JPH09176281A - Preparation of epoxy resin composition - Google Patents
Preparation of epoxy resin compositionInfo
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- JPH09176281A JPH09176281A JP35026995A JP35026995A JPH09176281A JP H09176281 A JPH09176281 A JP H09176281A JP 35026995 A JP35026995 A JP 35026995A JP 35026995 A JP35026995 A JP 35026995A JP H09176281 A JPH09176281 A JP H09176281A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、IC、LSI、ト
ランジスター等の半導体装置の封止用として好適に使用
されるエポキシ樹脂組成物の製造方法に関し、更に詳述
すると、速硬化性、保存安定性、流動性、成形性に優れ
たエポキシ樹脂組成物を製造する方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing an epoxy resin composition which is preferably used for sealing semiconductor devices such as ICs, LSIs and transistors. The present invention relates to a method for producing an epoxy resin composition having excellent properties, fluidity and moldability.
【0002】[0002]
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】現在、
半導体産業の中で樹脂封止型のダイオード、トランジス
タ、IC、LSI、超LSIが主流となっており、中で
もエポキシ樹脂、硬化剤及びこれに各種の添加剤を配合
したエポキシ樹脂組成物は、一般に他の熱硬化性樹脂に
比べて成形性、接着性、電気特性、機械的特性、耐湿性
等に優れているため、エポキシ樹脂組成物で半導体装置
を封止することが多く行われている。最近ではこれらの
半導体装置は集積度が益々大きくなり、それに応じてチ
ップ寸法も大型化しつつある。一方、パッケージ外形の
寸法は電子機器の小型化、軽量化の要求に伴い、小型
化、薄型化が進んでいる。更に、半導体部品を回路基板
に取り付ける方法も基板上の部品の高密度化のため半導
体装置の表面実装がよく行われるようになりつつある。2. Description of the Related Art
In the semiconductor industry, resin-encapsulated diodes, transistors, ICs, LSIs, and VLSIs have become the mainstream. Among them, epoxy resins, curing agents, and epoxy resin compositions containing various additives are generally used. Since it is superior in moldability, adhesiveness, electrical characteristics, mechanical characteristics, and moisture resistance to other thermosetting resins, semiconductor devices are often sealed with epoxy resin compositions. Recently, the degree of integration of these semiconductor devices has been increased, and the chip size has been increased accordingly. On the other hand, the outer dimensions of the package are becoming smaller and thinner in accordance with the demand for smaller and lighter electronic devices. Furthermore, as for the method of mounting semiconductor components on a circuit board, surface mounting of semiconductor devices is becoming popular in order to increase the density of components on the board.
【0003】上記半導体装置を表面実装する場合、半導
体装置全体を半田槽に浸漬するか又は半田が溶融する高
温ゾーンに通過させる方法が一般的であるが、その際の
熱衝撃により封止樹脂層にクラックが発生したり、リー
ドフレームやチップと封止樹脂との界面に剥離が生じた
りする。このようなクラックや剥離は、表面実装時の熱
衝撃以前に半導体装置の封止樹脂層が吸湿していると更
に顕著なものとなるが、実際の作業工程においては、封
止樹脂層の吸湿は避けられず、このため実装後のエポキ
シ樹脂で封止した半導体装置の信頼性が大きく損なわれ
る場合がある。このため、このようなポップコーン対策
としてこれまでフィラー高充填による低吸湿化が行われ
てきた。また、薄型パッケージの成形性向上を図るため
エポキシ樹脂組成物の低粘度化が行われ、更に生産性を
向上させるため成形サイクルの向上のため速硬化性の触
媒が検討されてきた。When the above-mentioned semiconductor device is surface-mounted, a method of immersing the entire semiconductor device in a solder bath or passing it through a high temperature zone in which the solder melts is generally used, but the thermal shock at that time causes a sealing resin layer. Cracks may occur, or peeling may occur at the interface between the lead frame or chip and the sealing resin. Such cracks and peeling become more remarkable when the sealing resin layer of the semiconductor device absorbs moisture before the thermal shock at the time of surface mounting. Therefore, the reliability of the semiconductor device sealed with the epoxy resin after mounting may be greatly impaired. Therefore, as a countermeasure against such popcorn, moisture absorption has been reduced by filling a high amount of filler. Further, in order to improve the moldability of a thin package, the viscosity of an epoxy resin composition has been reduced, and in order to further improve the productivity, a fast-curing catalyst has been studied for improving the molding cycle.
