
ドを図２の光照射（フォトブリーチング）装置に装着し
た。そして、ロッドを回転数１０００ｒｐｍで回転させ
ながら、波長が３００ｎｍの光をロッド周側面から照射
した。尚、光源の強さは７０ｍＷ／ｃｍ2 である。又、
光源は１５０〜６００ｎｍの波長の光を発する高圧水銀
灯であるが、フィルタにより３００ｎｍの波長の光のみ
が照射される。照射時の温度は１００℃である。
チル２５ｇと重合開始剤ＡＩＢＮ３０ｍｇとを封管用ア
ンプルに入れ、６５℃で２４時間かけて重合させた。得
られたロッドを取り出し、両端をカットした。このロッ
ドを図２の光照射（フォトブリーチング）装置に装着し
た。そして、ロッドを回転数１０００ｒｐｍで回転させ
ながら、波長が３００ｎｍの光をロッド周側面から照射
した。尚、光源の強さは７０ｍＷ／ｃｍ2 である。又、
光源は１５０〜６００ｎｍの波長の光を発する高圧水銀
灯であるが、フィルタにより３００ｎｍの波長の光のみ
が照射される。照射時の温度は１００℃である。
【００５６】この光照射されたロッドを円筒型加熱筒内
にセットし、間接加熱を行いながら熱延伸により直径
０．８ｍｍの光ファイバを得た。この光ファイバは透明
であった。得られた光ファイバの屈折率分布を図９に示
す。この屈折率分布を最小自乗法により調べた結果、式
（１）に近似するものであった。
にセットし、間接加熱を行いながら熱延伸により直径
０．８ｍｍの光ファイバを得た。この光ファイバは透明
であった。得られた光ファイバの屈折率分布を図９に示
す。この屈折率分布を最小自乗法により調べた結果、式
（１）に近似するものであった。
【００５７】尚、光照射量は軸芯（中心）からの距離ｒ
が同じであれば同じである。そして、表面（周側面）か
ら中心部に向けての光照射量は順に少なくなり、フォト
ブリーチングによる屈折率の変化が少なく、中心側ほど
屈折率は高い。尚、透明なプラスチックロッドを熱延伸
によりファイバ状にしてから、光照射しても良い。しか
し、大きな径のロッドを光照射した後、延伸してファイ
バ状にする方が製造の効率から有利である。
が同じであれば同じである。そして、表面（周側面）か
ら中心部に向けての光照射量は順に少なくなり、フォト
ブリーチングによる屈折率の変化が少なく、中心側ほど
屈折率は高い。尚、透明なプラスチックロッドを熱延伸
によりファイバ状にしてから、光照射しても良い。しか
し、大きな径のロッドを光照射した後、延伸してファイ
バ状にする方が製造の効率から有利である。
【００５８】
【実施例３】実施例２と同じようにして３−ヒドロキシ
フタル酸無水物を側鎖にもつＰＭＭＡ系のポリマを得
た。ヒドロキシフタル酸無水物とＭＭＡとの割合は２
０：１００（重量比）である。このポリマを再沈によっ
て精製した。
フタル酸無水物を側鎖にもつＰＭＭＡ系のポリマを得
た。ヒドロキシフタル酸無水物とＭＭＡとの割合は２
０：１００（重量比）である。このポリマを再沈によっ
て精製した。
【００５９】次に、この精製ポリマをＴＨＦに溶かし、
キャスト法で厚さ０．５ｍｍ、直径３ｃｍの円形試料を
作製した。そして、図１０の装置に装着し、波長が２５
０ｎｍの紫外光を照射した。尚、図１０中、１１は光
源、１２，１３はレンズ、１４は絞り機構、１５はフィ
ルタ、１６はサンプル、１７はモータである。光源１１
の強さは７００ｍＷ／ｃｍ2である。照射時の温度は９
０℃である。絞り機構１４を１ｍｍ／ｍｉｎの速さで開
いたところ、中心部と周辺部との屈折率差は約０．０１
５であった。
キャスト法で厚さ０．５ｍｍ、直径３ｃｍの円形試料を
作製した。そして、図１０の装置に装着し、波長が２５
０ｎｍの紫外光を照射した。尚、図１０中、１１は光
源、１２，１３はレンズ、１４は絞り機構、１５はフィ
ルタ、１６はサンプル、１７はモータである。光源１１
