JPH09148276A - Wafer braking device - Google Patents

Wafer braking device

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Publication number
JPH09148276A
JPH09148276A JP30591795A JP30591795A JPH09148276A JP H09148276 A JPH09148276 A JP H09148276A JP 30591795 A JP30591795 A JP 30591795A JP 30591795 A JP30591795 A JP 30591795A JP H09148276 A JPH09148276 A JP H09148276A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
tape
braking
cut
cut line
Prior art date
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Application number
JP30591795A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshihide Takayama
美秀 高山
Osamu Owada
修 大和田
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TSUKUBA SEIKO KK
Original Assignee
TSUKUBA SEIKO KK
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Filing date
Publication date
Application filed by TSUKUBA SEIKO KK filed Critical TSUKUBA SEIKO KK
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Publication of JPH09148276A publication Critical patent/JPH09148276A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a device in which braking is performed along a half-cut line of a wafer and scattering or adhesion of dust on a braking face does not occur. SOLUTION: In a wafer braking device 20A in which wafers which have been half-cut, and which are adhered to a tape are performed braking to each chip, the half-cut line is provided in a checker pattern manner, and further pressurizing means 46 for pressurizing from the tape side and performing braking from the cut line is provided. The pressurizing means 46 has a pressurizing part 46a for pressurizing on the tape and simultaneously sliding. After the pressurizing part 46a moves to a vertical direction to one of the normal cut lines and performs braking from the one cut line, it moves to a vertical direction to the other cut line and performs braking from the other cut line.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ダイシング済みの
ウェハの切り残し部をブレーキングする装置に関するも
のである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for braking an uncut portion of a dicing wafer.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来この種のものとしては、例えば図5
に示すようなものがある(特開平6ー140504)。
この構造は、ダイシング装置(図示省略)において、テ
ープマウントされたウェハ1をハーフカットした後に、
テープ2上に保持したフレーム3の両側部を、フレーム
クランプ4でフレームテーブル5の所定の位置に押し付
けて固定し、進退手段6はサーボモータ6aを介して移
動板8の上昇で押圧手段10が適正位置に定められ、押
圧端子11,12によりテープ2の裏面側からウェハ1
を駆動モータ13につながる回転軸14や水平の取付板
14aや大小の円板15,15aを介して得られる回転
力でしごいて、各チップにブレーキングする構成として
いる。
2. Description of the Related Art Conventionally, as this kind, for example, FIG.
(Japanese Patent Laid-Open No. 6-140504).
This structure uses a dicing device (not shown) after half-cutting the tape-mounted wafer 1.
Both sides of the frame 3 held on the tape 2 are pressed and fixed to predetermined positions of the frame table 5 by the frame clamps 4, and the advancing / retreating means 6 is moved up the moving plate 8 via the servo motor 6a so that the pressing means 10 moves. The wafer 1 is set at an appropriate position and is pressed from the back side of the tape 2 by the pressing terminals 11 and 12.
Is squeezed by the rotational force obtained through the rotary shaft 14 connected to the drive motor 13, the horizontal mounting plate 14a, and the large and small circular plates 15 and 15a to brake each chip.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ものにあっては、ハーフカットされたウェハ1のブレー
キング時に、押圧端子11,12が回転するように力を
懸けるので、ハーフカット線に均一にブレーク力が懸か
るのではなくサークル描画するように力が懸かるのでハ
ーフカット線から直線的に割れ難い。したがって、ブレ
ーキング線がジグザグになり粉塵が飛び散り易く、飛散
した粉塵はウェハ1の表面上に付着して損傷を与える虞
があった。
However, in the conventional case, when the half-cut wafer 1 is braked, a force is applied so that the pressing terminals 11 and 12 rotate, so that the half-cut line is evenly distributed. It is difficult to break linearly from the half-cut line because the force is applied to draw a circle instead of the break force. Therefore, the breaking line becomes zigzag and the dust is easily scattered, and the scattered dust may be attached to the surface of the wafer 1 to be damaged.

