JPH09151226A - オルガノポリシロキサン組成物の硬化方法 - Google Patents
オルガノポリシロキサン組成物の硬化方法Info
- Publication number
- JPH09151226A JPH09151226A JP7336113A JP33611395A JPH09151226A JP H09151226 A JPH09151226 A JP H09151226A JP 7336113 A JP7336113 A JP 7336113A JP 33611395 A JP33611395 A JP 33611395A JP H09151226 A JPH09151226 A JP H09151226A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- curing
- sio
- organopolysiloxane
- parts
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】
【目的】 アクリル官能性オルガノポリシロキサンを主
成分とするオルガノポリシロキサン組成物を効率よく硬
化させる方法を提供する。 【構成】 (A)水酸基を含有するアクリル官能性オルガ
ノポリシロキサンおよび(B)光重合開始剤からなるオル
ガノポリシロキサン組成物を紫外線照射により硬化さ
せ、しる後に、100℃〜300℃の温度条件下で加熱
処理して硬化を完結させることを特徴とするオルガノポ
リシロキサン組成物の硬化方法。
成分とするオルガノポリシロキサン組成物を効率よく硬
化させる方法を提供する。 【構成】 (A)水酸基を含有するアクリル官能性オルガ
ノポリシロキサンおよび(B)光重合開始剤からなるオル
ガノポリシロキサン組成物を紫外線照射により硬化さ
せ、しる後に、100℃〜300℃の温度条件下で加熱
処理して硬化を完結させることを特徴とするオルガノポ
リシロキサン組成物の硬化方法。
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はオルガノポリシロキ
サン組成物の硬化方法に関し、詳しくアクリル官能性オ
ルガノポリシロキサンを主剤とするオルガノポリシロキ
サン組成物を紫外線照射および加熱処理することにより
硬化させることを特徴とするオルガノポリシロキサン組
成物の硬化方法に関する。
サン組成物の硬化方法に関し、詳しくアクリル官能性オ
ルガノポリシロキサンを主剤とするオルガノポリシロキ
サン組成物を紫外線照射および加熱処理することにより
硬化させることを特徴とするオルガノポリシロキサン組
成物の硬化方法に関する。
【0002】
【従来の技術】アクリル官能性オルガノポリシロキサン
を主剤とする紫外線硬化性オルガノポリシロキサン組成
物としては数多くの組成物が知られている。例えば、ア
クリル官能性オルガノポリシロキサン樹脂よりなる組成
物(特開昭61−111330号公報参照)、コロイダ
ルシリカと多官能価アクリレートモノマーおよびアクリ
レートシランの加水分解物とからなる組成物(特開昭5
8−1756号公報参照)、アクリル官能性オルガノポ
リシロキサン樹脂と多官能価アクリレートモノマーとか
らなる組成物(特公平6−29382号公報参照)など
が知られている。これらの組成物を硬化させる方法とし
てはこれらの組成物に紫外線を照射し硬化させる方法が
知られている。しかし、これらの組成物は一般に酸素に
よって硬化阻害を生じるため、いずれも硬化が不十分で
あり、薄膜状態では硬化しないとかあるいは厚膜状態で
も表面層が硬化しないといった問題があった。
を主剤とする紫外線硬化性オルガノポリシロキサン組成
物としては数多くの組成物が知られている。例えば、ア
クリル官能性オルガノポリシロキサン樹脂よりなる組成
物(特開昭61−111330号公報参照)、コロイダ
ルシリカと多官能価アクリレートモノマーおよびアクリ
レートシランの加水分解物とからなる組成物(特開昭5
8−1756号公報参照)、アクリル官能性オルガノポ
リシロキサン樹脂と多官能価アクリレートモノマーとか
らなる組成物(特公平6−29382号公報参照)など
が知られている。これらの組成物を硬化させる方法とし
てはこれらの組成物に紫外線を照射し硬化させる方法が
知られている。しかし、これらの組成物は一般に酸素に
よって硬化阻害を生じるため、いずれも硬化が不十分で
あり、薄膜状態では硬化しないとかあるいは厚膜状態で
も表面層が硬化しないといった問題があった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは上記問題
点を解決するために鋭意検討した結果、特定のアクリル
官能性オルガノポリシロキサン組成物に紫外線を照射し
後、特定の条件下で加熱処理すれば上記問題点は解消す
ることを見出し、本発明に達した。即ち、本発明の目的