【0004】しかしながら、上記生産性向上の手段とし
て、従来の硬化触媒、例えば、三級アミン化合物、三級
ホスフィン化合物やこれらの誘導体を多く用いて速硬化
性にした場合には、混練時に粘度が高くなる、ゲル化物
が多くなる、流動性が悪くなるという問題があった。However, as a means for improving the productivity, when a conventional curing catalyst such as a tertiary amine compound, a tertiary phosphine compound or a derivative thereof is used in a large amount for rapid curing, the viscosity during kneading is increased. There are problems that the temperature becomes high, the amount of gelled substance increases, and the fluidity deteriorates.
【0005】また、特公平7−16946号、特公昭5
2−135673号、特公昭59−129231号公報
には、エポキシ樹脂、硬化剤、無機質充填剤、離型剤、
顔料、難燃剤を溶融混練り後、硬化触媒を溶融混練りせ
ずに添加するエポキシ樹脂組成物の製造方法が提案され
ているが、得られたエポキシ樹脂組成物の溶融粘度が低
くなり過ぎてバリが多く発生し、離型性が悪化し、成形
表面にヒゲがでやすくなる等の問題があった。Further, Japanese Patent Publication No. 7-16946 and Japanese Patent Publication No. 5
No. 2-135673 and Japanese Examined Patent Publication No. 59-129231 disclose epoxy resins, curing agents, inorganic fillers, release agents,
A method for producing an epoxy resin composition in which a pigment and a flame retardant are melt-kneaded and then a curing catalyst is added without melt-kneading is proposed, but the melt viscosity of the obtained epoxy resin composition is too low. There were problems such as occurrence of many burrs, deterioration of releasability, and easy occurrence of beard on the molding surface.
【0006】本発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、速硬化性、保存安定性、流動性、成形性に優れたエ
ポキシ樹脂組成物の製造方法を提供することを目的とす
る。The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a method for producing an epoxy resin composition which is excellent in quick-curing property, storage stability, fluidity and moldability.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた
結果、エポキシ樹脂、硬化剤、無機質充填剤を主成分と
するエポキシ樹脂組成物に硬化触媒を配合する場合、全
硬化触媒の30〜92重量%をエポキシ樹脂、硬化剤、
無機質充填剤の全量と溶融混練りし、この混合物を微粉
砕した後、残りの硬化触媒を加熱溶融させずに混合する
ことにより、流動性、速硬化性、成形性に優れ、ゲル化
物も少なく、更に耐湿性、接着性に優れた硬化物を与え
るエポキシ樹脂組成物が得られることを知見し、本発明
をなすに至った。Means for Solving the Problems and Modes for Carrying Out the Invention As a result of intensive studies for achieving the above-mentioned object, the present inventors have found that an epoxy resin, a curing agent, and an epoxy resin containing an inorganic filler as a main component. When a curing catalyst is added to the composition, 30 to 92% by weight of the total curing catalyst is an epoxy resin, a curing agent,
Melt and knead with the whole amount of the inorganic filler, and after finely pulverizing this mixture, the remaining curing catalyst is mixed without heating and melting, resulting in excellent fluidity, rapid curing, moldability, and less gelation. Further, they have found that an epoxy resin composition that gives a cured product having further excellent moisture resistance and adhesiveness can be obtained, and thus completed the present invention.
【0008】従って、本発明は、エポキシ樹脂、硬化
剤、無機質充填剤及び硬化触媒を含有するエポキシ樹脂
組成物を製造する方法において、エポキシ樹脂、硬化
剤、無機質充填剤の全量と硬化触媒の全量のうち30〜
92重量%とを溶融混練りし、この混練物を微粉砕した
後、これに硬化触媒の残部をその溶融温度より低温で混
合することを特徴とするエポキシ樹脂組成物の製造方法
を提供する。Therefore, the present invention provides a method for producing an epoxy resin composition containing an epoxy resin, a curing agent, an inorganic filler and a curing catalyst, wherein the total amount of the epoxy resin, the curing agent, the inorganic filler and the total amount of the curing catalyst are equal to each other. Out of 30
A method for producing an epoxy resin composition is provided, which comprises melt-kneading 92% by weight, finely pulverizing the kneaded product, and then mixing the rest of the curing catalyst at a temperature lower than the melting temperature thereof.
