JPH09119854A - 精密加工装置または精密測定装置における環境監視装置 - Google Patents

精密加工装置または精密測定装置における環境監視装置

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JPH09119854A
JPH09119854A JP7278609A JP27860995A JPH09119854A JP H09119854 A JPH09119854 A JP H09119854A JP 7278609 A JP7278609 A JP 7278609A JP 27860995 A JP27860995 A JP 27860995A JP H09119854 A JPH09119854 A JP H09119854A
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JP
Japan
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environment
installation environment
precision
installation
chamber
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JP7278609A
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Inventor
Buichi Ando
武一 安藤
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Nikon Corp
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Nikon Corp
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Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 設置環境仕様を有する精密加工装置または精
密測定装置において、装置を直接設置する環境のその外
部の環境も監視し、より精度の高い設置環境の監視装置
を提供すること。 【解決手段】 第1の設置環境の内部にある第2の設置
環境1に設置された精密加工装置または精密測定装置に
おいて、設置環境測定装置8Bにより第1の設置環境を
測定し、制御装置3により設置環境測定装置8Bの測定
結果が所定の第1の設置環境仕様を満足しないとき設置
環境の異常と判断する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、設置環境仕様を有
する精密加工あるいは精密測定を行う装置における環境
監視装置に関する。
【0002】
【従来の技術】例えば、マスク、レチクル等の基板表面
に形成されたパターン位置を測定する測定装置において
は、非常に精密な測定が行われるため、当該装置を厳格
に管理された環境下に設置する必要がある。図5は、管
理された環境下で測定が行われるパターン位置測定装置
の従来の概略構成を示す。図5において、内部を恒温に
保つチャンバ1内部に測定装置2が設置され、チャンバ
1内で基板表面のパターン位置測定が行われる。また、
チャンバ1自体は不図示のクリーンルーム内に置かれ
る。測定装置2は、CPUおよびその周辺回路から成る
制御装置3と、キーボード等の入力装置4と、CRT等
のモニタ5と、ハードディスク等の記憶装置6と、光学
装置や位置検出装置等から成る測定部7とで構成され
る。
【0003】従来、上記のような構成で測定を行う場
合、チャンバ1内に温度、湿度、気圧をそれぞれ測定す
るセンサ群8を設け、その測定結果を制御装置3に取り
込み、測定装置2の設置環境仕様の規定をオーバーする
かどうかの監視を行っていた。そして、設置環境仕様を
オーバーした場合は、モニタ5への表示あるいは不図示
のブザーや警告灯などでオペレータに知らせ、異常が発
生した日時などは記憶装置6に記録されていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、チャンバ1内
において測定装置2の設置環境仕様を満足していても、
チャンバ1外部の環境変化の要因等で測定上不具合の生
じる場合があることが判明した。
【0005】本発明の目的は、上記の問題点を解決する
ため、設置環境仕様を有する精密加工装置または精密測
定装置において、チャンバ外部の環境も監視し、より精
度の高い設置環境の監視装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】実施の形態の図1に対応
づけて本発明を説明する。上記目的を達成するために、
請求項1の発明は、第1の設置環境の内部にある第2の
設置環境1に設置された精密加工装置または精密測定の
環境監視装置に適用され、前記第1の設置環境を直接ま
たは間接に監視する設置環境監視手段8Bまたは8A
と、設置環境監視手段の監視結果が所定の第1の設置環
境仕様を満足しないとき設置環境の異常と判断する判断
手段3とを具備するものである。実施の形態の図3に対
応づけて説明する。請求項2の発明は、第1の設置環境
の内部にある第2の設置環境1に設置された精密加工装
置または精密測定の環境監視装置に適用され、第2の設
