JPH09116270A - Manufacture of multilayered wiring board - Google Patents

Manufacture of multilayered wiring board

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Publication number
JPH09116270A
JPH09116270A JP27522695A JP27522695A JPH09116270A JP H09116270 A JPH09116270 A JP H09116270A JP 27522695 A JP27522695 A JP 27522695A JP 27522695 A JP27522695 A JP 27522695A JP H09116270 A JPH09116270 A JP H09116270A
Authority
JP
Japan
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film
wiring board
printed wiring
insulating
molecular weight
Prior art date
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Pending
Application number
JP27522695A
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Japanese (ja)
Inventor
Kenichi Ikeda
謙一 池田
Takayuki Suzuki
隆之 鈴木
Masashi Tanaka
正史 田中
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Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH09116270A publication Critical patent/JPH09116270A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method by which a multilayered printed wiring board on which the ruggedness of an internal-layer circuit does not appear can be manufactured. SOLUTION: Circuits are formed on one or both surfaces of an internal-layer material 3 constituted of an insulating matrix 1 composed of a semihardened adhesive component and a film forming component and copper foil stuck to one or both surfaces of the matrix 1 by machining the copper foil and two pieces of external-layer copper foil 5 are respectively put on the surfaces of the circuits 2 formed on the surfaces of the material 3 with insulating adhesive films 4 composed of a semihardened adhesive component and a film forming component in between and the semihardened adhesive components are hardened by pressing and heating the laminated body.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、多層プリント配線
板の製造方法に関する。
[0001] The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer printed wiring board.

【0002】[0002]

【従来の技術】多層プリント配線板は、表面導体層を含
めて3層以上に導体パターンがあるプリント配線板であ
る。多層プリント配線板は、両面銅張積層板にエッチン
グその他の方法で回路を形成した内層材と外層材とを重
ねて接着一体化した多層プリント配線板用積層板の外層
材表面に回路を形成して得られる。外層材としては、片
面銅張積層板又は銅はくが用いられている。内層材相互
間及び内層材と外層材間の接着には、ガラスクロスを基
材とするエポキシ樹脂プリプレグが用いられている。近
年、電子機器の小型化、軽量化の要求とともに多層プリ
ント配線板も、薄型化が要求され、絶縁層の厚さが30
〜100μmの配線板も出現している。多層プリント配
線板の構成材間の接着材料は、絶縁層を形成しており、
絶縁層を薄くするために、ガラスクロスを含まない接着
剤フィルムを用いることも提案されている。
2. Description of the Related Art A multilayer printed wiring board is a printed wiring board having a conductor pattern in three or more layers including a surface conductor layer. A multilayer printed wiring board is a double-sided copper-clad laminated board with a circuit formed by etching or other method.An inner layer material and an outer layer material are stacked and bonded together to form a circuit on the outer layer material surface of the laminated board for multilayer printed wiring board. Obtained. A single-sided copper-clad laminate or copper foil is used as the outer layer material. An epoxy resin prepreg having a glass cloth as a base material is used for bonding the inner layer materials to each other and the inner layer material to the outer layer material. In recent years, along with the demand for smaller and lighter electronic devices, multilayer printed wiring boards have also been required to be thinner, and the insulating layer has a thickness of 30.
Wiring boards of -100 μm have also appeared. The adhesive material between the components of the multilayer printed wiring board forms an insulating layer,
It has also been proposed to use a glass cloth-free adhesive film to thin the insulating layer.

【0003】最近の多層プリント配線板は、高密度配線
化し、一つの導体層と他の導体層の電気的接続に使用さ
れる箇所も多くなっていいる。このため、配線板を貫通
するスルーホールを設け、このスルーホール内壁に銅め
っきを析出させることにより、異なる導体層間を電気的
に接続しているが、このスルーホールによる接続では、
必要な接続を行う層間以外の層にも穴を通すことになり
接続と無関係な層においては、その穴を避けて、配線を
行わなければならず、設計の自由度や配線の高密度化の
障害となる。そこで、配線板全体を貫通する穴だけを使
用するのではなく、接続を必要とする配線層のみの接続
を行う、いわゆるインターステイシャルバイアホール
(IVH)を形成するようになってきている。
In recent years, multilayer printed wiring boards have been made into high-density wiring, and more and more places are used for electrical connection between one conductor layer and another conductor layer. For this reason, a through hole is provided that penetrates the wiring board, and copper plating is deposited on the inner wall of this through hole to electrically connect different conductor layers.
Holes will also be passed through layers other than the layers that make the necessary connections, and in layers that are unrelated to the connections, the holes must be avoided, and wiring must be performed, which reduces design flexibility and wiring density. It becomes an obstacle. Therefore, so-called interstitial via holes (IVH) have been formed in which not only the holes penetrating the entire wiring board but only the wiring layers that need to be connected are connected.