【0004】そこで、本発明は、ウェハのハーフカット
線に沿ってブレーキングでき、ブレーキング面の粉塵が
飛散しウェハ上に付着しないようなウェハブレーキング
装置を提供することにある。
Therefore, the present invention is to provide a wafer braking device capable of braking along a half-cut line of a wafer and preventing dust on the braking surface from scattering and adhering to the wafer.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】この目的を達成するた
め、請求項1に記載された発明では、テープ上に貼付け
されたハーフカット済みのウェハを各チップにブレーキ
ングするウェハブレーキング装置において、前記ハーフ
カットの線は、格子状に設けられると共に、前記テープ
側から加圧して前記カット線からブレーキングする加圧
手段が設けられ、該加圧手段は、前記テープ上を加圧し
ながら摺動する加圧部を有し、該加圧部が、前記直交す
るカット線の一方に垂直な方向に移動して該一方のカッ
ト線からブレーキングした後、他のカット線に垂直な方
向に移動して該他方のカット線からブレーキングするよ
うにしたことを特徴としている。
In order to achieve this object, according to the invention described in claim 1, in a wafer braking apparatus for braking a half-cut wafer stuck on a tape to each chip, The half-cut lines are provided in a grid pattern, and pressurizing means for applying pressure from the tape side to brake from the cut line is provided, and the pressurizing means slides while applying pressure on the tape. The pressurizing unit has a moving part that moves in a direction perpendicular to one of the orthogonal cut lines, brakes from the one cut line, and then moves in a direction perpendicular to the other cut line. Then, braking is performed from the other cut line.

【0006】このようなものにあっては、テープの裏面
側からハーフカット線に沿ってブレーキングできるの
で、ブレーキング線がジグザグになることがなく、ウェ
ハを上に向けてブレーキングしても下に向けてブレーキ
ングしても粉塵が少なく、ウェハに損傷を与える虞は少
ない。
In such a case, since the braking can be performed along the half-cut line from the back surface side of the tape, the braking line does not become zigzag, and even if the wafer is braked upward. Even if the brakes are applied downward, there is little dust and there is little risk of damaging the wafer.

【0007】この請求項2に記載された発明では、テー
プ上に貼付けされたハーフカット済みのウェハを各チッ
プにブレーキングするウェハブレーキング装置におい
て、前記テープがウェハの上側に位置するようにセット
し、該テープの上側には、テープ上を加圧しながら摺動
してハーフカットのカット線からブレーキングする加圧
手段が設けられる一方、テープの下側にはウェハの周囲
を覆うように密閉室が形成され、前記加圧手段の加圧終
了後に該密閉室内の粉塵を吸引する吸引手段が設けられ
たことを特徴として入る。
According to the second aspect of the present invention, in a wafer braking apparatus for braking a half-cut wafer attached on a tape to each chip, the tape is set so as to be located above the wafer. On the upper side of the tape, there is provided a pressing means that slides while pressing on the tape to brake from the cut line of the half cut, while the lower side of the tape is sealed so as to cover the periphery of the wafer. It is characterized in that a chamber is formed, and suction means for sucking dust in the closed chamber is provided after completion of pressurization of the pressurizing means.

【0008】このようなものにあっては、ブレーキング
によって粉塵が生じたとしても、下方に落下し、さらに
吸引し排出されるのでウェハの表面に付着することはな
い。
In such a structure, even if dust is generated due to braking, it does not adhere to the surface of the wafer because it falls downward, is further sucked and discharged.

【0009】この請求項3に記載された発明では、請求
項2に記載のウェハブレーキング装置において、前記テ
ープの上面にウェハが貼付けられた状態から裏返してテ
ープがウェハの上面に位置するようにセットしたことを
特徴としている。
According to the third aspect of the invention, in the wafer breaking apparatus according to the second aspect, the state in which the wafer is attached to the upper surface of the tape is turned over so that the tape is located on the upper surface of the wafer. The feature is that it is set.

【0010】このようなものにあっては、裏返すことに
より付着していた粉塵を落下させることができる。ま
た、裏返して糊面となったテープがセットされて密閉室
となった密閉室の空圧を調整することによって、加圧手
段によるウェハの変位量が適正となって均質なブレーキ
ングができる。
In such a structure, the dust adhering thereto can be dropped by turning it over. Further, by adjusting the air pressure in the closed chamber, which is the closed chamber in which the tape having the adhesive surface turned upside down is set, the amount of displacement of the wafer by the pressing means becomes appropriate, and uniform braking can be performed.

【0011】請求項4に記載された発明は、請求項1乃
至3のウェハブレーキング装置において、複数のブレー
キング用ポールが上下動自在でかつ前記テープ側に付勢
されるように設けられたこと特徴としている。
According to a fourth aspect of the present invention, in the wafer braking device according to the first to third aspects, a plurality of braking poles are provided so as to be vertically movable and urged toward the tape. That is a feature.