の強さは７００ｍＷ／ｃｍ2である。照射時の温度は９
０℃である。絞り機構１４を１ｍｍ／ｍｉｎの速さで開
いたところ、中心部と周辺部との屈折率差は約０．０１
５であった。
【００６０】このものは近眼用のレンズとして使える。
又、この材料の中心部を削ったところ更に強い凹レンズ
となった。そして、従来のレンズより厚みを薄く出来
た。すなわち、中心部から周辺部への照射時間の減少に
伴い、フォトブリーチングの進行程度が相対的に変わる
から、屈折率分布が生じる。尚、厚み方向に均一的な屈
折率にする必要がある為、照射光の強度を強くした。
又、この材料の中心部を削ったところ更に強い凹レンズ
となった。そして、従来のレンズより厚みを薄く出来
た。すなわち、中心部から周辺部への照射時間の減少に
伴い、フォトブリーチングの進行程度が相対的に変わる
から、屈折率分布が生じる。尚、厚み方向に均一的な屈
折率にする必要がある為、照射光の強度を強くした。
【００６１】尚、屈折率分布の程度は絞り機構１４の開
口速度を調整することで制御できる。又、絞り機構１４
の代わりに光散乱板を用いても良い。
口速度を調整することで制御できる。又、絞り機構１４
の代わりに光散乱板を用いても良い。
【００６２】
【実施例４】図１０の絞り機構１４の代わりに、例えば
黒い風船２４を徐々に膨らませていく装置（図１１）を
用いた。風船２４の膨らみ速度は吹き込むガス流量によ
り制御される。ガス流量はマスフローコントローラ２５
を使って５ＣＣＭ〜５００ＣＣＭの範囲内で自由に調整
できる。
黒い風船２４を徐々に膨らませていく装置（図１１）を
用いた。風船２４の膨らみ速度は吹き込むガス流量によ
り制御される。ガス流量はマスフローコントローラ２５
を使って５ＣＣＭ〜５００ＣＣＭの範囲内で自由に調整
できる。
【００６３】このようにしてサンプル１６にフォトブリ
ーチングを起こさせると、中心部から周辺部に向かって
照射時間は次第に長くなるので、中心部の屈折率が高
く、周辺部の屈折率が低くなる。従って、得られたもの
は凸レンズとなる。この場合、周辺部を削ることによ
り、薄型で、焦点距離が短い凸レンズを作製できる。
ーチングを起こさせると、中心部から周辺部に向かって
照射時間は次第に長くなるので、中心部の屈折率が高
く、周辺部の屈折率が低くなる。従って、得られたもの
は凸レンズとなる。この場合、周辺部を削ることによ
り、薄型で、焦点距離が短い凸レンズを作製できる。
【００６４】実施例２で合成したポリマを用い、ガラス
基板にキャスト法で膜厚０．３ｍｍ、直径３．５ｃｍの
膜を作製した。次に、これを図１１の装置にセットし、
波長が２５０ｎｍの紫外光を照射した。尚、光源の強さ
は７００ｍＷ／ｃｍ2 である。照射時の温度は９０℃で
ある。風船２４の膨らみ速度を制御するガスの流量は３
０ＣＣＭである。得られたサンプル１６の中心部と周辺
部との屈折率差は約０．０１４であり、凸レンズであ
る。
基板にキャスト法で膜厚０．３ｍｍ、直径３．５ｃｍの
膜を作製した。次に、これを図１１の装置にセットし、
波長が２５０ｎｍの紫外光を照射した。尚、光源の強さ
は７００ｍＷ／ｃｍ2 である。照射時の温度は９０℃で
ある。風船２４の膨らみ速度を制御するガスの流量は３
０ＣＣＭである。得られたサンプル１６の中心部と周辺
部との屈折率差は約０．０１４であり、凸レンズであ
る。
【００６５】
【実施例５】図１１の装置の代わりに、図１２に示す如
く、滑塊２６を移動可能に設けた照射装置を用いても同
様な凸レンズが得られる。すなわち、滑塊２６を、図１
２中、左右方向に移動させることによって、サンプル１
６の、図１２中、上下方向における位置によって照射量
が変動し、これによって屈折率分布型の凸レンズが得ら
れる。
く、滑塊２６を移動可能に設けた照射装置を用いても同