【0004】表面導体層の回路と、隣接する内層導体層
の回路とをIVHで接続するとき、外層材にIVH用の
穴をあけ、この穴と内層材の導体ランドとの位置合わせ
を行って外層材と内層材とを重ね、IVH用の穴が接着
剤樹脂で埋まらないように積層一体化し、次に、得られ
た積層体全体を貫通するスルーホールを設け、スルーホ
ール内壁及びIVH用の穴内壁にめっきにより導体金属
を析出させる。この後、外層銅をエッチングしてIVH
付多層プリント配線板とする。このように、あらかじめ
穴あけした構成材を積層する方法を先穴あけ法という。
穴あけの方法としては、ドリル加工、パンチング加工、
レーザー加工等がある。
When the circuit of the surface conductor layer and the circuit of the adjacent inner layer conductor layer are connected by IVH, a hole for IVH is made in the outer layer material, and the hole is aligned with the conductor land of the inner layer material. The outer layer material and the inner layer material are superposed and laminated and integrated so that the holes for IVH are not filled with the adhesive resin, and then a through hole is provided which penetrates the entire obtained laminated body. A conductive metal is deposited on the inner wall of the hole by plating. After this, the outer layer copper is etched to form IVH.
Multi-layer printed wiring board. Such a method of laminating the pre-drilled components is referred to as a predrilling method.
Drilling, punching,
There is laser processing etc.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】銅はくを外層材とする
ときには、あらかじめ、銅はくの内側面(内層側の面)
に接着剤層を形成した積層体を用いている。このような
外層材を用いて回路形成済みの内層材と積層一体化する
と、銅はくは剛性が乏しいため、内層回路の凹凸が表面
に現れてしまう。この凹凸は、外層材を回路加工すると
きに、エッチングレジストの密着性を損ね、微細パター
ンを形成できなくなる。また、得られたプリント配線板
を内層材として用い、さらに外層材を積層して高多層化
するとき、凹凸の数が増えたり、凹凸の程度が増大して
好ましくない。本発明は、内層回路の凹凸が表面に現れ
ない多層プリント配線板の製造方法を提供することを目
的とするものである。
When the copper foil is used as the outer layer material, the inner surface of the copper foil (the surface on the inner layer side) is previously prepared.
A laminated body having an adhesive layer formed thereon is used. When such an outer layer material is used for laminating and integration with an inner layer material on which a circuit has been formed, the copper foil has poor rigidity, and thus unevenness of the inner layer circuit appears on the surface. When the outer layer material is processed into a circuit, these irregularities impair the adhesion of the etching resist, making it impossible to form a fine pattern. Further, when the obtained printed wiring board is used as an inner layer material and further an outer layer material is laminated to obtain a high multilayer, the number of irregularities increases or the degree of irregularities increases, which is not preferable. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a multilayer printed wiring board in which unevenness of inner layer circuits does not appear on the surface.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は、半硬化状態の
接着性成分とフィルム形成性成分とからなる絶縁マトリ
ックス1と、この絶縁マトリックス1の片面又は両面に
接着された銅はくとからなる内層材3に回路加工を施
し、半硬化状態の接着性成分とフィルム形成性成分とか
らなる絶縁接着フィルム4を介して外層銅はく5を内層
材3の回路面2に重ね、加熱加圧して、半硬化状態の接
着性成分を硬化させることを特徴とする多層プリント配
線板の製造方法である。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention comprises an insulating matrix 1 comprising a semi-cured adhesive component and a film-forming component, and a copper foil adhered to one or both sides of the insulating matrix 1. The inner layer material 3 is subjected to circuit processing, the outer layer copper foil 5 is superposed on the circuit surface 2 of the inner layer material 3 through the insulating adhesive film 4 composed of the semi-cured adhesive component and the film forming component, and heated. A method for producing a multilayer printed wiring board, which comprises applying pressure to cure the semi-cured adhesive component.

【0007】構成材を重ねて加熱加圧するとき(以下単
に積層という)に、絶縁マトリックス樹脂が軟化して変
形することにより、内層回路体が沈み込み、表面に凹凸
が現れなくなるのである。
When the constituent materials are stacked and heated and pressed (hereinafter, simply referred to as "lamination"), the insulating matrix resin is softened and deformed, so that the inner layer circuit body sinks and the unevenness does not appear on the surface.

【0008】[0008]

【発明の実施の態様】以下本発明について詳述する。絶
縁マトリックスを構成する接着性成分には、内層回路に
対する追随性、接着性、積層に先立って設けた穴内に過
度に流入しないこと、及び、積層後は配線板として必要
な耐熱性を有することが要求される。したがって、接着
性成分としては、エポキシ樹脂、フェノール樹脂等の熱
硬化性樹脂、特にエポキシ樹脂を用いるのが好ましい。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention is described in detail below. The adhesive component forming the insulating matrix has following properties to the inner layer circuit, adhesiveness, does not excessively flow into the holes provided prior to stacking, and has heat resistance necessary as a wiring board after stacking. Required. Therefore, it is preferable to use a thermosetting resin such as an epoxy resin or a phenol resin, particularly an epoxy resin, as the adhesive component.

【0009】フィルム形成性成分は、積層作業時の取り
扱い性をよくするために、絶縁マトリックス及び絶縁接
着フィルムに配合される。フィルム形成性成分として
は、フィルム形成能を有する高分子量エポキシ重合体、
特に、重量平均分子量が、100,000以上である高
分子量エポキシ重合体を用いるのが好ましい。フィルム
形成能を有するポリマーとして、フィルム形成能を有す
る高分子量エポキシ重合体と共に、前記高分子量エポキ
シ重合体と相溶性を有しかつ同じ溶剤に可溶なフィルム
形成性ポリマーを配合することも可能である。
The film-forming component is blended with the insulating matrix and the insulating adhesive film in order to improve the handling property during the laminating operation. As the film-forming component, a high molecular weight epoxy polymer having film-forming ability,
In particular, it is preferable to use a high molecular weight epoxy polymer having a weight average molecular weight of 100,000 or more. As the polymer having film-forming ability, it is also possible to mix together with the high-molecular-weight epoxy polymer having film-forming ability, a film-forming polymer which is compatible with the high-molecular weight epoxy polymer and soluble in the same solvent. is there.

【0010】内層材は、銅はくの片面に半硬化状態の接
着性成分とフィルム形成性成分とからなる絶縁マトリッ
クス層を形成したフィルムを、絶縁マトリックス層を向
き合わせて仮接着して得られる。また、絶縁層が薄いと
きは、1枚の絶縁マトリックスフィルムの両面に銅はく
を張り合わせた両面銅張りフィルムを用いてもよい。
The inner layer material is obtained by temporarily adhering a film having an insulating matrix layer comprising a semi-cured adhesive component and a film-forming component on one surface of a copper foil, with the insulating matrix layers facing each other. . When the insulating layer is thin, a double-sided copper-clad film in which copper foil is laminated on both sides of a single insulating matrix film may be used.