【0009】以下、本発明のエポキシ樹脂組成物の製造
方法につき更に詳述すると、本発明に使用されるエポキ
シ樹脂は、1分子中に2個以上のエポキシ基を有するも
のあれば特に制限はなく、例えば、オルソクレゾールノ
ボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポ
キシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、ビスフェノール型エポ
キシ樹脂、置換又は非置換のナフタレン型エポキシ樹
脂、置換又は非置換のビフェニル型エポキシ樹脂、置換
又は非置換のトリフェノールアルカン型エポキシ樹脂、
上記エポキシ樹脂のハロゲン化物等を挙げることがで
き、これらの1種又は2種以上のものが適宜選択して用
いられる。The method for producing the epoxy resin composition of the present invention will be described in more detail below. The epoxy resin used in the present invention is not particularly limited as long as it has two or more epoxy groups in one molecule. , For example, orthocresol novolac type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, bisphenol type epoxy resin, substituted or unsubstituted naphthalene type epoxy resin, substituted or unsubstituted biphenyl type epoxy resin, substituted or non-substituted Substituted triphenol alkane type epoxy resin,
Examples thereof include halides of the above epoxy resins, and one or more of these are appropriately selected and used.
【0010】また、硬化剤はエポキシ樹脂に応じたもの
が使用され、例えば、酸無水物系硬化剤、フェノール系
硬化剤等を用いることができるが、中でもフェノール系
硬化剤を組成物の成形性、耐湿性といった面から好まし
く用いることができる。このフェノール系硬化剤として
具体的には、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノ
ボラック樹脂、ナフタレン型フェノール樹脂、ビフェニ
ル型フェノール樹脂、トリフェノールアルカン型フェノ
ール樹脂等の1分子中にフェノール性水酸基を少なくと
も2個、好ましくは3個以上含有するものが挙げられ
る。As the curing agent, one corresponding to the epoxy resin is used, and for example, an acid anhydride type curing agent, a phenol type curing agent or the like can be used. Among them, the phenol type curing agent is used for the moldability of the composition. In view of moisture resistance, it can be preferably used. Specific examples of the phenol-based curing agent include at least two phenolic hydroxyl groups in one molecule of phenol novolac resin, cresol novolac resin, naphthalene type phenol resin, biphenyl type phenol resin, triphenol alkane type phenol resin, etc., preferably Include those containing three or more.
【0011】ここで、上記硬化剤の配合量は、特に制限
されるものではないが、フェノール系硬化剤を使用する
場合には、硬化剤中のフェノール性水酸基に対するエポ
キシ樹脂中のエポキシ基のモル比を0.5〜1.5、特
に0.7〜1.1程度の範囲にすることが好ましい。Here, the amount of the above-mentioned curing agent to be compounded is not particularly limited, but when a phenol-based curing agent is used, the molar ratio of the epoxy group in the epoxy resin to the phenolic hydroxyl group in the curing agent is not limited. The ratio is preferably in the range of 0.5 to 1.5, particularly 0.7 to 1.1.
【0012】本発明に使用される硬化触媒は、エポキシ
樹脂と硬化剤との反応を促進させるために添加されるも
のであるが、該硬化触媒としては、公知のものでよく、
1,8−ジアザビシクロ(5.4.0)ウンデセン(D
BU)等のシクロアミジン誘導体、ホスフィン誘導体、
イミダゾール化合物、3級アミン類などが挙げられ、こ
れらの1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いる
ことができる。The curing catalyst used in the present invention is added to accelerate the reaction between the epoxy resin and the curing agent, and the curing catalyst may be a known one.
1,8-diazabicyclo (5.4.0) undecene (D
BU) and other cycloamidine derivatives, phosphine derivatives,
Examples thereof include imidazole compounds, tertiary amines and the like, and one of these may be used alone or two or more thereof may be used in combination.
【0013】ホスフィン誘導体としては、具体的にトリ
フェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリシク
ロヘキシルホスフィン、メチルジフェニルホスフィン、
ブチルフェニルホスフィン、ジフェニルホスフィン、フ
ェニルホスフィン、オクチルホスフィン、1,2−ビス
(ジフェニルホスフィノ)エタン、ビス(ジフェニルホ
スフィノ)メタン、テトラブチルホスホニウム・テトラ
フェニルボレート、n−ブチルトリフェニルホスホニウ
ム・テトラフェニルボレート、テトラフェニルホスホニ
ウム・テトラフェニルボレート、トリメチルフェニルホ
スホニウム・テトラフェニルボレート、ジエチルメチル
フェニルホスホニウム・テトラフェニルボレート、ジア
リルメチルフェニルホスホニウム・テトラフェニルボレ
ート、(2−ハイドロキシエチル)トリフェニルホスホ
ニウム・テトラフェニルボレート、エチルトリフェニル
ホスホニウム・テトラフェニルボレート、テトラフェニ
ルホスホニウム・テトラエチルボレート、テトラフェニ
ルホスホニウム・トリエチルフェニルボレート等が挙げ
られる。Specific examples of the phosphine derivative include triphenylphosphine, tributylphosphine, tricyclohexylphosphine, methyldiphenylphosphine,
Butylphenylphosphine, diphenylphosphine, phenylphosphine, octylphosphine, 1,2-bis (diphenylphosphino) ethane, bis (diphenylphosphino) methane, tetrabutylphosphonium tetraphenylborate, n-butyltriphenylphosphonium tetraphenyl Borate, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, trimethylphenylphosphonium tetraphenylborate, diethylmethylphenylphosphonium tetraphenylborate, diallylmethylphenylphosphonium tetraphenylborate, (2-hydroxyethyl) triphenylphosphonium tetraphenylborate, Ethyltriphenylphosphonium ・ Tetraphenylborate, Tetraphenylphosphonium ・Tiger ethyl borate, tetraphenylphosphonium-triethyl tetraphenylborate and the like.