は、アクリル官能性オルガノポリシロキサンを主成分と
するオルガノポリシロキサン組成物を効率よく硬化させ
る方法を提供することにある。
点を解決するために鋭意検討した結果、特定のアクリル
官能性オルガノポリシロキサン組成物に紫外線を照射し
後、特定の条件下で加熱処理すれば上記問題点は解消す
ることを見出し、本発明に達した。即ち、本発明の目的
は、アクリル官能性オルガノポリシロキサンを主成分と
するオルガノポリシロキサン組成物を効率よく硬化させ
る方法を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記目的は、(A)式、R
1SiO3/2で示される単位、式、R1R2 aSiO(3-a)/2
で示される単位、式、R2 bR3 cSiO(4-b-c)/2で示さ
れる単位および式、R3 dSiO(4-d)/2で示される単位
からなるアクリル官能性オルガノポリシロキサン[式
中、R1は式
1SiO3/2で示される単位、式、R1R2 aSiO(3-a)/2
で示される単位、式、R2 bR3 cSiO(4-b-c)/2で示さ
れる単位および式、R3 dSiO(4-d)/2で示される単位
からなるアクリル官能性オルガノポリシロキサン[式
中、R1は式
【化3】 (式中、R5は水素原子またはメチル基であり、kは1
〜10の整数である。)で示される基であり、R2は水
酸基であり、R3は一価炭化水素基であり、aおよびb
は1または2であり、cおよびdは0,1または2であ
り、R1,R2,R3の合計モル数に対するR1の割合は2
〜80モルパーセントであり、R1,R2,R3の合計モ
ル数に対するR2の割合は3〜90モルパーセントであ
る。]100重量部および(B)光重合開始剤0.01〜
25重量部からなるオルガノポリシロキサン組成物を紫
外線照射により硬化させ、しかる後に、100℃〜30
0℃の温度条件下で加熱処理して硬化を完結させること
を特徴とするオルガノポリシロキサン組成物の硬化方法
によって達成される。
〜10の整数である。)で示される基であり、R2は水
酸基であり、R3は一価炭化水素基であり、aおよびb
は1または2であり、cおよびdは0,1または2であ
り、R1,R2,R3の合計モル数に対するR1の割合は2
〜80モルパーセントであり、R1,R2,R3の合計モ
ル数に対するR2の割合は3〜90モルパーセントであ
る。]100重量部および(B)光重合開始剤0.01〜
25重量部からなるオルガノポリシロキサン組成物を紫
外線照射により硬化させ、しかる後に、100℃〜30
0℃の温度条件下で加熱処理して硬化を完結させること
を特徴とするオルガノポリシロキサン組成物の硬化方法
によって達成される。
【0005】
【発明の実施の形態】本発明に使用される(A)成分のア
クリル官能性オルガノポリシロキサンは、アクリル基お
よび水酸基を同時に有するものであり、式、R1SiO
3/2で示される単位、式、R1R2 aSiO(3-a)/2で示さ
れる単位、式、R2 bR3 cSiO(4-b-c)/2で示される単
位および式、R3 dSiO(4-d)/2で示される単位からな
るものである。前記した式中、R1は式
クリル官能性オルガノポリシロキサンは、アクリル基お
よび水酸基を同時に有するものであり、式、R1SiO
3/2で示される単位、式、R1R2 aSiO(3-a)/2で示さ
れる単位、式、R2 bR3 cSiO(4-b-c)/2で示される単
位および式、R3 dSiO(4-d)/2で示される単位からな
るものである。前記した式中、R1は式
【化4】 で示される基である。ここで、式中、R5は水素原子ま
たはメチル基であり、好ましくはメチル基である。)k
は1〜10の正数であり、好ましくは3である。R2は
水酸基である。R3はメチル基,エチル基,プロピル基
などのアルキル基、フェニル基,トリル基などのアリー
ル基、フェニル基などのアリール基で例示される一価炭
化水素基である。これらの中でもフェニル基が好まし
い。aおよびbは1または2であり、cおよびdは2以
下の数である。また、このオルガノポリシロキサン中に
占めるR1,R2,R3の合計モル数に対するR1の割合は
2〜80モルパーセントであり、好ましくは10〜60
モルパーセントである。これは2モルパーセント未満で
は良好な硬化特性が得られないためである。R1,R2,
R3の合計モル数に対するR2の割合は3〜90モルパー
セントであり、好ましくは10〜70モルパーセントで
ある。これは3モルパーセント未満であると良好な接着
力が得られないためである。このオルガノポリシロキサ
ン中のR1SiO3/2単位は、硬化物の硬度を高め、か
つ、その靱性を高める作用があり、R1R2 aSiO
(3-a)/2単位は、硬化物の硬度の架橋密度を高める作用
がある。また、R3 dSiO(4-d)/2単位は、硬化物の硬