様な凸レンズが得られる。すなわち、滑塊２６を、図１
２中、左右方向に移動させることによって、サンプル１
６の、図１２中、上下方向における位置によって照射量
が変動し、これによって屈折率分布型の凸レンズが得ら
れる。
【００６６】又、図１３や図１４に示す如くの光照射装
置を用いれば、対応した屈折率分布を有するものが得ら
れる。尚、２７は光散乱板である。又、図１５に示す如
く、照射光を絞り、これを相対的に走査することによっ
て、屈折率がパルス状に変化した屈折率分布型光学材料
を得ることが出来る。又、図１６に示す装置を用いれ
ば、屈折率が同心円状に変化（半径方向においてパルス
状に変化）した屈折率分布型光学材料を得ることが出来
る。
置を用いれば、対応した屈折率分布を有するものが得ら
れる。尚、２７は光散乱板である。又、図１５に示す如
く、照射光を絞り、これを相対的に走査することによっ
て、屈折率がパルス状に変化した屈折率分布型光学材料
を得ることが出来る。又、図１６に示す装置を用いれ
ば、屈折率が同心円状に変化（半径方向においてパルス
状に変化）した屈折率分布型光学材料を得ることが出来
る。
【００６７】
【発明の効果】透明性が高い屈折率分布型の光学材料が
簡単に得られる。特に、接続が容易な大口径で、高密度
通信に対応できる屈折率分布型プラスチック光ファイバ
が簡単に得られる。又、次世代液晶ディスクプレイに使
われるマイクロレンズアレイが簡単に得られる。又、複
写機、レーザープリンタやファクシミリなどに利用され
る次世代の読み取りレンズが簡単に得られる。又、近
眼、老眼、遠近両用レンズ（眼鏡用のレンズやコンタク
トレンズ）、或いは光集束、光発散プラスチックレンズ
が簡単に得られる。
簡単に得られる。特に、接続が容易な大口径で、高密度
通信に対応できる屈折率分布型プラスチック光ファイバ
が簡単に得られる。又、次世代液晶ディスクプレイに使
われるマイクロレンズアレイが簡単に得られる。又、複
写機、レーザープリンタやファクシミリなどに利用され
る次世代の読み取りレンズが簡単に得られる。又、近
眼、老眼、遠近両用レンズ（眼鏡用のレンズやコンタク
トレンズ）、或いは光集束、光発散プラスチックレンズ
が簡単に得られる。
【図１】光照射（フォトブリーチング）によるＵＶスペ
クトルの変化を示すグラフ
クトルの変化を示すグラフ
【図２】光照射（フォトブリーチング）装置
【図３】屈折率分布を示すグラフ
【図４】屈折率分布を示すグラフ
【図５】屈折率分布を示すグラフ
【図６】屈折率分布を示すグラフ
【図７】屈折率分布を示すグラフ
【図８】屈折率分布を示すグラフ
【図９】屈折率分布を示すグラフ
【図１０】光照射（フォトブリーチング）装置
【図１１】光照射（フォトブリーチング）装置
【図１２】光照射（フォトブリーチング）装置
【図１３】光照射（フォトブリーチング）装置
【図１４】光照射（フォトブリーチング）装置
【図１５】光照射（フォトブリーチング）装置
【図１６】光照射（フォトブリーチング）装置
【図１７】光ファイバの説明図
【図１８】光ファイバの説明図
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成７年１２月２７日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３９】
【数１】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００４１】
【数２】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０２Ｂ 6/12 Ｇ０２Ｂ 6/18 6/18 6/12 Ｎ (72)発明者 町田 英明 山梨県北都留郡上野原町上野原8154−217 株式会社トリケミカル研究所内 (72)発明者 梁 傳信 山梨県北都留郡上野原町上野原8154−217 株式会社トリケミカル研究所内
