JPH09127195A - 半導体装置計測システム及びその計測方法 - Google Patents

半導体装置計測システム及びその計測方法

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JPH09127195A
JPH09127195A JP7279191A JP27919195A JPH09127195A JP H09127195 A JPH09127195 A JP H09127195A JP 7279191 A JP7279191 A JP 7279191A JP 27919195 A JP27919195 A JP 27919195A JP H09127195 A JPH09127195 A JP H09127195A
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JP
Japan
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semiconductor device
data
measurement
storage means
measurement data
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Application number
JP7279191A
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English (en)
Inventor
Masaaki Furuta
正昭 古田
Yukinori Hirose
幸範 広瀬
Yasukazu Mukogawa
泰和 向川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Renesas Semiconductor Engineering Corp
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Renesas Semiconductor Engineering Corp
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
Application filed by Renesas Semiconductor Engineering Corp, Mitsubishi Electric Corp filed Critical Renesas Semiconductor Engineering Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 記憶装置の容量以上のより大きい計測データ
を格納することができる半導体装置計測システム及びそ
の計測方法を得る。 【解決手段】 計測装置1は半導体装置の特性を計測し
て、計測データを生成する。ワークステーション2は計
測データを受け、ワークステーション2に内蔵されてい
る圧縮コマンドにより計測データを圧縮データに変換す
る。記憶装置Mはその圧縮されたデータを受けて格納す
る。これにより、記憶装置Mに計測データを格納してか
ら計測データを圧縮データに変換するよりも、より大き
さの大きい計測データを記憶することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は半導体装置の特性
を計測して、その計測して得られる計測データを記憶装
置に格納しておく半導体装置計測システム及びその計測
方法に関し、特に記憶装置の容量以上の大きさの計測デ
ータを格納できる半導体装置計測システム及びその計測
方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の半導体装置の評価等に用いられる
半導体装置計測システムは、半導体装置の計測を行って
計測データを生成する計測装置と、計測データを受けて
計測データの格納・解析等を行うワークステーションか
ら構成されている。またワークステーションは、内部に
データを格納しておくハードディスク等の記憶装置を備
えている。計測装置は、例えばDRAM等の半導体装置
のデバイスパラメータ,プロセスパラメータ、その他の
半導体装置の特性等を計測して計測データを生成する装
置である。
【0003】ところで、記憶装置は格納できる容量に限
界がある。計測装置からの計測データを記憶装置に格納
し続け、格納した複数の計測データの合計の大きさが記
憶装置の容量にほぼ等しい状態になれば、それ以上計測
データを格納できない。
【0004】そこで、計測装置からの計測データを記憶
装置に格納し、その後記憶装置に格納された計測データ
を圧縮して圧縮データに変換する半導体装置計測方法が
従来から用いられる。
【0005】図11はそのような従来の半導体装置計測
方法を示すフローチャートである。まず、初期状態とし
て、記憶装置はその内部に計測データを全く格納してい
ない状態であり、計測する半導体装置数を予め設定して
おく。まず、ステップ(以下ST)001を参照して、
半導体装置を計測装置に設置し、計測装置は半導体装置
を計測して計測データを生成する。次に、ST002を
参照して、ワークステーションは計測データを受けて記
憶装置に計測データを格納する。次に、ST003を参
照して、ワークステーションは記憶装置に格納されてい
る計測データを、圧縮した圧縮データに変換する。圧縮
データは記憶装置に格納されている。次に、ST004
を参照して、ワークステーションは計測した半導体装置
の数と予め設定された半導体装置数とを比較する。異な
る場合は、ST001へ移り、同様に次の半導体装置の
計測を行う。このように計測した半導体装置の数と予め
設定された半導体装置数とが等しくなるまで、ST00
1〜ST004を繰り返し、等しければ計測を終了す
る。
【0006】以上のような従来の半導体装置計測方法を
用いれば、記憶装置の容量以上の大きさのデータを格納
することができる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、以上の
ような従来の半導体装置計測方法が用いられていても、
なお、以下に示す問題点が生じる。