置環境1に設置して第2の設置環境1を測定する設置環
境測定手段8Aと、設置環境測定手段8Aにより測定さ
れた第2の設置環境1の変化率が所定値以上のとき設置
環境の異常と判断する判断手段3とを具備するものであ
る。実施の形態の図1に対応づけて説明する。請求項3
の発明は、管理された環境1に設置され、少なくとも制
御装置3、ステージ7、光学装置7、位置検出装置7を
備えた精密パターン測定装置の環境監視装置に適用さ
れ、管理された環境1の外部の環境を直接または間接に
監視する外部環境監視手段8Bまたは8Aと、この外部
環境監視手段の監視結果が精密パターン測定装置の設置
環境仕様を満足しないとき設置環境の異常と判断する判
断手段3を具備するものである。実施の形態の図3に対
応づけて説明する。請求項4の発明は、管理された環境
1に設置され、少なくとも制御装置3、ステージ7、光
学装置7、位置検出装置7を備えた精密パターン測定装
置の環境監視装置に適用され、管理された環境1に設置
して管理された環境1を測定する内部環境測定装置8A
と、内部環境測定装置8Aにより測定された管理された
環境1の変化率が所定値以上のときに設置環境の異常と
判断する判断手段3とを具備するものである。
【0007】なお、本発明の構成を説明している上記課
題を解決するための手段の項では、分かりやすく説明す
るため実施の形態の図に対応づけて説明したが、これに
より本発明が実施の形態に限定されるものではない。
【0008】
【発明の実施の形態】
−第1の実施の形態− 図1を用いて第1の実施の形態を説明する。図5と同一
の箇所には同一符号を付して相違点を主に説明する。8
Aはチャンバ1内に設けられたセンサ群で、チャンバ1
内の温度、湿度、気圧、振動を、それぞれ温度センサ8
1A、湿度センサ82A、気圧センサ83A、振動セン
サ84Aで測定し、その測定結果は測定装置2の制御装
置3に入力される。温度センサ81A、湿度センサ82
A、気圧センサ83Aは測定部7の近傍に設置し、振動
センサ84Aは加速度計を使用して被測定物の基板が搭
載される不図示のステージに設置する。8Bはチャンバ
1外部に設けられたセンサ群で、チャンバ1外部の温
度、湿度、気圧、振動を、それぞれ同様に温度センサ8
1B、湿度センサ82B、気圧センサ83B、振動セン
サ84Bで測定し、その測定結果は制御装置3に入力さ
れる。温度センサ81B、湿度センサ82B、気圧セン
サ83Bは、チャンバ1外部の適当な位置に設置し、加
速度計である振動センサ84Bはチャンバ1が置かれて
いるクリーンルームの床に設置する。
【0009】制御装置3には、チャンバ1内部の設置環
境仕様とチャンバ1外部の設置環境仕様の両方が設定さ
れており、どちらかの仕様あるいは両方の仕様を満足し
ない場合を設置環境仕様の異常と判断する。設置環境仕
様としては、各環境項目において静的な仕様である絶対
値と、動的な仕様である変化率とが規定されている。静
的な絶対値による規定とは、例えば温度において、チャ
ンバ1内の温度が35゜Cを超えた場合は異常であると
する場合、この35゜Cの規定が静的な絶対値としての
規定である。また、動的な仕様の変化率とは、同様に温
度において、単位時間あたりの温度変化、例えば1分間
あたりの温度変化が2゜C以上あった場合を異常とする
場合、この2゜C/分が動的な変化率としての規定であ
る。チャンバ1内部およびチャンバ1外部の各設置環境
仕様は、実験および経験値により最適な値が設定され
る。
【0010】図2は、第1の実施の形態における制御装
置3の設置環境監視制御のフローチャートである。本ル
ーチンは、測定装置2が所定のパターン測定を行おうと
する度に起動される。本ルーチンが起動されると、ステ
ップS1で測定装置2の所定のパターン測定が行われ、
ステップS2に進む。ステップS2で、センサ群8A、
8Bを使用してチャンバ1内部とチャンバ1外部の設置
環境が測定され、ステップS3に進む。ステップS3で
は、測定された設置環境が設置環境仕様をそれぞれ満足
しているか否かが判定される。すなわち、チャンバ1内
部とチャンバ1外部の設置環境が、絶対値と変化率の両
方の仕様を満足しているかどうかが判定される。設置環
境仕様を満足していればステップS9に進み、満足して
いない場合すなわち設置環境異常の場合はステップS4
に進む。
【0011】ステップS4では、予めオペレータが入力
しているリトライ条件により、測定装置2の所定のパタ
ーン測定をリトライするかどうかが判定される。リトラ
イする場合はステップS5に進み、リトライしない場合
はステップS8に進む。ステップS5では、設置環境仕
様の異常項目が再測定され、ステップS6では、異常と
測定された設置環境項目が正常に復帰しているかどうか
が判定される。異常と測定された設置環境項目が引き続
き異常と判定された場合はステップS7へ進み、異常が
正常に復帰していると判定されたら、所定のパターン測
定を再度行うためステップS1に戻る。
【0012】ステップS7では、異常と測定された設置
環境項目の異常の持続時間が所定時間経過したかどうか
判定される。所定時間経過していれば、リトライを諦め
ステップS8へ進む。所定時間経過していなければ、異
常が正常に復帰するのを待つべくステップS5に戻り、
異常と測定された設置環境項目の測定を再度行い、ステ
ップS5〜S7を繰り返す。ステップS4でリトライを
