KR100722741B1 - Multilayer printed circuit board and fabricating method therefore - Google Patents

Multilayer printed circuit board and fabricating method therefore Download PDF

Info

Publication number
KR100722741B1
KR100722741B1 KR1020050118613A KR20050118613A KR100722741B1 KR 100722741 B1 KR100722741 B1 KR 100722741B1 KR 1020050118613 A KR1020050118613 A KR 1020050118613A KR 20050118613 A KR20050118613 A KR 20050118613A KR 100722741 B1 KR100722741 B1 KR 100722741B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
printed circuit
circuit board
resin composition
multilayer printed
metal layer
Prior art date
Application number
KR1020050118613A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
노부유끼 이케구찌
이동규
오창건
Original Assignee
삼성전기주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전기주식회사 filed Critical 삼성전기주식회사
Priority to KR1020050118613A priority Critical patent/KR100722741B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100722741B1 publication Critical patent/KR100722741B1/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/40Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K3/42Plated through-holes or plated via connections
    • H05K3/421Blind plated via connections
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4611Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards
    • H05K3/4614Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards the electrical connections between the circuit boards being made during lamination
    • H05K3/462Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards the electrical connections between the circuit boards being made during lamination characterized by laminating only or mainly similar double-sided circuit boards
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4611Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards
    • H05K3/4623Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards the circuit boards having internal via connections between two or more circuit layers before lamination, e.g. double-sided circuit boards

Abstract

적어도 한 쌍의 제1금속층 및 제1금속층 사이에 삽입되어 적층된 제2금속층으로부터 형성되는 상부 회로패턴, 하부 회로패턴 및 내부 회로패턴과, 제1회로패턴 상에 각각 적층되어 상부 회로패턴 및 하부 회로패턴을 매몰하는 수지 조성물층과, 수지조성물층에 형성되어 상부 회로패턴 및 하부 회로패턴을 연결하는 블라인드 비어홀과, 수지조성물층에 형성된 블라인드 비어홀과 연결되는 외층 회로패턴과, 외층 회로패턴과 연결되는 외부 연결수단을 포함하는 다층 인쇄회로기판은, 신호 전달성이 뛰어나고 방열성이 우수하며 보강재를 필요로 하지 않을 뿐만 아니라 고주파, 특히 20 GHz 이상에서 유전 특성이 우수하고 전송 손실이 향상된다. An upper circuit pattern, a lower circuit pattern, and an inner circuit pattern formed from at least a pair of first metal layers and a second metal layer interposed between the first metal layer and the first metal layer; A resin composition layer for embedding the circuit pattern, a blind via hole formed in the resin composition layer to connect the upper circuit pattern and the lower circuit pattern, an outer circuit pattern connected to the blind via hole formed in the resin composition layer, and connected to the outer circuit pattern The multilayer printed circuit board including the external connection means is excellent in signal transmission, excellent in heat dissipation, does not require a reinforcing material, and has excellent dielectric properties and high transmission loss at high frequencies, particularly 20 GHz or more.

비할로겐, 블라인드 비어홀, 세미 애디티브, 다층 메탈코어 Non-halogen, blind beer hole, semi-additive, multilayer metal core

Description

다층 인쇄회로기판 및 그 제작방법{MULTILAYER PRINTED CIRCUIT BOARD AND FABRICATING METHOD THEREFORE}Multilayer printed circuit board and its manufacturing method {MULTILAYER PRINTED CIRCUIT BOARD AND FABRICATING METHOD THEREFORE}

도 1은 본 발명의 실제 예에 따른 다층 인쇄회로기판 제작방법으로 제1금속층 상의 일부에 레지스터를 위치시킨 상태를 도시한 단면도.1 is a cross-sectional view showing a state in which a resistor is located on a part of a first metal layer in a method of manufacturing a multilayer printed circuit board according to a practical example of the present invention.

도 2는 도 1에서 제1금속층의 일부를 제거하여 상부 회로패턴을 형성한 상태를 도시한 단면도.FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a state in which an upper circuit pattern is formed by removing a portion of the first metal layer in FIG. 1. FIG.

도 3은 도 2에서 상부 회로패턴 상에 수지조성물층을 적층하고 제1금속층 상에 하부 회로패턴을 형성한 상태를 도시한 단면도. 3 is a cross-sectional view illustrating a state in which a resin composition layer is stacked on an upper circuit pattern in FIG. 2 and a lower circuit pattern is formed on a first metal layer.

도 4는 도 3에서 하부 회로패턴 상에 수지조성물층을 적층한 상태를 도시한 단면도. 4 is a cross-sectional view illustrating a state in which a resin composition layer is stacked on a lower circuit pattern in FIG. 3.

도 5는 도 4에서 블라인드 비어홀 및 외층 회로를 수지조성물층 상에 형성한 상태를 도시한 단면도. FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a blind via hole and an outer layer circuit formed on the resin composition layer in FIG. 4; FIG.

도 6은 도 5에서 영구 보호피막 및 솔더볼을 형성한 상태를 도시한 단면도. 6 is a cross-sectional view showing a state in which a permanent protective film and a solder ball formed in FIG.

도 7은 비교예1에 따른 다층 인쇄회로기판의 단면도. 7 is a cross-sectional view of a multilayer printed circuit board according to Comparative Example 1;

도 8은 비교예2에 따른 다층 인쇄회로기판의 단면도. 8 is a sectional view of a multilayer printed circuit board according to Comparative Example 2;

도 9는 비교예3에 따른 다층 인쇄회로기판의 단면도.9 is a sectional view of a multilayer printed circuit board according to Comparative Example 3. FIG.

<도면 부호의 설명><Description of Drawing>

11: 제1금속층 13: 제2금속층11: first metal layer 13: second metal layer

15: 에칭 레지스터 17: 상부 회로패턴 15: etching resistor 17: upper circuit pattern

18: 하부 회로패턴 19: 내층 회로패턴18: lower circuit pattern 19: inner layer circuit pattern

21: 수지 조성물층 23: 블라인드 비어홀21: resin composition layer 23: blind via hole

25: 외부 회로패턴 27: 영구 보호피막25: external circuit pattern 27: permanent protective film

29: 칩 접합용 솔더볼 31: 기판 접합용 솔더볼29: solder ball for chip bonding 31: solder ball for board bonding

본 발명은 칩과 접속될 수 있는 다층 인쇄회로기판 및 그 제작방법에 관한 것이다. The present invention relates to a multilayer printed circuit board that can be connected to a chip and a method of manufacturing the same.