【0008】ST002において計測データを格納しよ
うとする場合、記憶装置内の未だ計測データが格納され
ていない未使用の格納領域が存在しても、その未使用の
格納領域の容量が、格納しようとする計測データの大き
さより小さい場合、その計測データは記憶装置に格納で
きないという問題点がある。また、その問題点を解決す
るために、外付けの記憶装置を増設して、全体のデータ
保全用記憶装置の容量を増やす方法があるが、記憶装置
はコストが高く、増設が困難である。
【0009】本発明は、このような問題点を解決するた
めになされたものであり、記憶装置の容量以上のより大
きい計測データを格納することができる半導体装置計測
システム及びその計測方法を得ることを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に係る
課題解決手段は、半導体装置の特性を計測して計測デー
タを格納しておく半導体装置計測システムであって、前
記半導体装置の特性を計測して前記計測データを生成す
る計測手段と、前記計測データを受けて前記計測データ
を圧縮して圧縮データを生成するデータ圧縮手段と、前
記圧縮データを受けて前記圧縮データを格納しておく記
憶手段とを備える。
【0011】本発明の請求項2に係る課題解決手段は、
前記計測手段が生成した前記計測データを一時的に格納
しておく格納手段をさらに備え、前記データ圧縮手段
は、前記格納手段に格納されている前記計測データを圧
縮して前記圧縮データを生成し、前記計測手段は、前記
データ圧縮手段による前記計測データの圧縮・前記圧縮
データの生成及び前記記憶手段への前記圧縮データの格
納と並行して前記半導体装置の特性を計測して前記計測
データを生成する。
【0012】本発明の請求項3に係る課題解決手段にお
いて、前記格納手段は一次及び二次格納手段を含み、前
記一次格納手段に前記計測手段が生成した前記計測デー
タを格納し、前記二次格納手段が格納している前記計測
データを前記データ圧縮手段に与える第1の状態と、前
記二次格納手段に前記計測手段が生成した前記計測デー
タを格納し、前記一次格納手段が格納している前記計測
データを前記データ圧縮手段に与える第2の状態とを選
択的に切り換える制御手段をさらに備える。
【0013】本発明の請求項4に係る課題解決手段にお
いて、前記格納手段は、かつそれぞれ同じ容量の一次〜
n次格納手段を含み、前記一次〜n次格納手段のうち空
き状態の格納手段に前記計測手段が生成した前記計測デ
ータを格納し、前記一次〜n次格納手段に格納されてい
る前記計測データを前記データ圧縮手段に与える制御手
段をさらに備える。
【0014】本発明の請求項5に係る課題解決手段にお
いて、前記格納手段は、かつそれぞれ異なる容量の一次
〜n次格納手段を含み、前記一次〜n次格納手段のうち
前記計測データの大きさ以上の容量の格納手段に前記計
測手段が生成した前記計測データを格納し、前記一次〜
n次格納手段に格納されている前記計測データを前記デ
ータ圧縮手段に与える制御手段をさらに備える。
【0015】本発明の請求項6に係る課題解決手段は、
請求項1記載の半導体装置計測システムに用いられる半
導体装置計測方法であって、前記計測手段が前記半導体
装置の特性を計測して前記計測データを生成する第1の
ステップと、前記データ圧縮手段が前記計測データを圧
縮して前記圧縮データを生成する第2のステップと、前
記第2のステップの後、前記圧縮データを前記記憶装置
に格納する第3のステップと、前記第1〜第3のステッ
プを繰り返している間に、計測する前記半導体装置がな
くなれば終了する第4のステップとを備える。
【0016】本発明の請求項7に係る課題解決手段は、
請求項3記載の半導体装置計測システムに用いられる半
導体装置計測方法であって、前記一次格納手段に前記計
測手段が生成した前記計測データを格納して前記一次格
納手段がfull状態になれば当該ステップを終了する
第1のステップと、前記第1のステップの後、前記二次
格納手段に前記計測手段が生成した前記計測データを格
納して前記二次格納手段がfull状態になれば当該ス
テップを終了し、その後前記第1のステップに移る第2
のステップと、前記第2のステップが処理されている間
に、前記一次格納手段に格納されている前記計測データ
を圧縮して前記圧縮データを生成して、前記記憶手段に
格納して前記一次格納手段を空き状態にする第3のステ
ップと、前記第1のステップが処理されている間に、前
記二次格納手段に格納されている前記計測データを圧縮
して前記圧縮データを生成して、前記記憶手段に格納し
て前記二次格納手段を空き状態にする第4のステップ
と、前記第1及び第2のステップを繰り返している間
に、計測する前記半導体装置がなくなれば終了する第5
のステップとを備える。
【0017】本発明の請求項8に係る課題解決手段は、
請求項4記載の半導体装置計測システムに用いられる半
導体装置計測方法であって、前記計測手段が前記半導体
装置を計測して前記計測データを生成する第1のステッ
プと、前記一次格納手段〜n次格納手段のうち空き状態
の格納手段を選択する第2のステップと、前記選択した
格納手段に前記計測データを格納し、その後第1のステ
ップへ移る第3のステップと、前記第1〜第3のステッ
プを繰り返している間に、前記一次〜n次格納手段に格
納されている前記計測データを圧縮して前記圧縮データ
を生成し、前記記憶手段に格納して当該格納手段を空き
状態にする第4のステップと、前記第1〜第3のステッ
プを繰り返している間に、計測する前記半導体装置がな
くなれば終了する第5のステップとを備える。
【0018】本発明の請求項9に係る課題解決手段は、
請求項5記載の半導体装置計測システムに用いられる半
導体装置計測方法であって、前記計測手段が前記半導体
装置を計測して前記計測データを生成する第1のステッ
プと、前記計測データの大きさを判断して、前記一次格
納手段〜n次格納手段のうちの前記計測データの大きさ
以上の容量の格納手段を選択する第2のステップと、前
記選択した格納手段に前記計測データを格納し、その後
前記第1のステップへ移る第3のステップと、前記第1
〜第3のステップを繰り返している間に、前記一次〜n