【0012】このようなものにあっては、ウェハに部分
的な接着強度差があっても各ブレーキング用ポールの上
下動で部分的な加圧力も吸収し均等になる。
In such a structure, even if there is a partial difference in adhesive strength between the wafers, the vertical movement of each braking pole absorbs a partial pressing force and the pressure is even.

【0013】請求項5に記載された発明は、請求項2乃
至4に記載のウェハブレーキング装置において、前記密
閉室を覆う前記テープが剥離・搬送できるように吸着パ
ッドを設けると共に、剥離チャックを設けたことを特徴
としている。
According to a fifth aspect of the present invention, in the wafer breaking apparatus according to the second to fourth aspects, a suction pad is provided so that the tape covering the closed chamber can be peeled and conveyed, and a peeling chuck is provided. The feature is that it is provided.

【0014】このようなものにあっては、密閉室のフラ
ンジ面にウェハが保持されているテープの糊面が面着し
て外れ難くなって吸着パッドの吸着力だけでは不足する
場合があっても、剥離チャックで機械的に引き剥し、密
閉室内にエアを入れ剥し易くしながら剥離し搬送でき
る。
In such a case, the adhesive surface of the tape holding the wafer may be adhered to the flange surface of the closed chamber and may not come off easily, and the suction force of the suction pad may be insufficient. Also, it can be peeled off mechanically with a peeling chuck, and can be peeled and conveyed while making it easy to peel by putting air in the closed chamber.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を、図1乃至
図4に基づいて説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0016】図1は、ウェハブレーキング装置20Aの
平面図であり、ウェハ20のローダ部21と搬送部31
及びブレーキング部41から構成されている。
FIG. 1 is a plan view of the wafer breaking device 20A, which shows a loader section 21 and a transfer section 31 of the wafer 20.
And a braking unit 41.

【0017】まず、ローダ部21の構成に付いて説明す
ると、図1において平面を、図2においては図1のA矢
視にて、ローダ部21の構成を示している。
First, the structure of the loader unit 21 will be described. FIG. 1 shows the structure of the loader unit 21 in a plan view, and FIG. 2 shows the structure of the loader unit 21 in the direction of arrow A in FIG.

【0018】図中211はカセットローダゾーンであ
り、20はウェハでテープ20aを介してフレーム23
に貼付けた状態にして、カセット22内に段状に収納さ
れている。
In the figure, reference numeral 211 is a cassette loader zone, and 20 is a wafer which is a frame 23 via a tape 20a.
It is stored in a cassette 22 in a step-like manner in a state of being attached to the.

【0019】212は搬出入ゾーンであり、25はリフ
ト、26はリフト25のフォークでカセット22を載せ
て上下動する。
Reference numeral 212 is a carry-in / out zone, 25 is a lift, and 26 is a fork of the lift 25, on which the cassette 22 is placed and which moves up and down.

【0020】213はアンローダゾーンであり、ブレー
キングの完了したウェハ20が収納されたカセット22
を次工程へ送り出すテーブル27部位である。
Reference numeral 213 denotes an unloader zone, which is a cassette 22 in which the wafers 20 for which braking has been completed are stored.
Is a part of the table 27 that sends out to the next process.

【0021】つぎに、このローダ部21の作用に付いて
説明すると、前工程でハーフカットされた複数のウェハ
20が段状に収納されているカセット22がカセットロ
ーダゾーン211のカセットローダ24上に置かれ、こ
のカセット22はエアーシリンダ(図示省略)で押さ
れ、搬出入ゾーン212であるリフト25のフォーク2
6へ移行される。
Next, the operation of the loader unit 21 will be described. A cassette 22 in which a plurality of wafers 20 half-cut in the previous step are stored in a stepwise manner is placed on the cassette loader 24 in the cassette loader zone 211. The cassette 22 is placed and pushed by an air cylinder (not shown), and the fork 2 of the lift 25, which is the loading / unloading zone 212.
Moved to 6.