최근 전자기기는 더욱 소형, 박형 및 경량화 되어 가고 있으며, 이와 같은 전자기기에 탑재되는 반도체 칩 또한 더욱 더 고집적화 되고 있다. 이로 인해 반도체 칩을 기판에 실장하는 방법으로 와이어 본딩과 플립칩 본딩(flipchip bonding) 방식이 많이 사용되고 있으며, 이에 대응하는 고밀도의 인쇄회로기판이 많이 제작되고 있다.Recently, electronic devices are becoming smaller, thinner, and lighter, and semiconductor chips mounted on such electronic devices are becoming more and more highly integrated. For this reason, wire bonding and flip chip bonding are widely used as a method of mounting a semiconductor chip on a substrate, and a high density printed circuit board corresponding thereto is manufactured.

인쇄회로 기판을 고밀도로 하기 위해서는, 회로를 세선(細線)으로 제작하거나 세미 애디티브(semi-additive) 공법에 의한 인쇄회로기판이 많이 제조되게 되었 다. 또한, 반도체 칩과의 연결을 위해서 스택 비어(stack via) 등의 방식이 고안 되어 실용화 되고 있다(일본국 특개2003-23222호 공보 참조). 이 경우에, 코어재를 사용하지 않고 한 면에 빌드업 공법만으로 고밀도 프린트 배선판을 제작하는 방법도 있지만, 코어리스(coreless)를 위해서 완성품이 된 후에 보강재(stiffener)를 적층하기도 한다. 그리고 두꺼운 금속판의 한 면에 빌드업(build up)하고, 반도체 칩 실장 후에 보강재의 금속판을 떼어내는 등의 방법도 사용되고 있다. In order to increase the density of printed circuit boards, many printed circuit boards have been manufactured by using a thin wire or a semi-additive method. In addition, a stack via or the like has been devised for practical connection with a semiconductor chip (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-23222). In this case, there is also a method of manufacturing a high density printed wiring board using only a build-up method on one surface without using a core material. However, a stiffener may be laminated after becoming a finished product for coreless use. A method of building up one side of a thick metal plate and removing the metal plate of the reinforcing material after semiconductor chip mounting is also used.

또한, 반도체 칩 및 인쇄회로기판을 고주파의 환경에서 사용하는 경우, 주파수대역이 1 GHz 이상, 특히 20 GHz 이상인 경우에는, 유전 탄젠트가 높아져 노이즈가 발생하는 문제점이 야기된다. 그리고 종래의 인쇄회로기판은 환경 및 안전을 중시하는 최근의 각종 규제에 적합하지 않은 것이 사실이다. In addition, when the semiconductor chip and the printed circuit board are used in a high frequency environment, when the frequency band is 1 GHz or more, particularly 20 GHz or more, the dielectric tangent becomes high, causing noise. In addition, it is true that the conventional printed circuit board is not suitable for the recent various regulations that emphasize environment and safety.

이러한 문제점을 해결하기 위해, 유리포기재 테플론계 동장적층판을 이용한 고주파 프린트 배선판이 개발되었다(일본국 특허 공보 특개 2003-338670호 참조). 그러나, 테플론은 동도금을 하는 경우 특수한 전처리 공정을 필요로 할 뿐만 아니라, 방열성이 나쁘기 때문에 발열이 많은 반도체 칩은 사용할 수 없는 문제점을 가진다. In order to solve this problem, a high frequency printed wiring board using a glass-based Teflon-based copper clad laminate was developed (see Japanese Patent Laid-Open No. 2003-338670). However, Teflon not only requires a special pretreatment process when copper plating, but also has a problem in that a semiconductor chip having a high heat generation cannot be used because of poor heat dissipation.

본 발명은 신호 전달성이 뛰어나고 방열성이 우수한 다층 인쇄회로기판을 제공한다. The present invention provides a multilayer printed circuit board having excellent signal transmission and excellent heat dissipation.

본 발명은 보강재를 필요로 하지 않고, 고주파, 특히 20 GHz 이상에서 유전 특성이 우수하고 전송 손실이 향상된 다층 인쇄회로기판을 제공한다. The present invention does not require a reinforcing material, and provides a multilayer printed circuit board having excellent dielectric properties and improved transmission loss at high frequencies, particularly 20 GHz or more.

본 발명은 UL94V-0의 내연성을 가지는 비할로겐(non halogen)의 다층 인쇄회로기판을 제공한다. The present invention provides a non-halogen (non halogen) multilayer printed circuit board having a flame resistance of UL94V-0.

본 발명의 일 측면에 따른 다층 인쇄회로기판은, 적어도 한 쌍의 제1금속층 및 제1금속층 사이에 삽입되어 적층된 제2금속층으로부터 형성되는 상부 회로패턴, 하부 회로패턴 및 내부 회로패턴과, 제1회로패턴 상에 각각 적층되며 상부 회로패턴 및 하부 회로패턴을 매몰하는 수지조성물층과, 수지조성물층에 형성되며 상부 회로패턴 및 하부 회로패턴과 연결되는 블라인드 비어홀과, 수지조성물층에 형성되며 블라인드 비어홀과 연결되는 외층 회로패턴과, 외층 회로패턴과 연결되는 외부 연결수단을 포함한다. According to an aspect of the present invention, there is provided a multilayer printed circuit board including: an upper circuit pattern, a lower circuit pattern, and an internal circuit pattern formed from at least a pair of first metal layers and a second metal layer interposed and stacked between the first metal layer and the first metal layer; A resin composition layer laminated on one circuit pattern and buried in an upper circuit pattern and a lower circuit pattern, a blind via hole formed in the resin composition layer and connected to the upper circuit pattern and the lower circuit pattern, and formed in the resin composition layer and blinded. An outer circuit pattern connected to the via hole and an external connection means connected to the outer circuit pattern.

