JPH09161539A - Conductive compound and ceramic electronic parts using the same - Google Patents

Conductive compound and ceramic electronic parts using the same

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JPH09161539A
JPH09161539A JP31530895A JP31530895A JPH09161539A JP H09161539 A JPH09161539 A JP H09161539A JP 31530895 A JP31530895 A JP 31530895A JP 31530895 A JP31530895 A JP 31530895A JP H09161539 A JPH09161539 A JP H09161539A
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JP
Japan
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parts
weight
conductive composition
glass frit
electrode
Prior art date
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Pending
Application number
JP31530895A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshito Otsubo
喜人 大坪
Hisashi Wada
久志 和田
Hirohisa Oya
裕久 大矢
Toshiaki Sugimura
俊明 杉村
Tooru Ebuchi
徹 江渕
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH09161539A publication Critical patent/JPH09161539A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a conductive compound in which the high bonding strength between a board and an electrode can be held even if coating process is applied by containing a glass flit made of silver powder, BiO2 , MO, and RO and organic vehicle. SOLUTION: A conductive compound contains a glass flit made of silver powder with its unlimited shape, its particulate diameter, etc., SiO2 , MO (however, M contains Ba or contains Ba and at least one of Zn and Pb), and RO (however, R contains alkali earth metal or at least one of alkali earth metals excluding Ba) and contains an organic vehicle for pasting these components. For MO, BaO is a mandatory component, and an effect for reducing elution to the coating liquid of the glass flit is made significant by arranging it in the range of 15 to 60 pts.wt. toward SiO2 100 pts.wt.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、導電性組成物に関
するものである。
[0001] The present invention relates to a conductive composition.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、セラミック電子部品の厚膜電
極は、導電粉末とガラスフリットとを有機ビヒクルによ
りペースト化した導電性組成物を、スクリーン印刷等を
用いて基板に塗布、乾燥させた後、焼き付けを行うこと
により形成されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a thick film electrode of a ceramic electronic component has been prepared by applying a conductive composition obtained by forming a conductive powder and a glass frit into a paste with an organic vehicle onto a substrate by screen printing or the like and drying the composition. , Is formed by baking.

【0003】ところで、このガラスフリットには珪酸鉛
や珪酸亜鉛等が用いられていたが、この場合、ガラスフ
リット中の鉛や亜鉛がメッキ液中、特にクエン酸水素二
アンモニウム等の錯化剤に溶出してしまうため、メッキ
後の電極強度が劣化するという問題があった。
By the way, lead silicate, zinc silicate or the like was used for this glass frit. In this case, lead or zinc in the glass frit is used as a complexing agent in the plating solution, especially diammonium hydrogen citrate. Since it is eluted, there is a problem that the electrode strength after plating deteriorates.

【0004】そこで、上記のような問題を解決するた
め、次のような方法が考えられている。 (1)錯化剤をガラス成分を溶解しないものに変更す
る。
Therefore, in order to solve the above problems, the following methods have been considered. (1) Change the complexing agent to one that does not dissolve the glass component.

【0005】(2)セラミック誘電体層と化学的反応層
(ケミカルボンド)を形成するようなガラスフリット、
あるいは無機バインダーを用いる。
(2) A glass frit for forming a chemical reaction layer (chemical bond) with a ceramic dielectric layer,
Alternatively, an inorganic binder is used.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところが、従来の方法
では、次のような問題があった。すなわち、(1)の場
合には、メッキ液自体の種類を見直す必要があり、コス
ト的にも有用でない。また、(2)の場合には、技術的
難度が高く、汎用性に乏しい。
However, the conventional method has the following problems. That is, in the case of (1), it is necessary to reexamine the type of the plating liquid itself, which is not cost effective. In the case of (2), the technical difficulty is high and the versatility is poor.

【0007】本発明の目的は、メッキ処理を行っても基
板と電極間の高い接合強度を保持することが可能な導電
性組成物を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a conductive composition capable of maintaining a high bonding strength between a substrate and an electrode even if it is plated.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記のような
課題を解決するべく、導電性組成物を完成するに至っ
た。本発明の導電性組成物は、(A)銀粉末と、(B)
SiO2、MO(但し、MはBaを含有するか、またはB
aを含有しかつZn、Pbのうち少なくとも1種を含有
する)、およびRO(但し、Rはアルカリ金属、または
Baを除くアルカリ土類金属のうち少なくとも1種を含
有する)からなるガラスフリットと、(C)有機ビヒク
ルとを含有することに特徴がある。
The present invention has completed a conductive composition in order to solve the above problems. The conductive composition of the present invention comprises (A) silver powder and (B)
SiO 2 , MO (provided that M contains Ba, or B
a glass frit containing a and containing at least one of Zn and Pb), and RO (wherein R contains at least one of an alkali metal or an alkaline earth metal other than Ba). , (C) organic vehicle.