度を高め、R3がフェニル基である場合には本発明組成
物の硬化速度を高める作用がある。このようなオルガノ
ポリシロキサンは、例えば、メタクリロキシプロピルト
リクロロシラン,アクリロキシプロピルトリクロロシラ
ンなどのアクリルオキシアルキルトリクロロシランと、
ジフェニルジヒドロキシシラン,メチルフェニルジヒド
ロキシシランなどのオルガノシランを有機溶媒中で脱塩
酸縮重合することによって容易に製造される。
たはメチル基であり、好ましくはメチル基である。)k
は1〜10の正数であり、好ましくは3である。R2は
水酸基である。R3はメチル基,エチル基,プロピル基
などのアルキル基、フェニル基,トリル基などのアリー
ル基、フェニル基などのアリール基で例示される一価炭
化水素基である。これらの中でもフェニル基が好まし
い。aおよびbは1または2であり、cおよびdは2以
下の数である。また、このオルガノポリシロキサン中に
占めるR1,R2,R3の合計モル数に対するR1の割合は
2〜80モルパーセントであり、好ましくは10〜60
モルパーセントである。これは2モルパーセント未満で
は良好な硬化特性が得られないためである。R1,R2,
R3の合計モル数に対するR2の割合は3〜90モルパー
セントであり、好ましくは10〜70モルパーセントで
ある。これは3モルパーセント未満であると良好な接着
力が得られないためである。このオルガノポリシロキサ
ン中のR1SiO3/2単位は、硬化物の硬度を高め、か
つ、その靱性を高める作用があり、R1R2 aSiO
(3-a)/2単位は、硬化物の硬度の架橋密度を高める作用
がある。また、R3 dSiO(4-d)/2単位は、硬化物の硬
度を高め、R3がフェニル基である場合には本発明組成
物の硬化速度を高める作用がある。このようなオルガノ
ポリシロキサンは、例えば、メタクリロキシプロピルト
リクロロシラン,アクリロキシプロピルトリクロロシラ
ンなどのアクリルオキシアルキルトリクロロシランと、
ジフェニルジヒドロキシシラン,メチルフェニルジヒド
ロキシシランなどのオルガノシランを有機溶媒中で脱塩
酸縮重合することによって容易に製造される。
【0006】本発明に使用される(B)成分の光重合開始
剤は(A)成分のアクリル官能性のオルガノポリシロキサ
ンの重合反応を促進させ、本発明組成物を硬化を促進す
る働きをする。かかる光重合開始剤としては、アセトフ
ェノン、プロピオフェノン、ベンゾフェノン、キサント
ール、ベンズアルデヒド、4−メチルアセトフェノン、
3−ペンチルアセトフェノン、4−メトキシアセトフェ
ノン、3−ブロモアセトフェノン、4−アリルアセトフ
ェノン、3−メトキシベンゾフェノン、p−クロロベン
ゾフェノン、4−ジメトキシベンゾフェノン、4−クロ
ロ−4−ベンジルベンゾフェノン、3−クロロキサント
ール、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾ
イン−n−ブチルエーテル、ベンゾイン−i−ブチルエ
ーテル、ビス(4−ジメチルアミノフェニル)ケトン、
ベンジルメトキシケタール、ジエチルアセトフェノン、
2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、ジ
エトキシアセトフェノンが挙げられる。本成分の配合量
は、(A)成分のオルガノポリシロキサン100重量部に
対して0.01〜25重量部であり、好ましくは0.1〜
10重量部である。
剤は(A)成分のアクリル官能性のオルガノポリシロキサ
ンの重合反応を促進させ、本発明組成物を硬化を促進す
る働きをする。かかる光重合開始剤としては、アセトフ
ェノン、プロピオフェノン、ベンゾフェノン、キサント
ール、ベンズアルデヒド、4−メチルアセトフェノン、
3−ペンチルアセトフェノン、4−メトキシアセトフェ
ノン、3−ブロモアセトフェノン、4−アリルアセトフ
ェノン、3−メトキシベンゾフェノン、p−クロロベン
ゾフェノン、4−ジメトキシベンゾフェノン、4−クロ
ロ−4−ベンジルベンゾフェノン、3−クロロキサント
ール、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾ
イン−n−ブチルエーテル、ベンゾイン−i−ブチルエ
ーテル、ビス(4−ジメチルアミノフェニル)ケトン、
ベンジルメトキシケタール、ジエチルアセトフェノン、
2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、ジ
エトキシアセトフェノンが挙げられる。本成分の配合量
は、(A)成分のオルガノポリシロキサン100重量部に
対して0.01〜25重量部であり、好ましくは0.1〜
10重量部である。
【0007】本発明に使用されるオルガノポリシロキサ
ン組成物は上記(A)成分および(B)成分から成るもので