본 발명의 실시 예들에 따른 다층 인쇄회로기판은 다음과 같은 특징들을 하나 또는 그 이상을 설명할 수 있다. 예를 들면, 제1금속층은 동박 또는 동박 합금에 의해 형성될 수 있고, 제2금속층은 니켈, 알루미늄, 주석, 티탄, 스테인레스, 또는 이들의 합금, 42 합금(alloy)에 의해 형성될 수 있다. 그리고 제1금속층 및 제2금속층 전체의 두께는 50~300㎛일 수 있다. 또한, 제2금속층의 양면에는 한 쌍의 제1금속층이 적층될 수 있다. The multilayer printed circuit board according to embodiments of the present invention may describe one or more of the following features. For example, the first metal layer may be formed of copper foil or copper foil alloy, and the second metal layer may be formed of nickel, aluminum, tin, titanium, stainless, or an alloy thereof, alloy 42. The first metal layer and the second metal layer may have a thickness of about 50 μm to about 300 μm. In addition, a pair of first metal layers may be stacked on both surfaces of the second metal layer.

수지 조성물층은 에폭시 수지, 시안산 에스테르 수지, 마레이미드 수지, 폴리이미드 수지, 관능기 부가 폴리페닐렌 에테르 수지 또는 이들의 조합에 의해 형 성되거나, 액정 폴리에스테르 수지 또는 시안산 에스테르 수지일 수 있다. 그리고 수지조성물층은 시안산 에스테르 수지와 액정 폴리에스테르 섬유포 기재의 혼합물에 의해 형성될 수도 있다. 수지조성물층에는 경화제 및/또는 촉매제가 첨가될 수 도 있다. 수지조성물층은 유리 섬유 직포 또는 부직포, 폴리오키사조르 섬유, 전방향족 폴리아미드 섬유, 액정 폴리에스테르 섬유의 직포 또는 부직포에 의해 형성될 수도 있다. The resin composition layer may be formed of an epoxy resin, a cyanic acid ester resin, a marimide resin, a polyimide resin, a functional group-added polyphenylene ether resin, or a combination thereof, or may be a liquid crystal polyester resin or a cyanic acid ester resin. And the resin composition layer may be formed by a mixture of the cyanic acid ester resin and the liquid crystal polyester fiber cloth base. A curing agent and / or a catalyst may be added to the resin composition layer. The resin composition layer may be formed by a woven or nonwoven fabric of glass fiber woven or nonwoven fabric, polykisazor fiber, wholly aromatic polyamide fiber, liquid crystalline polyester fiber.

외부 연결수단은 수지 조성물층에 형성된 솔더 볼일 수 있으며, 칩과 연결되는 칩 접합용 솔더 볼 및 기판과 연결되는 기판 접합용 솔더 볼로 이루어질 수 있다.The external connection means may be a solder ball formed in the resin composition layer, and may be made of a solder ball for chip bonding connected to a chip and a solder ball for substrate bonding connected to a substrate.

외층 회로패턴 상에는 영구 보호피막이 형성될 수도 있으며, 난소성의 솔더 레지스트에 의해 형성될 수 있다. 수지조성물층은 비할로겐(non halogen)이며 자기 소화성(UL94V-1)일 수 있다. A permanent protective film may be formed on the outer circuit pattern, and may be formed by an incombustible solder resist. The resin composition layer may be non halogen and self extinguishing (UL94V-1).

본 발명의 일 측면에 따른 다층 인쇄회로기판 제작방법은, 제2금속층의 양 면에 제1금속층을 적층하는 단계와, 일면의 제1금속층에 상부 회로패턴을 형성한 후 수지조성물층을 적층하는 단계와, 타면의 제1금속층에 하부 회로패턴을 그리고 제2금속층에 내부 회로패턴을 형성한 후 수지조성물층을 적층하는 단계와, 수지조성물층에 상부 회로패턴 및 하부 회로패턴과 연결되는 블라인드 비어 홀을 형성하는 단계와, 블라인드 비어 홀을 충전함과 동시에 외층 회로를 형성하는 단계를 포함한다. In accordance with an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a multilayer printed circuit board, including stacking first metal layers on both surfaces of a second metal layer, and forming a resin composition layer after forming an upper circuit pattern on a first metal layer on one surface. And forming a lower circuit pattern on the first metal layer on the other surface and an inner circuit pattern on the second metal layer, and then laminating a resin composition layer, and a blind via connected to the upper circuit pattern and the lower circuit pattern on the resin composition layer. Forming a hole, and simultaneously filling the blind via hole and forming an outer layer circuit.

본 발명의 실시 예들에 따른 다층 인쇄회로기판 제작방법은 다음과 같은 특 징들을 하나 또는 그 이상을 가질 수 있다. 예를 들면, 제1금속층은 동박 또는 동박 합금에 의해 형성되고, 제2금속층은 니켈, 알루미늄, 주석, 티탄, 스테인레스, 또는 이들의 합금, 42 합금(alloy)에 의해 형성될 수 있다. 그리고 제1금속층 및 제2금속층 전체의 두께는 50~300㎛일 수 있다. 제1금속층은 제2금속층의 양면에 상온 및 저압의 조건에서 압접에 의해 적층될 수 있다. 제1금속층의 압접 전에 제2금속층의 양면을 이온 에칭할 수 있으며, 제1금속층은 제2금속층의 양면의 도금에 의해 형성될 수 있다. The method of manufacturing a multilayer printed circuit board according to embodiments of the present invention may have one or more of the following features. For example, the first metal layer may be formed of copper foil or a copper foil alloy, and the second metal layer may be formed of nickel, aluminum, tin, titanium, stainless, or an alloy thereof, alloy 42. The first metal layer and the second metal layer may have a thickness of about 50 μm to about 300 μm. The first metal layer may be laminated on both surfaces of the second metal layer by pressure welding under conditions of room temperature and low pressure. Both surfaces of the second metal layer may be ion etched before pressing the first metal layer, and the first metal layer may be formed by plating on both sides of the second metal layer.