【0009】また、本発明の導電性組成物においては、
(B)のガラスフリットは、Al23を含有してもよ
い。
Further, in the conductive composition of the present invention,
The glass frit of (B) may contain Al 2 O 3 .

【0010】また、本発明の導電性組成物においては、
(B)のガラスフリットは、B23を含有してもよい。
Further, in the conductive composition of the present invention,
The glass frit of (B) may contain B 2 O 3 .

【0011】また、本発明の導電性組成物においては、
(B)のガラスフリット中の組成の配合量を限定するの
であれば、SiO2100重量部に対して、Al23
1〜60重量部含有することが好ましい。
Further, in the conductive composition of the present invention,
If the compounding amount of the composition in the glass frit of (B) is limited, it is preferable to contain 1 to 60 parts by weight of Al 2 O 3 with respect to 100 parts by weight of SiO 2 .

【0012】また、本発明の導電性組成物においては、
(B)のガラスフリット中の組成の配合量を限定するの
であれば、SiO2100重量部に対して、B23を1
〜60重量部含有することが好ましい。
Further, in the conductive composition of the present invention,
If the compounding amount of the composition in the glass frit of (B) is limited, 1 part of B 2 O 3 is added to 100 parts by weight of SiO 2.
It is preferable that the content is from about 60 parts by weight.

【0013】また、本発明の導電性組成物においては、
(B)のガラスフリット中の組成の配合量を限定するの
であれば、SiO2100重量部に対して、MOとして
含有される金属酸化物の合計の配合量が15〜60重量
部の範囲内であることが好ましい。
[0013] In the conductive composition of the present invention,
If the compounding amount of the composition in the glass frit of (B) is limited, the total compounding amount of the metal oxide contained as MO is within the range of 15 to 60 parts by weight with respect to 100 parts by weight of SiO 2 . Is preferred.

【0014】また、本発明の導電性組成物においては、
(B)のガラスフリット中の組成の配合量を限定するの
であれば、SiO2100重量部に対して、ROとして
含有される金属酸化物の合計の配合量が14〜30重量
部の範囲内であることが好ましい。
Further, in the conductive composition of the present invention,
If the amount of the composition in the glass frit of (B) is limited, the total amount of the metal oxides contained as RO is in the range of 14 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of SiO 2 . Is preferred.

【0015】また、本発明のセラミック電子部品は、セ
ラミック素体と、セラミック素体に上記いずれかに記載
の導電性組成物を焼き付けた厚膜電極とを備えているこ
とに特徴がある。
Further, the ceramic electronic component of the present invention is characterized by including a ceramic element body and a thick film electrode obtained by baking the above-mentioned conductive composition on the ceramic element body.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。本発明の導電性組成物は、(A)銀粉末
と、(B)SiO2、MO(但し、MはBaを含有する
か、またはBaを含有しかつZn、Pbのうち少なくと
も1種を含有する)、およびRO(但し、Rはアルカリ
金属、またはBaを除くアルカリ土類金属のうち少なく
とも1種を含有する)からなるガラスフリットと、
(C)有機ビヒクルとを含有している。従って、これら
の成分を焼き付け形成された厚膜電極は、メッキ処理を
行っても基板と電極間の高い接合強度を保持することが
可能となる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below. The conductive composition of the present invention comprises (A) a silver powder and (B) SiO 2 , MO (where M is Ba, or contains Ba and contains at least one of Zn and Pb). And a RO (wherein R contains at least one of an alkali metal or an alkaline earth metal other than Ba), and
(C) Organic vehicle. Therefore, the thick film electrode formed by baking these components can maintain a high bonding strength between the substrate and the electrode even if the plating process is performed.

【0017】本発明の導電性組成物に用いられる(A)
銀粉末は、銀粉の形状、粒径などには特に限定されな
い。例えば、形状は球形状、扁平状など、どのような形
状のものであっても使用でき、もちろん互いに異なる形
状のものを混合して用いても構わない。
(A) Used in the Conductive Composition of the Present Invention
The silver powder is not particularly limited in shape, particle size, etc. of the silver powder. For example, any shape such as a spherical shape or a flat shape can be used, and of course, different shapes may be mixed and used.

【0018】本発明の導電性組成物に用いられる(B)
ガラスフリットは、例えば、本発明の導電性組成物がセ
ラミック電子部品の製造に用いられる場合には、焼き付
けられた厚膜電極とセラミック素体とを強固に結合させ
るための成分である。
(B) used in the conductive composition of the present invention
The glass frit is a component for firmly bonding the baked thick film electrode and the ceramic body when the conductive composition of the present invention is used for manufacturing a ceramic electronic component, for example.