【0011】内層材1と外層銅はく5とを接着するため
の絶縁接着フィルム4は、あらかじめ、外層銅はく5と
一体化されたものであるのが望ましい。先穴あけ加工を
可能とし、かつ積層作業効率をよくできるからである。
なお、この絶縁接着フィルム4は、難燃性を有するもの
であることが必要である。
The insulating adhesive film 4 for bonding the inner layer material 1 and the outer layer copper foil 5 is preferably integrated with the outer layer copper foil 5 in advance. This is because it is possible to perform pre-drilling and improve the stacking work efficiency.
The insulating adhesive film 4 needs to be flame-retardant.

【0012】絶縁マトリックス及び絶縁接着フィルム
は、積層成形時の昇温過程に軟化し始め流動すると同時
に、硬化反応が進行して、過度に流動しないようにする
必要がある。そのため、樹脂流れを0.1〜3.0%、
好ましくは0.5〜1.5%に調整する。樹脂流れが
3.0%を超える場合は、成形段階でIVH用の穴に樹
脂が浸出し、IVH導通不良を発生しやすいうえに、脆
くなり、取扱性が悪くなる。また、樹脂流れが0.1%
未満では、内層回路への追随性が劣り、ボイドが発生し
やすくなる。樹脂流れは、接着性成分の硬化反応制御や
組成により制御できる。すなわち、接着性成分の分子
量、硬化促進剤又は硬化剤の種類、配合量又は塗工条件
を適宜の条件とすることにより必要な樹脂流れとする。
It is necessary that the insulating matrix and the insulating adhesive film start to soften and flow during the temperature rising process during lamination molding, and at the same time, the curing reaction proceeds to prevent excessive flow. Therefore, the resin flow is 0.1-3.0%,
It is preferably adjusted to 0.5 to 1.5%. If the resin flow exceeds 3.0%, the resin leaches into the hole for IVH during the molding step, IVH conduction failure is likely to occur, and the resin becomes brittle, resulting in poor handleability. Also, the resin flow is 0.1%
If it is less than the range, followability to the inner layer circuit is poor, and voids are likely to occur. The resin flow can be controlled by controlling the curing reaction and composition of the adhesive component. That is, the required resin flow can be obtained by appropriately adjusting the molecular weight of the adhesive component, the type of the curing accelerator or the curing agent, the compounding amount, or the coating conditions.

【0013】接着性成分としては、エポキシ樹脂、フェ
ノール樹脂等の熱硬化性樹脂を用いるのが好ましい。こ
れらの熱硬化性樹脂は、単独でも又は組み合わせてもよ
いが、多層プリント配線板として、良好な特性を得るた
めには、硬化剤と組み合わせたエポキシ樹脂を用いるこ
とが望ましい。エポキシ樹脂としては、分子内に2個以
上のエポキシ基を持つ化合物であればどのようなもので
もよく、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹
脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、レゾール型
エポキシ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂などのフ
ェノール類のグリシジルエーテルであるエポキシ樹脂
(フェノール型エポキシ樹脂)や脂環式エポキシ樹脂、
エポキシ化ポリブタジエン、グリシジルエステル型エポ
キシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、イソシア
ヌレート型エポキシ樹脂などが挙げられる。これらに可
とう性を付与したエポキシ樹脂も使用できる。これらの
エポキシ樹脂は、単独でまたは二種類以上混合して用い
てもかまわない。プリント配線板として必要なはんだ耐
熱性及び引き剥がし強さを有するためには、フェノール
型エポキシ樹脂、又はフェノール型エポキシ樹脂と多官
能エポキシ樹脂との混合物が好ましい。
It is preferable to use a thermosetting resin such as an epoxy resin or a phenol resin as the adhesive component. These thermosetting resins may be used alone or in combination, but in order to obtain good properties as a multilayer printed wiring board, it is desirable to use an epoxy resin combined with a curing agent. The epoxy resin may be any compound as long as it is a compound having two or more epoxy groups in the molecule, and examples thereof include phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, resol type epoxy resin, and bisphenol type epoxy resin. Epoxy resin (phenolic epoxy resin) or alicyclic epoxy resin, which is a glycidyl ether of phenols such as
Examples thereof include epoxidized polybutadiene, glycidyl ester type epoxy resin, glycidyl amine type epoxy resin, and isocyanurate type epoxy resin. Epoxy resins imparted with flexibility can also be used. These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more. A phenolic epoxy resin or a mixture of a phenolic epoxy resin and a polyfunctional epoxy resin is preferable in order to have solder heat resistance and peel strength required for a printed wiring board.

【0014】エポキシ樹脂には、硬化剤及び硬化促進剤
を用いるが、エポキシ樹脂の硬化剤及び硬化促進剤とし
ては、ノボラック型フェノール樹脂、ジシアンジアミ
ド、酸無水物、アミン類、イミダゾール、フォスフィン
類などが挙げられ、これらを単独で又は組み合わせて用
いる。
A curing agent and a curing accelerator are used for the epoxy resin, and examples of the curing agent and the curing accelerator for the epoxy resin include novolac type phenol resin, dicyandiamide, acid anhydrides, amines, imidazoles and phosphines. And these are used alone or in combination.

【0015】接着性成分と共に用いるフィルム形成性成
分としては、高分子量エポキシ重合体が望ましい。高分
子量エポキシ重合体のみを用いる場合には、高分子量エ
ポキシ重合体の重量平均分子量が100,000以上で
しかも溶剤に可溶であることを必要とする。高分子量エ
ポキシ重合体が溶剤に可溶でない場合には、ワニスが得
られないために、樹脂の混練法等の特殊な手法を採らな
い限りフィルムの形態にならず、実質上製造することが
できない。
A high molecular weight epoxy polymer is preferred as the film-forming component for use with the adhesive component. When only the high molecular weight epoxy polymer is used, it is necessary that the high molecular weight epoxy polymer has a weight average molecular weight of 100,000 or more and is soluble in a solvent. If the high molecular weight epoxy polymer is not soluble in the solvent, a varnish cannot be obtained, so unless a special method such as a resin kneading method is adopted, it does not form a film and cannot be substantially manufactured. .