수지조성물층은 에폭시 수지, 시안산 에스테르 수지, 마레이미드 수지, 폴리이미드 수지, 관능기 부가 폴리페닐렌 에테르 수지 또는 이들의 조합에 의해 형성되거나, 액정 폴리에스테르 수지 또는 시안산 에스테르 수지로 형성될 수 있다. 그리고 수지조성물층은 시안산 에스테르 수지와 액정 폴리에스테르 섬유포 기재의 혼합물에 의해 형성될 수도 있다. The resin composition layer may be formed of an epoxy resin, a cyanic acid ester resin, a marimide resin, a polyimide resin, a functional group-added polyphenylene ether resin, or a combination thereof, or may be formed of a liquid crystal polyester resin or a cyanic acid ester resin. . And the resin composition layer may be formed by a mixture of the cyanic acid ester resin and the liquid crystal polyester fiber cloth base.

수지조성물층에는 경화제 및/또는 촉매제가 첨가될 수 있으며, 수지조성물층은 유리 섬유 직포 또는 부직포, 폴리오키사조르 섬유, 전방향족 폴리아미드 섬유, 액정 폴리에스테르 섬유의 직포 또는 부직포에 의해 형성될 수도 있다. A curing agent and / or a catalyst may be added to the resin composition layer, and the resin composition layer may be formed by a woven or nonwoven fabric of glass fiber woven or nonwoven fabric, polykisazor fiber, wholly aromatic polyamide fiber, liquid crystalline polyester fiber. .

외부 연결수단은 수지조성물층에 형성된 솔더볼이며, 솔더볼은 칩과 연결되는 칩 접합용 솔더볼 및 기판과 연결되는 기판 접합용 솔더볼일 수 있다. 수지조성물층의 외층에는 외층 회로패턴 상에 영구 보호피막을 형성하는 단계를 추가로 포함할 수 있다. 영구 보호피막은 난소성의 솔더 레지스트일 수 있으며, 비할로겐(non halogen)이며 자기 소화성(UL94V-1)의 특성을 가질 수 있다. The external connection means may be a solder ball formed in the resin composition layer, and the solder ball may be a solder ball for chip bonding connected to a chip and a solder ball for substrate bonding connected to a substrate. The outer layer of the resin composition layer may further comprise the step of forming a permanent protective film on the outer circuit pattern. The permanent protective film may be an inflammable solder resist, may be non halogen, and may have a characteristic of self extinguishing (UL94V-1).

이하, 본 발명에 따른 다층 인쇄회로기판 및 그 제작방법의 실시예를 첨부 도면을 참조하여 상세히 설명하기로 하며, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다. Hereinafter, an embodiment of a multilayer printed circuit board and a method of manufacturing the same according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the following description, the same or corresponding components are given the same reference numerals. And duplicate description thereof will be omitted.

참조된 도 6은, 본 발명의 실시예에 따른 다층 인쇄회로기판은 반도체 칩(미도시)을 플립칩 본딩(flipchip bonding) 방식에 의해 접속하는 다층 인쇄회로기판이다. 본 발명에서 구리 혹은 구리합금에 의해 형성되는 제1금속층(11, 11')과 타금속, 예를 들면 니켈 혹은 그 합금으로부터 이루어지는 제2금속층(13)의 총 3층으로 이루어지는 금속판의 제1금속층(11)에 상부 회로패턴(17)을 형성한 후, 그 위에 수지조성물층(21)을 배치한다. 그리고 반대층에 적층된 제1금속층(11')에 하부 회로패턴(18)을 형성하고 중앙의 제2금속층(13)의 노출된 부분을 제거 후에, 다시 수지조성물층(21)을 적층한다. 그리고 양면에 블라인드 비어홀(blind via hole)(23)을 형성한 후, 이를 동 도금으로 충전한다. 그리고 표층에 외부 회로패턴(25)을 형성하고, 이 양면에 수지조성물층(21)을 다시 형성한 후 블라인드 비어홀(23)의 형성, 동 도금 및 회로 형성을 반복하여 다층 인쇄회로기판을 제작한다. Referring to FIG. 6, a multilayer printed circuit board according to an exemplary embodiment of the present invention is a multilayer printed circuit board for connecting a semiconductor chip (not shown) by flip chip bonding. In the present invention, the first metal layer of the metal plate including a total of three layers of the first metal layers 11 and 11 'formed of copper or a copper alloy and the second metal layer 13 made of another metal, for example nickel or an alloy thereof. After the upper circuit pattern 17 is formed on (11), the resin composition layer 21 is disposed thereon. The lower circuit pattern 18 is formed on the first metal layer 11 ′ stacked on the opposite layer, and the resin composition layer 21 is laminated again after removing the exposed portion of the second metal layer 13 in the center. Then, blind via holes 23 are formed on both surfaces, and then filled with copper plating. Then, the external circuit pattern 25 is formed on the surface layer, and the resin composition layer 21 is formed again on both surfaces, and then the blind via hole 23 is formed, copper plating and circuit formation are repeated to fabricate a multilayer printed circuit board. .

그리고 인쇄회로기판을 고주파 환경에서 사용하는 경우에는 신호 전송 회로층 즉 최외층에 융점 270℃이상의 액정 폴리에스테르 수지조성물을 사용한다. 그리고 전체를 비할로겐(non-halogen)으로 자기 소화성화 하기 위해서는, 내부에 사용하는 수지 조성물을 비할로겐으로, 자기 소화성(UL94V-0)의 것을 사용한다. 그리고 비할로겐 인쇄회로기판의 표층에 사용하는 영구 보호피막(27)도 비할로겐으로 자기 소화성(UL94VTM-0)의 것을 사용한다. 또한, 전체 인쇄회로기판의 강도를 높이기 위해서 인쇄회로기판의 최외층에 사용되는 영구 보호피막(27)으로서 기재 보강 열경화성 수지조성물을 사용할 수 있다. When the printed circuit board is used in a high frequency environment, a liquid crystal polyester resin composition having a melting point of 270 ° C. or higher is used for the signal transmission circuit layer, that is, the outermost layer. And in order to make the whole self-extinguishing non-halogen (non-halogen), the self-extinguishing (UL94V-0) thing is used for the resin composition used internally as non-halogen. In addition, the permanent protective film 27 used for the surface layer of the non-halogen printed circuit board also uses a non-halogen self-extinguishing (UL94VTM-0). In addition, a substrate-reinforced thermosetting resin composition can be used as the permanent protective film 27 used for the outermost layer of the printed circuit board in order to increase the strength of the entire printed circuit board.