あるが、これら(A)成分および(B)成分に加えて、さら
に硬化を促進するために(C)成分として、有機パーオキ
サイドを添加配合することが好ましい。有機パーオキサ
イドとしては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、ジ
メチルベンゾイルパーオキサイド、クロロベンゾイルパ
ーオキサイド、ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ジ
−t−ブチルパーオキサイド、2,5−ジ−t−ブチル
パーオキシブチル−2,5−ジメチルヘキサン、2,5−
ジ−t−ブチルパーオキシブチル−2,5−ジメチルヘ
キシン、t−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパ
ーオキサイド、t−ブチルパーオキシベンゾエート、t
−ブチルパーオキシ−4−クロロベンゾエート、t−ブ
チルパーオキシ−2,4−ジクロロベンゾエート、t−
ブチルパーオキシ−4−トルオエート、1,1−ジ(t
−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、1,1−ジ(t
−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘ
キサン、2,2−ジ(t−ブチルパーオキシ)ブタン等
が例示される。これらの中でも相溶性のあるジ−t−ブ
チルパーオキサイドが好ましい。かかる有機パーオキサ
イドの配合量は、(A)成分100重量部に対して0.0
1〜5重量部の範囲とすることが望ましい。
ン組成物は上記(A)成分および(B)成分から成るもので
あるが、これら(A)成分および(B)成分に加えて、さら
に硬化を促進するために(C)成分として、有機パーオキ
サイドを添加配合することが好ましい。有機パーオキサ
イドとしては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、ジ
メチルベンゾイルパーオキサイド、クロロベンゾイルパ
ーオキサイド、ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ジ
−t−ブチルパーオキサイド、2,5−ジ−t−ブチル
パーオキシブチル−2,5−ジメチルヘキサン、2,5−
ジ−t−ブチルパーオキシブチル−2,5−ジメチルヘ
キシン、t−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパ
ーオキサイド、t−ブチルパーオキシベンゾエート、t
−ブチルパーオキシ−4−クロロベンゾエート、t−ブ
チルパーオキシ−2,4−ジクロロベンゾエート、t−
ブチルパーオキシ−4−トルオエート、1,1−ジ(t
−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、1,1−ジ(t
−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘ
キサン、2,2−ジ(t−ブチルパーオキシ)ブタン等
が例示される。これらの中でも相溶性のあるジ−t−ブ
チルパーオキサイドが好ましい。かかる有機パーオキサ
イドの配合量は、(A)成分100重量部に対して0.0
1〜5重量部の範囲とすることが望ましい。
【0008】また、本発明に使用される組成物には、上
記成分に加えて、紫外線照射による硬化反応を促進させ
るために、光増感剤を添加しても良い。光増感剤として
は4−メチル−7−(N,N−ジメチルアミノ)−クマ
リン等の染料、アセトフェノン等のケトン系あるいはエ
ーテル系化合物、ベンゾキノン等のキノン系化合物など
が挙げられる。 また、基材との接着性を良くするため
に接着付与剤を添加しても良い。このような接着剤とし
ては、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメ
トキシシラン等のアルコキシシランが挙げられる。
記成分に加えて、紫外線照射による硬化反応を促進させ
るために、光増感剤を添加しても良い。光増感剤として
は4−メチル−7−(N,N−ジメチルアミノ)−クマ
リン等の染料、アセトフェノン等のケトン系あるいはエ
ーテル系化合物、ベンゾキノン等のキノン系化合物など
が挙げられる。 また、基材との接着性を良くするため
に接着付与剤を添加しても良い。このような接着剤とし
ては、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメ
トキシシラン等のアルコキシシランが挙げられる。
【0009】本発明に使用されるオルガノポリシロキサ
ン組成物は上記(A)成分および(B)成分あるいは(A)成
分,(B)成分および(C)成分を均一に混合することによ
り容易に製造されるが、これの成分に加えて、基材への
