JPH09173808A - 混合装置 - Google Patents

混合装置

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JPH09173808A
JPH09173808A JP8321988A JP32198896A JPH09173808A JP H09173808 A JPH09173808 A JP H09173808A JP 8321988 A JP8321988 A JP 8321988A JP 32198896 A JP32198896 A JP 32198896A JP H09173808 A JPH09173808 A JP H09173808A
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partition wall
edges
roof
wall
mixing device
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JP8321988A
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Adnam Eroglu
エログル アドナン
Wolfgang Polifke
ポリフケ ヴォルフガング
Peter Senior
シニア ピーター
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ABB Research Ltd Sweden
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ABB RES Ltd
ABB Research Ltd Sweden
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Publication date
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F25/00Flow mixers; Mixers for falling materials, e.g. solid particles
    • B01F25/40Static mixers
    • B01F25/42Static mixers in which the mixing is affected by moving the components jointly in changing directions, e.g. in tubes provided with baffles or obstructions
    • B01F25/421Static mixers in which the mixing is affected by moving the components jointly in changing directions, e.g. in tubes provided with baffles or obstructions by moving the components in a convoluted or labyrinthine path
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B01F25/43Mixing tubes, e.g. wherein the material is moved in a radial or partly reversed direction
    • B01F25/431Straight mixing tubes with baffles or obstructions that do not cause substantial pressure drop; Baffles therefor
    • B01F25/4317Profiled elements, e.g. profiled blades, bars, pillars, columns or chevrons
    • B01F25/43172Profiles, pillars, chevrons, i.e. long elements having a polygonal cross-section
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B01F25/431Straight mixing tubes with baffles or obstructions that do not cause substantial pressure drop; Baffles therefor
    • B01F25/43197Straight mixing tubes with baffles or obstructions that do not cause substantial pressure drop; Baffles therefor characterised by the mounting of the baffles or obstructions
    • B01F25/431971Mounted on the wall
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F05INDEXING SCHEMES RELATING TO ENGINES OR PUMPS IN VARIOUS SUBCLASSES OF CLASSES F01-F04
    • F05BINDEXING SCHEME RELATING TO WIND, SPRING, WEIGHT, INERTIA OR LIKE MOTORS, TO MACHINES OR ENGINES FOR LIQUIDS COVERED BY SUBCLASSES F03B, F03D AND F03G
    • F05B2260/00Function
    • F05B2260/20Heat transfer, e.g. cooling
    • F05B2260/221Improvement of heat transfer
    • F05B2260/222Improvement of heat transfer by creating turbulence