行わないと判定された場合、および、ステップS7で異
常の持続時間が所定時間を超過しリトライを諦めたと判
定された場合は、ステップS8に進む。
【0013】ステップS8では、モニタ5に設置環境に
異常があった旨表示してオペレータに知らせ、ステップ
S9に進む。ステップS9では、設置環境に異常がある
ないにかかわらず、記憶装置6にステップS1で行われ
たパターン測定の結果を記録し、ステップS10に進
む。ステップS10では、ステップS9のパターン測定
結果の記録データにリンクして設置環境測定結果を記録
し、設置環境測定結果が異常の場合は異常である旨識別
できるようにする。これにより、後日測定データを分析
するとき、その測定データが設置環境が異常であったと
きのものかどうかが容易に判別できるようになる。ま
た、設置環境が異常でなくても測定時の設置環境データ
が記録されているので、測定データを詳しく分析すると
き、あるいは設置環境仕様を見直すときに有効なデータ
となる。
【0014】なお、本ルーチンでは測定装置の所定のパ
ターン測定を行う度に環境監視を行っているが、これに
限定されず、パターン測定とは独立して一定時間毎に環
境の監視を行っても良い。その場合は、設置環境異常が
検出されると、パターン測定処理ルーチンやその他のル
ーチンに割り込み処理を行えばよい。また、設置環境仕
様は予め制御装置に設定されているとしたが、入力装置
4を使用してオペレータが入力してもよい。
【0015】以上のように、第1の実施の形態では、チ
ャンバ1の外部と内部の設置環境を同時に測定し、また
設置環境の絶対値のみならず変化率をも測定して判定し
ているので、チャンバ1内部の設置環境が静的に満足し
ていても、外部の設置環境の影響による測定への不具合
を識別できると同時に、チャンバ1内部の設置環境の変
化率が大きいことによる測定への不具合も識別すること
ができ、精度の高いパターン測定を行うことができる。
【0016】−第2の実施の形態− 第2の実施の形態は、チャンバ1外部の設置環境が異常
になったとき、それにつられてチャンバ1内部の設置環
境が変化することに着目して、チャンバ1内部にのみセ
ンサ群8Aを設けて設置環境を監視するものである。し
たがって、図3の第2の実施の形態の構成は、チャンバ
1外部のセンサ群8Bが削除されたこと以外は第1の実
施の形態の図1と同一であるため、その相違点のみを以
下に説明する。
【0017】制御装置3には、チャンバ1内部の設置環
境の許容変化率が規定されているが、この許容変化率
は、チャンバ1外部の設置環境の異常が原因となってチ
ャンバ1内部の設置環境に変化が生じることも考慮して
規定される。具体的には、実験および経験値により規定
される。
【0018】図4は、第2の実施の形態における制御装
置3の設置環境監視制御のフローチャートである。図2
のフローチャートと同一のステップには同一ステップ番
号を付して異なるステップのみを主に説明する。ステッ
プS1で測定装置2の所定のパターン測定が行われ、ス
テップS22に進む。ステップS22では、センサ群8
Aを使用してチャンバ1内部の設置環境が測定され、ス
テップS33に進む。ステップS33では、測定された
設置環境が設置環境仕様をそれぞれ満足しているか否か
が判定される。すなわち、チャンバ1内部の設置環境が
絶対値仕様を満足しているかどうかが判定され、次に、
変化率を演算して許容変化率を満足しているかどうかが
判定される。両方の設置環境仕様を満足していればステ
ップS9に進み、どちらかあるいは両方を満足していな
い場合、すなわち設置環境異常の場合はステップS4に
進む。以下のステップは図2のフローチャートと同様で
あるので説明を省略する。
【0019】以上のように、第2の実施の形態では、チ
ャンバ1内部のみの設置環境を測定することによって、
チャンバ1内部の静的な設置環境仕様を満足しているか
どうかが判定され、同時に、チャンバ1内部の設置環境
の変化率によりチャンバ1内部の動的な設置環境仕様を
満足しているかどうかが判定される。この動的な設置環
境仕様である許容変化率は、チャンバ1外部の設置環境
の異常を原因とする場合も考慮して規定されているた
め、第1の実施の形態と同様に、チャンバ1内部の設置
環境が静的に満足していても、外部の環境の影響による
測定への不具合を識別することができ、精度の高いパタ
ーン測定を行うことができる。この第2の実施の形態で
は、第1の実施の形態と比較してセンサの数を削減する
ことができる。
【0020】なお、外部の環境の影響によらず、チャン
バ1内部における何らかの異常でチャンバ1内部の設置
環境が変化する場合もある。この場合も同様に設置環境
の異常として判断されるが、これも測定には悪影響をお
よぼすので設置環境の異常として判断されるのは有効で
ある。
【0021】以上、第1の実施の形態では、チャンバ1
外部の環境が動的な設置環境仕様と静的な設置環境仕様
およびチャンバ1内部の環境が動的な設置環境仕様と静
的な設置環境仕様を満足しているかどうかを判定して設
置環境の異常かどうかを判断し、第2の実施の形態で
は、チャンバ1内部の環境が動的な設置環境仕様と静的
な設置環境仕様を満足しているかどうかを判定して設置
環境の異常かどうかを判断している。しかし、判定する
環境仕様はこれらの組み合わせに限定されるものではな
い。例えば、チャンバ1外部の環境の動的な設置環境仕