【0016】高分子量エポキシ重合体の重量平均分子量
が100,000未満では常温での強度、貯蔵弾性率の
低下または成形段階での貯蔵弾性率の低下が発生しやす
く、良好な取扱性または良好な先穴明け方式IVH付多
層プリント配線板を得ることが困難である。そこで、フ
ィルム形成性成分として重量平均分子量が100,00
0未満の高分子量エポキシ重合体を用いる場合には、高
分子量エポキシ重合体との相溶性を有し、しかも高分子
量エポキシ重合体との共通溶剤に可溶でフィルム形成性
を有するポリマであるアクリルゴム、ニトリルゴム、ブ
チラール樹脂、ポリビニルアルコール、ポリウレタン、
ポリアミド、ポリエステル、ポリエーテル、ポリオレフ
ィンまたはこれらの変性品等を組み合わせて用いること
が、良好なフィルム及び先穴あけ方式IVH付多層プリ
ント配線板を得るために必要である。
When the weight average molecular weight of the high molecular weight epoxy polymer is less than 100,000, the strength at room temperature, the storage elastic modulus or the storage elastic modulus at the molding stage is liable to be lowered, and the handling property or the good handling property is good. It is difficult to obtain a multi-layer printed wiring board with a punched IVH. Therefore, the weight average molecular weight is 100,000 as the film-forming component.
When a high molecular weight epoxy polymer of less than 0 is used, it is an acrylic polymer which is compatible with the high molecular weight epoxy polymer and is soluble in a common solvent with the high molecular weight epoxy polymer and has a film-forming property. Rubber, nitrile rubber, butyral resin, polyvinyl alcohol, polyurethane,
It is necessary to use a combination of polyamide, polyester, polyether, polyolefin, or modified products thereof, etc. in order to obtain a good film and a multilayer printed wiring board with a predrilling method IVH.

【0017】高分子量エポキシ重合体は、二官能性エポ
キシ樹脂と二官能性フェノール類とを、二官能性エポキ
シ樹脂と二官能性フェノール類の配合当量比をエポキシ
基/フェノール水酸基=1/09.〜1.1とし、アル
カリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、イミダゾー
ル類、有機リン化合物、アミン類などを触媒として、沸
点が130℃以上のアミド系又はケトン系溶媒中で反応
固形分濃度50%以下で加熱して重合させて得ることが
できる。
The high-molecular-weight epoxy polymer is a bifunctional epoxy resin and a bifunctional phenol, and a compounding equivalent ratio of the bifunctional epoxy resin and the bifunctional phenol is epoxy group / phenolic hydroxyl group = 1/09. The reaction solid content concentration is 50% in an amide-based or ketone-based solvent having a boiling point of 130 ° C. or higher by using an alkali metal compound, an alkaline earth metal compound, an imidazole, an organic phosphorus compound, an amine, etc. as a catalyst. It can be obtained by heating below and polymerizing.

【0018】また、高分子量エポキシ重合体を、架橋剤
を用いて適度に三次元化させることを絶縁接着フィルム
の塗工工程中に実施することは、製造工程を増やすこと
無く多層プリント配線板の耐熱性、耐溶剤性、吸水性及
び絶縁信頼性を向上させる手法として有効である。架橋
剤としては、ポリイソシアネート及び活性水素を有する
化合物をマスク剤としてイソシアネート基をブロックし
たブロック型ポリイソシアネート、エポキシ樹脂、シラ
ノール化合物、金属酸化物、酸無水物等が挙げられる。
In addition, performing the three-dimensionalization of the high molecular weight epoxy polymer in an appropriate manner using a cross-linking agent during the step of applying the insulating adhesive film makes it possible to form a multilayer printed wiring board without increasing the number of manufacturing steps. It is effective as a method for improving heat resistance, solvent resistance, water absorption and insulation reliability. Examples of the cross-linking agent include block-type polyisocyanates in which an isocyanate group is blocked using a polyisocyanate and a compound having active hydrogen as a masking agent, an epoxy resin, a silanol compound, a metal oxide, and an acid anhydride.

【0019】この中で、架橋剤の反応性制御が容易で接
着剤ワニスの保存安定性を確保しやすく、絶縁接着フィ
ルム及び多層プリント配線板の特性低下を誘発しないと
予想できるブロック型ポリイソシアネートを用いること
が望ましい。ブロック型ポリイソシアネートとしては、
フェノール系、オキシム系、アルコール系、マスク剤等
でブロックされたトリレンジイソシアネート(TD
I)、イソフォロンジイソシアネート(IPDI)、ジ
フェニルメタンジイソシアネート(MDI)、ヘキサメ
チレンジイソシアネート(HDI)等が挙げられる。多
層プリント配線板の耐熱性を向上させるためには、フェ
ノールノボラック系マスク剤でブロックされたTDIが
好ましいが、これらのマスク剤、イソシアネート類を組
み合わせて用いてもかまわない。
Among them, a block-type polyisocyanate which can be easily controlled in the reactivity of the crosslinking agent, can easily secure the storage stability of the adhesive varnish, and can be expected not to induce the characteristic deterioration of the insulating adhesive film and the multilayer printed wiring board is selected. It is desirable to use. As a block type polyisocyanate,
Tolylene diisocyanate (TD) blocked with phenol, oxime, alcohol, masking agent, etc.
I), isophorone diisocyanate (IPDI), diphenylmethane diisocyanate (MDI), hexamethylene diisocyanate (HDI) and the like. In order to improve the heat resistance of the multilayer printed wiring board, TDI blocked with a phenol novolac masking agent is preferable, but these masking agents and isocyanates may be used in combination.