【0014】イミダゾール化合物としては、具体的に2
−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、2,
4−ジメチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイ
ミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタ
デシルイミダゾール、1−ビニル−2−メチルイミダゾ
ール、2−フェニルイミダゾール、1−ビニル−2−エ
チルイミダゾール、イミダゾール、2−フェニル−4−
メチルイミダゾール、1−ビニル−2,4−ジメチルイ
ミダゾール、1−ビニル−2−エチル−1−メチルイミ
ダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシ
メチルイミダゾール、2−フェニル−4,5−ジヒドロ
キシメチルイミダゾール等が挙げられる。Specific examples of the imidazole compound include 2
-Methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2,
4-dimethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 1-vinyl-2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 1-vinyl-2-ethylimidazole, imidazole , 2-phenyl-4-
Methylimidazole, 1-vinyl-2,4-dimethylimidazole, 1-vinyl-2-ethyl-1-methylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxy Methyl imidazole etc. are mentioned.
【0015】3級アミン類としては、具体的にトリエチ
ルアミン、2,4,6−ジメチルメチルアミノフェノー
ル、ベンジルジメチルアミン、α−メチルベンジルメチ
ルアミン、ピペリジン、ジメチルラウリルアミン、ジア
ルキルアミノメタノールアミン、テトラメチルグアニジ
ン、2−ジメチルアミノ−2−ヒドロキシプロパン、
N,N’−ジメチルピペラジン、N−メチルモルホリ
ン、ピペラジン、2−(ジメチルアミノメチル)フェノ
ール、ヘキサメチレンテトラミン、1−ヒドロキシエチ
ル−2−ヘプタデシルグリオキサリジン等が挙げられ
る。Specific examples of the tertiary amines include triethylamine, 2,4,6-dimethylmethylaminophenol, benzyldimethylamine, α-methylbenzylmethylamine, piperidine, dimethyllaurylamine, dialkylaminomethanolamine and tetramethyl. Guanidine, 2-dimethylamino-2-hydroxypropane,
Examples include N, N'-dimethylpiperazine, N-methylmorpholine, piperazine, 2- (dimethylaminomethyl) phenol, hexamethylenetetramine, 1-hydroxyethyl-2-heptadecylglyoxalidine.
【0016】上記硬化触媒の配合量(総重量)は、上記
エポキシ樹脂と上記硬化剤の合計量100重量部に対し
て0.5〜5.5重量部が好ましく、より好ましくは
0.6〜3.0重量部である。配合量が0.5重量部よ
り少ないと、硬化物の熱時硬度に劣る場合があり、また
5.5重量部より多いと保存安定性、耐ゲル化性に劣
り、ゲル化物も多くなる場合がある。The compounding amount (total weight) of the above curing catalyst is preferably 0.5 to 5.5 parts by weight, more preferably 0.6 to 0.5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the above epoxy resin and the above curing agent. 3.0 parts by weight. If the blending amount is less than 0.5 parts by weight, the cured product may be inferior in hot hardness, and if it is more than 5.5 parts by weight, it may be inferior in storage stability, gelation resistance and gelation amount. There is.
