JPH09175996A - 鉱水用スプレー装置 - Google Patents

鉱水用スプレー装置

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JPH09175996A JP8287158A JP28715896A JPH09175996A JP H09175996 A JPH09175996 A JP H09175996A JP 8287158 A JP8287158 A JP 8287158A JP 28715896 A JP28715896 A JP 28715896A JP H09175996 A JPH09175996 A JP H09175996A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 鉱泉水または温泉水等の鉱水を携帯可能な個
人用エアゾール容器に充填し、なおかつ鉱水に含有され
た鉱物塩の析出を生じないようなスプレー装置を提供す
る。 【解決手段】 鉱水及び噴射剤ガスを収容した容器、バ
ルブ、噴霧手段を具備するスプレー装置であって、前記
噴射剤ガスが窒素と二酸化炭素からなることを特徴とす
るスプレー装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明の主題は、鉱水(miner
alized water)用、より詳細には鉱泉水又は温泉水(ther
mal water)用の、機械的推進系を持たない新規なスプレ
ー装置に関する。
【0002】
【従来の技術】鉱泉水または温泉水を携帯可能な個人用
エアゾール容器に充填することは、これらの水が有する
生理学的、中でも治療的な特性から得られる利益が享受
できるという増加しつつある公衆の需要に合致する。実
際に、鉱泉水または温泉水の蒸気を皮膚に与えること
は、空気中に分散した微細で均一な水粒子を霧の形態で
提供することを可能にし、皮膚に鉱物塩及び微量元素を
与え、さらには新鮮な好ましい感覚を与える手段であ
る。即ち、取り扱い及び持ち運びの容易な極めて単純な
装置によって、その使用者は、皮膚及び使用者の安寧に
とって特に有益な処理による利益を受けることができ
る。
【0003】例えば、「個人使用を可能にするイオウ水
のエアゾール容器への充填(The pachaging of sulphur
waters in aerosol containers which makes possible
their personal use)」、F. Clanet、Press thermale e
t climatique、1986、123、No.1 に記載されているよう
に、スプレー装置の加圧に窒素等のガスを使用すること
は当業者に周知である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、高度に鉱化さ
れた水、特に高濃度の炭酸塩または重炭酸塩を含有する
水では、窒素圧下においたときに析出を生じるものがあ
る。この鉱物塩の析出が続くと、噴霧される水の化学組
成が変化し、その特性及び皮膚に対する効果を大きく変
化させてしまう。この析出は、スプレー装置を詰まらせ
る危険性をも有していた。
【0005】特別医薬特許第3574号(Special Medic
inal Patent No. 3574)には、機械的推進系を具備する
エアゾール容器において二酸化炭素を使用することが記
載されている。しかし、機械的推進系を持たない個人用
スプレー装置にこのガスを用いることは消費者の要求を
満足しない。実際に、噴霧の終了時に、二酸化炭素は期
待されるスプレー分散ではなく液滴や液体ジェットを発
生させ、噴霧器末端では、ジェット噴射のような液漏れ
を生じ取扱者にとって不快であり、これらが、この装置
を市販できなくしている欠点であった。
【0006】スプレー分散とは、50μmから120μ
mの大きさを持つ粒子の雲状の分散として定義される。
【0007】最後に、従来技術によると、鉱泉水または
温泉水用のスプレー装置を製造する上で、重要かつコス
ト高な段階は、ガス及び水を充填した後におけるこの装
置の汚染防止である。この汚染防止は、通常は、熱処理
またはイオン化処理といった物理的方法によって行われ
ていた。
【0008】
【課題を解決するための手段】従って、出願人の会社
が、窒素及び二酸化炭素を含む混合ガスで加圧した個人
用エアゾール装置を使用することをによって、これら全
ての欠点を克服するとともに皮膚にスプレーされた水の
より良い寛容(tolerance)を与えることを見出したのは
驚くべきことである。実際に、窒素と二酸化炭素を含む
混合ガスで加圧された本発明のエアゾール装置の使用で
は、鉱物塩、特に水に溶解した炭酸塩または重炭酸塩の