【0020】多層プリント配線板を難燃化するために、
ハロゲン化されている、特に臭素化されている、高分子
量エポキシ重合体を用いるか又は反応型難燃剤を配合す
る。難燃化するために添加型難燃剤として知られる、燐
系難燃剤や窒素系難燃剤及び無機物系難燃剤を配合する
ことも考えられるが、添加型難燃剤を配合すると、耐溶
剤性等の特性が悪いので、反応型難燃剤の配合が望まし
い。反応型難燃剤としては、ハロゲン化エポキシ樹脂、
好ましくは、臭素化エポキシ樹脂等が難燃効果の高さ及
び接着剤層が均一となり、多層プリント配線板の特性を
考慮した場合最適である。多官能ハロゲン化フェノール
類、特に、多官能臭素化フェノール類は、エポキシ樹脂
の硬化剤として作用して、良好な多層プリント配線板特
性を与えるので好ましい。いずれの場合でも、ハロゲン
含有率は、10〜40%であるのが好ましく、15〜2
5%であるのがより好ましい。
In order to make the multilayer printed wiring board flame-retardant,
Halogenated, especially brominated, high molecular weight epoxy polymers are used or reactive flame retardants are incorporated. It is also possible to mix a phosphorus-based flame retardant, a nitrogen-based flame retardant, and an inorganic-based flame retardant, which are known as additive-type flame retardants to make them flame-retardant. Since the characteristics are poor, it is desirable to add a reactive flame retardant. As the reactive flame retardant, halogenated epoxy resin,
Preferably, a brominated epoxy resin or the like has a high flame-retardant effect and a uniform adhesive layer, and is optimal when the characteristics of the multilayer printed wiring board are taken into consideration. Polyfunctional halogenated phenols, especially polyfunctional brominated phenols, are preferred because they act as curing agents for the epoxy resin and provide good multilayer printed wiring board properties. In either case, the halogen content is preferably 10 to 40%, preferably 15 to 2
It is more preferably 5%.

【0021】絶縁マトリックス及び絶縁接着フィルムに
は、さらに、シランカップリング剤を添加する。接着剤
と内層材の回路導体との接着力を向上させるためであ
る。添加するシランカップリング剤としては、エポキシ
シラン、アミノシラン、尿素シラン等が好ましい。
A silane coupling agent is further added to the insulating matrix and the insulating adhesive film. This is to improve the adhesive force between the adhesive and the circuit conductor of the inner layer material. As the silane coupling agent to be added, epoxy silane, amino silane, urea silane and the like are preferable.

【0022】各構成材は、加熱加圧して多層プリント配
線板とする。加熱加圧するとき、鏡板との間に置くクッ
ション材としては、成形温度で流動する性質を有するク
ッション材が好ましい。このようなクッション材として
は、膜厚40〜100μmのポリエチレンシート、ポリ
塩化ビニルシートなどがある。また、このクッション材
と他のクッション材及び離型シートとを組み合わせて用
いることが好ましい。
Each component is heated and pressed to form a multilayer printed wiring board. As the cushioning material placed between the end plate and the heating / pressurizing material, a cushioning material having a property of flowing at a molding temperature is preferable. Examples of such a cushion material include a polyethylene sheet and a polyvinyl chloride sheet having a film thickness of 40 to 100 μm. It is also preferable to use this cushion material in combination with another cushion material and a release sheet.

【0023】[0023]

【実施例】【Example】

実施例1 重量平均分子量が500,000の臭素化した高分子量
エポキシ重合体100重量部、その架橋剤として作用す
るフェノールノボラックでブロックしたトリレンジイソ
シアネート(TDI)20重量部、ビスフェノールA型
エポキシ樹脂30重量部、その硬化剤として作用するフ
ェノールノボラックをエポキシ樹脂と当量になるように
配合し、尿素シランカップリング剤0.5重量部を加
え、樹脂分40%のワニスを得た。このワニスを、厚さ
18μmの銅はくに塗布し、100℃で1分間、その後
150℃で1分間乾燥硬化して絶縁接着フィルム層の厚
みが50μmで臭素含有率25%の接着層付き銅はくと
した。なお、接着層の樹脂流れは、0.6%であった。
この接着層付き銅はく5枚を重ねて、NCドリルマシン
で直径0.3mmの穴をあけた。
Example 1 100 parts by weight of a brominated high molecular weight epoxy polymer having a weight average molecular weight of 500,000, 20 parts by weight of tolylene diisocyanate (TDI) blocked with a phenol novolac acting as a crosslinking agent thereof, and a bisphenol A type epoxy resin 30. By weight, phenol novolac acting as a curing agent thereof was mixed in an amount equivalent to the epoxy resin, and 0.5 part by weight of a urea silane coupling agent was added to obtain a varnish having a resin content of 40%. This varnish was applied to a copper foil having a thickness of 18 μm and dried and cured at 100 ° C. for 1 minute and then at 150 ° C. for 1 minute to form an insulating adhesive film layer having a thickness of 50 μm and a copper layer with an adhesive layer having a bromine content of 25%. I was tired. The resin flow of the adhesive layer was 0.6%.
Five copper foils with an adhesive layer were piled up, and a hole having a diameter of 0.3 mm was made with an NC drill machine.

【0024】別に、同じ接着層付き銅はく2枚を銅はく
が外側となるようにして重ね、140℃、2MPaで1
0分間加熱加圧して仮接着し、銅はくをエッチングして
回路を形成して内層材を得た。接着層付き銅はくにあけ
た穴と内層材回路の導体ランド部分とが重なるようにし
て位置合わせして重ね、厚さ40μmのポリエチレンシ
ートとクラフト紙3枚を介して鏡板で挟み、真空プレス
を用いて170℃、4MPaで30分間加熱加圧した。
引き続き、得られた表面銅はくを加工して配線パターン
を形成し、先に穴あけ加工した部分と内層回路板の導体
ランド部分とをめっきで導通することによりIVH付4
層プリント配線板を得た。
Separately, two copper foils with the same adhesive layer were stacked so that the copper foils were on the outside, and 1 at 140 ° C. and 2 MPa.
Heat and pressure were applied for 0 minutes for temporary adhesion, and copper foil was etched to form a circuit to obtain an inner layer material. The holes in the copper foil with the adhesive layer and the conductor lands of the inner layer material circuit are aligned and overlapped so that they overlap each other, sandwiched between a polyethylene sheet with a thickness of 40 μm and three pieces of kraft paper with a mirror plate, and vacuum-pressed. It was heated and pressed at 170 ° C. and 4 MPa for 30 minutes.
Subsequently, the obtained surface copper foil is processed to form a wiring pattern, and the portion which has been previously drilled and the conductor land portion of the inner layer circuit board are electrically connected by plating, thereby providing IVH 4
A layer printed wiring board was obtained.