【0017】本発明のエポキシ樹脂組成物には無機質充
填剤が配合されるが、無機質充填剤としては、溶融シリ
カ、結晶シリカ、アルミナ、タルク、カオリン、窒化珪
素、窒化アルミニウム、ボロンナイトライド、ガラス繊
維等を用いることができ、好ましくは、溶融シリカ、結
晶シリカが使用される。この無機質充填剤の配合量は、
上記エポキシ樹脂と上記硬化剤との合計量100重量部
に対して200〜850重量部、特に300〜650重
量部であることが好ましい。配合量が200重量部より
少ないと内部応力を十分に低下させることができず、8
50重量部より多いと樹脂の流動性が著しく低下して成
形困難になる場合がある。An inorganic filler is added to the epoxy resin composition of the present invention. Examples of the inorganic filler include fused silica, crystalline silica, alumina, talc, kaolin, silicon nitride, aluminum nitride, boron nitride and glass. Fibers and the like can be used, and fused silica and crystalline silica are preferably used. The amount of this inorganic filler compounded is
The total amount of the epoxy resin and the curing agent is preferably 200 to 850 parts by weight, more preferably 300 to 650 parts by weight, based on 100 parts by weight. If the blending amount is less than 200 parts by weight, the internal stress cannot be sufficiently reduced, and 8
If the amount is more than 50 parts by weight, the fluidity of the resin may be remarkably reduced and molding may be difficult.
【0018】また、上記無機質充填剤は、その使用に際
し予めその表面を有機珪素化合物、チタネート類、有機
アルミニウム類等の表面処理剤で表面処理して使用する
ことが好ましい。これらの中でも例えば、エポキシ官能
性基、アクリル官能性基、アミノ官能性基、メルカプト
官能性基等の官能性基を有するアルコキシシラン類など
で代表されるシランカップリング剤と呼ばれるものが特
に望ましい。Further, it is preferable that the surface of the above-mentioned inorganic filler is previously treated with a surface treating agent such as an organic silicon compound, titanates or organic aluminum before use. Among these, those called silane coupling agents typified by alkoxysilanes having a functional group such as an epoxy functional group, an acrylic functional group, an amino functional group, and a mercapto functional group are particularly preferable.
【0019】更に、本発明では、エポキシ樹脂組成物に
応力を低下させる目的でシリコーン系ポリマーや熱可塑
性ポリマーを配合することが好ましく、これらのポリマ
ーの添加により熱衝撃におけるパッケージクラックの発
生を著しく低下させることができる。Further, in the present invention, it is preferable to add a silicone polymer or a thermoplastic polymer to the epoxy resin composition for the purpose of reducing the stress, and the addition of these polymers significantly reduces the generation of package cracks due to thermal shock. Can be made.
【0020】上記シリコーン系ポリマーとしては、例え
ば、エポキシ基、アミノ基、カルボキシル基、水酸基、
ヒドロシリル基、ビニル基等を有するシリコーンオイ
ル、シリコーンレジン又はシリコーンゴム、更にはこれ
らのシリコーンポリマーとフェノールノボラック樹脂、
エポキシ化フェノールノボラック樹脂などの有機重合体
との共重合体を用いることができる。また、シリコーン
ゴムやゲルの微粉末も使用することができる。上記熱可
塑性ポリマーとしては、例えば、MBS樹脂、ブチラー
ル樹脂、芳香族ポリエステル樹脂などを例示することが
できる。Examples of the silicone-based polymer include epoxy group, amino group, carboxyl group, hydroxyl group,
Silicone oil, silicone resin or silicone rubber having hydrosilyl group, vinyl group, etc., and further these silicone polymers and phenol novolac resin,
A copolymer with an organic polymer such as an epoxidized phenol novolac resin can be used. Further, fine powder of silicone rubber or gel can also be used. Examples of the thermoplastic polymer include MBS resin, butyral resin, and aromatic polyester resin.
【0021】なお、これらのポリマーの配合量は、上記
エポキシ樹脂と上記硬化剤との合計量100重量部に対
して1〜50重量部とすることが好ましい。The blending amount of these polymers is preferably 1 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the epoxy resin and the curing agent.
【0022】また、本発明では、着色剤、離型剤、ハロ
ゲントラップ剤、難燃剤、顔料などを必要に応じて配合
することができ、その種類については公知の化合物を好
適に使用することができる。Further, in the present invention, a colorant, a releasing agent, a halogen trap agent, a flame retardant, a pigment and the like can be blended if necessary, and a known compound can be preferably used for the kind. it can.
【0023】上記成分を用いてエポキシ樹脂組成物を製
造する場合は、まずエポキシ樹脂、硬化剤、無機質充填
剤の全量と上記硬化触媒の全量の30〜92%(重量
%、以下同様)、好ましくは50〜60%とを溶融混練
りする。この場合、溶融混練りする硬化触媒量がその全
量の30%より少ないと、硬化時の反応が遅くなり、硬
化性が不十分となって成形物の外観不良、カル部の硬化
性不良、バリが多くなり、また硬化物の熱時硬度に劣る
等の問題が生じ、92%より多くなると、反応が進みす
ぎてゲル化物が多量に生成したり、未充填の問題が生じ
る。In the case of producing an epoxy resin composition using the above components, first, the total amount of the epoxy resin, the curing agent, the inorganic filler and the total amount of the curing catalyst is 30 to 92% (% by weight, the same applies hereinafter), preferably Is melt-kneaded with 50-60%. In this case, if the amount of the curing catalyst to be melt-kneaded is less than 30% of the total amount, the reaction at the time of curing becomes slow, and the curability becomes insufficient, resulting in poor appearance of the molded product, poor curability of the cull portion, and burrs. And the hardness of the cured product becomes inferior in hot hardness. If it exceeds 92%, the reaction proceeds too much to produce a large amount of gelled product and unfilled problems occur.