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 混合装置において、混合作用を改善すること
にある。 【解決手段】 同等の又は不等の質量流を有する2つ又
はそれ以上の流体を混合するための混合装置であって、
混合すべき流体が仕切壁に沿って流れ、この仕切壁の下
流側の端部に、擦過流動自在な面を有する多数の渦発生
器が配置され、接合エッジが有利には、壁部に対して垂
直に延びかつ最初に流体によって負荷されるエッジを成
している。屋根面が2つの部分・屋根面から形成され、
部分・屋根面が接合エッジによって互いに結合され、部
分・屋根面の下流側に位置する後方エッジが、仕切壁と
所定の角度を成し、これにより、側壁面に関連して後方
エッジが、ほぼ仕切壁の他方の側に位置し、底部面が、
2つの部分・底部面から形成され、この部分・底部面
が、接合エッジを介して互いに結合されかつ後方エッジ
を介して部分・屋根面に接続されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、同等の又は不等の質量
流を有する2つ又はそれ以上の流体を混合するための混
合装置であって、混合すべき流体が仕切壁に沿って流
れ、この仕切壁の下流側の端部に、擦過流動自在な面を
有する多数の渦発生器が配置されていて、これら渦発生
器の多数が互いに並べて配置されており、渦発生器の側
壁面が仕切壁の一方の側に密接して互いに矢尻角を成し
ており、側壁面の長手方向に延びるエッジが、壁部に対
して仰角を成して延びていてかつ両側壁面が互いに接合
エッジを有していて、この接合エッジが、有利には、壁
部に対して垂直に延びていてかつ最初に流れによって負
荷されるエッジを成している形式のものに関する。
【0002】
【従来の技術】このような混合装置は、例えばヨーロッ
パ特許第0619134号明細書から公知である。例え
ば化学、食品又は薬剤製造等におけるような多くの分野
では、流体を極めて短い経路で親密に混合する必要があ
る。全プロセスの質は、多くは達成される混合質に関連
している。この場合、混合過程に際して圧力勾配は、プ
ロセスコストを低いポンプ作業によって僅かに抑えるた
めに、論理的な(reasonable)範囲に維持されねばなら
ない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、冒頭
に述べた形式の混合装置において、混合作用を改善する
ことにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】前記課題は本発明によれ
ば、屋根面が2つの部分・屋根面から形成されており、
部分・屋根面の長手方向に延びるエッジが、側壁面のエ
ッジと合致していてかつ部分・屋根面が、接合エッジを
介して互いに結合されており、部分・屋根面の下流側に
位置する後方エッジが、仕切壁と所定の角度を成してい
て、これにより、側壁面に関連して後方エッジが、ほぼ
仕切壁の他方の側に位置しており、底部面が、2つの部
分・底部面から形成されていて、この部分・底部面が、
接合エッジを介して互いに結合されていてかつ後方エッ
ジを介して部分・屋根面に接続されていることによって
解決された。
【0005】
【発明の効果】本発明の利点は特に、仕切壁に対してね
じられた後方エッジの導入によって、仕切壁の下流側の
エッジが延長される、ということにある。これによっ
て、一面では、混合すべき流体の接触面積が拡大され、
かつ、他面では、流れ内に設置された後方エッジによっ
て別の渦流が生ぜしめられる。この渦流によって、長手
方向に延びるエッジにおいて生ぜしめられる渦発生器の
渦流が、助成されかつ増強される。更に、混合すべき流
体の混合作用が高められる。それというのも、渦流が、
それぞれ対向する流体の方向に伝播され、これによっ
て、密接に結びつく流れパターンが生ぜしめられるから
である。
【0006】流れ技術的な観点からみて、擦過流動の際
に渦発生器・エレメントが極めて僅かな圧力損失を有し
かつ止水域を生ぜしめることなく渦流が発生せしめられ
る。更に、エレメントは、通常中空の内室を介して種種
異なるあらゆる形式及び手段で冷却することができる。
【0007】特に有利には、渦発生器の、矢尻角αを成
す両側壁面並びに部分・屋根面は、側壁面の接合エッジ
及び対称軸線によって形成される対称平面に対して対称
的に配置されている。これによって、同一の旋回流を有
する渦流が形成される。
【0008】
【発明の実施の形態】図面では、本発明を理解するのに
重要なエレメントのみを図示している。
【0009】第1図によれば、渦発生器9はほぼ、擦過
流動自在な多数の三角形の面から形成されている。この
面は、2つの部分・屋根面1,2、2つの側壁面11,
13及び第1図で図示されてない2つの部分・底部面で