【0025】実施例2 重量平均分子量500,000の臭素化した高分子量エ
ポキシ重合体100重量部に代えて重量平均分子量5
0,000の臭素化した高分子量エポキシ重合体80重
量部と20重量部の変性アクリルゴムを配合する以外は
実施例1と同様にしてIVH付4層プリント配線板を得
た。なお、接着層の樹脂流れは0.80%であった。
Example 2 Weight average molecular weight of 5 instead of 100 parts by weight of brominated high molecular weight epoxy polymer having a weight average molecular weight of 500,000.
A 4-layer printed wiring board with IVH was obtained in the same manner as in Example 1 except that 80 parts by weight of a brominated high molecular weight epoxy polymer and 20 parts by weight of a modified acrylic rubber were blended. The resin flow of the adhesive layer was 0.80%.

【0026】実施例3 重量平均分子量500,000の臭素化した高分子量エ
ポキシ重合体100重量部に代えて重量平均分子量50
0,000の臭素化した高分子量エポキシ重合体50重
量部と重量平均分子量500,000の臭素化していな
い高分子量エポキシ重合体50重量部を配合し、ビスフ
ェノールA型エポキシ樹脂30重量部に代えてビスフェ
ノールA型エポキシ樹脂15重量部と臭素化したビスフ
ェノールA型エポキシ樹脂15重量部を配合する以外は
実施例1と同様にしてIVH付4層プリント配線板を得
た。なお、接着層の樹脂流れは0.30%であった。
Example 3 Weight average molecular weight 50 instead of 100 parts by weight of brominated high molecular weight epoxy polymer having a weight average molecular weight of 500,000.
50 parts by weight of a 0000 brominated high molecular weight epoxy polymer and 50 parts by weight of a non-brominated high molecular weight epoxy polymer having a weight average molecular weight of 500,000 are blended, and replaced with 30 parts by weight of a bisphenol A type epoxy resin. A 4-layer printed wiring board with IVH was obtained in the same manner as in Example 1 except that 15 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin and 15 parts by weight of brominated bisphenol A type epoxy resin were mixed. The resin flow of the adhesive layer was 0.30%.

【0027】実施例4 銅はくを厚さ12μmとし、絶縁接着フィルム層の厚み
が25μmとなるようにしたほかは実施例1と同様にし
てIVH付4層プリント配線板を得た。
Example 4 A 4-layer printed wiring board with IVH was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the copper foil was 12 μm and the thickness of the insulating adhesive film layer was 25 μm.

【0028】実施例5 銅はくを厚さ9μmとし、絶縁接着フィルム層の厚みが
15μmとなるようにしたほかは実施例1と同様にして
IVH付4層プリント配線板を得た。
Example 5 A 4-layer printed wiring board with IVH was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the copper foil was 9 μm and the thickness of the insulating adhesive film layer was 15 μm.

【0029】比較例 銅はく厚さ18μmのガラスエポキシ両面銅張積層板に
回路加工を施してた内層材及び実施例1で得られた接着
層付き銅はくを用い、以下実施例1と同様にしてIVH
付4層プリント配線板を得た。
Comparative Example Copper foil An inner layer material obtained by subjecting a glass epoxy double-sided copper clad laminate having a thickness of 18 μm to circuit processing and the copper foil with an adhesive layer obtained in Example 1 were used. Similarly IVH
An attached 4-layer printed wiring board was obtained.

【0030】得られたIVH付4層プリント配線板につ
いて、外層回路の表面段差、はんだ耐熱性、熱膨張係数
を測定した。また、積層体に設けた穴内への積層成形後
の樹脂流れ込み量(穴内壁から穴内に流れ込んだ樹脂先
端までの距離)を調べた。その結果を表1に示す。な
お、はんだ耐熱性は、4層プリント配線板を260℃の
はんだ浴に浸漬してふくれ・はがれを生ずるまでの秒数
を測定したもの、表面段差は表面粗さ計で測定したもの
である。
With respect to the obtained 4-layer printed wiring board with IVH, the surface step of the outer layer circuit, solder heat resistance, and thermal expansion coefficient were measured. In addition, the amount of resin flowing into the hole provided in the laminate after the lamination molding (the distance from the inner wall of the hole to the tip of the resin flowing into the hole) was examined. Table 1 shows the results. The solder heat resistance is measured by immersing the 4-layer printed wiring board in a solder bath at 260 ° C. and measuring the number of seconds until swelling / peeling occurs, and the surface step is measured by a surface roughness meter.