【0024】また、上記溶融混練り時の温度は、特に制
限されないが、通常、60〜130℃、好ましくは80
〜100℃であり、温度が60℃より低いと粘度が高く
なり、混練りを行うことが困難となり、130℃より高
いと流動性が悪化して成形性において未充填等の問題が
生じるおそれがある。The temperature during the melt kneading is not particularly limited, but is usually 60 to 130 ° C., preferably 80.
If the temperature is lower than 60 ° C, the viscosity becomes high and it becomes difficult to carry out kneading. If the temperature is higher than 130 ° C, the fluidity may be deteriorated to cause problems such as unfilling in moldability. is there.
【0025】なお、溶融混練りには、ニーダー、ロール
ミル、連続混練機などを使用して行うことができ、溶融
混練り時間は通常0.5〜5分、特に1〜3分である。The melt-kneading can be carried out using a kneader, a roll mill, a continuous kneader or the like, and the melt-kneading time is usually 0.5 to 5 minutes, especially 1 to 3 minutes.
【0026】このように溶融混練りした後は、この混練
物を室温(例えば0〜30℃程度)まで冷却し、次いで
微粉砕を行う。この微粉の粒度は、通常は75μm〜
1.4mmであるが、この微粉の粒度の好ましい粒度分
布としては、75μmより小さいものは20%以下、7
5μm〜180μmのものは10〜40%、180μm
〜500μmのものは10〜40%、500μm〜1.
0mmのものは20〜50%、1.0mm〜1.4mm
のものは10〜40%、1.4mmより大きいものは1
0%以下であることが好ましい。この微粉の粒度は、細
かい程次に添加する硬化触媒の分散性がよくなるが、細
かすぎると、得られる粉状エポキシ樹脂組成物をタブレ
ット化することが容易でない場合が生じる。After the melt-kneading, the kneaded product is cooled to room temperature (for example, about 0 to 30 ° C.) and then finely pulverized. The particle size of this fine powder is usually 75 μm
Although it is 1.4 mm, the preferable particle size distribution of the particle size of this fine powder is 20% or less for particles smaller than 75 μm, 7
5-40 μm is 10-40%, 180 μm
.About.500 .mu.m is 10-40%, 500 .mu.m-1.
0-50 mm is 20-50%, 1.0 mm-1.4 mm
10 to 40% of the above, 1 for larger than 1.4 mm
It is preferably 0% or less. The finer the particle size of this fine powder, the better the dispersibility of the curing catalyst to be added next, but if it is too fine, it may not be easy to tabletize the powdery epoxy resin composition obtained.
【0027】次に、この微粉砕物に残りの硬化触媒、即
ち全量の70〜8%、好ましくは50〜40%の硬化触
媒を添加混合するものであり、上記硬化触媒の添加量が
70%より多いと流動性が悪くなり、8%より少ないと
硬化性不良の問題を生じるおそれがある。Next, the remaining curing catalyst, that is, 70 to 8%, preferably 50 to 40% of the total amount of the curing catalyst is added to and mixed with the finely pulverized product, and the addition amount of the curing catalyst is 70%. If it is more than 8%, the fluidity is deteriorated, and if it is less than 8%, the problem of poor curability may occur.
【0028】なお、ここで添加混合する硬化触媒の好ま
しい粒度分布としては、通常150μm以下、例えば1
〜150μm程度であり、より好ましくは10〜75μ
m程度とすることで、添加する残りの硬化触媒の分散性
が良好となる。また分散性を良好にする方法として、予
め硬化触媒を顔料等のエポキシ樹脂成分でブレンドする
方法を採用することができる。The preferable particle size distribution of the curing catalyst added and mixed here is usually 150 μm or less, for example, 1
To about 150 μm, more preferably 10 to 75 μm
By setting it to about m, the dispersibility of the remaining curing catalyst to be added becomes good. As a method for improving the dispersibility, a method of previously blending a curing catalyst with an epoxy resin component such as a pigment can be adopted.