次格納手段に格納されている前記計測データを前記圧縮
データに変換して、前記記憶手段に格納して当該格納手
段を空き状態にする第4のステップと、前記第1〜第3
のステップを繰り返している間に、計測する前記半導体
装置がなくなれば終了する第5のステップとを備える。
【0019】
【発明の実施の形態】
実施の形態1.図1は本発明の実施の形態1における半
導体装置計測システムの構成図である。1は半導体装置
の計測を行って計測データを生成する計測手段である計
測装置、2は計測データを受けて、計測データの格納・
解析等を行うワークステーション、3はワークステーシ
ョン2内に設けられ計測データを圧縮データに変換する
データ圧縮手段、Mはワークステーション2内に設けら
れたデータを格納しておく記憶手段である記憶装置であ
る。なお、記憶装置Mはハードディスク等の2次記憶装
置である。
【0020】図2は本発明の実施の形態1における半導
体装置計測方法を示す図である。図2中の符号は図1中
の符号に対応している。なお、ワークステーション2は
データ圧縮手段3である計測データを圧縮するための圧
縮コマンド(ワークステーション2がUNIXを用いて
いれば、UNIXの基本コマンドであるcompressコマン
ド)を備えている。このコマンドを実行すると、計測デ
ータを圧縮して圧縮データを生成することができる。
【0021】図2に示すように、計測装置1は半導体装
置を計測して計測データを生成し、ワークステーション
2へ計測データを送る。ワークステーション2は送られ
てきた計測データを受けて、圧縮コマンドによって、計
測データを圧縮データに変換することで、計測データの
大きさを縮小する。次に、圧縮データを記憶装置Mに格
納する。
【0022】次に、図3を用いてさらに詳細に半導体装
置計測方法を説明する。図3は本発明の実施の形態1に
おける半導体装置計測方法を示すフローチャートであ
る。まず、初期状態として、記憶装置Mには何もデータ
が格納されていない状態にして、計測する半導体装置数
を予め設定しておく。まず、ST101を参照して、半
導体装置を計測装置1に設置し、次に、計測装置1はそ
の半導体装置を計測して計測データを生成する。次に、
ST102を参照して、ワークステーション2は計測デ
ータを受けて、圧縮コマンドにより、その計測データを
圧縮した圧縮データに変換する。次に、ST103を参
照して、ワークステーション2は圧縮データを記憶装置
Mに格納する。次に、ST104を参照して、計測され
た半導体装置の数と予め設定された半導体装置数とを比
較する。異なる場合は、ST101へ移り、同様に次の
半導体装置の計測を行う。このように計測した半導体装
置の数と予め設定された半導体装置数とが等しくなるま
で、ST101〜ST104を繰り返し、等しければ計
測を終了する。
【0023】以上のように本実施の形態によると、ST
102及びST103において記憶装置にデータを格納
しようとする場合であって、記憶装置M内の未だデータ
が格納されていない未使用の格納領域の容量が、格納し
ようとするデータの大きさより小さい場合でも、データ
を記憶装置Mに格納する前に圧縮してその大きさを縮小
すれば、未使用の格納領域の容量が、圧縮したデータの
大きさより大きい場合が生じる。その場合は、圧縮した
データは未使用の格納領域に格納することができる。こ
のため、従来の半導体装置計測方法よりも、記憶装置の
容量以上のより大きい計測データを格納することができ
る。
【0024】実施の形態2.図4は本発明の実施の形態
2における半導体装置計測システムの構成図である。4
は計測装置1からの計測データを一時的に格納しておく
ための格納手段である格納装置、その他の符号は図1中
の符号に対応している。
【0025】また、計測装置1の半導体装置の計測及び
計測データの生成とワークステーション2のcompressコ
マンドの実行及び圧縮したデータの記憶装置Mへの格納
とが同時に行える。
【0026】図5は本発明の実施の形態2における半導
体装置計測方法を示す図であって、図4に示す半導体装
置計測システムにおける半導体装置計測方法の一例を示
すものである。図5において、M1 は一時的な格納領域
であり、記憶装置Mの格納領域の一部を割り当てられた
一次格納領域、M2 も一時的な格納領域であり、記憶装
置Mの格納領域の一部(一次格納域M1 を除く)を割り
当てられた二次格納領域、M0 は記憶装置Mの一次格納
領域M1 及び二次格納領域M2 以外の格納領域、その他
の符号は図1中の符号に対応している。なお、図4中の
格納装置4は一次格納領域M1 及び二次格納領域M2 に
相当する。
【0027】図5に示すように、計測装置1は半導体装
置を計測して計測データを生成し、ワークステーション
2へ計測データを送る。ワークステーション2は計測デ
ータを受けて、一次格納領域M1 あるいは二次格納領域
M2 のどちらか一方の格納領域に計測データを格納して
いく。格納領域に格納された複数の計測データの合計の
大きさがその格納領域の容量とほぼ等しい状態(このよ
うにデータを格納するための未使用の領域がない場合を
full状態と称す)になれば、圧縮コマンドによっ
て、格納領域に格納されているすべての計測データを圧
縮データに変換し、圧縮データを格納領域M0 に格納す
る。その圧縮・格納を行う間も、計測装置1は半導体装
置を計測して計測データを生成し、計測データを今度は
他方の格納領域に格納していく。このように、データの
圧縮・格納と半導体装置の計測・計測データの生成とを
同時に行うことで、半導体装置の計測の時間の短縮化を
図る。
【0028】次に、図6を用いてさらに詳細に半導体装
置計測方法を説明する。図6は本発明の実施の形態1に
おける半導体装置計測方法を示すフローチャートであ
る。ST201〜ST204よりLOOP1を構成し、
ST205〜ST208よりLOOP2を構成する。
【0029】まず、LOOP1の動作について説明す
る。まず、初期状態として、一次格納領域M1 ,二次格
納領域M2 ,格納領域M0 には何もデータが格納されて
いない状態にして、計測する半導体装置数を予め設定し
ておく。まず、ST201を参照して、計測された半導