【0022】そして、リフト25はウェハのフレーム2
3を適正な高さに調整し、ウェハのフレーム23が搬出
される。その後ブレーキングが終わると元の位置に戻さ
れ、次にブレーキングされるウェハのフレーム23の搬
出高さまでリフト25のフォーク26を上下動させブレ
ーキングが終わると元の位置に戻され、続いて、次のウ
ェハのフレーム23の位置までリフト25のフォーク2
6を上下動させることを繰り返し、カセット22内のウ
ェハ20のブレーキングを全て完了させる。
The lift 25 is used for the frame 2 of the wafer.
3 is adjusted to an appropriate height, and the wafer frame 23 is unloaded. After that, when the braking is finished, it is returned to the original position, and the fork 26 of the lift 25 is moved up and down to the carrying-out height of the frame 23 of the wafer to be braked next, and when the braking is finished, it is returned to the original position. , Fork 2 of lift 25 to the position of frame 23 of the next wafer
The vertical movement of 6 is repeated to complete the braking of the wafer 20 in the cassette 22.

【0023】この時点で、リフト25が下降しフォーク
26からカセット22はエアーシリンダにより引出さ
れ、アンローダゾーン213へ移送される。それから、
リフト25は上昇して、カセットローダゾーン211よ
りエアーシリンダにより押出されるカセット22を受け
取る。この動作をローダ部21は繰り返す。
At this time, the lift 25 descends and the cassette 22 is pulled out from the fork 26 by the air cylinder and transferred to the unloader zone 213. then,
The lift 25 ascends to receive the cassette 22 pushed by the air cylinder from the cassette loader zone 211. The loader unit 21 repeats this operation.

【0024】次に、搬送部31の構成に付いて説明する
と、図1において平面を、図3においては図1のB矢視
にて、搬送部31の構成を示している。
Next, the structure of the carrying section 31 will be described. FIG. 1 shows the plan view, and FIG. 3 shows the structure of the carrying section 31 as seen from the arrow B in FIG.

【0025】図中31aは駆動モータであり、32はベ
ルトで側面T字状に進退自在に回設されている。33は
移送アームでT字状のベルト32平面上に固着されてい
る。また、この移送アーム33にはエアー駆動のチャッ
ク部34が装着されている。35は回転アームであり回
転軸36に固着されている。この回転アーム35には複
数の吸着パッド37と剥離チャック38とが適宜な位置
に装着されている。
In the figure, 31a is a drive motor, and 32 is a belt which is rotatably provided in a side T-shape so as to be movable back and forth. A transfer arm 33 is fixed on the plane of the T-shaped belt 32. An air-driven chuck portion 34 is attached to the transfer arm 33. A rotary arm 35 is fixed to the rotary shaft 36. A plurality of suction pads 37 and a peeling chuck 38 are attached to the rotating arm 35 at appropriate positions.

【0026】続いて、この搬送部31の作用について説
明する。
Next, the operation of the carrying section 31 will be described.

【0027】まず、駆動モータ31aを駆動させ、カセ
ット22の搬出入ゾーン212側にベルト32を介して
搬送アーム35を前進させ移送アーム33に設けたチャ
ック部34をエアー作動させてウェハのフレーム23を
掴み後退する。そして、回転アーム35に設けられた吸
着パッド37位置まで後退して吸着される。
First, the drive motor 31a is driven, the transfer arm 35 is advanced to the loading / unloading zone 212 side of the cassette 22 via the belt 32, and the chuck portion 34 provided on the transfer arm 33 is air-operated to operate the wafer frame 23. Grab and retreat. Then, it retracts to the position of the suction pad 37 provided on the rotary arm 35 and is sucked.

【0028】それから、回転アーム35は回転軸36を
中心に回転して、ウェハのフレーム23を密閉室42の
フランジ面43上に反転セットして元の位置に戻る。
Then, the rotary arm 35 rotates about the rotary shaft 36 to reversely set the wafer frame 23 on the flange surface 43 of the sealed chamber 42 and return to the original position.

【0029】そしてつぎの動作は、ブレーキングが終わ
った後のウェハのフレーム23を、回転アーム35に設
けた吸着パッド37と剥離チャック38とを固着して密
閉室より搬送部31に戻し、吸着パッド37と剥離チャ
ック38を開放する。そして、移送アーム33に設けた
チャック部34でウェハのフレーム23を掴み、駆動モ
ータ31aによりベルト32作動させ移送アーム33を
前進させてカセット22に戻す。この動作を繰り返す。
In the next operation, the frame 23 of the wafer after braking is fixed to the suction pad 37 and the peeling chuck 38 provided on the rotary arm 35 and returned to the transfer section 31 from the closed chamber to suck the wafer. The pad 37 and the peeling chuck 38 are opened. Then, the wafer frame 23 is gripped by the chuck portion 34 provided on the transfer arm 33, and the belt 32 is operated by the drive motor 31 a to move the transfer arm 33 forward and return it to the cassette 22. This operation is repeated.