【0019】このガラスフリットは、上述したように、
SiO2、MO(但し、MはBaを含有するか、またはB
aを含有しかつZn、Pbのうち少なくとも1種を含有
する)、およびRO(但し、Rはアルカリ金属、または
Baを除くアルカリ土類金属のうち少なくとも1種を含
有する)を配合している。
This glass frit is, as described above,
SiO 2 , MO (provided that M contains Ba, or B
a and containing at least one of Zn and Pb), and RO (provided that R contains at least one of an alkali metal or an alkaline earth metal other than Ba). .

【0020】なお、MOについては、BaOを必須成分
として配合することによって、ガラスフリットのメッキ
液への溶出を低減するという効果が顕著となる。なお、
ROについては、Li、Na、K、Ca等であれば特に
限定されない。
With respect to MO, by adding BaO as an essential component, the effect of reducing the elution of the glass frit into the plating solution becomes remarkable. In addition,
RO is not particularly limited as long as it is Li, Na, K, Ca or the like.

【0021】また、このガラスフリットは、耐メッキ性
向上のためにAl23を配合してもよいし、あるいは、
ガラスの軟化点を下げるためにB2O3を配合してもよ
い。この場合にも、ガラスフリット成分中において、S
iO2の配合比が最も高くなるように配合されている。
Further, this glass frit may be blended with Al 2 O 3 for improving plating resistance, or
B2O3 may be added to lower the softening point of the glass. Also in this case, in the glass frit component, S
The composition is such that the compounding ratio of iO 2 is the highest.

【0022】次に、上記ガラスフリットの組成比率につ
いて説明する。MOにおいては、SiO2100重量部
に対して、MOとして含有される金属酸化物の合計の配
合量が15〜60重量部の範囲内であることが好まし
い。配合量が15重量部未満の場合には、ガラスの軟化
点が高くなるので好ましくない。一方、60重量部を越
える場合には、ガラスフリットのメッキ液への溶出が起
こり、メッキ処理後、電極強度が劣化してしまうので好
ましくない。
Next, the composition ratio of the glass frit will be described. In MO, it is preferable that the total amount of the metal oxides contained as MO be within the range of 15 to 60 parts by weight with respect to 100 parts by weight of SiO 2 . If the blending amount is less than 15 parts by weight, the softening point of the glass becomes high, which is not preferable. On the other hand, when it exceeds 60 parts by weight, the glass frit is eluted into the plating solution, and the electrode strength deteriorates after the plating treatment, which is not preferable.

【0023】さらに好ましくは、MOとして含有される
金属酸化物の合計の配合量が15〜60重量部の範囲内
であって、ZnOもしくはPbOの配合量が10重量部
未満の場合である。例えば、MOとしてZnOを含有す
る場合には、配合量が多いと溶出量も多くなることを実
験により確認している。
More preferably, the total amount of metal oxides contained as MO is in the range of 15 to 60 parts by weight and the amount of ZnO or PbO is less than 10 parts by weight. For example, when ZnO is contained as MO, it has been confirmed by experiments that the amount of elution increases with a large amount of compounding.

【0024】なお、MOの合計の配合量としてより好ま
しくは、実施例に示すように、MOとして含有される金
属酸化物の合計の配合量が19〜52重量部の範囲内で
ある。
It is more preferable that the total amount of MO compounded is within the range of 19 to 52 parts by weight, as shown in the examples.

【0025】また、ROにおいては、SiO2100重
量部に対して、ROとして含有される金属酸化物の合計
の配合量が14〜30重量部の範囲内であることが好ま
しい。アルカリ金属の酸化物の場合において、含有量が
14重量部未満の場合には、ガラスフリットの作業温度
が高くなるので好ましくない。一方、30重量部を越え
る場合には、ガラスフリットの耐水性が悪くなり好まし
くない。また、アルカリ土類金属の酸化物の場合におい
て、14重量部未満の場合には、ガラスフリットの安定
化が悪く好ましくない。一方、30重量部を越える場合
には、ガラスフリットの軟化温度が高くなり好ましくな
い。なお、より好ましくは、実施例に示すように28〜
30重量部の範囲内である。
Further, in the RO, it is preferable that the total amount of the metal oxides contained as RO is in the range of 14 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of SiO 2 . In the case of an alkali metal oxide, if the content is less than 14 parts by weight, the working temperature of the glass frit becomes high, which is not preferable. On the other hand, when it exceeds 30 parts by weight, the water resistance of the glass frit is deteriorated, which is not preferable. Further, in the case of an oxide of an alkaline earth metal, if it is less than 14 parts by weight, the stabilization of the glass frit is poor and it is not preferable. On the other hand, if it exceeds 30 parts by weight, the softening temperature of the glass frit becomes high, which is not preferable. In addition, more preferably, as shown in the embodiment, 28-
Within the range of 30 parts by weight.

