JPH09143728A - 連続真空蒸着装置用シール装置 - Google Patents

連続真空蒸着装置用シール装置

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JPH09143728A
JPH09143728A JP30602295A JP30602295A JPH09143728A JP H09143728 A JPH09143728 A JP H09143728A JP 30602295 A JP30602295 A JP 30602295A JP 30602295 A JP30602295 A JP 30602295A JP H09143728 A JPH09143728 A JP H09143728A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vacuum
substrate
sealing device
vapor deposition
sealing
Prior art date
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Pending
Application number
JP30602295A
Other languages
English (en)
Inventor
Akihiro Nomura
昭博 野村
Takashi Nakabayashi
貴 中林
Motoharu Mori
元治 毛利
Shiko Matsuda
至康 松田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
IHI Corp
Original Assignee
IHI Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板の走行を一時停止したとき、シャッタ機
構を封鎖し、入側真空シール装置の内部および出側真空
シール装置の内部と大気とを遮断してシール装置内への
空気の流入を阻止し、真空度を保持する連続真空蒸着装
置用シール装置を提供する。 【解決手段】 真空成膜室内を連続走行する帯状の基板
に蒸発材料を蒸着する連続真空蒸着装置用シール装置で
あって、真空成膜室の上流側に設けられている入側真空
シール装置の入口および真空成膜室の下流側に設けられ
ている出側真空シール装置の出口に、基板を挟んで上下
に対峙して昇降可能に設けられ、基板の走行停止時に基
板を挟んで互いに密着して、シール室への空気の流入を
防止するシャッタ機構を有するものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、連続真空蒸着装置
用シール装置に係わり、特に、真空成膜室の上流側に設
けられている入側真空シール装置の入口および真空成膜
室の下流側に設けられている出側真空シール装置の出口
に設けられる連続真空蒸着装置用シール装置に関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】真空蒸着は、真空中で蒸発材料を加熱し
て蒸発させ、蒸発材料を基板の表面に蒸着させて皮膜を
作る成膜プロセスである。
【0003】この成膜プロセスに使用される連続真空蒸
着装置は、図5に示すように、電子ビーム10を放射す
る電子銃9と、溶解した蒸発材料12を収容するるつぼ
11とを備えた真空成膜室2の上流側に、複数のロール
5を上下に千鳥状に配設して基板3を蛇行するように通
過させるとともにそれらのロール5を上下に挟むように
配設したシールブロック7によりロール5と通過する基
板3との間隙を少なくして真空成膜室2の真空が安定し
て保てるようにする入側真空シール装置4と、通過する
基板3を加熱して基板3の汚染除去と基板3への蒸着に
適した温度まで昇温を行う予備加熱装置8とを有し、真
空成膜室2の下流側にも前記入側真空シール装置4と同
様の構成を有して真空成膜室2の真空が安定して保てる
ようにした出側真空シール装置13を有している。この
入側真空シール装置4および出側真空シール装置13
は、基板3の板厚や板幅が種々変化しても、複数個に分
割されたシールブロック7を個々に基板3に接近させる
ことにより間隙を少なくするように構成されている。こ
の間隙の調整は、例えば、送りねじや直動シリンダ等
(いずれも図示せず)により行われる。また、シール性
を確保するため、最大の間隙量を基にして真空ポンプ6
や図示しないモータ等の容量が決められている。なお、
14は基板3が多重に巻かれたアンコイラーであり、1
5はリコイラーである。
【0004】前記真空成膜室2,入側真空シール装置
4,予備加熱装置8および出側真空シール装置13は、
いずれも真空ポンプ6(符号は共通に使用)により排気
され、成膜室2では10-3〜10-5Torrの真空に保
持されている。
【0005】上記のような構成を有する連続真空蒸着装
置1は、真空成膜室2において、るつぼ11内に、図示
しない供給装置により蒸発材料12を供給し、この蒸発
材料12を電子銃9から放射する電子ビーム10により
溶融・蒸発させて連続走行する帯状の基板3に蒸着す
る。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た連続真空蒸着装置では、基板の走行を一時的に停止す
るときがあるが、本来、真空シール装置には、ロールと
シールブロックとの間に基板を通過させるための間隙
(板厚+0.5mm位)があるため、その間隙から、常
時、空気が流入している。そこで、基板の走行を一時的
に停止したときでも真空成膜室の真空を保持しておくた
め、常時、真空ポンプを稼働しなければならず、したが
って、エネルギーの損失が大きくランニングコストもか
かるという問題があった。
【0007】本発明は、上記のような課題を解決するた
めに創案されたものである。すなわち、本発明は、基板
の走行を一時的に停止したとき、連続真空蒸着装置への
空気の流入を防止して真空ポンプの負担を軽くする連続
真空蒸着装置用シール装置を提供することを目的とする
ものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明によれば、真空成膜室内を連続走行する帯状
の基板に蒸発材料を蒸着する連続真空蒸着装置用シール
装置であって、真空成膜室の上流側に設けられている入
側真空シール装置の入口および真空成膜室の下流側に設
けられている出側真空シール装置の出口に、基板を挟ん
で上下に対峙して昇降可能に設けられ、基板の走行停止
時に基板を挟んで互いに密着して前記シール装置への空
気の流入を防止するシャッタ機構を有することを特徴と
する連続真空蒸着装置用シール装置が提供される。
【0009】上記本発明の構成によれば、基板の走行を
一時的に停止したとき、シャッタ機構を封鎖して入側真
空シール装置の内部および出側真空シール装置の内部と