ある。前記面の長手延在方向は流動方向で所定の角度を
成して延びている。
【0010】両側壁面11,13はそれぞれ、仕切壁2
2の所属の上面21に垂直に位置している。しかしこの
ことは、絶対必要なことではない。直角三角形を成す側
壁面11,13は、長辺側で仕切壁22上に固定され
る。側壁面11,13は、短辺側で矢尻角αを成して接
合部を形成するように、方向付けされている。接合部は
シャープな接合エッジ16として形成されかつ同様に仕
切壁22に対して垂直に位置している。
【0011】通路内に組み込まれた場合には、シャープ
な接合エッジ16に基づき流過横断面は障害物によって
殆ど損なわれることはない。側壁面11,13の長辺側
によって及び接合エッジ16によって、仕切壁22内に
位置する交点8が形成される。矢尻角αを成す両側壁面
11,13は、形状、大きさ及び方向付けの点で対称的
でありかつ対称軸線17及び接合エッジ16によって形
成される対称平面の両側に位置している。対称軸線17
は、通常通路軸線ひいては通路流体と同じ方向に延びて
いる。
【0012】部分・屋根面1のほぼ長手方向に延びる縦
エッジ12は、側壁面11の、流れ通路内に突入する斜
辺と合致している。縦エッジ12は、仕切壁22に対し
て仰角θを成している。部分・屋根面1の、下流側に位
置する後方エッジ5は、対称軸線17に対して垂直な平
面内に位置していてかつ仕切壁22に対して所定の角度
γだけねじられているので、後方エッジ5は仕切壁22
の下側に位置する。それ故、渦発生器9を取り付けるた
めに、仕切壁22内にスリットが設けられるか又は仕切
壁22が適当に適合されねばならない。
【0013】部分・屋根面2は、対称軸線17及び接合
エッジ16によって形成された対称平面に関し部分・屋
根面1に対して対称的である。従って、部分・屋根面2
の長手方向に延びる縦エッジ14は、側壁面13の、流
れ通路内に突入する斜辺と合致している。縦エッジ14
は、仕切壁22に対して仰角θを成して延びている。部
分・屋根面2の後方エッジ6は、同様に対称軸線17に
対して垂直な平面内に位置しかつ仕切壁22に対してマ
イナスの角度γだけねじられているので、後方エッジ6
は、仕切壁22の下側に位置する。
【0014】部分・屋根面1の長手方向に延びる第2の
縦エッジは、部分・屋根面2の長手方向に延びる第2の
縦エッジと共に、対称軸線17及び接合エッジ16によ
って形成された対称平面内に位置する接合エッジ10を
成している。接合エッジ10は後方エッジ5,6と共
に、渦発生器9の下流側の端部に位置する先端部7を成
している。縦エッジ12,14は、接合エッジ16並び
に接合エッジ10と共に、渦発生器9の上流側の端部に
位置する先端部18を成している。
【0015】第2図によれば、三角形の部分・底部面3
は、後方エッジ5及び交点8によって規定され、三角形
の部分・底部面4は、後方エッジ6及び交点8によって
規定される。従って、部分・底部面3,4の接合エッジ
30は、先端部7から交点8まで延びている。
【0016】当然、渦発生器9は、部分・底部面なしに
製作でき、この場合、仕切壁が部分・底部面の機能を担
う。このために、仕切壁の下流側の端部は、部分・底部
面に相応してジグザグ状に成形されねばならない。仕切
壁の下流側の端部の接触面積を一層増大させるために、
渦発生器の後方エッジは、対称軸線に対して垂直に延び
ない種種の平面内にも配置できる。
【0017】第3図及び第4図では、渦発生器9’が仕
切壁22の下面20にかつ渦発生器9が仕切壁22の上
面21に並べて配置されている。渦発生器9’は、形状
及び大きさの点で渦発生器9に合致していて、それ故、
渦発生器9のための既に使用した符号は、渦発生器9’
のためにも使用されるが、ダッシュを付加している。渦
発生器9は、回転軸線19を中心として180度回動す
ることによって、渦発生器9’に移行させることができ
る。回転軸線19は仕切壁22内に位置し、対称軸線1
7に対して平行でありかつ縦エッジ14と後方エッジ6
の交点を通って延びている。
【0018】両側壁面11,13の接合エッジ16は、
常に渦発生器9,9’の上流側のエッジを成している。
シャープな接合エッジ16は、通路流体によって最初に
負荷される個所である。従って、部分・屋根面の、擦過
流動される仕切壁22に対して横方向に延びる後方エッ
ジ5,6,5’,6’は、通路流体によって最後に負荷
されるエッジである。
【0019】当然、渦発生器9’を渦発生器9とは異な
って構成することもできる。この場合、渦発生器は常
に、図示の基本構造に類似した幾何学形状を有する。こ
のことは例えば、物理的に異なる流体を混合するのに有
利である。
【0020】渦発生器の作用形式は次の通りである。
【0021】縦エッジ12,14を擦過流動した場合、
流体は対の逆向きの渦流に変換される。渦流軸線は流体