析出を生じず、噴霧の終了時のジェットの発生も起こさ
ない。さらにこの装置は、細菌の量を極めて低いレベル
に低減させ、長時間に渡って非常に低いレベルに維持す
るが、これには物理的な汚染防止工程を再度行う必要は
ない。最後に、この混合ガスは、水のpHを皮膚のpH
に極めて近くするように作用する。
【0009】より詳しくは、本発明は、鉱水及び噴射剤
ガスを収容した容器、バルブ、噴霧手段を具備するスプ
レー装置であって、前記噴射剤ガスが窒素と二酸化炭素
からなることを特徴とするスプレー装置に関する。
【0010】
【発明の実施の形態】本発明の主題である装置は、一般
の鉱水、特に鉱泉水または温泉水に適用される。鉱泉水
は消費に適しているが、温泉水は常にそうとは限らな
い。これらの水は、特に、微量元素及び溶解した鉱物を
含有している。これらの水は、含有する特定の鉱物及び
微量元素に応じて、皮膚の加湿及び過敏化防止、または
ある種の皮膚病の処理といった特定の処理目的で用いら
れることが知られている。鉱泉水または温泉水は、天然
の鉱泉水または温泉水だけではなく、鉱物及び/または
微量元素成分をさらに添加して富化した天然鉱泉水また
は温泉水、及び、精製水(脱塩水または蒸留水)から調
製した鉱物及び/または微量元素の水溶液を意味する。
【0011】本発明で用いられる天然の温泉水または鉱
泉水は、例えば、ヴィッテル(Vittel)からの水、ビシー
地方(Vichy basin)からの水、ウリヤージ(Uriage)から
の水、ラ・ロシェ・ポセー(La Roche Posay)からの水、
ラ・ボウアボウレ(La Bourboule)からの水、アンガン・
レ・ベインス(Enghien-les-Bains)からの水、セント・
ジェルベー・レ・ベインス(Saint Gervais-les-Bains)
からの水、ネリス・レ・ベインス(Neris-les-Bains)か
らの水、アレバー・レ・ベインス(Allevar-les-Bains)
からの水、ディグネ(Digne)からの水、マイチエレス(Ma
izieres)からの水、ネイラック・レ・ベインス(Neyrac-
les-Bains)からの水、ロンス・レ・サウニール(Lons-le
-Saunier)からの水、オークス・ボネ(Eaux-Bonnes)から
の水、ロシェフォート(Rochefort)からの水、セント・
クリストー(Saint Christau)からの水、レ・フマデス(L
es Fumades)からの水、及び、テルシス・レ・ベインス
(Tercis-les-Bains)からの水またはアベネ(Avene)から
の水より選択することができる。
【0012】本発明が適用される鉱水は、保存剤、酸化
防止剤、香料、遮蔽剤、着色剤、あるいは、親水性また
は親油性活性成分といった皮膚科学及び/または化粧品
分野で通常用いられているアジュバントをさらに含んで
いてもよい。これらのアジュバントは、スプレーの形態
で分散されうるものから選択しなけらばならず、装置特
に噴霧器通路を閉塞してはならない。
【0013】皮膚に対する活性成分は、抗老化活性成
分、抗しわ活性成分、加湿剤または保湿剤、脱色素活性
成分、フリーラジカル(酸素ラジカル種)と闘う活性成
分、滋養活性成分、保護活性成分、抑制活性成分、調和
(toning)活性成分、抗アクネ活性成分、剥離(exforiati
ng)活性成分、柔軟化活性成分、あるいは、ミコース、
皮膚炎、乾癬等の皮膚疾患処理用活性成分であってよ
い。これらの活性成分は、その性質に応じて、例えば、
組成物全重量に対して0.01から10重量%で用いら
れる。
【0014】特に、抗アクネ、抗老化、抗しわ、加湿ま
たは保湿活性成分として、α−ヒドロキシ酸(グリコー
ル酸、乳酸、リンゴ酸、クエン酸等)を挙げることがで
きる。酸化防止剤としては、例えば亜硫酸塩を挙げるこ
とができる。
【0015】本発明によると、スプレー装置に用いられ
る噴射剤ガスは、窒素(N2)及び二酸化炭素(CO2
を含む混合物であり、この噴射剤ガスは、好ましくは実
質的にN2とCO2とからなる。
【0016】種々の容量比率の窒素及び二酸化炭素から
なる混合ガスを充填した装置を用いてスプレー試験を行
った。これらの試験によって、全ガス容量に対して30
容量%より多くの窒素を用いると、装置の噴霧の終了時
におけるジェットの発生が防止されることが示された。
【0017】さらに、全ガス容量に対して少なくとも4
0容量%の二酸化炭素を用いることにより、鉱物塩の析
出が防止されることもわかった。
【0018】本発明の主題である装置に用いられるガス
は、好ましくは窒素と二酸化炭素の混合物であり、それ
らの全ガス容量に対する容量%(各々、%N2及び%C