【0026】また、Al23を含有する場合において
は、SiO2100重量部に対して、1〜60重量部含
有することが好ましい。含有量が60重量部を越える場
合には、ガラス化しにくくなり、軟化温度も高くなるの
で好ましくない。なお、より好ましくは、実施例に示す
ように9〜26重量部の範囲内である。
When Al 2 O 3 is contained, it is preferable to contain 1 to 60 parts by weight with respect to 100 parts by weight of SiO 2 . If the content exceeds 60 parts by weight, vitrification becomes difficult and the softening temperature becomes high, which is not preferable. In addition, more preferably, it is within the range of 9 to 26 parts by weight as shown in the examples.

【0027】また、B23を含有する場合においては、
SiO2100重量部に対して、1〜60重量部含有す
ることが好ましい。含有量が60重量部を越える場合に
は、ガラスフリットのメッキ液への溶出が起こり、メッ
キ処理後、電極強度が劣化してしまうので好ましくな
い。B23については、配合量が多くなればなるほど溶
出量が多くなることを実験により確認している。なお、
より好ましくは、実施例に示すように15〜20重量部
の範囲内である。
When B 2 O 3 is contained,
It is preferable to contain 1 to 60 parts by weight with respect to 100 parts by weight of SiO 2 . If the content exceeds 60 parts by weight, the glass frit is eluted into the plating solution and the electrode strength deteriorates after the plating treatment, which is not preferable. It has been confirmed by experiments that the amount of B 2 O 3 eluted increases as the blending amount increases. In addition,
More preferably, it is in the range of 15 to 20 parts by weight as shown in the examples.

【0028】上記ガラスフリットの使用量は、本発明の
導電性組成物を用いる物品に応じて変更すればよく、従
って、必ずしも限定する必要はないが、例えば、本発明
の導電性組成物がセラミック発振子の製造に用いられる
場合には、本発明の導電性組成物中の銀粉末100重量
部に対して、2〜10重量部含有することが好ましい。
使用量が2重量部未満の場合には、電極とセラミックと
の密着強度が劣化してしまうので好ましくない。一方、
10重量部を越える場合には、メッキ付き性が劣化して
しまうので好ましくない。
The amount of the above glass frit used may be changed according to the article using the conductive composition of the present invention, and therefore it is not necessarily limited, but for example, the conductive composition of the present invention is ceramic. When it is used for producing an oscillator, it is preferably contained in an amount of 2 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the silver powder in the conductive composition of the present invention.
When the amount used is less than 2 parts by weight, the adhesion strength between the electrode and the ceramic deteriorates, which is not preferable. on the other hand,
If it exceeds 10 parts by weight, the plating property is deteriorated, which is not preferable.

【0029】本発明の導電性組成物に用いられる(C)
有機ビヒクルは、上記(A)銀粉末、(B)ガラスフリ
ットの成分をペースト化するための成分であり、このよ
うな有機ビヒクルは特に限定されない。好ましい具体例
としては、例えば、エチルセロロース樹脂、アルキッド
樹脂などを樹脂成分とし、テルペン系溶剤、グリコール
系溶剤などを有機溶剤として、樹脂成分の濃度が5〜1
0%になるように溶解したものなどが挙げられる。
(C) used in the conductive composition of the present invention
The organic vehicle is a component for making the components of the above (A) silver powder and (B) glass frit into a paste, and such an organic vehicle is not particularly limited. As a preferred specific example, for example, ethyl cellulose resin, alkyd resin and the like are used as resin components, and terpene solvent, glycol solvent and the like are used as organic solvents, and the concentration of the resin component is 5 to 1
For example, it may be dissolved to 0%.

【0030】上記有機ビヒクルの使用量は、本発明の導
電性組成物を用いる物品に応じて変更すればよく、従っ
て、必ずしも限定する必要はないが、例えば、本発明の
導電性組成物がセラミック電子部品の製造に用いられる
場合には、本発明の導電性組成物中の銀粉末100重量
部に対して、30〜150重量部含有することが好まし
い。使用量が30重量部未満の場合には、ペースト化が
困難となり好ましくない。一方、150重量部を越える
場合には、銀粉末の分散が悪く、適切な導電性が得られ
ないので好ましくない。
The amount of the organic vehicle used may be changed according to the article using the conductive composition of the present invention, and therefore it is not necessarily limited. For example, the conductive composition of the present invention is a ceramic. When used in the production of electronic parts, it is preferable to contain 30 to 150 parts by weight with respect to 100 parts by weight of silver powder in the conductive composition of the present invention. If the amount used is less than 30 parts by weight, it becomes difficult to form a paste, which is not preferable. On the other hand, if the amount exceeds 150 parts by weight, the silver powder is not well dispersed and appropriate conductivity cannot be obtained, which is not preferable.

