JPH09147586A - 紫外線消去装置 - Google Patents
紫外線消去装置Info
- Publication number
- JPH09147586A JPH09147586A JP30535595A JP30535595A JPH09147586A JP H09147586 A JPH09147586 A JP H09147586A JP 30535595 A JP30535595 A JP 30535595A JP 30535595 A JP30535595 A JP 30535595A JP H09147586 A JPH09147586 A JP H09147586A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ultraviolet
- lamp
- temperature
- erasing device
- cooling means
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【課題】紫外線ランプからの紫外線の発生効率が悪い
為、装置のスループットが向上しない。 【解決手段】紫外線ランプ３に接するラジエータ１１を
設け、温度センサ１２によりランプの表面温度を測定
し、表面温度を３５〜５０℃とするように温度制御ユニ
ット１０で制御された冷却水９を流す。
為、装置のスループットが向上しない。 【解決手段】紫外線ランプ３に接するラジエータ１１を
設け、温度センサ１２によりランプの表面温度を測定
し、表面温度を３５〜５０℃とするように温度制御ユニ
ット１０で制御された冷却水９を流す。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は記憶素子の情報を消
去する為の紫外線消去装置に関する。
去する為の紫外線消去装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の紫外線消去装置は、図８に示すよ
うに、処理室１内に複数のシリコンウェーハ４を搭載す
る為の横方向に移動する複数のコンベアからなるステー
ジ２が設けられ、このステージ２上には一定の間隔で複
数の紫外線ランプ３が固定され、更にこのステージ２の
内部には冷却水９が導入されており、この冷却水９は温
度センサ１２と温度制御ユニット１０で制御されるヒー
タ５により４０〜７０℃に保たれるように構成されてい
た。尚図８において７は処理室１内の熱８を逃す為の排
気用ファンである。以下動作について説明する。
うに、処理室１内に複数のシリコンウェーハ４を搭載す
る為の横方向に移動する複数のコンベアからなるステー
ジ２が設けられ、このステージ２上には一定の間隔で複
数の紫外線ランプ３が固定され、更にこのステージ２の
内部には冷却水９が導入されており、この冷却水９は温
度センサ１２と温度制御ユニット１０で制御されるヒー
タ５により４０〜７０℃に保たれるように構成されてい
た。尚図８において７は処理室１内の熱８を逃す為の排
気用ファンである。以下動作について説明する。
【０００３】セットされたシリコンウェーハ４を加熱し
たのち紫外線ランプ３を点灯すると、放射された紫外線
６は熱的ロス等により全エネルギーの５０％程度の紫外
線となり、シリコンウェーハ４に形成されたＵＶＰＲＯ
Ｍ等の素子に照射され、データの消去が行なわれる。こ
の時用いられる紫外線は主に２５４ｎｍの波長のもので
ある。
たのち紫外線ランプ３を点灯すると、放射された紫外線
６は熱的ロス等により全エネルギーの５０％程度の紫外
線となり、シリコンウェーハ４に形成されたＵＶＰＲＯ
Ｍ等の素子に照射され、データの消去が行なわれる。こ
の時用いられる紫外線は主に２５４ｎｍの波長のもので
ある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の紫外線消去装置では、紫外線ランプの発熱によ
りランプ管内の圧力が上昇する為紫外線の発生効率が低
下する。その結果紫外線強度が不足しスループットを向
上させることができないという問題点があった。
た従来の紫外線消去装置では、紫外線ランプの発熱によ
りランプ管内の圧力が上昇する為紫外線の発生効率が低
下する。その結果紫外線強度が不足しスループットを向
上させることができないという問題点があった。
【０００５】本発明の目的は、紫外線の発生効率を増加
させ、スループットの向上した紫外線消去装置を提供す
ることにある。
させ、スループットの向上した紫外線消去装置を提供す
ることにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の紫外線消去装置
は、処理室内のステージ上に半導体ウェーハを並べ、こ
のウェーハ上に設置された複数の紫外線ランプより紫外
線を照射し、このウェーハに形成された記憶素子の情報
を消去する紫外線消去装置において、前記紫外線ランプ