塗布性を良くするために希釈剤として、溶剤あるいは反
応性希釈剤を添加しても良い。溶剤としてはトルエン,
キシレン,乳酸ブチル等の有機系溶媒が例示される。反
応性希釈剤としては1官能価アクリレート,2官能価ア
クリレート、多官能価アクリレート等が例示される。
ン組成物は上記(A)成分および(B)成分あるいは(A)成
分,(B)成分および(C)成分を均一に混合することによ
り容易に製造されるが、これの成分に加えて、基材への
塗布性を良くするために希釈剤として、溶剤あるいは反
応性希釈剤を添加しても良い。溶剤としてはトルエン,
キシレン,乳酸ブチル等の有機系溶媒が例示される。反
応性希釈剤としては1官能価アクリレート,2官能価ア
クリレート、多官能価アクリレート等が例示される。
【0010】本発明の硬化方法は、上記のようなオルガ
ノポリシロキサン組成物を紫外線照射により硬化させ、
しかる後に、100℃〜300℃の温度条件下で加熱し
て硬化を完結させるのであるが、この硬化方法に用いる
紫外線を照射する光源としては、従来公知のものでよ
く、これには、水素放電管、高圧水銀灯、中圧水銀灯、
低圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、
ケミカルランプ、カーボンアーク灯が挙げられる。ここ
で、紫外線の波長は特に限定されないが、一般には、波
長が250〜400nmの範囲内にある紫外線が好まし
い。また紫外線の照射条件は特に限定されず、例えば、
オルガノポリシロキサン組成物を冷却下もしくは室温下
に紫外線を照射する方法、さらに、窒素ガス、アルゴン
ガス等の不活性ガス雰囲気下、空気中、真空下に照射す
る方法が挙げられる。
ノポリシロキサン組成物を紫外線照射により硬化させ、
しかる後に、100℃〜300℃の温度条件下で加熱し
て硬化を完結させるのであるが、この硬化方法に用いる
紫外線を照射する光源としては、従来公知のものでよ
く、これには、水素放電管、高圧水銀灯、中圧水銀灯、
低圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、
ケミカルランプ、カーボンアーク灯が挙げられる。ここ
で、紫外線の波長は特に限定されないが、一般には、波
長が250〜400nmの範囲内にある紫外線が好まし
い。また紫外線の照射条件は特に限定されず、例えば、
オルガノポリシロキサン組成物を冷却下もしくは室温下
に紫外線を照射する方法、さらに、窒素ガス、アルゴン
ガス等の不活性ガス雰囲気下、空気中、真空下に照射す
る方法が挙げられる。
【0011】続いて行われる加熱処理は、(A)成分のア
クリル官能性オルガノポリシロキサン中に存在するシラ
ノール基の縮合反応を促進し、硬化を促進する。この加
熱処理条件は100℃〜300℃であり、好ましくは、
200℃〜250℃の温度範囲内である。加熱処理装置
としては、例えば、熱風循環式オーブン、ホットプレー
ト、赤外線照射装置等の加熱装置が使用可能である。
クリル官能性オルガノポリシロキサン中に存在するシラ
ノール基の縮合反応を促進し、硬化を促進する。この加
熱処理条件は100℃〜300℃であり、好ましくは、
200℃〜250℃の温度範囲内である。加熱処理装置
としては、例えば、熱風循環式オーブン、ホットプレー
ト、赤外線照射装置等の加熱装置が使用可能である。
【0012】本発明の硬化方法によれば、アクリル官能
性オルガノポリシロキサンが完全に硬化した硬度の高い
硬化物が効率よく得られる。また、本発明の硬化方法を
各種有機樹脂表面に適用した場合には硬化途上接触して
いる各種有機樹脂に強固に接着した硬化物が得られる。
従って、本発明の方法は、半導体装置の製造におけるフ
ォトリソグラフィー技術による絶縁層の形成方法とか、
印刷技術に有効に適用できる。
性オルガノポリシロキサンが完全に硬化した硬度の高い
硬化物が効率よく得られる。また、本発明の硬化方法を
各種有機樹脂表面に適用した場合には硬化途上接触して
いる各種有機樹脂に強固に接着した硬化物が得られる。
従って、本発明の方法は、半導体装置の製造におけるフ
ォトリソグラフィー技術による絶縁層の形成方法とか、
印刷技術に有効に適用できる。
【0013】
【実施例】次に、本発明を実施例および参考例により詳
細に説明する。尚、実施例中、部とあるのは重量部のこ
とである。
細に説明する。尚、実施例中、部とあるのは重量部のこ
とである。
【0014】
【参考例1】攪拌機、滴下ロート、分溜管および温度計
を備えた4つ口フラスコに、γ−メタクリロキシプロピ
ルトリクロロシラン525部、トルエン3124部、p
−メトキシフェノール0.047部を投入し攪拌し
た。、次いで、この反応系にジフェニルジヒドロキシシ
ラン329部とトリエチルアミン708部の混合液を徐
々に滴下した。その後、この反応系を80℃で2時間攪