【0030】次に、ブレーキング部41の構成に付いて
説明すと、図1において平面を、図4においては図1の
C矢視にて加圧手段46の正面(a)及び図4(a)の
D矢視の加圧手段46の側面(b)にて、ブレーキング
部21の構成を示している。
Next, the structure of the braking portion 41 will be described. In FIG. 1, the plan view is shown, and in FIG. 4, the pressing means 46 is viewed from the front (a) of FIG. The configuration of the braking portion 21 is shown on the side surface (b) of the pressurizing means 46 as viewed from the arrow D of a).

【0031】図中42は密閉室であり上面外周にフラン
ジ面43を設けその外側に複数のクランプ44を設けて
いる。また、この密閉室42の底面には複数の真空孔を
有する吸引手段45を設けている。
In the figure, reference numeral 42 designates a closed chamber in which a flange surface 43 is provided on the outer periphery of the upper surface and a plurality of clamps 44 are provided on the outside thereof. Further, suction means 45 having a plurality of vacuum holes is provided on the bottom surface of the closed chamber 42.

【0032】46は加圧手段であり、46は複数のブレ
ーキング用ポール47でウェハ20の幅を越える本数が
設けられている。このポール47には曲面を有する先端
部48を設け、ポール47中央部にはスプリング50と
ナット51とを挿鎮させナット51の位置調整でスプリ
ング50の反力調整自在に各ポール47はポールホルダ
52に装着されている。また、図4(b)に示すように
ポール47は列状に装着されている。
Reference numeral 46 denotes a pressing means, and 46 is a plurality of braking poles 47, the number of which exceeds the width of the wafer 20. This pole 47 is provided with a tip end portion 48 having a curved surface, and a spring 50 and a nut 51 are inserted and removed at the center of the pole 47 so that the reaction force of the spring 50 can be adjusted by adjusting the position of the nut 51. It is attached to 52. Further, as shown in FIG. 4B, the poles 47 are mounted in a row.

【0033】そして、このポールホルダ52は傾転軸5
4を介して加圧プレート55に連結され、この加圧プレ
ート55は加圧機構を有する加圧部46aに組み付けら
れている。
The pole holder 52 is used for the tilting shaft 5
4 to the pressure plate 55, and the pressure plate 55 is assembled to the pressure unit 46a having a pressure mechanism.

【0034】つぎに、このブレーキング部41の作用に
付いて説明する。
Next, the operation of the braking portion 41 will be described.

【0035】前記搬送部31から反転されて密閉室42
のフランジ面43にセットされたウェハのフレーム23
は、クランプ44により周りから固定される。その時点
で、加圧部46aはガイドレール53に沿って移動し、
テープ20aに貼付けられているウェハ20近傍のウェ
ハ20のハーフカット線に沿うスタート位置まで移動し
てブレーキング動作に入る。
The transfer chamber 31 is turned over and the sealed chamber 42 is turned on.
Wafer frame 23 set on the flange surface 43 of the
Are fixed from the surroundings by a clamp 44. At that time, the pressurizing unit 46a moves along the guide rail 53,
The wafer 20 near the wafer 20 attached to the tape 20a is moved to a start position along a half-cut line of the wafer 20 to start a braking operation.

【0036】すなわち、ブレーキング動作は、図4
(b)の矢印線で示すように、ウェハのフレーム23に
貼付けられたテープ20aの裏面側のスタート位置にブ
レーキング用ポール47を設定深さまで押し込む。この
状態を保ちながらウェハ20裏面側を摺動して行く。
That is, the braking operation is as shown in FIG.
As shown by the arrow line in (b), the braking pole 47 is pushed to a set depth at the start position on the back surface side of the tape 20a attached to the frame 23 of the wafer. While maintaining this state, the back surface of the wafer 20 is slid.

【0037】そして、テープ20aの略中央の位置を過
ぎた所でポール47をテープ面20aから離し上昇さ
せ、ウェハ20を通り過ぎた位置まで移動させる。そし
て、再びテープ面から設定深さまでポール47を押し込
み略中央の位置を過ぎるまで摺動させて一方向のブレー
キングを終了する。
Then, the pole 47 is lifted away from the tape surface 20a at a position after passing through the substantially central position of the tape 20a, and is moved to a position after passing through the wafer 20. Then, the pole 47 is pushed in again from the tape surface to the set depth and slid until it passes the position in the approximate center, and the braking in one direction is completed.