の表面温度を規定温度にする為のランプ冷却手段を設け
たことを特徴とするものである。
は、処理室内のステージ上に半導体ウェーハを並べ、こ
のウェーハ上に設置された複数の紫外線ランプより紫外
線を照射し、このウェーハに形成された記憶素子の情報
を消去する紫外線消去装置において、前記紫外線ランプ
の表面温度を規定温度にする為のランプ冷却手段を設け
たことを特徴とするものである。
【０００７】本発明においては、紫外線ランプを直接冷
却し、その表面温度を３５〜５０℃にしている為紫外線
の発生効率は約６０％となり、装置のスループットを向
上させることができる。
却し、その表面温度を３５〜５０℃にしている為紫外線
の発生効率は約６０％となり、装置のスループットを向
上させることができる。
【０００８】
【発明の実施の形態】次に本発明について図面を参照し
て説明する。図１は本発明の第１の実施の形態を説明す
る為の紫外線消去装置の構成図である。図１において紫
外線消去装置は、処理室１内に設けられシリコンウェー
ハ４を載置する複数のコンベアからなるステージ２と、
このステージ２上に一定間隔で固定された紫外線ランプ
３と、この紫外線ランプ３のランプ管壁に密着する銅等
からなるラジエータ１１と、このラジエータ１１内を循
環する冷媒体としての冷却水（又は空気）９と、ランプ
３の表面温度（ランプの管壁上１０ｍｍ以内の温度）を
測定する熱電対等からなる温度センサ１２と、この温度
センサ１２からの信号により冷却水９の温度を制御する
温度制御ユニット１０とから構成されている。尚図１に
おいて７は処理室１内の熱８を逃す為の排気用ファンで
ある。
て説明する。図１は本発明の第１の実施の形態を説明す
る為の紫外線消去装置の構成図である。図１において紫
外線消去装置は、処理室１内に設けられシリコンウェー
ハ４を載置する複数のコンベアからなるステージ２と、
このステージ２上に一定間隔で固定された紫外線ランプ
３と、この紫外線ランプ３のランプ管壁に密着する銅等
からなるラジエータ１１と、このラジエータ１１内を循
環する冷媒体としての冷却水（又は空気）９と、ランプ
３の表面温度（ランプの管壁上１０ｍｍ以内の温度）を
測定する熱電対等からなる温度センサ１２と、この温度
センサ１２からの信号により冷却水９の温度を制御する
温度制御ユニット１０とから構成されている。尚図１に
おいて７は処理室１内の熱８を逃す為の排気用ファンで
ある。
【０００９】このように構成された紫外線消去装置にお
いては、紫外線ランプ３は密着しているラジエータ１１
により冷却される為、紫外線の発生効率は高くなり、約
６０％となる。以下、動作について更に説明する。
いては、紫外線ランプ３は密着しているラジエータ１１
により冷却される為、紫外線の発生効率は高くなり、約
６０％となる。以下、動作について更に説明する。
【００１０】紫外線ランプ３を点灯させると紫外線６に
加え、熱エネルギーが発生する。点灯時間が経過するに
つれて、処理室内温度は上昇する。雰囲気温度は紫外線
ランプ３の表面温度を更に上昇させる働きをし、図２に
示すように６０℃以上となり、管内圧力を増加させる結
果となる、管内圧力が増加すると紫外線の発生効率が低
下し、最終的には紫外線強度が低下することとなる。
加え、熱エネルギーが発生する。点灯時間が経過するに
つれて、処理室内温度は上昇する。雰囲気温度は紫外線
ランプ３の表面温度を更に上昇させる働きをし、図２に
示すように６０℃以上となり、管内圧力を増加させる結
果となる、管内圧力が増加すると紫外線の発生効率が低
下し、最終的には紫外線強度が低下することとなる。
【００１１】図３は、図２の温度推移に対する紫外線強
度の推移を示すグラフであり、ランプ点灯後１〜４分を
ピークに減少傾向を示している。図４は図２及び図３に
おける経過時間１０分迄のランプの表面温度と紫外線強
度の拡大図である。図４から分るように、紫外線強度は
ランプ点灯後１〜２分でピークに達する。すなわち、紫
外線強度を２０ｍＷ／ｃｍ2 以上に保つ為には、ランプ
の表面温度を３５〜５０℃とする必要がある。
度の推移を示すグラフであり、ランプ点灯後１〜４分を
ピークに減少傾向を示している。図４は図２及び図３に
おける経過時間１０分迄のランプの表面温度と紫外線強
度の拡大図である。図４から分るように、紫外線強度は
ランプ点灯後１〜２分でピークに達する。すなわち、紫
外線強度を２０ｍＷ／ｃｍ2 以上に保つ為には、ランプ
の表面温度を３５〜５０℃とする必要がある。
【００１２】図１に示した消去装置では、紫外線ランプ
３の表面温度の上昇をラジエータ１１にて防止し、かつ
ランプの表面温度を約４０℃に保つ構造としている。こ
れにより、紫外線６は効率良く安定的に照射され、処理
室内温度の上昇に伴なう効率の低下という悪循環を発生
させることもなくなる。その際の紫外線エネルギーは、
図５に示すように、ランプ全体のエネルギーの６０％と
いう理論値に近い値となる。