2で示す)は、以下の関係を満足する。 40/60<%N2/%CO2<60/40 及び、 (関係式I) %N2 + %CO2 =100 さらに好ましくは、以下のように選択する。 %N2 = %CO2 = 50 (関係式II)
【0019】本発明が適用される鉱泉水または温泉水
は、例えば、ヴィッテルからの水、ビシー地方からの
水、ウリヤージからの水、ラ・ロシェ・ポセーからの
水、ラ・ボウアボウレからの水、アンガン・レ・ベイン
スからの水、またはレ・フマデスからの水のように、高
濃度の炭酸塩または重炭酸塩を有していてもよい。特に
これらの鉱水は、炭酸塩及び重炭酸塩の合計濃度が36
0mg/lより大きいが、本発明の装置における使用で
は、上述の欠点を示さない。
【0020】また、噴射剤ガス混合物中に二酸化炭素を
用いることが、鉱泉水または温泉水のpHに影響を与え
ることも見出された。実際に、当時の技術常識による
と、窒素を噴射剤ガスとして用いた場合、装置から噴出
される水のpHは7から8の間である。水に溶解したC
2が存在すると媒質は酸性化され、水のpHは皮膚の
pH(通常は5から6)に近づき、特に極めて過敏性の
皮膚の処理によりよい寛容を与える。
【0021】さらに、異なるタイプの噴霧器通路を試験
することにより、本発明の装置を用いて得られるスプレ
ー分散の質を最適化することができる。3つの渦巻き状
流路を備えたノズルを有する噴霧器通路を用いるのが好
ましい。この噴霧器通路を選択することにより、放出の
終了時にジェットを発生することなく、高い比率で二酸
化炭素(70%までのCO2)を含む噴射剤ガス混合物
を使用することが可能になる。
【0022】バルブは、噴霧器通路に十分な供給を与
え、詰まる危険性が無いように選択される。バルブは、
筒缶をあまり用いない場合には、ガスの損失を避けるた
めに、ヘッドを上に向けても下に向けても使用すること
ができるものが好ましく選択される。しかし、ヘッドを
上に向けたときにのみ使用できるバルブも用いることが
できる。
【0023】最後に、二酸化炭素は、特に、「CO2
よる微生物の成長及び代謝の阻害(The Inhibition by C
O2 of the Growth and Metabolism of Microorganism
s)」、N.M. Dixon、Journal of Applied Bacteriolog
y、1989、67、109-136 に記載されているように、その
静菌性が知られている。しかし、好ましくは関係式I、
さらに好ましくは関係式IIを満足する比率で混合され
た本発明の装置に用いられる窒素と二酸化炭素の混合ガ
スによって、媒質中に存在する微生物の数を減少させる
ことが可能であることは予測されなかった。さらに、こ
のような装置を使用することにより、鉱泉水または温泉
水から、物理的な汚染防止方法を再度施すことなく、数
日の間、100ml当たりに10以下の微生物、好まし
くは100ml当たりに1以下の微生物というレベルの
汚染しか持たない媒質を得ることができる(European P
harmacopoeia、1983、Vol. I、V.2.1.8 に与えられた微
生物計数方法)。
【0024】本発明の主題をよりよく理解するために、
以下に本発明の特徴を具備する装置の実施例を用いて説
明する。
【0025】
【実施例】図1及び2に示した個人用スプレー装置は、
水(10)及び噴射剤ガス(8)を収容した容器(1
1)、バルブ、及び該バルブに連結した水の分散手段か
らなる。このバルブは、バルブ本体(7)、皿部(1
2)、バルブを作動させ水を噴出するロッド(6)、シ
ール(13)、及びバネ(14)とからなる。容器(1
1)の上部には、着脱自在なキャップ(1)が設けられ
ている。水を分散させる手段は、バルブ本体(7)に取
り付けられた浸漬チューブ(9)と押しボタン(2)か
らなり、この押しボタン(2)はロッド(6)上に嵌合
された結合材(5)、分散流路(4)、及びノズル
(3)を具備している。
【0026】図3及び4に示すように、ノズル(20)
は、オリフィス(22)において終端し、3つの渦巻き
状流路(21)を具備する。
【0027】試験 特に断らない限り、3つの渦巻き状流路を備えた深さ
0.20mmの噴霧器通路を具備し、平坦なノズルを有
する装置につき、ビシー地方からの水(ルーカス(Luca
s)からの水)を用いて行った。
【0028】全ての比率は容量で与えた。装置の初期圧
力は6×105パスカルであり、用いた噴霧器通路に
0.9g/sの流速を与えた。噴出の終了時に圧力は2
×10 5パスカルとなり、流速は0.5g/sとなっ
た。
【0029】試験1 窒素及び二酸化炭素の比率を変化させ、噴出の終了時に
おけるジェットの発生の有無を観察した。結果を以下の
0から5までに等級付けした。 0=ジェット無し 1−2=液滴 3−4=低力ジェット 5=顕著なジェット発生