【0038】それから、ポール47を上昇させ密閉室4
2を略90度回転させてポール47をウェハ20のハー
フカット線に沿うスタート位置に戻し前回と同様の動作
を繰り返して他方向のブレーキングを終了する。
Then, the pole 47 is lifted to raise the closed chamber 4
2 is rotated about 90 degrees, the pole 47 is returned to the start position along the half-cut line of the wafer 20, and the same operation as the previous time is repeated to end the braking in the other direction.

【0039】この直交する二方向のブレーキング動作が
完了したところで、搬送部31の回転アーム35が密閉
室42のウェハのフレーム23の位置までフレーム23
に吸着パッド37と、剥離チャック38とを固着して密
閉室42から剥し搬送部31側へ戻す。
When the braking operation in the two directions orthogonal to each other is completed, the rotary arm 35 of the transfer section 31 moves the frame 23 to the position of the frame 23 of the wafer in the closed chamber 42.
Then, the suction pad 37 and the peeling chuck 38 are fixed to each other, and the peeling chuck 38 is peeled from the closed chamber 42 and returned to the conveying unit 31 side.

【0040】以上述べたように、これらローダ部21・
搬送部31・ブレーキング部41の各機構がそれぞれ連
動してブレーキング装置20Aを構成し、テープ20a
に貼付けされたウェハ20を裏面側からハーフカット線
に沿って直交する格子状にブレーキングしている。
As described above, the loader section 21.
Each mechanism of the transport unit 31 and the braking unit 41 cooperates to configure the braking device 20A, and the tape 20a
The wafer 20 affixed to is braked from the back surface side in a grid pattern orthogonal to each other along the half-cut line.

【0041】ここで、テープ20aとは、通常材質とし
て塩化ビニールを使用し厚さは約80μmとして、片面
に接着剤を塗布したこの塗布面にウェハを接着保持した
ものを指す。
Here, the tape 20a refers to one in which vinyl chloride is used as a normal material and has a thickness of about 80 μm, and one side is coated with an adhesive and the wafer is adhered and held on this coated surface.

【0042】そして、このウェハ20を接着保持したテ
ープ20aの外周は、一枚の略リング状のフレーム23
に貼付け、ダイシング装置(図示省略)でハーフカット
される際もブレーキングされる際にもフレーム23に貼
付けた状態で加工工程内を移動して行く。
The outer periphery of the tape 20a, which holds the wafer 20 by adhesion, is a frame 23 of a substantially ring shape.
When it is attached to the frame 23 and is half-cut by a dicing device (not shown) and is being braked, it is attached to the frame 23 and moved in the processing process.

【0043】本実施の形態のブレーキング部41におい
ては、搬送された際、密閉室42のフランジ面43にこ
のテープ20aの糊面が面着することになり密閉室を形
成することができる。それで、ブレーキング時の粉塵を
排出する時にはシール面となり効果があるが、ブレーキ
ングが終わり搬送する際には、テープ剥離が難しいので
吸着パッド37に加え、剥離チャック38を設けたこと
が剥離を確実なものとしている。
In the braking portion 41 of the present embodiment, the adhesive surface of the tape 20a is adhered to the flange surface 43 of the hermetically sealed chamber 42 when it is transported, so that the hermetically sealed chamber can be formed. Therefore, although it is effective as a sealing surface when discharging dust during braking, it is difficult to peel off the tape when transporting after breaking, so that the peeling chuck 38 is provided in addition to the suction pad 37 for peeling. I am sure.

【0044】ここで、ウェハのフレーム23の反転と
は、ブレーキングの前加工工程であるダイシング装置に
おいて、テープ20aに貼付けされたウェハ20は上面
側からハーフカットされて、ウェハブレーキング装置2
0Aのローダ部21に搬送されて来る。それで、このウ
ェハ20はテープ上面に貼付けられた状態であるので、
テープ20aの裏面側からブレーキングする本実施の形
態では、搬送部41において回転アーム35を介してウ
ェハ20を反転して密閉室42へセットする必要があ
る。
Here, inversion of the wafer frame 23 is a dicing device which is a pre-processing step of breaking, and the wafer 20 attached to the tape 20a is half-cut from the upper surface side, and the wafer breaking device 2
It is conveyed to the 0 A loader section 21. Then, since this wafer 20 is stuck on the upper surface of the tape,
In the present embodiment in which braking is performed from the back surface side of the tape 20a, it is necessary to invert the wafer 20 via the rotating arm 35 in the transfer section 41 and set it in the closed chamber 42.