【0031】なお、接着層付き銅はくを5枚重ねてNC
ドリルマシンにより直径0.3mmの穴あけをしたとき
の穴あけ性は、実施例、比較例いずれも良好であった。
また、内層材と接着層付き銅はくとを重ねて加熱加圧し
たときの内層回路(ライン幅0.2mm、ライン間隔
0.1mm)への充填性は、実施例がいずれも良好、比
較例はNGであった。また、IVH付4層プリント配線
板のIVH貫通性は、実施例、比較例いずれも良好であ
った。さらに、CAF(Conductive ano
dic firament)についても、実施例、比較
例いずれも良好であった。また、IVH付4層プリント
配線板から、表面導体をエッチングにより除去した後の
耐燃性は、実施例、比較例いずれもUL94のVTM−
0であった。
It is to be noted that five copper foils with an adhesive layer are stacked and NC
The drillability when drilling a diameter of 0.3 mm with a drill machine was good in both Examples and Comparative Examples.
In addition, the filling property to the inner layer circuit (line width 0.2 mm, line interval 0.1 mm) when the inner layer material and the copper foil with the adhesive layer are overlapped and heated and pressed is good in all the examples. An example was NG. The IVH penetration of the 4-layer printed wiring board with IVH was good in both Examples and Comparative Examples. In addition, CAF (Conductive)
As for the dic filament, both the examples and the comparative examples were good. Further, the flame resistance after removing the surface conductors from the IVH-attached four-layer printed wiring board by etching is UL94 VTM-in both Examples and Comparative Examples.
It was 0.

【0032】[0032]

【表1】 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 項 目 実施例1 実施例2 実施例3 ────────────────────────────── 表面段差(μm) 5≧ 5≧ 5≧ はんだ耐熱性(秒) 180< 120 150 熱膨張特性(ppm/℃) 40 55 45 樹脂流れ込み量(μm) 25 50 50 ────────────────────────────── 項 目 実施例4 実施例5 比較例 ────────────────────────────── 表面段差(μm) 5≧ 5≧ 5≧ はんだ耐熱性(秒) 180< 180< 180< 熱膨張特性(ppm/℃) 40 40 30 樹脂流れ込み量(μm) 25 25 25 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━[Table 1] ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ Item Item Example 1 Example 2 Example 3 ───── ───────────────────────── Surface step (μm) 5 ≧ 5 ≧ 5 ≧ Solder heat resistance (seconds) 180 <120 150 Thermal expansion characteristics ( ppm / ° C) 40 55 45 Resin inflow amount (μm) 25 50 50 ────────────────────────────── Item Item Example 4 Example 5 Comparative example ────────────────────────────── Surface step (μm) 5 ≧ 5 ≧ 5 ≧ Solder heat resistance (Second) 180 <180 <180 <Thermal expansion characteristics (ppm / ° C) 40 40 30 Resin flow-in amount (μm) 25 25 25 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ ━━━━━━━━━

【0033】[0033]

【発明の効果】以上本発明によれば、半硬化状態の接着
性成分とフィルム形成性成分とからなる絶縁マトリック
スと、この絶縁マトリックスの片面又は両面に接着され
た銅はくとからなる内層材に回路加工を施し、半硬化状
態の接着性成分とフィルム形成性成分とからなる絶縁接
着フィルムを介して外層銅はくを内層材の回路面に重
ね、加熱加圧して、半硬化状態の接着性成分を硬化させ
るようにしたので、内層回路の凹凸による段差が表面に
出現せず、耐熱性もすぐれた多層プリント配線板を製造
できる。
As described above, according to the present invention, an inner layer material comprising an insulating matrix composed of an adhesive component in a semi-cured state and a film-forming component, and a copper foil adhered to one side or both sides of the insulating matrix. The outer layer copper foil is laid on the circuit surface of the inner layer material through an insulating adhesive film consisting of a semi-cured adhesive component and a film-forming component, and heated and pressed to bond the semi-cured state. Since the conductive component is cured, a step due to the unevenness of the inner layer circuit does not appear on the surface, and a multilayer printed wiring board having excellent heat resistance can be manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例に関し、(a)は、加熱加圧前
の状態の断面図、(b)は加熱加圧後の状態の断面図で
ある。
FIG. 1A is a cross-sectional view of a state before heating and pressurizing, and FIG. 1B is a cross-sectional view of a state after heating and pressing according to an embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 絶縁マトリックス 2 内層材の回路面 3 内層材 4 絶縁接着フィルム 5 外層銅はく 1 Insulation matrix 2 Circuit surface of inner layer material 3 Inner layer material 4 Insulating adhesive film 5 Outer layer copper foil

─────────────────────────────────────────────────────
────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成8年2月15日[Submission date] February 15, 1996

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0003[Correction target item name] 0003

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0003】最近の多層プリント配線板は、高密度配線
化し、一つの導体層と他の導体層の電気的接続に使用さ
れる箇所も多くなっている。このため、配線板を貫通す
るスルーホールを設け、このスルーホール内壁に銅めっ
きを析出させることにより、異なる導体層間を電気的に
接続しているが、このスルーホールによる接続では、必
要な接続を行う層間以外の層にも穴を通すことになり接
続と無関係な層においては、その穴を避けて、配線を行
わなければならず、設計の自由度や配線の高密度化の障
害となる。そこで、配線板全体を貫通する穴だけを使用
するのではなく、接続を必要とする配線層のみの接続を
行う、いわゆるインターステイシャルバイアホール(I
VH)を形成するようになってきている。
[0003] Recent multilayer printed wiring board, and high-density wiring of, has many places to be used for electrical connection of one conductive layer and another conductive layer. For this reason, a through hole is provided that penetrates the wiring board, and copper plating is deposited on the inner wall of this through hole to electrically connect different conductor layers. Holes are also made to pass through layers other than the layers to be formed, and in layers unrelated to the connection, the holes must be avoided to perform wiring, which is an obstacle to the degree of freedom in designing and increasing the density of wiring. Therefore, what is called an interstitial via hole (I) is used in which only the wiring layer that needs to be connected is used instead of using only the hole penetrating the entire wiring board.
VH) is being formed.