拌した。その後、この系に少量の塩酸水溶液を添加して
攪拌して反応させた。その後、トルエン層を分離して、
反応成生物を数回水洗した後、トルエン層を減圧下で加
熱して、無色透明な粘調液体439gを調製した。この
粘調液体を13C−核磁気共鳴スペクトル、29Si−NM
Rおよび赤外線分光により分析した結果、下記平均単位
式で表されるオルガノポリシロキサンであると確認され
た。また、このオルガノポリシロキサンをゲルパーミエ
イションクロマトグラフにより分析した結果、その重量
平均分子量はポリジメチルシロキサン換算で1700で
あった。
を備えた4つ口フラスコに、γ−メタクリロキシプロピ
ルトリクロロシラン525部、トルエン3124部、p
−メトキシフェノール0.047部を投入し攪拌し
た。、次いで、この反応系にジフェニルジヒドロキシシ
ラン329部とトリエチルアミン708部の混合液を徐
々に滴下した。その後、この反応系を80℃で2時間攪
拌した。その後、この系に少量の塩酸水溶液を添加して
攪拌して反応させた。その後、トルエン層を分離して、
反応成生物を数回水洗した後、トルエン層を減圧下で加
熱して、無色透明な粘調液体439gを調製した。この
粘調液体を13C−核磁気共鳴スペクトル、29Si−NM
Rおよび赤外線分光により分析した結果、下記平均単位
式で表されるオルガノポリシロキサンであると確認され
た。また、このオルガノポリシロキサンをゲルパーミエ
イションクロマトグラフにより分析した結果、その重量
平均分子量はポリジメチルシロキサン換算で1700で
あった。
【化5】 尚、上式中、R1は下記化学構造式で表される基であ
る。
る。
【化6】
【0015】
【実施例1】参考例1で得られたメタクリルオキシアル
キル官能性オルガノポリシロキサン65重量部、ベンゾ
イン−イソ−ブチルエーテル5重量部および乳酸ブチル
29重量部を均一に混合して電子部品保護材料組成物を
調製した。この組成物をガラス板上に塗布し、乾燥させ
てガラス板に薄膜を形成させた。この薄膜上にコンベア
ー式紫外線照射装置により光量100mJ/cm2の紫外線
を照射した後、さらに250℃で1時間加熱した。得ら
れた硬化皮膜の硬度を測定したところ、この硬化皮膜は
鉛筆硬度で3Hの硬度を有することが判明した。またこ
の電子部品保護材料組成物を半導体の表面に膜厚20μ
mになるように塗布しコンベアー式紫外線照射装置によ
り光量100mJ/cm2の紫外線を照射した後、さらに2
50℃で1時間加熱して硬化させた。次いでその上から
半導体封止用用エポキシ樹脂(ビスフェノール型エポキ
シ樹脂)を厚さ1mmになるように塗布し、180℃に加
熱し硬化させた。その後、この硬化エポキシ樹脂を半導
体から引き剥し、その剥離面を調べたところ電子部品保
護材料組成物の硬化皮膜は硬化エポキシ樹脂に強固に接
着しており、その界面を爪で擦っても剥離しなかった。
キル官能性オルガノポリシロキサン65重量部、ベンゾ
イン−イソ−ブチルエーテル5重量部および乳酸ブチル
29重量部を均一に混合して電子部品保護材料組成物を
調製した。この組成物をガラス板上に塗布し、乾燥させ
てガラス板に薄膜を形成させた。この薄膜上にコンベア
ー式紫外線照射装置により光量100mJ/cm2の紫外線
を照射した後、さらに250℃で1時間加熱した。得ら
れた硬化皮膜の硬度を測定したところ、この硬化皮膜は
鉛筆硬度で3Hの硬度を有することが判明した。またこ
の電子部品保護材料組成物を半導体の表面に膜厚20μ
mになるように塗布しコンベアー式紫外線照射装置によ
り光量100mJ/cm2の紫外線を照射した後、さらに2
50℃で1時間加熱して硬化させた。次いでその上から
半導体封止用用エポキシ樹脂(ビスフェノール型エポキ
シ樹脂)を厚さ1mmになるように塗布し、180℃に加
熱し硬化させた。その後、この硬化エポキシ樹脂を半導
体から引き剥し、その剥離面を調べたところ電子部品保
護材料組成物の硬化皮膜は硬化エポキシ樹脂に強固に接
着しており、その界面を爪で擦っても剥離しなかった。
【0016】
【実施例2】参考例1で得られたメタクリルオキシアル
キル官能性オルガノポリシロキサン65重量部、ベンゾ
イン−イソ−ブチルエーテル5重量部、乳酸ブチル29
重量部およびジ−t−ブチルパーオキサイド1重量部を
均一に混合して電子部品保護材料組成物を調製した。こ
の組成物をガラス板上に塗布し、乾燥させてガラス板に
薄膜を形成させた。この薄膜上にコンベアー式紫外線照
射装置により光量100mJ/cm2の紫外線を照射した
後、さらに250℃で1時間加熱した。得られた硬化皮
膜の硬度を測定したところ、この硬化皮膜は鉛筆硬度で
4Hの硬度を有することが判明した。またこの電子部品
保護材料組成物を半導体の表面に膜厚20μmになるよ
うに塗布し、コンベアー式紫外線照射装置により光量1
00mJ/cm2の紫外線を照射した後、さらに250℃で