【0045】ただし、ローダ部21へ搬送される前にウ
ェハ反転機構(図示省略)を設けた場合には、搬送部3
1において反転させることなくブレーキング部41にセ
ットさせることも可能である。
However, when a wafer reversing mechanism (not shown) is provided before being transferred to the loader section 21, the transfer section 3 is used.
It is also possible to set it in the braking part 41 without reversing it in 1.

【0046】[0046]

【発明の効果】以上説明してきたように、請求項1に記
載された発明によれば、テープの裏面側からハーフカッ
ト線に沿って直線的にブレーキングできるので、ウェハ
を上に向けてブレーキングしても下に向けてブレーキン
グしても粉塵が少なく、ウェハに損傷を与える虞は少な
く、不良率の低減が図れる。
As described above, according to the first aspect of the present invention, since it is possible to brake linearly along the half-cut line from the back surface side of the tape, the wafer is braked upward. Dust is small even if it is pressed or braked downward, there is little risk of damaging the wafer, and the defect rate can be reduced.

【0047】請求項2に記載された発明によれば、ブレ
ーキングをウェハを保持している裏面側から行うので、
ブレーキングによって粉塵が生じたとしても下方に落下
し、さらに吸引し排出されるのでウェハの表面に付着す
ることはない。従って、品質の安定が保て不良発生が除
去される。
According to the invention described in claim 2, since the braking is performed from the back surface side holding the wafer,
Even if dust is generated due to braking, it does not adhere to the surface of the wafer because it falls downward and is further sucked and discharged. Therefore, the quality is kept stable and the occurrence of defects is eliminated.

【0048】請求項3に記載された発明によれば、裏返
すことにより付着していた粉塵を落下させることができ
る。また、裏返して糊面となったテープがセットされて
密閉室となった密閉室の空圧を調整することによって、
加圧手段によるウェハの変位量が適正となって均質なブ
レーキングができる。従って、ブレーキング時の粉塵の
発生が少なくなりウェハの損傷が削減される。
According to the invention described in claim 3, it is possible to drop the attached dust by turning it over. Also, by adjusting the air pressure of the closed chamber where the tape that turned inside out and became a glue surface was set,
The amount of displacement of the wafer by the pressing means becomes appropriate, and uniform braking can be performed. Therefore, generation of dust during braking is reduced, and damage to the wafer is reduced.

【0049】請求項4に記載された発明によれば、ウェ
ハに部分的な粘着強度差があっても各ブレーキング用ポ
ールの上下動で部分的な加圧力も吸収し均等にする。従
って、ハーフカット線に沿って確実にブレーキングでき
る。
According to the fourth aspect of the present invention, even if there is a partial difference in adhesive strength between the wafers, the partial upward pressure of each braking pole is absorbed and equalized. Therefore, braking can be reliably performed along the half cut line.

【0050】請求項5に記載された発明によれば、剥離
チャックで機械的に引き剥し、密閉室内にエアーを入れ
剥し易くしながら確実に剥離できるので、加工工程の流
れが滞ることがなくなる。従って、生産性が向上する。
According to the fifth aspect of the present invention, the peeling chuck mechanically peels off the air, and the air can be introduced into the closed chamber to ensure the peeling while facilitating the peeling. Therefore, productivity is improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態を示す平面図である。FIG. 1 is a plan view showing an embodiment of the present invention.

【図2】図1のA矢視図である。FIG. 2 is a view taken in the direction of arrow A in FIG. 1;

【図3】図1のB矢視図である。FIG. 3 is a view taken in the direction of arrow B in FIG. 1;

【図4】(a)は、図1のC矢視図である。(b)は、
図4(a)のD矢視図である。
FIG. 4A is a view taken in the direction of arrow C in FIG. (B)
It is a D arrow line view of Fig.4 (a).