３の表面温度の上昇をラジエータ１１にて防止し、かつ
ランプの表面温度を約４０℃に保つ構造としている。こ
れにより、紫外線６は効率良く安定的に照射され、処理
室内温度の上昇に伴なう効率の低下という悪循環を発生
させることもなくなる。その際の紫外線エネルギーは、
図５に示すように、ランプ全体のエネルギーの６０％と
いう理論値に近い値となる。
【００１３】図６は本発明の第２の実施の形態を説明す
る為の紫外線消去装置の構成図であり、図１で説明した
ものと異なる所は、冷却手段としてフィルタを介して処
理室に導入する冷却空気を用いたことである。すなわ
ち、温度制御ユニット１０により制御され送風機等から
なる外部ユニット（図示せず）により送られる冷却空気
を処理室１に導入する為の配管１４を設け、この配管１
４からの冷却空気１５をフィルタ１３を通して処理室１
内に送り紫外線ランプ３を冷却するようにしたものであ
る。この場合も冷却空気１５により紫外線ランプ３の表
面温度を３５〜５０℃（例えば約４０℃一定）に保持で
きる為、紫外線６の発生効率は高くなり、装置のスルー
プットは向上したものとなる。
る為の紫外線消去装置の構成図であり、図１で説明した
ものと異なる所は、冷却手段としてフィルタを介して処
理室に導入する冷却空気を用いたことである。すなわ
ち、温度制御ユニット１０により制御され送風機等から
なる外部ユニット（図示せず）により送られる冷却空気
を処理室１に導入する為の配管１４を設け、この配管１
４からの冷却空気１５をフィルタ１３を通して処理室１
内に送り紫外線ランプ３を冷却するようにしたものであ
る。この場合も冷却空気１５により紫外線ランプ３の表
面温度を３５〜５０℃（例えば約４０℃一定）に保持で
きる為、紫外線６の発生効率は高くなり、装置のスルー
プットは向上したものとなる。
【００１４】図７は本発明の第３の実施の形態を説明す
る為の紫外線消去装置の構成図であり、図１で説明した
ものと異なる所は、冷却手段として冷却空気を噴出する
ノズルを有する冷却管を用いたことである。すなわち、
冷却空気１５を噴出するノズル１７を複数個有する細い
冷却管１６をステージ２の間隙に配置し、この冷却管１
６に温度制御ユニット１０により冷却空気１５の流量が
制御される配管１４を接続し、冷却空気１５により紫外
線ランプ３を直接冷却するようにしたものである。冷却
空気１５が少くともランプ３の先端及び末端に当るよう
に冷却管を設けることによりランプの表面温度をより精
度良く均一に保つことができる為、消去装置のスループ
ットを向上させることができる。本第３の実施の形態で
はランプ３の冷却手段は冷却管１６が主である為、第
１，第２の実施の形態に比べ取付けが容易で低コストで
実現できるという利点がある。
る為の紫外線消去装置の構成図であり、図１で説明した
ものと異なる所は、冷却手段として冷却空気を噴出する
ノズルを有する冷却管を用いたことである。すなわち、
冷却空気１５を噴出するノズル１７を複数個有する細い
冷却管１６をステージ２の間隙に配置し、この冷却管１
６に温度制御ユニット１０により冷却空気１５の流量が
制御される配管１４を接続し、冷却空気１５により紫外
線ランプ３を直接冷却するようにしたものである。冷却
空気１５が少くともランプ３の先端及び末端に当るよう
に冷却管を設けることによりランプの表面温度をより精
度良く均一に保つことができる為、消去装置のスループ
ットを向上させることができる。本第３の実施の形態で
はランプ３の冷却手段は冷却管１６が主である為、第
１，第２の実施の形態に比べ取付けが容易で低コストで
実現できるという利点がある。
【００１５】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、紫外線ラ
ンプの表面温度を３５〜５０℃に保つ為の冷却手段を設
けることにより紫外線の発生効率を高めることができる
為、紫外線消去装置のスループットを向上させることが
できるという効果がある。
ンプの表面温度を３５〜５０℃に保つ為の冷却手段を設
けることにより紫外線の発生効率を高めることができる
為、紫外線消去装置のスループットを向上させることが
できるという効果がある。
【図１】本発明の第１の実施の形態を説明する為の紫外
線消去装置の構成図。
線消去装置の構成図。
【図２】ランプ表面温度の経時変化を示す図。
【図３】ランプから発生する紫外線強度の経時変化を示
す図。
す図。
【図４】ランプの表面温度及び紫外線強度の経時変化の
拡大図。
拡大図。
【図５】紫外線ランプのエネルギー配分を示す図。
【図６】本発明の第２の実施の形態を説明する為の紫外
線消去装置の構成図。
線消去装置の構成図。
【図７】本発明の第３の実施の形態を説明する為の紫外
線消去装置の構成図。
線消去装置の構成図。
【図８】従来の紫外線消去装置線の構成図。