【手続補正2】[Procedure amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0017[Correction target item name] 0017

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0017】高分子量エポキシ重合体は、二官能性エポ
キシ樹脂と二官能性フェノール類とを、二官能性エポキ
シ樹脂と二官能性フェノール類の配合当量比をエポキシ
基/フェノール水酸基=1/0.9〜1.1とし、アル
カリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、イミダゾー
ル類、有機リン化合物、アミン類などを触媒として、沸
点が130℃以上のアミド系又はケトン系溶媒中で反応
固形分濃度50%以下で加熱して重合させて得ることが
できる。
The high molecular weight epoxy polymer comprises a bifunctional epoxy resin and a bifunctional phenol, and a compounding equivalent ratio of the bifunctional epoxy resin and the bifunctional phenol is epoxy group / phenolic hydroxyl group = 1 / 0.0. 9 to 1.1, using an alkali metal compound, an alkaline earth metal compound, an imidazole, an organic phosphorus compound, an amine, etc. as a catalyst, and a reaction solid content concentration of 50 in an amide or ketone solvent having a boiling point of 130 ° C. or higher. % Or less to heat and polymerize.

【手続補正3】[Procedure 3]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0029[Name of item to be corrected] 0029

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0029】比較例 銅はく厚さ18μmのガラスエポキシ両面銅張積層板に
回路加工を施した内層材及び実施例1で得られた接着層
付き銅はくを用い、以下実施例1と同様にしてIVH付
4層プリント配線板を得た。
[0029] Comparative Example Copper using an adhesive layer with copper foil obtained in the inner layer material and the first embodiment described facilities circuits working on a glass epoxy double-sided copper-clad laminate of the Ku thickness 18 [mu] m, similar to the following Example 1 Thus, a 4-layer printed wiring board with IVH was obtained.

【手続補正4】[Procedure amendment 4]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0032[Correction target item name] 0032

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0032】[0032]

【表1】 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 項 目 実施例1 実施例2 実施例3 ────────────────────────────── 表面段差(μm) 5≧ 5≧ 5≧ はんだ耐熱性(秒) 180< 120 150 熱膨張特性(ppm/℃) 40 55 45 樹脂流れ込み量(μm) 25 50 50 ────────────────────────────── 項 目 実施例4 実施例5 比較例 ────────────────────────────── 表面段差(μm) 5≧ 5≧ 15≧ はんだ耐熱性(秒) 180< 180< 180< 熱膨張特性(ppm/℃) 40 40 30 樹脂流れ込み量(μm) 25 25 2 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━[Table 1] ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ Item Item Example 1 Example 2 Example 3 ───── ───────────────────────── Surface step (μm) 5 ≧ 5 ≧ 5 ≧ Solder heat resistance (seconds) 180 <120 150 Thermal expansion characteristics ( ppm / ° C) 40 55 45 Resin inflow amount (μm) 25 50 50 ────────────────────────────── Item Item Example 4 Example 5 Comparative Example ────────────────────────────── Surface step (μm) 5 ≧ 5 ≧ 15 ≧ Solder heat resistance (Second) 180 <180 <180 <Thermal expansion characteristics (ppm / ° C) 40 40 30 Resin flow-in amount (μm) 25 25 2 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ ━━━━━━━━━

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半硬化状態の接着性成分とフィルム形成
性成分とからなる絶縁マトリックスと、この絶縁マトリ
ックスの片面又は両面に接着された銅はくとからなる内
層材に回路加工を施し、半硬化状態の接着性成分とフィ
ルム形成性成分とからなる絶縁接着フィルムを介して外
層銅はくを内層材の回路面に重ね、加熱加圧して、半硬
化状態の接着性成分を硬化させることを特徴とする多層
プリント配線板の製造方法。
1. An inner layer material composed of an insulating matrix composed of an adhesive component in a semi-cured state and a film-forming component, and a copper foil adhered to one or both sides of the insulating matrix is subjected to circuit processing, An outer layer copper foil is placed on the circuit surface of the inner layer material through an insulating adhesive film consisting of a cured adhesive component and a film-forming component, and heated and pressed to cure the semi-cured adhesive component. A method for manufacturing a characteristic multilayer printed wiring board.
【請求項2】 内層材が、銅はくの片面に半硬化状態の
接着性成分とフィルム形成性成分とからなる絶縁マトリ
ックス層を形成したフィルムを、絶縁マトリックス層を
向き合わせて仮接着した複合シートである請求項1記載
の多層プリント配線板の製造方法。
2. A composite in which an inner layer material is a copper foil, on one side of which a film having an insulating matrix layer comprising a semi-cured adhesive component and a film-forming component is formed, and the insulating matrix layers are faced to each other for temporary adhesion. The method for producing a multilayer printed wiring board according to claim 1, which is a sheet.
【請求項3】 絶縁マトリックス及び絶縁接着フィルム
の接着性成分がエポキシ樹脂である請求項1又は2記載
の多層プリント配線板の製造方法。
3. The method for producing a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the adhesive component of the insulating matrix and the insulating adhesive film is an epoxy resin.
【請求項4】 絶縁マトリックス及び絶縁接着フィルム
のフィルム形成性成分が、フィルム形成能を有する高分
子量エポキシ重合体であることを特徴とする請求項1、
2又は3に記載の多層プリント配線板の製造方法。
4. The insulating matrix and the film forming component of the insulating adhesive film are high molecular weight epoxy polymers having film forming ability.
2. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to 2 or 3.
【請求項5】 フィルム形成能を有する高分子量エポキ
シ重合体の重量平均分子量が、100,000以上であ
ることを特徴とする請求項4に記載の多層プリント配線
板の製造方法。
5. The method for producing a multilayer printed wiring board according to claim 4, wherein the high molecular weight epoxy polymer having film forming ability has a weight average molecular weight of 100,000 or more.
【請求項6】 絶縁マトリックス及び絶縁接着フィルム
のフィルム形成性成分が、高分子量エポキシ重合体及び
この高分子量エポキシ重合体と相溶性を有しかつ同じ溶
剤に可溶なフィルム形成性ポリマーを成分とすることを
特徴とする請求項1、2又は3に記載の多層プリント配
線板の製造方法。
6. The insulating matrix and the film-forming component of the insulating adhesive film are composed of a high molecular weight epoxy polymer and a film forming polymer which is compatible with the high molecular weight epoxy polymer and soluble in the same solvent. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 1, 2, or 3.
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