軸線内に位置する。渦発生器の幾何学形状は、渦流が発
生した場合に逆流域が生じないように、選ばれている。
渦発生器9の渦流は、屋根面の上側に沿って回転しか
つ、渦発生器が取り付けられている仕切壁22に向かお
うとする。渦発生器9’の渦流は、屋根面の下側に沿っ
て回転しかつ同様に仕切壁22に向かおうとする。
【0022】渦流の旋回流数は、仰角θ及び/又は矢尻
角αの適当な選択によって規定される。角度が増大する
につれて、渦流強さもしくは旋回流数が増大しかつ(実
際に所望されている限りにおいて)渦流崩壊(vertex
break down)個所が上流側に渦発生器自体の範囲内に
まで移動する。使用に応じて、前記仰角θ及び矢尻角α
は、構造的な条件によって及びプロセス自体によって予
め規定される。この場合、接合エッジ16の高さhのみ
が適合されればよい。角度γの選択によって、角度γが
大きくなるほど部分流体が良好に混合されるように、渦
流に影響が及ぼされる。しかしながら、角度γは任意の
大きさに選ぶことができない。それというのも、角度γ
が大きくなるにつれて圧力勾配も増大するからである。
【0023】更に、本発明の作用形式のために擦過流動
される仕切壁22の形状は、重要ではない。仕切壁22
の図示の直線的な形状の代わりに、環状又は六角形又は
別の横断面形状も可能である。湾曲した仕切壁の場合、
当然、側壁面が壁部に垂直に位置するように、関連付け
られねばならない。対称軸線17上に位置する接合エッ
ジ16が対応する壁部に垂直に位置することが、重要で
ある。従って、環状の壁部の場合、接合エッジ16は半
径方向に方向付けられる。
【0024】第5図では、部分的に仕切壁22を組み込
まれた通路を図示している。貫流横断面は、仕切壁22
によって、通路高さH1,H2を有する2つの部分通路
に分割されている。仕切壁22の上面21は、上側の部
分通路41の通路壁を成し、仕切壁22の下面20は、
下側の部分通路42の通路壁を成している。両部分通路
は、異なる速度で同じ媒体によって貫流される。又、密
度又は化学組成の異なる擦過流動する流体を使用でき、
この流体は、極めて短い経路で所定の均一に分配された
濃度に混合されねばならない。
【0025】仕切壁22の両通路壁には、それぞれ中間
室を備えた同じ数の渦発生器9,9’が並列されてい
る。渦発生器9の高さh並びに渦発生器9’の高さh’
は、例えば所属の通路高さH1,H2のほぼ90%であ
る。第5図では流れは、図平面に対して垂直に生ずる。
つまり、渦発生器9,9’は、接合エッジ16が流体に
向かうように、方向付けられている。接合エッジの範囲
で発生する渦流の回転方向は、下降しようとし、即ち、
渦発生器が配置されているそれぞれの通路壁に向かおう
とする。仕切壁22の端部、即ち、後方エッジ5,6,
5’,6’では、両側で発生する渦流流体が互いに圧縮
し合い、この場合、所望の混合作用が得られる。
【0026】部分通路41,42内の同一の旋回流を有
する渦流は、組み合わされて、統一の回転方向を有する
大きな渦流を形成する。この大きな渦流の回転軸線は、
ほぼ回転軸線19である。
【0027】渦発生器9,9’は、部分通路41,42
内で、通路高さH1,H2に比して異なる高さh1,h
2を有することができる。通常、渦発生器9,9’の接
合エッジ16,16’の高さh1,h2は、それぞれの
通路高さH1,H2に、次のように適合される、即ち、
渦発生器のすぐ下流側で発生する渦流が既に、全通路高
さH1+H2又は渦発生器に配属された部分通路の全高
を満たすような大きさを得るように、前記高さh1,h
2は通路高さH1,H2に適合され、これによって、負
荷される横断面内で均一な分布が生ぜしめられる。選択
すべき比H/hに影響を及ぼす別の基準は、渦発生器を
擦過流動する場合に生ずる圧力勾配である。この場合、
比H/hの増大に伴って、圧力損失係数も増大する。
【0028】当然、本発明は図示の実施例及び使用例に
限定されるものではない。渦発生器を目的通り設計及び
寸法決めすることによって、所定の流体において、必要
に応じて混合過程を制御する簡単な手段を得ることがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】渦発生器を上方からみた斜視図。
【図2】渦発生器を下方からみた斜視図。
【図3】多数の渦発生器の斜視図。
【図4】第3図の渦発生器の平面図。
【図5】渦発生器が配置される通路の部分横断面図。
【符号の説明】
1,2,3,4 部分・屋根面 5,6 後方エッジ 7,18 先端部 8 交点 9,9 渦発生器 10,16,30 接合エッジ 11,13 側壁面 12,14 縦エッジ 17 対称軸線 19 回転軸線 20 上面 21 下面 22 仕切壁 41,42 部分通路 α 矢尻角 γ 角度 θ 仰角 h1,h2 接合エッジの高さ H1,H2 部分通路の高さ