【0031】本発明の導電性組成物は、これら上記の成
分をあらかじめ混合し、混練させてペースト化すること
により、容易に作製することができる。
The conductive composition of the present invention can be easily prepared by previously mixing the above-mentioned components, kneading them to form a paste.

【0032】このようにして作製された本発明の導電性
組成物は、セラミック素体に印刷し、焼き付けてメッキ
処理を施した場合、メッキ液へのガラス溶出量が低減で
きる。また、テープ剥離試験においてもほとんど剥離す
ることなく、従来のものより優れた接合強度を有するも
のである。さらに、耐湿試験後にテープ剥離試験を行っ
ても、ほとんど剥離することなく、従来のものより優れ
た接合強度を維持するものである。
When the conductive composition of the present invention thus produced is printed on a ceramic body and baked for plating, the amount of glass eluted into the plating solution can be reduced. Further, even in the tape peeling test, the tape has almost no peeling and has a bonding strength superior to that of the conventional one. Further, even if a tape peeling test is performed after the moisture resistance test, the tape is hardly peeled off and the bonding strength superior to that of the conventional one is maintained.

【0033】また、本発明の導電性組成物を用いてセラ
ミック電子部品の厚膜電極を製造する場合には、従来の
導電性組成物を用いる方法と同様の方法で用いればよ
く、例えば、上記のようにして得られたペーストをセラ
ミック素体上にスクリーン印刷し、100〜200℃で
3〜10分間乾燥させた後、750〜900℃で10〜
20分間焼き付けを行えばよい。
When a thick film electrode for a ceramic electronic component is produced using the conductive composition of the present invention, it may be used in the same manner as the conventional method using the conductive composition. After screen-printing the paste obtained as described above on a ceramic body and drying at 100 to 200 ° C. for 3 to 10 minutes, 10 to 750 to 900 ° C.
The baking may be performed for 20 minutes.

【0034】このようにして製造されたセラミック電子
部品は、電子部品の特性を劣化させることなく、メッキ
処理後の電極強度を大きく向上させることができる。
The ceramic electronic component manufactured as described above can greatly improve the electrode strength after the plating treatment without deteriorating the characteristics of the electronic component.

【0035】次に、本発明を実施例に基づき、さらに具
体的に説明するが、本発明はかかる実施例のみに限定さ
れるものではない。
Next, the present invention will be described more specifically based on examples, but the present invention is not limited to only these examples.

【0036】[0036]

【実施例】以下、本実施例の導電性組成物をセラミック
電子部品である圧電電子部品に用いた場合について説明
する。図1は、圧電電子部品の概略構造を示す分解斜視
図である。図1に示すように、対向する主表面上に振動
電極1が形成された短冊形状の圧電振動子2と、この圧
電振動子2の端部2aそれぞれを主表面側から挟持して
接着されることによって、中央部2bを振動可能に支持
する一対の保持枠体3とが一体化されてなる圧電振動体
4、およびこの圧電振動体4を挟み込んで収納する一対
のケース体5を備えて構成されたものがある。そして、
保持枠体3のそれぞれはアルミナなどのセラミック材料
を用いて作製されたものであり、金属酸化物を焼結して
得られた圧電性セラミックからなる圧電振動子2の主表
面と対面することによって、振動空間となる開口部3a
が形成された平面視「コ」字形状とされている。
EXAMPLES Hereinafter, the case where the conductive composition of this example is used for a piezoelectric electronic component which is a ceramic electronic component will be described. FIG. 1 is an exploded perspective view showing a schematic structure of a piezoelectric electronic component. As shown in FIG. 1, a strip-shaped piezoelectric vibrator 2 having vibrating electrodes 1 formed on opposing main surfaces, and end portions 2a of the piezoelectric vibrator 2 are sandwiched and bonded from the main surface side. Thus, the piezoelectric vibrating body 4 integrally formed with the pair of holding frame bodies 3 that vibratably supports the central portion 2b, and the pair of case bodies 5 that sandwich and store the piezoelectric vibrating body 4 are configured. There was something that was done. And
Each of the holding frame bodies 3 is made of a ceramic material such as alumina, and by facing the main surface of the piezoelectric vibrator 2 made of piezoelectric ceramic obtained by sintering a metal oxide. , The opening 3a serving as a vibration space
Is formed into a "U" shape in a plan view.