体装置の数が予め設定された半導体装置数と等しければ
ST231へ進む、即ち、LOOP1を抜ける。この説
明の段階では、計測した半導体装置の数はゼロなので、
ST202へ進む。次に、ST202を参照して、半導
体装置を計測装置1に設置し、次に、計測装置1はその
半導体装置を計測して計測データを生成する。次に、S
T203を参照して、ワークステーション2は計測デー
タを受けて、計測データを一次格納領域M1 に格納す
る。次に、ST204を参照して、一次格納領域M1 が
full状態であるか否かを判断する。full状態で
なければ、ST201へ移り、同様に次の半導体装置の
計測を行う。このように一次格納領域M1 がfull状
態になるまで、LOOP1を繰り返し、full状態に
なればST205(即ちLOOP2)及びST211へ
同時に進む、即ち、LOOP1を抜ける。
【0030】ST211へ進む場合を説明する。まずS
T211を参照して、ワークステーション2は圧縮コマ
ンドにより、一次格納領域M1 に格納されている計測デ
ータを圧縮データに変換する。次に、ST212を参照
して、その圧縮データを格納領域M0 に格納して、一次
格納領域M1 を未使用の状態(空き状態)にする。
【0031】次に、LOOP2について説明する。ST
211へ進むのと同時にST205、即ちLOOP2へ
進む。ST205〜ST208はそれぞれST201〜
ST204と同様である。但し、ST205では、計測
された半導体装置の数が予め設定された半導体装置数と
等しければST241へ進む、即ち、LOOP2を抜け
る。ST207では計測データを二次格納領域M2 に格
納する。ST208では二次格納領域M2 がfull状
態であるか否かを判断する。full状態でなければ、
ST205へ移り、同様に次の半導体装置の計測を行
う。このように二次格納領域M2 がfull状態になる
まで、LOOP2を繰り返し、full状態になればS
T201(即ちLOOP1)及びST221へ同時に進
む、即ち、LOOP2を抜ける。
【0032】LOOP2が繰り返されている間に、上述
のST211及びST212が終了して、一次格納領域
M1 は空き状態となる。なお、LOOP2が繰り返され
ている期間に、一次格納領域M1 を空き状態になるよう
にするためには、例えば二次格納領域M2 を充分な大き
さの領域とすればよい。二次格納領域M2 を充分な大き
さにとれば、ST211及びST212が行われている
期間より、LOOP2が繰り返される期間の方が長くで
きる。
【0033】ST221へ進む場合を説明する。まずS
T221を参照して、ワークステーション2は圧縮コマ
ンドにより、二次格納領域M2 に格納されている計測デ
ータを圧縮データに変換する。次に、ST222を参照
して、その圧縮データを格納領域M0 に格納して、二次
格納領域M2 を空き状態にする。
【0034】また、ST221へ進むのと同時にST2
01、即ちLOOP1へ進む。LOOP1の動作は上述
した通りであり、一次格納領域M1 がfull状態にな
るまで、LOOP1を繰り返す。
【0035】LOOP1が繰り返されている間に、上述
のST221及びST222が終了して、二次格納領域
M2 は空き状態となる。なお、LOOP1が繰り返され
ている期間に、二次格納領域M2 をそのような空き状態
になるようにするためには、例えば一次格納領域M1 を
充分な大きさの領域とすればよい。一次格納領域M1を
充分な大きさにとれば、ST221及びST222が行
われている期間より、LOOP1が繰り返される期間の
方が長くできる。
【0036】但し、二次格納領域M2 を充分な大きさの
領域とすればよいが、二次格納領域M2 が大きければ格
納される計測データの大きさも大きくなり、その大きな
計測データを圧縮データに変換するには、長い期間がか
かるため、compressコマンドの処理速度の速いワークス
テーション2を用いるのが望ましい。一次格納領域M1
を充分な大きさの領域とする場合に関しても同様であ
る。
【0037】以上に説明したLOOP1,LOOP2を
交互に繰り返す。そして、ST201において、計測し
た半導体装置の数が予め設定された半導体装置数と等し
ければ、ST231に移って、ワークステーション2は
圧縮コマンドにより、一次格納領域M1 に格納されてい
る計測データを圧縮データに変換する。次に、ST23
2を参照して、その圧縮データを格納領域M0 に格納し
て、一次格納領域M1を空き状態にして計測を終了す
る。同様に、ST205において、計測した半導体装置
の数が予め設定された半導体装置数と等しければ、ST
241に移って、ワークステーション2は圧縮コマンド
により、二次格納領域M2 に格納されている計測データ
を圧縮データに変換する。次に、ST242を参照し
て、その圧縮データを格納領域M0 に格納して、二次格
納領域M2 を空き状態にして計測を終了する。
【0038】以上のように本実施の形態では、データの
圧縮・格納(ST211・ST212及びST221・
ST222)と半導体装置の計測・計測データの生成
(LOOP1及びLOOP2)とを同時に行い、半導体
装置の計測の時間の短縮化を図る。また、ワークステー
ション2の内部に備えられる記憶装置の一部を一時的な
格納領域として使用しているため、記憶装置の実質的な
容量が減少するが、一時的な格納領域を考慮しなけれ
ば、実施の形態1と同様に、データを格納領域M0に格
納する前に圧縮してその大きさを縮小しているため、従
来の半導体装置計測方法よりも、記憶装置の容量以上の
より大きい計測データを格納することができる。
【0039】実施の形態3.本実施の形態における半導
体装置計測システムの構成も図4に示す通りである。
【0040】図7は本発明の実施の形態3における半導
体装置計測方法を示す図であって、図4に示す半導体装
置計測システムにおける半導体装置計測方法の一例を示
すものである。図7において、M1 ,M2 ,…,Mn
は、それぞれ一時的な格納領域であって、記憶装置Mの
格納領域の一部を割り当てられた一次格納領域,二次格
納領域,…,n次格納領域、その他の符号は図1中の符
号に対応している。なお、図4中の格納装置4は一次格