１ 処理室 ２ ステージ ３ 紫外線ランプ ４ シリコンウェーハ ５ ヒータ ６ 紫外線 ７ 排気用ファン ８ 熱 ９ 冷却水 １０ 温度制御ユニット １１ ラジエータ １２ 温度センサ １３ フィルタ １４ 配管 １５ 冷却空気 １６ 冷却管 １７ ノズル
Claims (6)
- 【請求項１】 処理室内のステージ上に半導体ウェーハ
を並べ、このウェーハ上に設置された複数の紫外線ラン
プより紫外線を照射し、このウェーハに形成された記憶
素子の情報を消去する紫外線消去装置において、前記紫
外線ランプの表面温度を規定温度にする為のランプ冷却
手段を設けたことを特徴とする紫外線消去装置。 - 【請求項２】 規定温度は３５〜５０℃である請求項１
記載の紫外線消去装置。 - 【請求項３】 ランプ冷却手段は、ランプに接触し冷媒
体により冷却されるラジエータを含む請求項１記載の紫
外線消去装置。 - 【請求項４】 紫外線ランプの表面温度を検出する温度
検出器を設け、この温度検出器の出力によりランプ冷却
手段の冷媒体の流量を制御する冷媒体制御手段を設けた
請求項１記載の紫外線消去装置。 - 【請求項５】 冷媒体は空気又は水である請求項３又は
請求項４記載の紫外線消去装置。 - 【請求項６】 ランプ冷却手段は、冷却空気を噴出させ
る為のノズルを有する冷却管を含む請求項１記載の紫外
線消去装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30535595A JPH09147586A (ja) | 1995-11-24 | 1995-11-24 | 紫外線消去装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30535595A JPH09147586A (ja) | 1995-11-24 | 1995-11-24 | 紫外線消去装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09147586A true JPH09147586A (ja) | 1997-06-06 |
Family
ID=17944124
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30535595A Pending JPH09147586A (ja) | 1995-11-24 | 1995-11-24 | 紫外線消去装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09147586A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005005258A (ja) * | 2003-05-19 | 2005-01-06 | Ushio Inc | エキシマランプ発光装置 |
| JP2006510027A (ja) * | 2002-12-16 | 2006-03-23 | アクセリス テクノロジーズ インコーポレーテッド | 紫外線（ｕｖ）光の強度を測定するための装置及び方法 |
| JP2008235678A (ja) * | 2007-03-22 | 2008-10-02 | Ushio Inc | 紫外線照射器、紫外線照射装置及び膜質改質方法 |
| CN112185802A (zh) * | 2020-10-23 | 2021-01-05 | 德州立威生物科技有限公司 | 一种新型uv紫外镀金灯管 |
| CN113171474A (zh) * | 2021-03-31 | 2021-07-27 | 天津市顶硕科技发展有限公司 | 一种冷链运输货物的紫外线消毒舱 |
-
1995
- 1995-11-24 JP JP30535595A patent/JPH09147586A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006510027A (ja) * | 2002-12-16 | 2006-03-23 | アクセリス テクノロジーズ インコーポレーテッド | 紫外線（ｕｖ）光の強度を測定するための装置及び方法 |
| JP2005005258A (ja) * | 2003-05-19 | 2005-01-06 | Ushio Inc | エキシマランプ発光装置 |
| JP2008235678A (ja) * | 2007-03-22 | 2008-10-02 | Ushio Inc | 紫外線照射器、紫外線照射装置及び膜質改質方法 |
| CN112185802A (zh) * | 2020-10-23 | 2021-01-05 | 德州立威生物科技有限公司 | 一种新型uv紫外镀金灯管 |
| CN113171474A (zh) * | 2021-03-31 | 2021-07-27 | 天津市顶硕科技发展有限公司 | 一种冷链运输货物的紫外线消毒舱 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19980908 |