【0037】また、ケース体5のそれぞれはセラミック
材料や絶縁性樹脂材料からなっており、これらの内側表
面には圧電振動子2の振動を確保するための凹部5aが
それぞれ形成されている。さらに、圧電振動子2の主表
面上に形成された振動電極1のそれぞれは圧電振動子2
の互いに異なる端部2aにまで延出されており、各々の
振動電極1は圧電振動体4を挟み込んで接着されたケー
ス体5の互いに異なる端面上に形成された引き出し電極
(図示せず。)とそれぞれ接続されることによって導通
している。
Each of the case bodies 5 is made of a ceramic material or an insulating resin material, and a concave portion 5a for ensuring the vibration of the piezoelectric vibrator 2 is formed on the inner surface thereof. Further, each of the vibrating electrodes 1 formed on the main surface of the piezoelectric vibrator 2 has the piezoelectric vibrator 2
Of the vibrating electrodes 1 extending to different end portions 2a of each other, and lead electrodes (not shown) formed on different end surfaces of the case body 5 sandwiching the piezoelectric vibrating body 4 and being bonded to each other. It is conductive by being connected to each.

【0038】このような圧電電子部品の振動電極1が本
発明に係る導電性組成物を焼き付け形成された焼結膜か
らなる厚膜電極である。
The vibrating electrode 1 of such a piezoelectric electronic component is a thick film electrode made of a sintered film formed by baking the conductive composition according to the present invention.

【0039】次に、本発明に係る導電性組成物について
詳述する。表1に、本実施例である実施例1〜実施例3
の導電性組成物のガラスフリットの組成比率(単位:重
量部)を、また、表2に、ガラスフリットの溶出量(単
位:μg)を示す。なお、比較例として、比較例1〜比
較例3の組成比率、溶出量を表1および表2に併せて示
す。
Next, the conductive composition according to the present invention will be described in detail. Table 1 shows Examples 1 to 3 which are the present examples.
The composition ratio (unit: parts by weight) of the glass frit of the conductive composition of Table 1 and Table 2 show the elution amount of the glass frit (unit: μg). As comparative examples, Table 1 and Table 2 show the composition ratios and elution amounts of Comparative Examples 1 to 3.

【0040】[0040]

【表1】 [Table 1]

【0041】[0041]

【表2】 [Table 2]

【0042】ここで、上記ガラスフリットの溶出量の測
定方法について説明する。まず、このペースト状のガラ
スフリット(グレーズフリット)をセラミック基板にス
クリーン印刷した。次に、この印刷基板を810℃で焼
成した。そして、110g/lの錯化剤(クエン酸水素
二アンモニウム)50mlをビーカーに入れ、恒温槽中
で35℃に保ち、その中に上記印刷基板を各実施例毎に
2枚ずつ入れて60分放置した。60分後基板を取り出
し、取り出し後の錯化剤液を原子吸光およびICP−A
ESにより、ガラス成分溶出量の定量を行った。
Here, a method of measuring the elution amount of the glass frit will be described. First, this paste-like glass frit (glaze frit) was screen-printed on a ceramic substrate. Next, this printed board was baked at 810 ° C. Then, 50 ml of 110 g / l complexing agent (diammonium hydrogen citrate) was placed in a beaker and kept at 35 ° C. in a constant temperature bath, and two of the above-mentioned printed boards were placed therein for 60 minutes. I left it. After 60 minutes, the substrate was taken out and the complexing agent solution after taken out was subjected to atomic absorption and ICP-A.
The ES amount of the glass component was quantified by ES.

【0043】次に、表3に、本実施例である実施例1−
1〜実施例1−3、および実施例2−1の導電性組成物
の組成比率、および圧電電子部品の振動電極に用いた場
合の電極剥離数について示す。なお、比較例として、比
較例2−1、比較例3−1の場合についても表3に併せ
て示す。ここで、実施例1−1〜実施例1−3は、表1
中の実施例1のガラスフリットを用いており、実施例2
−1は、表1中の実施例2のガラスフリットを用いてい
る。また、比較例2−1は、表1中の比較例2のガラス
フリットを用いており、比較例3−1は、表1中の比較
例3のガラスフリットを用いている。
Next, Table 3 shows Example 1 of this example.
The composition ratios of the conductive compositions of 1 to Example 1-3 and Example 2-1 and the number of electrode peelings when used for the vibrating electrode of the piezoelectric electronic component will be shown. As Comparative Examples, Table 3 also shows Comparative Examples 2-1 and 3-1. Here, Example 1-1 to Example 1-3 are shown in Table 1.
Example 2 in which the glass frit of Example 1 is used.
-1 uses the glass frit of Example 2 in Table 1. Further, Comparative Example 2-1 uses the glass frit of Comparative Example 2 in Table 1, and Comparative Example 3-1 uses the glass frit of Comparative Example 3 in Table 1.