Claims (27)
- 【請求項１】 フォトブリーチングを起こし得る原子団
を有する材料に対して光照射してなり、位置によって屈
折率が異なることを特徴とする屈折率分布型光学材料。 - 【請求項２】 フォトブリーチングを起こし得る原子団
を有する材料に対して光照射してなり、屈折率が中心位
置から外側に向かってほぼ連続的に変化してなることを
特徴とする屈折率分布型光学材料。 - 【請求項３】 フォトブリーチングを起こし得る原子団
を有する材料に対して光照射してなり、屈折率が中心位
置から外側に向かってほぼ二次関数的に変化してなるこ
とを特徴とする屈折率分布型光学材料。 - 【請求項４】 フォトブリーチングを起こし得る原子団
を有する材料に対して光照射してなり、屈折率が段階的
に変化してなることを特徴とする屈折率分布型光学材
料。 - 【請求項５】 フォトブリーチングを起こし得る原子団
を有する材料がプラスチックからなることを特徴とする
請求項１〜請求項４いずれかの屈折率分布型光学材料。 - 【請求項６】 フォトブリーチングを起こし得る原子団
を有する材料が、フォトブリーチングを起こし得る化合
物と重合性モノマとの反応・重合物からなることを特徴
とする請求項１〜請求項５いずれかの屈折率分布型光学
材料。 - 【請求項７】 フォトブリーチングを起こし得る原子団
を有する材料が、フォトブリーチングを起こし得る化合
物と重合体との反応物からなることを特徴とする請求項
１〜請求項５いずれかの屈折率分布型光学材料。 - 【請求項８】 フォトブリーチングを起こし得る原子団
を有する材料が、フォトブリーチングを起こし得る化合
物と重合体との混合物からなることを特徴とする請求項
１〜請求項５いずれかの屈折率分布型光学材料。 - 【請求項９】 フォトブリーチングを起こし得る原子団
を有する材料が主鎖骨格にＳｉを持つシリコン系樹脂か
らなることを特徴とする請求項１〜請求項５いずれかの
屈折率分布型光学材料。 - 【請求項１０】 フォトブリーチングを起こし得る原子
団は重合体の主鎖及び／又は側鎖にあることを特徴とす
る請求項１〜請求項９いずれかの屈折率分布型光学材
料。 - 【請求項１１】 フォトブリーチングを起こし得る化合
物は、分子内でフォトブリーチングが起きる構造を持つ
ものであることを特徴とする請求項６〜請求項８いずれ
かの屈折率分布型光学材料。 - 【請求項１２】 フォトブリーチングを起こし得る化合
物は、光エネルギを吸収して二重結合が切断され、環化
が起き得る構造を持つものであることを特徴とする請求
項６〜請求項８いずれかの屈折率分布型光学材料。 - 【請求項１３】 フォトブリーチングを起こし得る化合
物は、二重結合を持ち、更に前記二重結合が分子内で環
化し易い構造を有するものであることを特徴とする請求
項６〜請求項８いずれかの屈折率分布型光学材料。 - 【請求項１４】 フォトブリーチングを起こし得る化合
物は、分子間でフォトブリーチングが起きる構造を持つ
ものであることを特徴とする請求項６〜請求項８いずれ
かの屈折率分布型光学材料。 - 【請求項１５】 フォトブリーチングを起こし得る化合
物は、芳香族アルキレート、ヒドロ芳香族炭化水素系化
合物、ビシクロヘプタン、カルボン酸誘導体、ノルボル
ナジエン誘導体、シクロオレフィン系化合物、高共役ト
ロポロン系化合物、無色のアゾ系化合物、アントラセン
及びその誘導体、アルデヒド類、ケトン類の群の中から
選ばれる少なくとも一つ以上であることを特徴とする請
求項６〜請求項８いずれかの屈折率分布型光学材料。 - 【請求項１６】 重合性モノマは、二重結合又は三重結
合を有するものであることを特徴とする請求項６の屈折