【0029】この混合は、混合物を溶融しないで、即ち
その溶融温度より低い温度、好ましくは60℃未満、特
に0〜40℃において行われる。なお、この混合には、
ヘンシェルミキサー、V−ブレンダーなどを用いること
ができ、混合時間は、例えばヘンシェルミキサーの場
合、通常30秒〜10分、特に1〜5分程度であり、ま
たV−ブレンダーの場合には、通常30分〜10時間、
特に1〜5時間程度である。This mixing is carried out without melting the mixture, that is to say below its melting temperature, preferably below 60 ° C., in particular 0-40 ° C. In addition, for this mixing,
A Henschel mixer, a V-blender or the like can be used, and the mixing time is usually 30 seconds to 10 minutes, particularly about 1 to 5 minutes in the case of a Henschel mixer, and usually 30 in the case of a V-blender. Minutes to 10 hours,
Especially, it is about 1 to 5 hours.
【0030】なお、エポキシ樹脂、硬化剤、無機質充填
剤、硬化触媒以外の成分は、最初の溶融混練り時に添加
することが好ましいが、上述したように、顔料などは混
合時に後添加の硬化触媒と予め混合して添加することも
できる。Components other than the epoxy resin, the curing agent, the inorganic filler, and the curing catalyst are preferably added at the time of the first melt-kneading, but as described above, the pigment and the like are added after the curing catalyst at the time of mixing. It is also possible to premix and add.
【0031】このように本発明の製造方法によって得ら
れるエポキシ樹脂組成物は、IC、LSI、トランジス
ター等の半導体装置の封止用として好適に使用されるも
のであり、半導体装置の封止を行う場合には、従来より
採用されている成型方法、例えば、トランスファー成型
法、インジェクション成型法、注型法等を使用すること
ができる。この場合の成型温度は150〜180℃で行
うことが望ましい。As described above, the epoxy resin composition obtained by the manufacturing method of the present invention is preferably used for sealing semiconductor devices such as ICs, LSIs, and transistors, and the semiconductor devices are sealed. In this case, a conventionally used molding method, for example, a transfer molding method, an injection molding method, a casting method or the like can be used. In this case, the molding temperature is preferably 150 to 180 ° C.
【0032】[0032]
【発明の効果】本発明の製造方法によれば、速硬化性、
保存安定性、流動性、成形性に優れ、ゲル化物の少ない
エポキシ樹脂組成物を得ることができる。According to the manufacturing method of the present invention, rapid curing,
It is possible to obtain an epoxy resin composition which is excellent in storage stability, fluidity, moldability, and has little gelation.
【0033】[0033]
【実施例】以下、実施例及び比較例を示して本発明を具
体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限される
ものではない。なお、下記に示される部はいずれも重量
部である。EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples. All parts shown below are parts by weight.
【0034】[実施例、比較例]エポキシ樹脂EOCN
1020(軟化点65℃、日本化薬社製)60.2部、
フェノール樹脂TD2093(大日本インキ化学社製)
33.8部、ワックスE1.5部、カーボンブラック1
部、ブロム化エポキシ樹脂6部、三酸化アンチモン7
部、溶融石英粉末300部及びγ−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン2部、更に表1に示す硬化触媒の
うちの所定量を2本ロールを用いて90〜100℃にて
均一に約0.5〜1分間溶融混合し、室温まで冷却後、
平均粒径が約500μm程度に微粉砕し、更に硬化触媒
(平均粒径が約30〜70μm程度の微粉末状)の残量
を室温(25℃)で混合して、粉状のエポキシ樹脂組成
物を調製した。[Examples and Comparative Examples] Epoxy resin EOCN
1020 (softening point 65 ° C., manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 60.2 parts,
Phenolic resin TD2093 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)
33.8 parts, wax E1.5 parts, carbon black 1
Parts, brominated epoxy resin 6 parts, antimony trioxide 7
Parts, fused silica powder 300 parts, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane 2 parts, and a predetermined amount of the curing catalyst shown in Table 1 uniformly at 90 to 100 ° C. using a two-roll mill. Melt and mix for 5 to 1 minute, cool to room temperature,
Finely pulverized to an average particle size of about 500 μm, and further mix the remaining amount of the curing catalyst (fine powder having an average particle size of about 30 to 70 μm) at room temperature (25 ° C.) to obtain a powdery epoxy resin composition. The thing was prepared.