【0044】[0044]

【表3】 [Table 3]

【0045】なお、本実施例では、銀粉末としては、平
均粒径1〜5μmの球形状の銀粉末を100重量部用い
ている。
In this embodiment, 100 parts by weight of spherical silver powder having an average particle size of 1 to 5 μm is used as the silver powder.

【0046】また、有機ビヒクルとしては、エチルセル
ロース樹脂とアルキッド樹脂とを樹脂成分の濃度が8%
となるようにテルペン系溶剤に溶解した有機ビヒクルを
銀粉末100重量部に対して45重量部用いている。
As the organic vehicle, ethyl cellulose resin and alkyd resin having a resin component concentration of 8% are used.
Thus, 45 parts by weight of the organic vehicle dissolved in the terpene solvent is used for 100 parts by weight of the silver powder.

【0047】ここで、上記圧電電子部品の電極剥離数の
測定方法について説明する。まず、上記導電性組成物を
圧電電子部品の振動電極としてスクリーン印刷した。次
に、この印刷基板を810℃で焼成した。そして、錯化
剤(クエン酸水素二アンモニウム)液を40℃にし、上
記焼成基板を60分間浸漬した。次に、テープを銀電極
膜に貼り付け、テープを剥がした後、電極が剥がれるか
どうか調べた。
Here, a method of measuring the number of peeled electrodes of the piezoelectric electronic component will be described. First, the conductive composition was screen-printed as a vibrating electrode for a piezoelectric electronic component. Next, this printed board was baked at 810 ° C. Then, the complexing agent (diammonium hydrogen citrate) solution was brought to 40 ° C., and the baked substrate was immersed for 60 minutes. Next, the tape was attached to the silver electrode film, and after the tape was peeled off, it was examined whether or not the electrode was peeled off.

【0048】実施例1−1〜実施例1−3は、いずれも
1枚も剥離することなく良好であった。また、実施例2
−1は、少し剥離したが実用上問題はなかった。一方、
比較例2−1は、すべてが剥離し不良であった。また、
比較例3−1は、ほとんどが剥離し不良であった。
In each of Examples 1-1 to 1-3, no sheet was peeled off, which was good. Example 2
-1 was slightly peeled off, but there was no problem in practical use. on the other hand,
In Comparative Example 2-1, all were peeled off and defective. Also,
Most of Comparative Example 3-1 was peeled off and was defective.

【0049】次に、表4に、本実施例である実施例1−
1〜実施例1−3を圧電電子部品の振動電極に用いた場
合の耐湿試験後の電極剥離数について示す。なお、比較
例として、比較例3−1の場合についても表4に併せて
示す。
Next, Table 4 shows Example 1 of this example.
The number of electrode peelings after the moisture resistance test when 1 to Example 1-3 are used for the vibration electrode of the piezoelectric electronic component will be shown. As a comparative example, Table 4 also shows the case of Comparative Example 3-1.

【0050】[0050]

【表4】 [Table 4]

【0051】ここで、上記セラミック発振子の耐湿試験
後の電極剥離数の測定方法について説明する。まず、上
記導電性組成物を圧電電子部品の振動電極としてスクリ
ーン印刷した。次に、この印刷基板を810℃で焼成し
た。そして、耐湿試験(121℃、2atm、100%
RH、20hr放置)を行った。次に、テープを銀電極
膜に貼り付け、テープを剥がした後、電極が剥がれるか
どうか調べた。
Here, a method of measuring the number of peeled electrodes of the ceramic oscillator after the humidity resistance test will be described. First, the conductive composition was screen-printed as a vibrating electrode for a piezoelectric electronic component. Next, this printed board was baked at 810 ° C. And a humidity resistance test (121 ° C, 2 atm, 100%
RH, left for 20 hours). Next, the tape was attached to the silver electrode film, and after the tape was peeled off, it was examined whether or not the electrode was peeled off.

【0052】実施例1−1〜実施例1−3は、いずれも
1枚も剥離することなく良好であった。一方、比較例3
−1は、ほとんどが剥離してしまい不良であった。
Each of Examples 1-1 to 1-3 was good without peeling off one sheet. On the other hand, Comparative Example 3
Most of -1 was peeled off and was defective.