1時間加熱して硬化させた。次いでその上から半導体用
エポキシ樹脂(ビスフェノール型エポキシ樹脂)を塗布
し、180℃に加熱し硬化させた。その後、この硬化エ
ポキシ樹脂を半導体から引き剥し、その剥離面を調べた
ところ、オルガノポリシロキサン硬化皮膜はエポキシ樹
脂に強固に接着しており、その界面を爪で擦っても剥離
しなかった。
キル官能性オルガノポリシロキサン65重量部、ベンゾ
イン−イソ−ブチルエーテル5重量部、乳酸ブチル29
重量部およびジ−t−ブチルパーオキサイド1重量部を
均一に混合して電子部品保護材料組成物を調製した。こ
の組成物をガラス板上に塗布し、乾燥させてガラス板に
薄膜を形成させた。この薄膜上にコンベアー式紫外線照
射装置により光量100mJ/cm2の紫外線を照射した
後、さらに250℃で1時間加熱した。得られた硬化皮
膜の硬度を測定したところ、この硬化皮膜は鉛筆硬度で
4Hの硬度を有することが判明した。またこの電子部品
保護材料組成物を半導体の表面に膜厚20μmになるよ
うに塗布し、コンベアー式紫外線照射装置により光量1
00mJ/cm2の紫外線を照射した後、さらに250℃で
1時間加熱して硬化させた。次いでその上から半導体用
エポキシ樹脂(ビスフェノール型エポキシ樹脂)を塗布
し、180℃に加熱し硬化させた。その後、この硬化エ
ポキシ樹脂を半導体から引き剥し、その剥離面を調べた
ところ、オルガノポリシロキサン硬化皮膜はエポキシ樹
脂に強固に接着しており、その界面を爪で擦っても剥離
しなかった。
【0017】
【発明の効果】本発明オルガノポリシロキサン組成物の
硬化方法は(A)成分および(B)成分または(A)成分,
(B)成分および(C)成分からなるオルガノポリシロキサ
ン組成物に、紫外線を照射して仮硬化させ、次いで10
0〜300℃の温度条件下で加熱して硬化を完結させて
いるので、高硬度であり、かつ、電子部品に使用されて
いる有機樹脂に対して接着性に優れた硬化皮膜を形成し
得るという特徴を有する。
硬化方法は(A)成分および(B)成分または(A)成分,
(B)成分および(C)成分からなるオルガノポリシロキサ
ン組成物に、紫外線を照射して仮硬化させ、次いで10
0〜300℃の温度条件下で加熱して硬化を完結させて
いるので、高硬度であり、かつ、電子部品に使用されて
いる有機樹脂に対して接着性に優れた硬化皮膜を形成し
得るという特徴を有する。
Claims (3)
- 【請求項1】 (A)式、R1SiO3/2で示される単位、
式、R1R2 aSiO(3-a)/2で示される単位、式、R2 bR
3 cSiO(4-b-c)/2で示される単位および式、R3 dSi
O(4-d)/2で示される単位からなるアクリル官能性オル
ガノポリシロキサン[式中、R1は式 【化1】 (式中、R5は水素原子またはメチル基であり、kは1
〜10の整数である。)で示される基であり、R2は水
酸基であり、R3は一価炭化水素基であり、aおよびb
は1または2であり、cおよびdは0,1または2であ
り、R1,R2,R3の合計モル数に対するR1の割合は2
〜80モルパーセントであり、R1,R2,R3の合計モ
ル数に対するR2の割合は3〜90モルパーセントであ
る。]100重量部および(B)光重合開始剤0.01〜
25重量部からなるオルガノポリシロキサン組成物を紫
外線照射により硬化させ、しかる後に、100℃〜30
0℃の温度条件下で加熱処理して硬化を完結させること
を特徴とするオルガノポリシロキサン組成物の硬化方
法。 - 【請求項2】 (A)式、R1SiO3/2で示される単位、
式、R1R2 aSiO(3-a)/2で示される単位、式、R2 bR
3 cSiO(4-b-c)/2で示される単位および式、R3 dSi
O(4-d)/2で示される単位からなるアクリル官能性オル
ガノポリシロキサン[式中、R1は式 【化2】 (式中、R5は水素原子またはメチル基であり、kは1
〜10の整数である。)で示される基であり、R2は水
酸基であり、R3は一価炭化水素基であり、aおよびb
は1または2であり、cおよびdは0,1または2であ
り、R1,R2,R3の合計モル数に対するR1の割合は2
〜80モルパーセントであり、R1,R2,R3の合計モ
ル数に対するR2の割合は3〜90モルパーセントであ
る。]100重量部、(B)光重合開始剤0.01〜25
重量部および(C)有機パーオキサイド0.01〜5重量
部から成るオルガノポリシロキサン組成物を紫外線照射
により硬化させ、しかる後に、100℃〜300℃の温
度条件下で加熱処理して硬化を完結させることを特徴と
するオルガノポリシロキサン組成物の硬化方法。 - 【請求項3】 R3がフェニル基である請求項1記載お
よび請求項2記載の硬化方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7336113A JPH09151226A (ja) | 1995-11-30 | 1995-11-30 | オルガノポリシロキサン組成物の硬化方法 |