【0030】
【表1】
【0031】これらの結果から、70%以下の二酸化炭
素を含む噴射剤ガスがジェット発生を起こさないことが
わかった。
【0032】試験2 早い噴出を可能にする噴霧器通路を用いて装置の出口か
ら5cm3の水を取り出して、二酸化炭素のpHに対す
る影響を評価した。3つのサンプルを測定し、測定値を
平均した。
【0033】
【表2】
【0034】これらの結果から、本発明の装置が、従来
技術によるスプレー分散より皮膚のpHに近いpHを持
つスプレー分散を得ることを可能にすることがわかっ
た。
【0035】試験3 炭酸カルシウム析出物の生成を、噴出の開始時(ライン
A)及び終了時(ラインB)におけるノズル出口での水
に溶解した炭酸カルシウムを、キレート滴定(測定単位
mg/l)で測定することによって評価した。
【0036】
【表3】
【0037】これらの結果から、関係式Iを満足する窒
素と二酸化炭素との混合ガスは、炭酸塩及び重炭酸塩の
析出を防止できることが示された。
【0038】試験4 混合ガスの細菌汚染に対する影響を評価した。これを行
うために、細菌集団に影響を与えない組成を有する滅菌
した生理水を用いた。所定量の緑膿菌ATCC1942
9を、この水に導入した。この汚染物は、100ml当
たりに105の微生物(C10 5)、及び、100ml当た
りに104の微生物(C10 4)という初期濃度を得るため
に、校正懸濁(calibrated suspension)を用いて調製し
た。この水を本発明のスプレー装置に充填した。混合ガ
スは、50%の窒素と50%の二酸化炭素からなる(D
1)。比較のため、この水を、窒素で加圧したエアゾー
ル装置(D2)、及び、加圧しないエアゾール装置にも
充填した。水の充填時(T0)、室温(20±2℃)で
の24時間保存後(T24h)、及び、7日間保存後(T
7d)に、濾過して細菌数を計数した。結果を、100m
l当たりの微生物数として表4に示す。
【0039】
【表4】
【0040】本発明の装置(D1)が、少なくとも4桁
のオーダーで、微生物数を減少させることができるが、
窒素のみで加圧した装置(D2)では、対照用の装置
(D3)と同様に、1桁のオーダーでしか微生物数を減
少させることができないことがわかった。
【0041】比較試験によって、本発明の装置では、室
温(20±2℃)において、温泉水の微生物集団が、少
なくとも9ヶ月間安定に保持されることが示された。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明のスプレー装置の縦断面図である。
【図2】 図1のスプレー装置の一部拡大図である。
【図3】 渦巻き状流路を備えた噴霧器通路の縦断面図
である。
【図4】 渦巻き状流路を備えた噴霧器通路の横断面図
である。
【符号の説明】
1…キャップ、2…押しボタン、3…ノズル、4…分散
流路、5…結合材、6…ロッド、7…バルブ本体、8…
噴射剤ガス、9…浸漬チューブ、10…水、11…容
器、20…ノズル、21…渦巻き状流路、22…オリフ
ィス

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 鉱水及び噴射剤ガスを収容した容器、バ
    ルブ、及び鉱水の分散手段を具備してなる鉱水用スプレ
    ー装置において、前記噴射剤ガスが窒素及び二酸化炭素
    を含有する混合物からなることを特徴とするスプレー装
    置。
  2. 【請求項2】 前記鉱水が、100ml当たりに10未
    満の微生物が存在する汚染度を有することを特徴とする
    請求項1記載の装置。
  3. 【請求項3】 前記鉱水が、100ml当たりに1以下
    の微生物が存在する汚染度を有することを特徴とする請
    求項2記載の装置。
  4. 【請求項4】 前記噴射剤ガスが、本質的に窒素と二酸
    化炭素とからなることを特徴とする請求項1から3のい
    ずれかに記載の装置。
  5. 【請求項5】 前記噴射剤ガスが、少なくとも30%の
    窒素を含有することを特徴とする請求項1から4のいず
    れかに記載の装置。
  6. 【請求項6】 前記噴射剤ガスが、少なくとも40%の
    二酸化炭素を含有することを特徴とする請求項1から5
    のいずれかに記載の装置。
  7. 【請求項7】 全ガス容量に対する窒素の容量%(%N
    2)及び二酸化炭素の容量%(%CO2)が、 40/60<%N2/%CO2<60/40 及び、 %N2 + %CO2 =100 の関係を満足することを特徴とする請求項1から6のい
    ずれかに記載の装置。
  8. 【請求項8】 全ガス容量に対する窒素の容量%(%N