【0053】[0053]

【発明の効果】本発明の導電性組成物を用いれば、電極
形成時のメッキ処理後もメッキ液へのガラス溶出量が低
減できるとともに、優れた電極接合強度を維持すること
が可能である。
EFFECTS OF THE INVENTION By using the conductive composition of the present invention, it is possible to reduce the amount of glass eluted into the plating solution even after the plating treatment at the time of forming electrodes, and to maintain excellent electrode bonding strength.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の導電性組成物を用いて厚膜電極を形成
した圧電電子部品の概略構造を示す分解斜視図。
FIG. 1 is an exploded perspective view showing a schematic structure of a piezoelectric electronic component in which a thick film electrode is formed using the conductive composition of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 振動電極 2 圧電振動子 2a 端部 2b 中央部 3 保持枠体 4 圧電振動体 5 ケース体 5a 凹部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Vibrating electrode 2 Piezoelectric vibrator 2a End part 2b Central part 3 Holding frame body 4 Piezoelectric vibrating body 5 Case body 5a Recessed portion

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 杉村 俊明 京都府長岡京市天神二丁目26番10号 株式 会社村田製作所内 (72)発明者 江渕 徹 京都府長岡京市天神二丁目26番10号 株式 会社村田製作所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Toshiaki Sugimura 2-26-10 Tenjin Tenjin, Nagaokakyo-shi, Kyoto Stock Company Murata Manufacturing Co., Ltd. (72) Toru Ebuchi 2-26-10 Tenjin Tenjin, Nagaokakyo, Kyoto Murata Manufacturing Co., Ltd.

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)銀粉末と、(B)SiO2、MO
(但し、MはBaを含有するか、またはBaを含有しか
つZn、Pbのうち少なくとも1種を含有する)、およ
びRO(但し、Rはアルカリ金属、またはBaを除くア
ルカリ土類金属のうち少なくとも1種を含有する)から
なるガラスフリットと、(C)有機ビヒクルと、を含有
することを特徴とする導電性組成物。
1. (A) Silver powder and (B) SiO 2 , MO
(Provided that M contains Ba, or contains Ba and contains at least one of Zn and Pb), and RO (provided that R is an alkali metal or an alkaline earth metal other than Ba). A conductive composition comprising: a glass frit (containing at least one kind); and (C) an organic vehicle.
【請求項2】 前記(B)のガラスフリットは、Al2
3を含有することを特徴とする請求項1に記載の導電
性組成物。
2. The glass frit of (B) is made of Al 2
The electrically conductive composition according to claim 1, which contains O 3 .
【請求項3】 前記(B)のガラスフリットは、B23
を含有することを特徴とする請求項1または請求項2に
記載の導電性組成物。
3. The glass frit of (B) is B 2 O 3
The conductive composition according to claim 1 or 2, further comprising:
【請求項4】 前記(B)のガラスフリットは、前記S
iO2100重量部に対して、Al23を1〜60重量
部含有することを特徴とする請求項2に記載の導電性組
成物。
4. The glass frit of (B) above is the S
The electrically conductive composition according to claim 2, which contains 1 to 60 parts by weight of Al 2 O 3 with respect to 100 parts by weight of iO 2 .
【請求項5】 前記(B)のガラスフリットは、前記S
iO2100重量部に対して、B23を1〜60重量部
含有することを特徴とする請求項3に記載の導電性組成
物。
5. The glass frit of (B) above is the same as the S
The electrically conductive composition according to claim 3, which contains 1 to 60 parts by weight of B 2 O 3 with respect to 100 parts by weight of iO 2 .
【請求項6】 前記(B)のガラスフリットは、前記S
iO2100重量部に対して、MOを15〜60重量部
含有することを特徴とする請求項1から請求項5のいず
れかに記載の導電性組成物。
6. The glass frit of (B) above is the S
The conductive composition according to any one of claims 1 to 5, wherein MO is contained in an amount of 15 to 60 parts by weight with respect to 100 parts by weight of iO 2 .
【請求項7】 前記(B)のガラスフリットは、前記S
iO2100重量部に対して、ROを14〜30重量部
含有することを特徴とする請求項1から請求項6のいず
れかに記載の導電性組成物。
7. The glass frit of (B) above is the S
The conductive composition according to any one of claims 1 to 6, which contains 14 to 30 parts by weight of RO with respect to 100 parts by weight of iO 2 .
【請求項8】 セラミック素体と、前記セラミック素体
に請求項1から請求項7のいずれかに記載の導電性組成
物を焼き付けた厚膜電極とを備えていることを特徴とす
るセラミック電子部品。
8. A ceramic electron comprising a ceramic body and a thick film electrode obtained by baking the conductive composition according to any one of claims 1 to 7 on the ceramic body. parts.
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JP2008543080A (en) * 2005-06-03 2008-11-27 フエロ コーポレーション Lead-free solar cell contact
WO2009122806A1 (en) * 2008-03-31 2009-10-08 三菱電機株式会社 Low-temperature fired ceramic circuit board
JP2010006702A (en) * 2009-10-14 2010-01-14 Shoei Chem Ind Co Conductor paste

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