EP96119222A EP0776945A3 (en) | 1995-11-30 | 1996-11-29 | Radiation-curable coating composition useful for protecting electronic circuitry and method of curing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7336113A JPH09151226A (ja) | 1995-11-30 | 1995-11-30 | オルガノポリシロキサン組成物の硬化方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09151226A true JPH09151226A (ja) | 1997-06-10 |
Family
ID=18295832
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7336113A Pending JPH09151226A (ja) | 1995-11-30 | 1995-11-30 | オルガノポリシロキサン組成物の硬化方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09151226A (ja) |
-
1995
- 1995-11-30 JP JP7336113A patent/JPH09151226A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI788373B (zh) | 雙重固化有機聚矽氧烷組成物 | |
US5037861A (en) | Novel highly reactive silicon-containing epoxides | |
WO2011108705A1 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JPH0627277B2 (ja) | アクリル化エポキシシリコーン被覆物品およびその製法 | |
JPH0627162B2 (ja) | 光硬化性オルガノポリシロキサン組成物 | |
CA2336195A1 (en) | Dual curing silicone compositions | |
US6867325B2 (en) | Organosiloxane polymer, photo-curable resin composition, patterning process, and substrate-protecting coat | |
JP3574226B2 (ja) | 硬化性シリコーン組成物およびその硬化物 | |
JPH03423B2 (ja) | ||
JPH0425231B2 (ja) | ||
KR20010023087A (ko) | 이중 경화 실리콘 조성물 | |
JP2003206403A (ja) | 安定組成物 | |
JP2003227949A (ja) | 光導波路形成材料及び光導波路の製造方法 | |
TW202104379A (zh) | 放射線硬化性有機聚矽氧烷組成物、硬化物、以及剝離片 | |
JP5139882B2 (ja) | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた樹脂層付き基材の製造方法 | |
EP0776945A2 (en) | Radiation-curable coating composition useful for protecting electronic circuitry and method of curing the same | |
JP2010253767A (ja) | ハードコート成形品及びその製造方法、ならびに活性エネルギー線硬化性コーティング組成物 | |
JPH09151226A (ja) | オルガノポリシロキサン組成物の硬化方法 | |
JP2018058950A (ja) | 硬化性ポリオルガノシロキサン組成物および電気・電子機器 | |
TWI739960B (zh) | 可uv固化之黏著劑及經表面羥基基團或水氣活化之塗層組成物 | |
JP3347936B2 (ja) | 光硬化性オルガノポリシロキサン組成物 | |
JPH09151334A (ja) | 電子部品保護材料組成物 | |
JPH06322272A (ja) | 紫外線硬化性オルガノポリシロキサン組成物 | |
JPH11100550A (ja) | 光硬化性オルガノポリシロキサン組成物の硬化方法 | |
JP2022168729A (ja) | ガラス質接着剤 |