様のみで判定したり、チャンバ1外部の環境の静的な設
置環境仕様のみで判定したり、チャンバ1外部の環境の
動的な設置環境仕様と静的な設置環境仕様で判定した
り、チャンバ1内部の環境の動的な設置環境仕様のみで
判定したり等、各種の組み合わせが考えられる。
【0022】また、第1の実施の形態および第2の実施
の形態では、パターン位置測定装置について環境監視装
置を説明したが、本発明はこのパターン位置測定装置に
限定されるものではない。例えば半導体製造関連装置な
どで、温度等の設置環境が厳格に管理された環境に設置
されて処理を行う精密加工装置や精密測定装置全般にお
ける環境監視装置に適用できる。
【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成して
いるので、次のような効果を奏する。請求項1の精密加
工装置または精密測定装置の環境監視装置では、精密加
工装置や精密測定装置が直接設置される設置環境のその
外側を取り囲む環境に異常があっても、その環境を監視
し異常を判断することができるので、その外側の環境の
異常による精密加工装置または精密測定装置におよぼす
悪影響を排除することができる。請求項3の装置も同様
の効果を奏する。請求項2の精密加工装置または精密測
定装置の環境監視装置では、精密加工装置や精密測定装
置が直接設置される設置環境そのものの変化率を判断し
ているので、その設置環境の変化を要因とする精密加工
装置または精密測定装置におよぼす悪影響を排除するこ
とができる。この設置環境の変化には、その外側を取り
囲む環境の異常を要因とするものが含まれるため、外側
を取り囲む環境に環境測定手段を設けなくても、その外
側の環境の異常による精密加工装置または精密測定装置
におよぼす悪影響を排除することができる。請求項4の
装置も同様の効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態の測定装置の構成図
である。
【図2】第1の実施の形態における制御装置の制御のフ
ローチャートである。
【図3】本発明の第2の実施の形態の測定装置の構成図
である。
【図4】第2の実施の形態における制御装置の制御のフ
ローチャートである。
【図5】従来の測定装置の構成図である。
【符号の説明】
1 チャンバ 2 測定装置 3 制御装置 4 入力装置 5 モニタ 6 記憶装置 7 測定部 8、8A、8B センサ群 81A、81B 温度センサ 82A、82B 湿度センサ 83A、83B 気圧センサ 84A、84B 振動センサ

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1の設置環境の内部にある第2の設置
    環境に設置された精密加工装置または精密測定の環境監
    視装置において、 前記第1の設置環境を直接または間接に監視する設置環
    境監視手段と、 前記設置環境監視手段の監視結果が所定の第1の設置環
    境仕様を満足しないとき設置環境の異常と判断する判断
    手段とを具備することを特徴とする精密加工装置または
    精密測定装置における環境監視装置。
  2. 【請求項2】 第1の設置環境の内部にある第2の設置
    環境に設置された精密加工装置または精密測定の環境監
    視装置において、 前記第2の設置環境に設置して前記第2の設置環境を測
    定する設置環境測定手段と、 前記設置環境測定手段により測定された前記第2の設置
    環境の変化率が所定値以上のとき設置環境の異常と判断
    する判断手段とを具備することを特徴とする精密加工装
    置または精密測定装置における環境監視装置。
  3. 【請求項3】 管理された環境に設置され、少なくとも
    制御装置、ステージ、光学装置、位置検出装置を備えた
    精密パターン測定装置の環境監視装置において、 前記管理された環境の外部の環境を直接または間接に監
    視する外部環境監視手段と、 この外部環境監視手段の監視結果が前記精密パターン測
    定装置の設置環境仕様を満足しないとき設置環境の異常
    と判断する判断手段を具備することを特徴とする精密パ
    ターン測定装置の環境監視装置。
  4. 【請求項4】 管理された環境に設置され、少なくとも
    制御装置、ステージ、光学装置、位置検出装置を備えた
    精密パターン測定装置の環境監視装置において、 前記管理された環境に設置して前記管理された環境を測
    定する内部環境測定手段と、 前記内部環境測定手段により測定された前記管理された
    環境の変化率が所定値以上のときに設置環境の異常と判
    断する判断手段とを具備することを特徴とする精密パタ
    ーン測定装置の環境監視装置。
JP7278609A 1995-10-26 1995-10-26 精密加工装置または精密測定装置における環境監視装置 Pending JPH09119854A (ja)

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103630167A (zh) * 2013-12-03 2014-03-12 青岛海尔软件有限公司 一种温湿度检测与控制系统
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