納領域M1 ,二次格納領域M2 ,…,n次格納領域Mn
に相当する。
【0041】また、一次格納領域M1 ,二次格納領域M
2 ,…,n次格納領域Mn の容量は同じであり、その容
量の大きさは、一度に計測装置1から送られてくる計測
データの大きさのうち、最大の大きさ(=Mnc)に設定
する。なお、一次格納領域M1 〜n次格納領域Mn の合
計の容量はnMncとなる。
【0042】図7に示すように、計測装置1は半導体装
置を計測して計測データを生成し、ワークステーション
2へ計測データを送る。ワークステーション2は計測デ
ータを受けて、一次格納領域M1 〜n次格納領域Mn の
うち空き状態にある格納領域を選択し、そこへ送られて
きた計測データを格納する。さらに、ワークステーショ
ン2は圧縮コマンドによって、格納された計測データを
圧縮データに変換し、圧縮データを格納領域M0 に格納
する。その圧縮・格納を行う間も、計測装置1は半導体
装置を計測して計測データを生成し、同様に一次格納領
域M1 〜n次格納領域Mn のうち空き状態にある格納領
域を選択し、計測データを格納する。このように、デー
タの圧縮・格納と半導体装置の計測・計測データの生成
とを同時に行うことで、半導体装置の計測の時間の短縮
化を図る。
【0043】次に、図8を用いてさらに詳細に半導体装
置計測方法を説明する。図8は本発明の実施の形態3に
おける半導体装置計測方法を示すフローチャートであ
る。まず、初期状態として、一次格納領域M1 〜n次格
納領域Mn には何もデータが格納されていない状態にし
て、計測する半導体装置数を予め設定しておく。まず、
ST301を参照して、計測された半導体装置の数が予
め設定された半導体装置数と等しければ計測を終了す
る。この説明の段階では、計測した半導体装置の数はゼ
ロなので、ST302へ進む。次に、ST302を参照
して、半導体装置を計測装置1に設置し、次に、計測装
置1はその半導体装置を計測して計測データを生成す
る。
【0044】次に、ST310を参照して、ワークステ
ーション2は一次格納領域M1 が空き状態か否かを判断
する。一次格納領域M1 が空き状態の場合、ST311
及びST301へ同時に移る。その場合、ST311を
参照して、ワークステーション2は計測データを受け
て、一次格納領域M1 に計測データを格納する。次に、
ST312を参照して、圧縮コマンドにより一次格納領
域M1 に格納されている計測データを圧縮データに変換
する。次に、ST313を参照して、その圧縮データを
格納領域M0 に格納して、一次格納領域M1 を空き状態
にする。ST311へ移ると同時にST301へ移り、
同様に、ST301及びST302を行う。このよう
に、データの圧縮・格納と半導体装置の計測・計測デー
タの生成とを同時に行うことで、半導体装置の計測の時
間の短縮化を図る。
【0045】また、ST310において、一次格納領域
M1 が空き状態でない場合、ST320へ移る。ST3
20もST310と同様に、二次格納領域M2 が空き状
態か否かを判断する。二次格納領域M2 が空き状態であ
れば、ST321,ST301へ同時に移る。ST32
1〜ST323は、それぞれST311〜ST313と
同様である。即ち、二次格納領域M2 に計測データを格
納し、二次格納領域M2 に格納されている計測データを
圧縮データに変換して、その圧縮したデータを格納領域
M0 に移動させ、二次格納領域M2 を空き状態にする。
ST321へ移ると同時にST301へ移り、同様に、
ST301及びST302を行う。このように、データ
の圧縮・格納と半導体装置の計測・計測データの生成と
を同時に行うことで、半導体装置の計測の時間の短縮化
を図る。
【0046】ST3n0〜ST3n3も同様に、それぞ
れST310〜ST313に対応している。
【0047】このように、一次格納領域M1 ,二次格納
領域M2 ,…,n次格納領域Mn が順番に空き状態かど
うかを判断し、空き状態であれば、上述のように、デー
タの圧縮と半導体装置の計測とを同時に行う。
【0048】なお、ST3n0においてn次格納領域M
n が空き状態でない場合、即ち、一次格納領域M1 ,二
次格納領域M2 ,…,n次格納領域Mn が全て空き状態
でなかった場合、ST310に戻り、再度一次格納領域
M1 ,二次格納領域M2 ,…,n次格納領域Mn を順番
に空き状態かどうか判断していく。このST310〜S
T3n0までのループを繰り返している間に、一次格納
領域M1 ,二次格納領域M2 ,…,n次格納領域Mn の
うちのどれかが、いずれ空き状態となるため、その空き
状態の格納領域にデータが格納される。
【0049】以上に説明したST301,ST302,
ST310,あるいはST320,…,あるいはST3
n0を繰り返す。そして、ST301において、計測さ
れた半導体装置の数が予め設定された半導体装置数と等
しければ計測を終了する。
【0050】次に、格納領域の数nの設定について説明
する。nが極めて小さい場合等はST310〜ST3n
0までのループが繰り返される回数が多くなる。このよ
うな場合は、そのループが繰り返されば、ST301へ
進まないので、すべての半導体装置の計測が終了するま
でに長い時間がかかる。このため、すべての半導体装置
の計測を短い時間で行うためには、可能な限り、一時的
な格納領域を多く設けて(即ちnを大きくする)するこ
とが望ましく、nを大きくすることにより、ループが繰
り返される回数が減少するため、ST301へ進み易く
なり、すべての半導体装置のサンプルの計測が終了する
までにかかる時間を短くすることができる。
【0051】以上のように本実施の形態では、データの
圧縮と半導体装置の計測とを同時に行い、半導体装置の
計測の時間の短縮化を図る。また、ワークステーション
2の内部に備えられる記憶装置の一部を一時的な格納領
域として使用しているため、記憶装置の実質的な容量が
減少する。しかし、一時的な格納領域を考慮しなけれ
ば、実施の形態1と同様に、データを格納領域M0 に格
納する前に圧縮してその大きさを縮小しているため、従
来の半導体装置計測方法よりも、記憶装置の容量以上の
より大きい計測データを格納することができる。