본 실시예에 따른 인쇄회로기판에 사용하는 금속판은, 금속층이 이종의 금속으로 3층으로 되기 위해서, 한편의 금속만을 가공하여 상부 회로패턴(17)을 형성한 후, 필요에 따라 금속 표면 처리를 실시하고 그 위에 B 스테이지 수지조성물층, 예를 들면 세미 애더티브용 수지조성물층을 적층, 경화한다. 그리고 반대면의 제1금속층(11')에 하부 회로패턴(18)을 형성하고 중앙의 제2금속층(13)은 남긴다. 그 후에 중앙의 제2금속층(13)을 용해 제거하여 내층 회로패턴(19)을 형성하기 때문에 회로가 움직여 위치 차이를 일으킬 문제가 없고, 또한 수지조성물층(21)의 크랙 등이 없는 인쇄회로기판을 제작할 수 있다.In the metal plate used for the printed circuit board according to the present embodiment, in order to make the metal layer into three layers of different kinds of metals, only one metal is processed to form the upper circuit pattern 17, and then metal surface treatment is performed as necessary. Then, a B stage resin composition layer, for example, the semiadditive resin composition layer is laminated | stacked and hardened on it. The lower circuit pattern 18 is formed on the first metal layer 11 ′ on the opposite side, and the second metal layer 13 in the center is left. After that, the inner second circuit pattern 19 is formed by dissolving and removing the central second metal layer 13, so that the circuit moves and there is no problem of position difference, and there is no crack or the like of the resin composition layer 21. Can be produced.

그 후에, 하부 회로패턴(18)을 형성한 면에, 필요에 따라 금속 표면처리를 실시한 후 세미 애더티브용 수지조성물 등을 적층, 경화시킨다. 그리고 이 금속판의 양면에 형성된 수지조성물층(21)에 블라인드 비어홀(23)을 형성한 후 디스미어 처리, 동도금으로의 충전 및 외부 회로패턴(25) 형성을 반복 실시한다. Thereafter, the surface on which the lower circuit pattern 18 is formed is subjected to a metal surface treatment, if necessary, and then a semi-additive resin composition is laminated and cured. After the blind via hole 23 is formed in the resin composition layers 21 formed on both surfaces of the metal plate, the desmear treatment, the filling with copper plating, and the formation of the external circuit pattern 25 are repeated.

제2금속층(13)의 양 면에 적층된 제1금속층(11, 11')의 3층 구조를 한 면씩 가공하지만 회로의 구조에 따라서는 제1금속층(11, 11')의 양면을 동시에 가공할 수 있다. 또한, 수지조성물층(21)으로는 B스테이지 열경화성 수지조성물 및 기재 보강의 B스테이지 열경화성 수지조성물도 사용할 수 있다. 기재 보강의 수지조성물 을 사용하는 경우에는, 금속판의 회로를 형성하는 면의 금속층 두께를 얇게 하는 것이 필요하고 기재에 회로가 접촉하지 않게 하는 것이 바람직하다. 또한, 액정 폴리에스테르 수지조성물을, 적어도 전송 회로면에 적층용으로 사용한 경우, 인쇄회로기판은 고주파 환경에서의 사용이 적합하고, 고주파 용도의 반도체 플라스틱 패키지용 프린트 배선판 등으로서 뛰어난 것을 얻을 수 있었다. 또한, 내부에 사용하는 수지조성물층(21)은 그 자체가 소화성(UL94V-0)을 가짐과 동시에 비할로겐화 할 수 있다. 이에 더해 표면을 피복 하는 솔더 레지스트를 비할로겐으로 자기 소화성(UL94VTM-0)화 하여 인쇄회로기판 전체가 UL94V-0으로 될 수 있다. The three-layer structure of the first metal layers 11 and 11 'stacked on both sides of the second metal layer 13 is processed one by one, but depending on the circuit structure, both surfaces of the first metal layers 11 and 11' are simultaneously processed. can do. As the resin composition layer 21, a B stage thermosetting resin composition and a B stage thermosetting resin composition of substrate reinforcement can also be used. When using the resin composition of substrate reinforcement, it is necessary to make the thickness of the metal layer of the surface which forms the circuit of a metal plate thin, and to prevent a circuit from contacting a base material. Moreover, when the liquid crystal polyester resin composition was used for lamination | stacking on at least the transmission circuit surface, the printed circuit board was suitable for use in a high frequency environment, and was excellent as a printed wiring board for semiconductor plastic packages etc. for high frequency use. In addition, the resin composition layer 21 used therein can be non-halogenized at the same time as it has digestibility (UL94V-0). In addition, the solder resist covering the surface can be self-extinguishable (UL94VTM-0) with non-halogen, so that the entire printed circuit board can be UL94V-0.