率分布型光学材料。 - 【請求項１７】 フォトブリーチングを起こし得る原子
団を有する材料に対して不均一的に光照射することを特
徴とする屈折率分布型光学材料の製造方法。 - 【請求項１８】 フォトブリーチングを起こし得る原子
団を有する材料に対して不均一的に光照射することを特
徴とする屈折率が段階的に変化してなる屈折率分布型光
学材料の製造方法。 - 【請求項１９】 フォトブリーチングを起こし得る化合
物と重合性モノマとを反応させ、主鎖及び／又は側鎖に
フォトブリーチングを起こし得る原子団を有する材料を
得、この後、不均一的に光照射することを特徴とする屈
折率が段階的に変化してなる屈折率分布型光学材料の製
造方法。 - 【請求項２０】 フォトブリーチングを起こし得る原子
団を有する材料に対して不均一的に光照射することを特
徴とする屈折率が中心位置から外側に向かってほぼ連続
的に変化してなる屈折率分布型光学材料の製造方法。 - 【請求項２１】 フォトブリーチングを起こし得る化合
物と重合性モノマとを反応させ、主鎖及び／又は側鎖に
フォトブリーチングを起こし得る原子団を有する材料を
得、この後、不均一的に光照射することを特徴とする屈
折率が中心位置から外側に向かってほぼ連続的に変化し
てなる屈折率分布型光学材料の製造方法。 - 【請求項２２】 フォトブリーチングを起こし得る化合
物を重合体に付加させ、主鎖及び／又は側鎖にフォトブ
リーチングを起こし得る原子団を有する材料を得、この
後、不均一的に光照射することを特徴とする屈折率が中
心位置から外側に向かってほぼ連続的に変化してなる屈
折率分布型光学材料の製造方法。 - 【請求項２３】 フォトブリーチングを起こし得る化合
物と重合体とを混合し、この後、不均一的に光照射する
ことを特徴とする屈折率が中心位置から外側に向かって
ほぼ連続的に変化してなる屈折率分布型光学材料の製造
方法。 - 【請求項２４】 フォトブリーチングを起こし得る主鎖
骨格にＳｉを持つシリコン系樹脂に、不均一的に光照射
することを特徴とする屈折率が中心位置から外側に向か
ってほぼ連続的に変化してなる屈折率分布型光学材料の
製造方法。 - 【請求項２５】 波長が０．２μｍ〜０．４μｍの光を
照射することを特徴とする請求項１７〜請求項２４いず
れかの屈折率分布型光学材料の製造方法。 - 【請求項２６】 ５〜７００ｍＷ／ｃｍ2 の強度の光を
照射することを特徴とする請求項１７〜請求項２５いず
れかの屈折率分布型光学材料の製造方法。 - 【請求項２７】 光照射される材料はＴｇ−５５℃〜Ｔ
ｇ＋５５℃（Ｔｇはガラス転移温度）に保たれているこ
とを特徴とする請求項１７〜請求項２６いずれかの屈折
率分布型光学材料の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7339530A JP2914486B2 (ja) | 1995-12-26 | 1995-12-26 | 光ファイバ、及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7339530A JP2914486B2 (ja) | 1995-12-26 | 1995-12-26 | 光ファイバ、及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09178901A true JPH09178901A (ja) | 1997-07-11 |
| JP2914486B2 JP2914486B2 (ja) | 1999-06-28 |
Family
ID=18328357
Family Applications (1)
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