    2)及び二酸化炭素の容量%(%CO2)が、 %N2 = %CO2 = 50 の関係を満足することを特徴とする請求項1から7のい
    ずれかに記載の装置。
  9. 【請求項9】 前記鉱水が、天然鉱泉水または温泉水で
    あることを特徴とする請求項1から8のいずれかに記載
    の装置。
  10. 【請求項10】 前記鉱水が、ヴィッテル(Vittel)から
    の水、ビシー地方(Vichy basin)からの水、ウリヤージ
    (Uriage)からの水、ラ・ロシェ・ポセー(La Roche Posa
    y)からの水、ラ・ボウアボウレ(La Bourboule)からの
    水、アンガン・レ・ベインス(Enghien-les-Bains)から
    の水、セント・ジェルベー・レ・ベインス(Saint Gerva
    is-les-Bains)からの水、ネリス・レ・ベインス(Neris-
    les-Bains)からの水、アレバー・レ・ベインス(Allevar
    -les-Bains)からの水、ディグネ(Digne)からの水、マイ
    チエレス(Maizieres)からの水、ネイラック・レ・ベイ
    ンス(Neyrac-les-Bains)からの水、ロンス・レ・サウニ
    ール(Lons-le-Saunier)からの水、オークス・ボネ(Eaux
    -Bonnes)からの水、ロシェフォート(Rochefort)からの
    水、セント・クリストー(Saint Christau)からの水、レ
    ・フマデス(Les Fumades)からの水、及び、テルシス・
    レ・ベインス(Tercis-les-Bains)からの水より選択され
    ることを特徴とする請求項1から9のいずれかに記載の
    装置。
  11. 【請求項11】 前記鉱水が、保存剤、酸化防止剤、香
    料、遮蔽剤、着色剤、あるいは親水性または親油性活性
    成分から選択された少なくとも1つのアジュバントを含
    むことを特徴とする請求項1から10のいずれかに記載
    の装置。
  12. 【請求項12】 前記鉱水が、組成物全重量に対して
    0.01から10重量%の少なくとも1つの親水性また
    は親油性活性成分を含むことを特徴とする請求項11記
    載の装置。
  13. 【請求項13】 前記鉱水が、360mg/lより高い
    炭酸塩または重炭酸塩の合計濃度を有することを特徴と
    する請求項1から12のいずれかに記載の装置。
  14. 【請求項14】 3つの渦巻き状流路を持つノズルを具
    備した噴霧器通路を有することを特徴とする請求項1か
    ら13のいずれかに記載の装置。
  15. 【請求項15】 鉱水の汚染度を100ml当たり10
    以下の微生物にする及び/または保持するための二酸化
    炭素及び窒素の混合物の使用。
  16. 【請求項16】 前記鉱水の汚染度が、100ml当た
    りに1以下の微生物であることを特徴とする請求項15
    記載の使用。
  17. 【請求項17】 前記鉱水が、天然鉱泉水または温泉水
    であることを特徴とする請求項16記載の使用。
  18. 【請求項18】 前記鉱泉水または温泉水が、ヴィッテ
    ル(Vittel)からの水、ビシー地方(Vichy basin)からの
    水、ウリヤージ(Uriage)からの水、ラ・ロシェ・ポセー
    (La Roche Posay)からの水、ラ・ボウアボウレ(La Bour
    boule)からの水、アンガン・レ・ベインス(Enghien-les
    -Bains)からの水、セント・ジェルベー・レ・ベインス
    (Saint Gervais-les-Bains)からの水、ネリス・レ・ベ
    インス(Neris-les-Bains)からの水、アレバー・レ・ベ
    インス(Allevar-les-Bains)からの水、ディグネ(Digne)
    からの水、マイチエレス(Maizieres)からの水、ネイラ
    ック・レ・ベインス(Neyrac-les-Bains)からの水、ロン
    ス・レ・サウニール(Lons-le-Saunier)からの水、オー
    クス・ボネ(Eaux-Bonnes)からの水、ロシェフォート(Ro
    chefort)からの水、セント・クリストー(Saint Christa
    u)からの水、レ・フマデス(Les Fumades)からの水、及
    び、テルシス・レ・ベインス(Tercis-les-Bains)からの
    水より選択されることを特徴とする請求項17記載の使
    用。
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