도 1을 참조하면, 본 발명으로 사용하는 금속판은, 구리 혹은 구리합금으로 이루어지는 적어도 한 쌍의 제1금속층(11, 11') 사이에 이종의 금속으로 되는 제2금속층(13)이 개재된 3층 구조를 가지고 있다. 구리 혹은 구리합금은, 전해동 혹은 압연동이 사용될 수 있다. 제2금속층에 사용되는 다른 이종 금속은 특별한 제한은 없으나, 구리 혹은 구리합금을 에칭하여 상부 회로패턴(17) 및 하부 회로패턴(18)을 형성할 때에 용해되지 않는 이종의 금속을 사용한다. 상부 회로패턴(17) 및 하부 회로패턴(18)을 형성할 때 사용하는 에칭액은 제1금속층(11, 11')을 선택적으로 에칭할 수 있는 것을 사용한다Referring to FIG. 1, a metal plate used in the present invention includes a metal plate 13 having a second metal layer 13 formed of a heterogeneous metal between at least one pair of first metal layers 11 and 11 ′ made of copper or a copper alloy. It has a layer structure. As copper or copper alloy, electrolytic copper or rolled copper can be used. Other dissimilar metals used in the second metal layer are not particularly limited, but dissimilar metals which do not dissolve when etching the copper or copper alloy to form the upper circuit pattern 17 and the lower circuit pattern 18 are used. The etchant used to form the upper circuit pattern 17 and the lower circuit pattern 18 may be one capable of selectively etching the first metal layers 11 and 11 '.

제2금속층(13)은, 예를 들면 니켈, 알루미늄, 주석, 티탄 및 그 합금, 스텐레스, 42 알로이(42 alloy) 등의 합금에 의해 형성될 수 있다. 금속판은 경질, 연질의 것이 사용 가능하고 고탄성율, 고열전도의 것을 사용할 수 있다. 제1금속층(11, 11') 및 제2금속층(13)의 두께는 특별한 한정은 없지만 50~300μm의 것을 사 용할 수 있으나 이것으로 한정되는 것은 아니다.The second metal layer 13 may be formed of, for example, an alloy of nickel, aluminum, tin, titanium and alloys thereof, stainless steel, 42 alloy, and the like. Hard and soft metal sheets can be used, and high elastic modulus and high thermal conductivity can be used. The thickness of the first metal layers 11 and 11 ′ and the second metal layer 13 is not particularly limited, but may be 50 to 300 μm, but is not limited thereto.

본 발명의 실시예에 따른 제2금속층(13)의 양 면에 제1금속층(11)을 적층하는 방법은 특히 한정은 없고 일반의 방법을 사용할 수 있다. 예를 들면, 제2금속층(13)의 양 면에 제1금속층(11, 11')을 위치시킨 후 상온 및 저압으로 압접하는 방법을 들 수 있다. 이 경우, 압연전의 금속 표면 사전 처리(활성화 처리)로서 이온 에칭(ion etching) 등을 실시한다. 또한, 제2금속층(13)의 양면에 제1금속층(11, 11')을 도금하는 방법도 있다.The method of stacking the first metal layer 11 on both sides of the second metal layer 13 according to the embodiment of the present invention is not particularly limited and a general method may be used. For example, a method of placing the first metal layers 11 and 11 ′ on both sides of the second metal layer 13 and then performing pressure welding at normal temperature and low pressure may be mentioned. In this case, ion etching or the like is performed as a metal surface pretreatment (activation treatment) before rolling. There is also a method of plating the first metal layers 11 and 11 'on both surfaces of the second metal layer 13.

본 발명의 실시예에 따른 인쇄회로기판의 제1금속층(11, 11')에 상부 회로패턴(17) 및 하부 회로패턴(18)을 형성하는 방법은 특별한 한정은 없고, 종래의 텐팅법 등 이 사용될 수 있다. 상부 회로패턴(17) 형성 후에 필요에 따라 회로 표면을 공지의 처리 즉, 예를 들면 흑색 산화동 처리, 맥크사의 CZ 처리 등을 실시할 수 있다. 그리고 이 위에 애더티브용 수지조성물 등의 수지조성물을 배치하고 가열, 경화 또는 반경화시킨 후에 반대 면의 제1금속층(11')에 하부 회로패턴(18)을 형성한 후에 중앙의 노출한 제2금속층(13)을 용해 제거한다. 그리고 필요에 따라서 금속 표면을 처리하여 적어도 이 면에 애더티브용 수지조성물 등의 수지조성물을 배치하고, 가열, 경화 또는 반경화시킨다. 그리고 레이저로 양면에 블라인드 비어홀(23)을 형성한 후 필요에 따라 디스미어 처리를 실시하고, 무전해 동도금 또는 전기동도금을 행하고, 블라인드 비어홀(23)을 동도금으로 충전한다. 이 경우, 적층하는 수지 조성물이 일반의 열경화성 수지조성물, 혹은 액정 폴리에스테르 수지조성물 등의 융점이 270℃ 이상의 열가소성 수지조성물이면, 이 위에 금속박, 예를 들 면 동박을 배치한 후 진공에서 가열 및 가압하여 적층 성형함으로써 동장판을 얻는다. 그리고 공지의 방법, 예를 들면 표층의 동박을 1~5μm까지 에칭 하고, 이 위에 탄산 가스 레이저, UV-YAG 레이저, UV-Vanadate 레이저 등의 방법에 의해 블라인드 비어홀(23)을 형성한다. 그 후, 필요에 따라 블라인드 비어홀(23)의 내부를 디스미어 처리한 후, 동 도금으로 비어홀(23)의 내부를 충전한다.The method of forming the upper circuit pattern 17 and the lower circuit pattern 18 on the first metal layers 11 and 11 ′ of the printed circuit board according to an exemplary embodiment of the present invention is not particularly limited. Can be used. After formation of the upper circuit pattern 17, the circuit surface can be subjected to a known treatment, for example, black copper oxide treatment, CZ treatment of Mack Corporation, and the like, as necessary. After disposing a resin composition such as an additive resin composition and heating, curing, or semi-curing it, the lower circuit pattern 18 is formed on the first metal layer 11 ′ on the opposite side, and then the second exposed center is formed. The metal layer 13 is dissolved and removed. Then, if necessary, the metal surface is treated to arrange a resin composition such as an additive resin composition on at least this surface, and to be heated, cured or semi-cured. After the blind via holes 23 are formed on both surfaces with a laser, desmearing is performed as necessary, electroless copper plating or electro copper plating is performed, and the blind via holes 23 are filled with copper plating. In this case, if the resin composition to be laminated is a thermoplastic resin composition having a melting point of 270 ° C or higher, such as a general thermosetting resin composition or a liquid crystal polyester resin composition, the metal foil, for example, copper foil is disposed thereon, and then heated and pressurized in a vacuum. To obtain a copper plate. And the well-known method, for example, copper foil of a surface layer is etched to 1-5 micrometers, and the blind via hole 23 is formed by methods, such as a carbon dioxide laser, a UV-YAG laser, and a UV-Vanadate laser, on this. Thereafter, if necessary, the inside of the blind via hole 23 is desmeared, and then the inside of the via hole 23 is filled with copper plating.