【図5】(a)は、従来例を示すブレーキング装置の斜
視図である。(b)は、図5(a)のE矢視図である。
FIG. 5A is a perspective view of a conventional braking device. FIG. 5B is a view as seen from an arrow E in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

20A…ウェハブレーキング装置 20…ウェハ 20a…テープ、20b…チップ 37…吸着パッド 38…剥離チャック 42…密閉室 45…吸引手段 46…加圧手段 46a…加圧部 47…ブレーキング用ポール 20A ... Wafer braking device 20 ... Wafer 20a ... Tape, 20b ... Chip 37 ... Adsorption pad 38 ... Peeling chuck 42 ... Sealing chamber 45 ... Suction means 46 ... Pressurizing means 46a ... Pressurizing section 47 ... Braking pole

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 テープ上に貼付けされたハーフカット済
みのウェハを各チップにブレーキングするウェハブレー
キング装置において、 前記ハーフカットの線は、格子状に設けられると共に、
前記テープ側から加圧して前記カット線からブレーキン
グする加圧手段が設けられ、該加圧手段は、前記テープ
上を加圧しながら摺動する加圧部を有し、該加圧部が、
前記直交するカット線の一方に垂直な方向に移動して該
一方のカット線からブレーキングした後、他のカット線
に垂直な方向に移動して該他方のカット線からブレーキ
ングするようにしたことを特徴とするウェハブレーキン
グ装置。
1. A wafer breaking device for breaking a half-cut wafer attached on a tape to each chip, wherein the half-cut lines are provided in a grid pattern, and
A pressurizing unit that pressurizes from the tape side and brakes from the cut line is provided, and the pressurizing unit has a pressurizing unit that slides while pressurizing on the tape, and the pressurizing unit includes:
After moving in a direction perpendicular to one of the orthogonal cut lines and braking from the one cut line, it is moved in a direction perpendicular to the other cut line and braking from the other cut line. A wafer breaking device characterized by the above.
【請求項2】 テープ上に貼付けされたハーフカット済
みのウェハを各チップにブレーキングするウェハブレー
キング装置において、 前記テープがウェハの上側に位置するようにセットし、
該テープの上側には、テープ上を加圧しながら摺動して
ハーフカットのカット線からブレーキングする加圧手段
が設けられる一方、テープの下側にはウェハの周囲を覆
うように密閉室が形成され、前記加圧手段の加圧終了後
に該密閉室内の粉塵を吸引する吸引手段が設けられたこ
とを特徴とするウェハブレーキング装置。
2. A wafer breaking device for breaking a half-cut wafer adhered on a tape to each chip, wherein the tape is set so as to be located above the wafer,
On the upper side of the tape, a pressure means for sliding while pressing the tape to brake from the cut line of the half cut is provided, while on the lower side of the tape, a closed chamber is provided so as to cover the periphery of the wafer. A wafer breaking device, which is provided with suction means for sucking dust in the closed chamber after the pressurization of the pressurizing means is completed.
【請求項3】 前記テープの上面にウェハが貼付けられ
た状態から裏返してテープがウェハの上面に位置するよ
うにセットしたことを特徴とする請求項2に記載のウェ
ハブレーキング装置。
3. The wafer breaking apparatus according to claim 2, wherein the tape is set up so that the tape is positioned on the upper surface of the wafer by turning it over from the state in which the wafer is attached to the upper surface of the tape.
【請求項4】 複数のブレーキング用ポールが上下動自
在でかつ前記テープ側に付勢されるように設けられたこ
と特徴とする請求項1乃至3に記載のウェハブレーキン
グ装置。
4. The wafer braking apparatus according to claim 1, wherein a plurality of braking poles are provided so as to be vertically movable and urged toward the tape.
【請求項5】 前記密閉室を覆う前記テープが剥離・搬
送できるように吸着パッドを設けると共に、剥離チャッ
クを設けたことを特徴とする請求項2乃至4に記載のウ
ェハブレーキング装置。
5. The wafer breaking apparatus according to claim 2, wherein a suction pad is provided so that the tape covering the closed chamber can be peeled and conveyed, and a peeling chuck is provided.
JP30591795A 1995-11-24 1995-11-24 Wafer braking device Pending JPH09148276A (en)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007305687A (en) * 2006-05-09 2007-11-22 Disco Abrasive Syst Ltd Dicing method and dicing device of wafer
JP2008244222A (en) * 2007-03-28 2008-10-09 Laser Solutions Co Ltd Plate material dividing device and plate material dividing method
JP2012126143A (en) * 2012-02-15 2012-07-05 Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd Plate material dividing device, and plate material dividing method

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