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 同等の又は不等の質量流を有する2つ又
    はそれ以上の流体を混合するための混合装置であって、
    混合すべき流体が仕切壁(22)に沿って流れ、該仕切
    壁の下流側の端部に、擦過流動自在な面を有する多数の
    渦発生器(9,9’)が配置されていて、該渦発生器の
    多数が互いに並べて配置されており、渦発生器の側壁面
    (11,13)が、仕切壁(22)の一方の側に密接し
    て互いに矢尻角(α)を成しており、側壁面の長手方向
    に延びるエッジ(12,14)が、壁部(22)に対し
    て仰角(θ)を成して延びていてかつ両側壁面(11,
    13)が互いに接合エッジ(16)を有していて、該接
    合エッジが、有利には、壁部(22)に対して垂直に延
    びていてかつ最初に流体によって負荷されるエッジ(1
    6)を成している形式のものにおいて、 屋根面が2つの部分・屋根面(1,2)から形成されて
    おり、部分・屋根面(1,2)の長手方向に延びるエッ
    ジが、側壁面(11,13)のエッジ(12,14)と
    合致していてかつ部分・屋根面が、接合エッジ(10)
    を介して互いに結合されており、 部分・屋根面(1,2)の下流側に位置する後方エッジ
    (5,6)が、仕切壁(22)と所定の角度(γ)を成
    していて、これにより、側壁面(11,13)に関連し
    て後方エッジ(5,6)が、ほぼ仕切壁(22)の他方
    の側に位置しており、 底部面が、2つの部分・底部面(3,4)から形成され
    ていて、該部分・底部面が、接合エッジ(30)を介し
    て互いに結合されていてかつ後方エッジ(5,6)を介
    して部分・屋根面に接続されていることを特徴とする、
    混合装置。
  2. 【請求項2】 底部面(3,4)が仕切壁(22)であ
    って、2つの側壁面(11,13)と2つの部分・屋根
    面(1,2)とから成る渦発生器(9,9’)が、仕切
    壁上に配置されている、請求項1記載の混合装置。
  3. 【請求項3】 部分・屋根面(1,2)の後方エッジ
    (5,6)が、対称軸線(17)に対して垂直な一平面内
    に配置している、請求項1記載の混合装置。
  4. 【請求項4】 渦発生器(9)の部分・屋根面(1,
    2)並びに矢尻角(α)を成す両側壁面(11,13)
    が、対称軸線(17)及び接合エッジ(16)によって
    形成される対称平面に対して対称的に配置されている、
    請求項1記載の混合装置。
  5. 【請求項5】 屋根面の長手方向に延びるエッジ(1
    2,14)及び/又は接合エッジ(16)が、少なくと
    もほぼシャープに形成されている、請求項1記載の混合
    装置。
  6. 【請求項6】 仕切壁(22)が、2つの部分通路(4
    1,42)を形成して、二重通路状の容器内に配置され
    ており、それぞれの部分通路内に、同じ数の渦発生器
    (9,9’)が配置されており、渦発生器が両側で仕切
    壁(22)に固定されている、請求項1記載の混合装
    置。
  7. 【請求項7】 部分通路(41,42)の高さ(H1,
    H2)に対する渦発生器(9,9’)の高さ(h1,h
    2)の比が、渦発生器のすぐ下流側で発生する渦流が全
    部分通路高さ(H1,H2)又は通路の全高(H1+H
    2)を満たすように、選ばれている、請求項6記載の混
    合装置。
JP8321988A 1995-12-01 1996-12-02 混合装置 Abandoned JPH09173808A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19544816A DE19544816A1 (de) 1995-12-01 1995-12-01 Mischvorrichtung
DE19544816.2 1995-12-01

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH09173808A true JPH09173808A (ja) 1997-07-08

Family

ID=7778915

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8321988A Abandoned JPH09173808A (ja) 1995-12-01 1996-12-02 混合装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5803602A (ja)
EP (1) EP0776689B1 (ja)
JP (1) JPH09173808A (ja)
DE (2) DE19544816A1 (ja)

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