본 실시예에 따른 다층 인쇄회로기판에 사용하는 수지조성물층(21)으로는 공지의 것을 사용할 수 있다. 예를 들면 열경화성 수지, 융점 270℃이상의 열가소성 수지, UV선택 열경화성 수지 등을 사용할 수 있다. 열경화성 수지로서는 일반적으로 공지의 것을 사용할 수 있다. 예를 들면, 에폭시 수지, 시안산 에스테르 수지, 마레이미드 수지, 폴리이미드 수지, 관능기 부가 폴리페닐렌 에테르 수지 등과 같은 공지의 수지가 단독 혹은 2종 이상 조합해 사용될 수 있다. 그리고 열가소성 수지로서는, 액정 폴리에스테르 수지 등의 융점 270℃이상의 고내열 열가소성 수지를 사용할 수 있다. 또한, 일반적인 세미 애더티브용의 UV선택 열경화성 수지도 사용할 수 있다. 물론, 이들의 혼합물도 사용 가능하다. 인쇄회로기판의 신뢰성을 향상시키기 위해서 열경화성 수지 조성물이 사용될 수 있다. 열가소성 수지 조성물로서는 액정 폴리에스테르 수지조성물이 사용될 수 있다. A well-known thing can be used as the resin composition layer 21 used for the multilayer printed circuit board which concerns on a present Example. For example, a thermosetting resin, a thermoplastic resin having a melting point of 270 ° C or higher, a UV selective thermosetting resin, or the like can be used. Generally as a thermosetting resin, a well-known thing can be used. For example, well-known resins, such as an epoxy resin, a cyanic acid ester resin, a marimide resin, a polyimide resin, a functional group addition polyphenylene ether resin, etc. can be used individually or in combination of 2 or more types. And as a thermoplastic resin, the high heat resistant thermoplastic resin of melting | fusing point 270 degreeC or more, such as liquid crystalline polyester resin, can be used. In addition, UV-selective thermosetting resins for general semi-additives can also be used. Of course, mixtures thereof can also be used. In order to improve the reliability of the printed circuit board, a thermosetting resin composition may be used. As the thermoplastic resin composition, a liquid crystal polyester resin composition may be used.

본 발명의 프린트 배선판을 고주파 용도에 사용하는 목적으로 전체의 유전특성을 내릴 필요가 있는 경우 열경화성 수지, 예를 들면 시안산 에스테르 수지조성물을 사용한다. 또한, 20 GHz 이상의 고주파로 전송 손실 등을 피하기 위해서 유리섬유를 사용하지 않고 시안산 에스테르 수지조성물을 단독 혹은 액정 폴리에스테르 섬유포 기재와 조합한 것을 사용할 수 있다. 열가소성 수지조성물로는 액정 폴리에스테르 수지조성물을 사용할 수 있으며 이러한 혼합물도 사용할 수 있다.When it is necessary to lower the overall dielectric properties for the purpose of using the printed wiring board of the present invention for high frequency applications, a thermosetting resin such as a cyanic acid ester resin composition is used. In addition, in order to avoid transmission loss and the like at a high frequency of 20 GHz or more, a cyanate ester resin composition may be used alone or in combination with a liquid crystal polyester fiber cloth base material without using glass fibers. As the thermoplastic resin composition, a liquid crystal polyester resin composition may be used, and such a mixture may be used.

본 실시예에 따른 다층 인쇄회로기판에 사용될 수 있는 열경화성 수지인 시안산 에스테르 수지로는 다음의 것이 사용될 수 있다. 예를 들면, 1,3-또는 1,4-지지아나트 벤젠, 1,3,5-트리시아나트 벤젠, 1,3-, 1,4-, 1,6-, 1,8-, 2,6-또는 2,7-지시아나트 나프탈렌, 1,3,6-트리시아나트나프타렌, 4,4-지시아나트비페닐, 나사(4-시아나트페닐) 메탄, 2,2-나사(4-시아나트페닐) 프로판, 2,2-나사(3,5-지브로모4-시아나트페닐) 프로판, 나사(4-시아나트페닐) 에테르, 나사(4-시아나트페닐) 티오에테르, 나사(4-시아나트페닐) 술혼, 트리스(4-시아나트페닐) 호스파이트, 트리스(4-시아나트페닐) 인산염, 및 노볼락과 할로겐화 시안과의 반응에 의해 얻을 수 있는 시아나트륨을 들 수 있으며, 이들의 1종 혹은 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The following may be used as the cyanic acid ester resin, which is a thermosetting resin that can be used in the multilayer printed circuit board according to the present embodiment. For example, 1,3- or 1,4-zigianat benzene, 1,3,5-tricyanat benzene, 1,3-, 1,4-, 1,6-, 1,8-, 2, 6- or 2,7-zicyanathnaphthalene, 1,3,6-tricyanathnaphtharene, 4,4-zicyanatbiphenyl, nasa (4-cyanatphenyl) methane, 2,2-screw (4- Cyanatephenyl) propane, 2,2-screw (3,5-gibromo4-cyanaphenyl) propane, screw (4-cyanaphenyl) ether, screw (4-cyanaphenyl) thioether, screw (4 Cyanatephenyl) sulfone, tris (4-cyanatphenyl) hospite, tris (4-cyanaphenylphenyl) phosphate, and sodium cyanate obtained by the reaction of a novolak with cyanide halide; It can be used 1 type or in combination of 2 or more types.