【0052】実施の形態4.本実施の形態における半導
体装置計測システムの構成も図4に示す通りである。
【0053】図9は本発明の実施の形態3における半導
体装置計測方法を示す図であって、図4に示す半導体装
置計測システムにおける半導体装置計測方法の一例を示
すものである。図9中の各符号は図7中の各符号に対応
している。特に本実施の形態では、一次格納領域M1 ,
二次格納領域M2 ,…,n次格納領域Mn は、それぞれ
の格納の容量がa,2a,…,naである。なお、aは
定数とする。また、図4中の格納装置4は一次格納領域
M1 ,二次格納領域M2 ,…,n次格納領域Mn に相当
する。
【0054】図9に示すように、計測装置1は半導体装
置を計測して計測データを生成し、ワークステーション
2へ計測データを送る。ワークステーション2は計測デ
ータを受けて、計測データの大きさを判断する。そし
て、その計測データの大きさ以上の容量の格納領域を一
次格納領域M1 〜n次格納領域Mn の中から選択し、そ
こへ送られてきた計測データを格納する。さらにワーク
ステーション2は圧縮コマンドによって、格納された計
測データを圧縮データに変換し、圧縮データを格納領域
M0 に格納する。その圧縮・格納を行う間も、計測装置
1は半導体装置を計測して計測データを生成し、同様に
計測データの大きさ以上の容量の格納領域を一次格納領
域M1 〜n次格納領域Mの中から選択し、そこに計測デ
ータを格納する。このように、データの圧縮・格納と半
導体装置の計測・計測データの生成とを同時に行うこと
で、半導体装置の計測の時間の短縮化を図る。
【0055】次に、図10を用いてさらに詳細に半導体
装置計測方法を説明する。図10は本発明の実施の形態
4における半導体装置計測方法を示すフローチャートで
ある。まず、初期状態として、一次格納領域M1 〜n次
格納領域Mn には何もデータが格納されていない状態に
して、計測する半導体装置数を予め設定しておく。ま
ず、ST401を参照して、計測された半導体装置の数
が予め設定された半導体装置数と等しければ計測を終了
する。この説明の段階では、計測した半導体装置の数は
ゼロなので、ST402へ進む。次に、ST402を参
照して、半導体装置を計測装置1に設置し、次に、計測
装置1はその半導体装置を計測して計測データを生成す
る。
【0056】次に、ST410を参照して、ワークステ
ーション2は計測データを受けて、計測データの大きさ
を判断する。そして、まず、その計測データの大きさが
(0,a)(0以上のa未満を意味する。以下同様)か
否かを判断する。計測データの大きさがその範囲内であ
れば、ST411,ST401へ同時に移る。その場
合、ST411を参照して、ワークステーション2は計
測データを一次格納領域M1 にデータを格納する。次
に、ST412を参照して、圧縮コマンドにより一次格
納領域M1 に格納されている計測データを圧縮データに
変換する。次に、ST413を参照して、その圧縮デー
タを格納領域M0 に格納して、一次格納領域M1 を空き
状態にする。ST411へ移ると同時にST401へ移
り、同様に、ST401及びST402を行う。このよ
うに、データの圧縮・格納と半導体装置の計測・計測デ
ータの生成とを同時に行うことで、半導体装置の計測の
時間の短縮化を図る。
【0057】データの大きさが(0,a)の範囲外であ
る場合、ST420へ移る。ST420もST410と
同様に、データの大きさが(a,2a)の範囲内である
か否かを判断する。データの大きさがその範囲内であれ
ば、ST421,ST401へ同時に移る。ST421
からST423の動作は、それぞれST411からST
413と同様である。即ち、二次格納領域M2 に計測デ
ータを格納し、二次格納領域M2 に格納されている計測
データを圧縮データに変換して、その圧縮したデータを
格納領域M0 に格納し、二次格納領域M2 を空き状態に
する。ST421へ移ると同時にST401へ移り、同
様に、ST401及びST402を行う。このように、
データの圧縮・格納と半導体装置の計測・計測データの
生成とを同時に行うことで、半導体装置の計測の時間の
短縮化を図る。
【0058】ST4k0〜ST4k3(k=2,3,
4,…,n−1)も同様に、それぞれST410〜ST
413に対応している。なお、計測データの大きさが
(a(n−1),an)であれば、ST4(n−1)0
から、ST410のような判断のステップを行うことな
く、ST4n1及びST401へ移る。ST4n1〜S
T4n3も同様に、それぞれST411〜ST413に
対応している。
【0059】このように、計測データの大きさが(0,
a),(a,2a),…,(a(n−2),a(n−
1))の順番に計測データの大きさがその範囲内である
か否かを判断し、範囲内であれば、上述のように、デー
タの圧縮・格納と半導体装置の計測・計測データの生成
とを同時に行うことで、半導体装置の計測の時間の短縮
化を図る。
【0060】以上に説明したST401,ST402,
ST410,あるいはST420,…,あるいはST4
n0を繰り返す。そして、ST401において、計測さ
れた半導体装置の数が予め設定された半導体装置数と等
しければ計測を終了する。
【0061】なお、ST411〜ST413,ST42
1〜ST423,…,ST4n1〜4n3は、いわゆる
逐次処理となっている。例えば、全てのサンプルの圧縮
したデータの大きさが0.5aである場合を考える。ま
ず、ST401,ST402及びST410のを経て、
ST411へ移る。ST411へ移ると同時にST40
1のステップにも移る。再び、ST401,ST402
及びST410を経て、ST411へ移る。この際、前
回のST411のステップでの処理が未だ完了していな
い場合、次に移ってきたステップの処理が追いつくこと
になる。このような場合は、追いついた処理がST41
0で一時的に停止し、前回のST411〜ST413の
処理が終了して、一次格納領域M1 が空き状態になって
から追いついた処理を再開する。他のST421〜ST
423,…,ST4n1〜4n3についても同様であ
る。
【0062】次に、各一時的な格納領域の容量について