大気とを遮断し、前記シール装置内への空気の流入を阻
止して真空度を保持することができる。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好ましい実施の形
態を図面に基づいて説明する。なお、各図において従来
のものと共通する部分については同じ符号を用いて説明
する。図1ないし図4は、本発明の一実施形態を示すも
のであり、図1は本発明による連続真空蒸着装置用シー
ル装置の断面図、図2は図1に示すシャッタ機構の拡大
図、図3は図2のA−A矢視図、図4は図3に示すシャ
ッタ機構の閉鎖状態を示す図である。
【0011】図1において、3はアンコイラー14から
巻き出されて連続走行する帯状の基板で、真空成膜室2
の上流側に配設した入側真空シール装置4および予備加
熱装置8を通過して真空成膜室2に入り、真空成膜室2
内で蒸発材料12を蒸着し、真空成膜室2の下流側に配
設した出側真空シール装置13を通過してリコイラー1
5で巻き取られる。7は入側真空シール装置4および出
側真空シール装置13に配設したシールブロックで、図
示していないが、中央部は大きいブロック、両側は小さ
いブロックにするようにして複数個に分割されており、
基板3の板幅の変化に対応して、各別に昇降させて基板
3との間隙を調整できるように構成されている。また、
このシールブロック7とロール5との間には、基板3を
通過させるため、例えば、板厚+0.5mm位の間隙が
設けられており、さらに入側真空シール装置4の入口お
よび出側真空シール装置13の出口は、約50mmの間
隙が設けられている。10は電子銃9から放射された電
子ビームで、るつぼ11内に供給された蒸発材料12を
溶解する。16は入側真空シール装置4の入口および出
側真空シール装置13の出口に配設されたシャッタ機構
である。
【0012】前記シャッタ機構16は、入側真空シール
装置4の入口および出側真空シール装置13の出口に接
続して配設したケーシング17と、このケーシング17
内に密着して摺動可能に設けられ、通過する基板3を挟
んで上下に対峙しており、エアシリンダなどのアクチュ
エータ20,20aにより昇降可能になっており、か
つ、対峙する面にゴム等の弾性体で形成されたシール材
19,19aを有するシャッタ18,18aとから構成
されている(図3および図4に示す)。このようにし
て、基板3の走行停止中、前記入側真空シール装置4の
入口および出側真空シール装置13の出口に設けられて
いる約50mmの間隙を封鎖する。
【0013】次に実施の形態に基づく作用について説明
する。基板3を連続走行して蒸発材料12を蒸着すると
きは、アクチュエータ20,20aによりシャッタ機構
16のシャッタ18,18aを開放する。次に、基板3
の走行を一時的に停止したときは、アクチュエータ2
0,20aによりシャッタ機構16のシャッタ18,1
8aを密着させて基板3の周りを封鎖する。なお、この
ときシャッタ18,18aの対峙する面にはゴム等の弾
性体のシール材19,19aが装着されているので、シ
ール材19,19aが変形して基板3の周りを密封する
ことができ、また、基板3の板厚や板幅が変化してもシ
ール材19,19aの変形により対応することができ
る。
【0014】本発明は、上記実施の形態に限定されるも
のではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変更
し得ることは勿論である。
【0015】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、基
板の走行を一時的に停止したとき、シャッタ装置により
入側真空シール装置および出側真空シール装置を封鎖す
るので、連続真空蒸着装置内への空気の流入を防止して
真空度の低下を防止することができる。また、基板の走
行停止中、真空ポンプやモータの運転を停止または運転
台数を減少させることができるので、エネルギーの節約
とランニングコストの低減を図ることができるとともに
真空ポンプやモータの寿命を延ばすことができるなど優
れた効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の連続真空蒸着装置用シール装置の全体
構成図である。
【図2】図1に示すシャッタ機構の拡大図である。
【図3】図2のA−A矢視図である。
【図4】図3に示すシャッタ機構の閉鎖状態を示す図で
ある。
【図5】従来の連続真空蒸着装置を示した全体構成図で
ある。
【符号の説明】
1 連続真空蒸着装置 2 真空成膜室 3 基板 4 入側真空装置 5 ロール 6 ポンプ 7 シールブロック 8 予備加熱装置 9 電子銃 10 電子ビーム 11 るつぼ 12 蒸発材料 13 出側真空装置 14 アンコイラー 15 リコイラー 16 シャッタ機構 17 ケーシング 18,18a シャッタ 19,19a シール材 20,20a アクチュエータ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 毛利 元治 神奈川県横浜市磯子区新中原町1番地 石 川島播磨重工業株式会社横浜エンジニアリ ングセンター内 (72)発明者 松田 至康 神奈川県横浜市磯子区新中原町1番地 石 川島播磨重工業株式会社横浜エンジニアリ ングセンター内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 真空成膜室内を連続走行する帯状の基板
    に蒸発材料を蒸着する連続真空蒸着装置用シール装置で
    あって、真空成膜室の上流側に設けられている入側真空
    シール装置の入口および真空成膜室の下流側に設けられ
    ている出側真空シール装置の出口に、基板を挟んで上下
    に対峙して昇降可能に設けられ、基板の走行停止時に基
    板を挟んで互いに密着して前記シール装置への空気の流
    入を防止するシャッタ機構を有することを特徴とする連
    続真空蒸着装置用シール装置。
JP30602295A 1995-11-24 1995-11-24 連続真空蒸着装置用シール装置 Pending JPH09143728A (ja)

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JP30602295A JPH09143728A (ja) 1995-11-24 1995-11-24 連続真空蒸着装置用シール装置

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JP30602295A JPH09143728A (ja) 1995-11-24 1995-11-24 連続真空蒸着装置用シール装置

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