【0035】次に、得られたエポキシ樹脂組成物につ
き、以下の(イ)〜(ホ)に示す諸試験を行った。結果
を表1に併記する。 (イ)スパイラルフロー EMMI規格に準じた金型を使用して175℃、70k
g/cm2 の条件で測定した。 (ロ)熱時硬度 175℃、70kg/cm2 、成形時間90秒及び35
秒の条件で10×4×100mmの抗折棒を形成した時
の熱時硬度をバーコール硬度計で測定した。 (ハ)保存安定性 各々の材料を25℃で放置した時にスパイラルフロー値
がそれぞれの初期値の80%になったときの日数を示し
た。 (ニ)ゲル化時間 組成物のゲル化時間を175℃で測定した。 (ホ)溶解試験 100gの組成物をアセトン500gで溶解し、#70
フルイ上に残った不溶物(ゲル状物)の重量を測定し
た。Next, the epoxy resin composition obtained was
Then, various tests shown in the following (a) to (e) were conducted. result
Is also shown in Table 1. (A) Spiral flow 175 ° C, 70k using a mold conforming to EMMI standard
g / cmTwo It measured on condition of. (B) Hot hardness 175 ° C, 70kg / cmTwo , Molding time 90 seconds and 35
When a 10 × 4 × 100 mm bending bar is formed under the condition of seconds
The hot hardness of was measured with a Barcol hardness meter. (C) Storage stability Spiral flow value when each material is left at 25 ℃
Shows the number of days when is 80% of each initial value
Was. (D) Gelation time The gelation time of the composition was measured at 175 ° C. (E) Dissolution test Dissolve 100 g of the composition with 500 g of acetone, and use # 70.
Weigh the insoluble matter (gel-like substance) remaining on the sieve,
Was.
【0036】[0036]
【表1】 2PZ :2−メチルイミダゾール DBU :1,8−ジアザビシクロ(5.4.0)ウン
デセン 2PHZ:2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチル
イミダゾール TPP :トリフェニルホスフィン[Table 1] 2PZ: 2-methylimidazole DBU: 1,8-diazabicyclo (5.4.0) undecene 2PHZ: 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole TPP: triphenylphosphine
フロントページの続き (72)発明者 武井 稔 群馬県碓氷郡松井田町大字人見1番地10 信越化学工業株式会社シリコーン電子材料 技術研究所内 (72)発明者 塩原 利夫 群馬県碓氷郡松井田町大字人見1番地10 信越化学工業株式会社シリコーン電子材料 技術研究所内Front page continuation (72) Minoru Takei Minoru, Hitomi, Matsuida-cho, Usui-gun, Gunma Prefecture 10 Shinji Chemical Industry Co., Ltd. Silicone Electronic Materials Research Laboratory (72) Toshio Shiobara Hitomi, Matsuida-cho, Usui-gun, Gunma Prefecture Address 1 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Silicone Electronic Materials Research Laboratory
Claims (2)
び硬化触媒を含有するエポキシ樹脂組成物を製造する方
法において、エポキシ樹脂、硬化剤、無機質充填剤の全
量と硬化触媒の全量のうち30〜92重量%とを溶融混
練りし、この混練物を微粉砕した後、これに硬化触媒の
残部をその溶融温度より低温で混合することを特徴とす
るエポキシ樹脂組成物の製造方法。1. A method for producing an epoxy resin composition containing an epoxy resin, a curing agent, an inorganic filler and a curing catalyst, wherein the total amount of the epoxy resin, the curing agent, the inorganic filler and the total amount of the curing catalyst are 30 to 30%. 92% by weight is melt-kneaded, the kneaded product is finely pulverized, and then the rest of the curing catalyst is mixed at a temperature lower than the melting temperature of the epoxy resin composition.
化剤との合計量100重量部に対して0.5〜5.5重
量部である請求項1記載の製造方法。2. The production method according to claim 1, wherein the total amount of the curing catalyst is 0.5 to 5.5 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the epoxy resin and the curing agent.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP35026995A JP3309688B2 (en) | 1995-12-22 | 1995-12-22 | Method for producing epoxy resin composition |
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JPH09176281A true JPH09176281A (en) | 1997-07-08 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2002220475A (en) * | 2001-01-25 | 2002-08-09 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | Production method for molding material of epoxy resin, and semiconductor device |
JP2012162583A (en) * | 2011-02-03 | 2012-08-30 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | Resin molding and method for producing the same and electronic component device |
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1995
- 1995-12-22 JP JP35026995A patent/JP3309688B2/en not_active Expired - Fee Related
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JP2002220475A (en) * | 2001-01-25 | 2002-08-09 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | Production method for molding material of epoxy resin, and semiconductor device |
JP2012162583A (en) * | 2011-02-03 | 2012-08-30 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | Resin molding and method for producing the same and electronic component device |
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