説明する。まず、n次格納領域の容量(=na)は一度
に計測装置1から送られてくる計測データの大きさのう
ち、最大の大きさ(=Mnc)に設定する。ここで、nを
大きくすれば、上述の逐次処理の頻度が減少できるた
め、すべての半導体装置の計測が終了するまでの時間が
短くなる。しかし、一次格納領域M1〜n次格納領域Mn
の合計の容量Cは、 C=an(n+1)/2 ・・・(式1) =Mnc(n+1)/2 ・・・(式2) であるため、nが大きければ大きいほど容量Cは大きく
なる。
【0063】一方、aを大きくしてnを小さくすれば、
逐次処理の頻度が増大するため、すべての半導体装置の
計測が終了するまでの時間が長くなる。しかし式2より
容量Cが小さくなる。従って、半導体装置計測システム
に応じて、aやnを設定することが望ましい。例えば、
記憶装置Mの容量が小さいワークステーション2を用い
ている場合は、aを大きくしてnを小さくすれば、容量
Cも小さくできる。
【0064】以上のように本実施の形態では、データの
圧縮と半導体装置の計測とを同時に行い、半導体装置の
計測の時間の短縮化を図る。また、ワークステーション
2の内部に備えられる記憶装置の一部を一時的な格納領
域として使用しているため、記憶装置の実質的な容量が
減少するが、一時的な格納領域を考慮しなければ、実施
の形態1と同様に、データを格納領域M0 に格納する前
に圧縮してその大きさを縮小しているため、従来の半導
体装置計測方法よりも、記憶装置の容量以上のより大き
い計測データを格納することができる。また、式2に示
すように本実施の形態の一次〜n次格納領域の合計の容
量は、実施の形態3に示す一次〜n次格納領域の合計の
容量(=nMac)より小さくて済む。従って、本実施の
形態では、計測装置1からの計測データの大きさが一定
でない半導体装置計測システムに特に効果がある。
【0065】なお、一次格納領域M1 ,二次格納領域M
2 ,…,n次格納領域M0 の容量は一定の大きさのaづ
つ増えているが、一定の大きさでなくてもよい。
【0066】
【発明の効果】本発明請求項1によると、記憶装置に計
測データを格納してから計測データを圧縮データに変換
するよりも、記憶装置の容量以上のより大きい計測デー
タを格納することができるという効果を奏す。
【0067】本発明請求項2によると、半導体装置の計
測の時間の短縮化が図れるという効果を奏す。
【0068】本発明請求項3によると、第1及び第2の
記憶手段を備えることで、半導体装置の計測の時間の短
縮化が図れるという効果を奏す。
【0069】本発明請求項4によると、可能な限り容量
の等しい多数の記憶手段を備えることで、半導体装置の
計測の時間の短縮化が図れるという効果を奏す。
【0070】本発明請求項5によると、可能な限り容量
の異なる多数の記憶手段を備えることで、多数の記憶手
段全体の記憶容量を少なくでき、半導体装置の計測の時
間の短縮化が図れるという効果を奏す。
【0071】本発明請求項6によると、記憶装置に計測
データを格納してから計測データを圧縮データに変換す
るよりも、記憶装置の容量以上のより大きい計測データ
を格納することができるという効果を奏す。
【0072】本発明請求項7によると、第1及び第2の
格納手段を備えた半導体装置計測システムに用いること
で、記憶装置の容量以上のより大きい計測データを格納
することができ、半導体装置の計測の時間の短縮化が図
れるという効果を奏す。
【0073】本発明請求項8によると、それぞれ容量の
等しい第1〜第nの格納手段を備えた半導体装置計測シ
ステムに用いることで、記憶装置の容量以上のより大き
い計測データを格納することができ、半導体装置の計測
の時間の短縮化が図れるという効果を奏す。
【0074】本発明請求項9によると、それぞれ容量の
異なる第1〜第nの格納手段を備えた半導体装置計測シ
ステムに用いることで、記憶装置の容量以上のより大き
い計測データを格納することができ、半導体装置の計測
の時間の短縮化が図れ、多数の記憶手段全体の記憶容量
が少なくて済むという効果を奏す。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施の形態1における半導体装置計
測システムの構成図である。
【図2】 本発明の実施の形態1における半導体装置計
測方法を示す図である。
【図3】 本発明の実施の形態1における半導体装置計
測方法を示すフローチャートである。
【図4】 本発明の実施の形態2〜4における半導体装
置計測システムの構成図である。
【図5】 本発明の実施の形態2における半導体装置計
測方法を示す図である。
【図6】 本発明の実施の形態2における半導体装置計
測方法を示すフローチャートである。
【図7】 本発明の実施の形態3における半導体装置計
測方法を示す図である。
【図8】 本発明の実施の形態3における半導体装置計
測方法を示すフローチャートである。
【図9】 本発明の実施の形態4における半導体装置計
測方法を示す図である。
【図10】 本発明の実施の形態4における半導体装置
計測方法を示すフローチャートである。
【図11】 従来の半導体装置計測方法を示すフローチ
ャートである。
【符号の説明】
1 計測装置、2 ワークステーション、3 データ圧
縮手段、4 格納装置、M 記憶装置、M1 一次格納
領域、M2 二次格納領域、Mn n次格納領域。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 広瀬 幸範 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 向川 泰和 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体装置の特性を計測して計測データ
    を格納しておく半導体装置計測システムであって、 前記半導体装置の特性を計測して前記計測データを生成
    する計測手段と、 前記計測データを受けて前記計測データを圧縮して圧縮
    データを生成するデータ圧縮手段と、 前記圧縮データを受けて前記圧縮データを格納しておく
    記憶手段と、を備えた半導体装置計測システム。
  2. 【請求項2】 前記計測手段が生成した前記計測データ
    を一時的に格納しておく格納手段をさらに備え、 前記データ圧縮手段は、 前記格納手段に格納されている前記計測データを圧縮し
    て前記圧縮データを生成し、 前記計測手段は、 前記データ圧縮手段による前記計測データの圧縮・前記
    圧縮データの生成及び前記記憶手段への前記圧縮データ
    の格納と並行して前記半導体装置の特性を計測して前記
    計測データを生成する請求項1記載の半導体装置計測シ
    ステム。
  3. 【請求項3】 前記格納手段は一次及び二次格納手段を
    含み、 前記一次格納手段に前記計測手段が生成した前記計測デ
    ータを格納し、前記二次格納手段が格納している前記計
    測データを前記データ圧縮手段に与える第1の状態と、
    前記二次格納手段に前記計測手段が生成した前記計測デ
    ータを格納し、前記一次格納手段が格納している前記計
    測データを前記データ圧縮手段に与える第2の状態とを
    選択的に切り換える制御手段をさらに備えた請求項2記
    載の半導体装置計測システム。
  4. 【請求項4】 前記格納手段は、かつそれぞれ同じ容量
    の一次〜n次格納手段を含み、 前記一次〜n次格納手段のうち空き状態の格納手段に前
    記計測手段が生成した前記計測データを格納し、前記一
    次〜n次格納手段に格納されている前記計測データを前
    記データ圧縮手段に与える制御手段をさらに備えた請求
    項2記載の半導体装置計測システム。
  5. 【請求項5】 前記格納手段は、かつそれぞれ異なる容
    量の一次〜n次格納手段を含み、 前記一次〜n次格納手段のうち前記計測データの大きさ
    以上の容量の格納手段に前記計測手段が生成した前記計
    測データを格納し、前記一次〜n次格納手段に格納され
    ている前記計測データを前記データ圧縮手段に与える制
    御手段をさらに備えた請求項2記載の半導体装置計測シ
    ステム。
  6. 【請求項6】 請求項1記載の半導体装置計測システム
    に用いられる半導体装置計測方法であって、 前記計測手段が前記半導体装置の特性を計測して前記計
    測データを生成する第1のステップと、 前記データ圧縮手段が前記計測データを圧縮して前記圧
    縮データを生成する第2のステップと、 前記第2のステップの後、前記圧縮データを前記記憶装
    置に格納する第3のステップと、 前記第1〜第3のステップを繰り返している間に、計測
    する前記半導体装置がなくなれば終了する第4のステッ
    プと、を備えた半導体装置計測方法。
  7. 【請求項7】 請求項3記載の半導体装置計測システム
    に用いられる半導体装置計測方法であって、 前記一次格納手段に前記計測手段が生成した前記計測デ
    ータを格納して前記一次格納手段がfull状態になれ
    ば当該ステップを終了する第1のステップと、 前記第1のステップの後、前記二次格納手段に前記計測
    手段が生成した前記計測データを格納して前記二次格納
    手段がfull状態になれば当該ステップを終了し、そ
    の後前記第1のステップに移る第2のステップと、 前記第2のステップが処理されている間に、前記一次格
    納手段に格納されている前記計測データを圧縮して前記
    圧縮データを生成して、前記記憶手段に格納して前記一
    次格納手段を空き状態にする第3のステップと、 前記第1のステップが処理されている間に、前記二次格
    納手段に格納されている前記計測データを圧縮して前記
    圧縮データを生成して、前記記憶手段に格納して前記二
    次格納手段を空き状態にする第4のステップと、 前記第1及び第2のステップを繰り返している間に、計
    測する前記半導体装置がなくなれば終了する第5のステ
    ップと、を備えた半導体装置計測方法。
  8. 【請求項8】 請求項4記載の半導体装置計測システム
    に用いられる半導体装置計測方法であって、 前記計測手段が前記半導体装置を計測して前記計測デー
    タを生成する第1のステップと、 前記一次格納手段〜n次格納手段のうち空き状態の格納
    手段を選択する第2のステップと、 前記選択した格納手段に前記計測データを格納し、その
    後第1のステップへ移る第3のステップと、 前記第1〜第3のステップを繰り返している間に、前記
    一次〜n次格納手段に格納されている前記計測データを
    圧縮して前記圧縮データを生成し、前記記憶手段に格納
    して当該格納手段を空き状態にする第4のステップと、 前記第1〜第3のステップを繰り返している間に、計測
    する前記半導体装置がなくなれば終了する第5のステッ
    プと、を備えた半導体装置計測方法。
  9. 【請求項9】 請求項5記載の半導体装置計測システム
    に用いられる半導体装置計測方法であって、 前記計測手段が前記半導体装置を計測して前記計測デー
    タを生成する第1のステップと、 前記計測データの大きさを判断して、前記一次格納手段
    〜n次格納手段のうちの前記計測データの大きさ以上の
    容量の格納手段を選択する第2のステップと、 前記選択した格納手段に前記計測データを格納し、その
    後前記第1のステップへ移る第3のステップと、 前記第1〜第3のステップを繰り返している間に、前記
    一次〜n次格納手段に格納されている前記計測データを
    前記圧縮データに変換して、前記記憶手段に格納して当
    該格納手段を空き状態にする第4のステップと、 前記第1〜第3のステップを繰り返している間に、計測
    する前記半導体装置がなくなれば終了する第5のステッ
    プと、を備えた半導体装置計測方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009145325A (ja) * 2007-10-22 2009-07-02 Advantest Corp 混合ビニングメモリによるヒストグラムの生成

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