그리고 일본국 특허공보 特公昭 41-11712, 特公昭 43-18468, 特公昭 44-4791, 特公昭 45-11712, 特公昭 46-41112, 特公昭 47-26853, 및 特開昭 51-63149호 공보 등에 기재의 시안산 에스테르류도 이용될 수 있다. 또한, 이러한 시안산에스테르 화합물의 시아나트기의 3량화에 의해 형성되는 트리아진환을 가지는 분자량400~6,000의 프리폴리머가 사용된다. 프리폴리머는 공지의 방법으로 반응하는 것으로써 얻을 수 있다. 예를 들면 시안산 에스테르 모노머를, 광산, 루이스산 등의 산류; 나트륨 아르코라트 등, 제3급 아민류 등의 염기류;탄산나트륨 등의 염류 등을 촉매로서 중합시키는 것으로 얻을 수 있다. 이와 같은 프리폴리머 중에는 미반응의 모노머도 포함되어 모노머와 프리폴리머의 혼합물의 형태를 하고 있어, 이것들은 본 발명의 열경화성 수지 성분으로서 적합하게 사용된다. 또한, 액상의 시안산 에스테르류를 사용할 수 있어 1종 혹은 2종 이상이 조합되어 사용될 수도 있다.And Japanese Patent Publications No. 41-11712, No. 43-18468, No. 44-4791, No. 45-11712, No. 46-41112, No. 47-26853, and No. 51-63149 Cyanic acid esters such as those described herein may also be used. Moreover, the prepolymer of the molecular weight 400-6,000 which has the triazine ring formed by trimerization of the cyanate group of such a cyanate ester compound is used. The prepolymer can be obtained by reacting by a known method. For example, cyanic acid ester monomers include acids such as mineral acid and Lewis acid; Bases such as tertiary amines such as sodium arcolat; salts such as sodium carbonate and the like can be obtained by polymerizing as a catalyst. Among these prepolymers, unreacted monomers are also included in the form of a mixture of monomers and prepolymers, and these are suitably used as the thermosetting resin component of the present invention. In addition, liquid cyanate esters may be used, and one or two or more thereof may be used in combination.

상기 열경화성 수지 안에는 첨가물을 배합할 수 있다. 예를 들면, 상기 이외의 열경화성 수지, 열가소성 수지, 공지의 유기·무기 충전제, 염료, 안료, 증점제, 윤활제, 소포제, 분산제, 레벨링제, 광증감제, 광택제, 중합 개시제, 치키소성 부여제 등의 각종 첨가제가 목적 및 용도에 의해서 조합해 첨가된다. 필요에 따라서, 반응기를 가지는 화합물은 경화제, 촉매가 적당량 배합된다. 또한, 난연제도 인, 취소로 난연화 된 것, 비할로겐 타입, 난연화 되어 있지 않은 것 등이 사용 가능하다. 비할로겐으로 하는 경우는 비할로겐용 난연제를 열경화성 수지 조성물에 첨가해 난소성으로 할 수 있다.An additive can be mix | blended in the said thermosetting resin. For example, thermosetting resins, thermoplastic resins, well-known organic and inorganic fillers, dyes, pigments, thickeners, lubricants, antifoaming agents, dispersants, leveling agents, photosensitizers, gloss agents, polymerization initiators, and Chiki plasticizers other than those described above. Various additives are added in combination according to the purpose and use. As needed, the compound which has a reactor mix | blends an appropriate amount with a hardening | curing agent and a catalyst. In addition, a flame retardant, a flame retardant by cancellation, a non-halogen type, a flame retardant, etc. can be used. When making it non-halogen, the flame retardant for non-halogens can be added to a thermosetting resin composition, and it can be made flame-retardant.

또한, 액정 폴리에스테르 수지 자체가 비할로겐으로 자기 소화성이기 때문에 이것을 단독으로 사용하는 것으로써 기판 전체를 비할로겐으로 할 수 있다. 또한, 귀금속 도금 레지스터로서 그 자체가 비할로겐으로 자기 소화성(VTM-0)의 것을 사용함으로써, 인쇄회로기판 전체가 UL94V-0의 비할로겐으로 할 수 있다.In addition, since the liquid crystalline polyester resin itself is non-halogen self-extinguishing, by using this alone, the whole substrate can be made non-halogen. In addition, by using a self-extinguishing (VTM-0) self as a non-halogen as the precious metal plating resistor, the entire printed circuit board can be made non-halogen of UL94V-0.

본 실시예에 따른 열경화성 수지조성물은, 그 자체는 가열에 의해 경화하지만, 경화 속도가 늦고 작업성, 경제성이 취약한 경우, 열경화성 수지조성물에 경화제, 촉매가 사용된다. 사용량은 일반적으로 열경화성 수지 100중량부에 대해서 0.005~10중량부, 바람직하게는 0.01~5중량부를 사용할 수 있다. Although the thermosetting resin composition according to the present embodiment itself is cured by heating, when the curing rate is slow and the workability and economy are poor, a curing agent and a catalyst are used in the thermosetting resin composition. Generally the usage-amount is 0.005-10 weight part with respect to 100 weight part of thermosetting resins, Preferably 0.01-5 weight part can be used.

본 실시예에서 사용하는 액정 폴리에스테르 수지의 분자 구조는 일반적인 것 을 사용할 수 있으며, 이것들을 1종 이상 배합해 사용할 수 있다. 첨가물도 특성에 큰 영향을 미치지 않는 범위에서 배합해 사용할 수 있다. 융점은 인쇄회로기판으로 할 때의 가공에도 견딜 수 있는 270℃ 이상의 것을 사용한다. 두께는 특별한 한정은 없으며, 예를 들면 3~200μm, 더욱 구체적으로는 5~150μm로 한다. 두께가 얇으면 금속박의 매트면의 요철에 접합하는 것이 어렵고, 또한 금속 도체 회로를 포함할 수 없다. 그리고 두꺼우면 전체 인쇄회로기판의 두께를 얇게 할 수 없고 가격이 상승할 뿐만 아니라 전체적인 기계적 강도가 취약해지기 때문에 이들을 고려하여 두께를 결정한다. As the molecular structure of the liquid crystal polyester resin used in the present embodiment, a common one can be used, and one or more thereof can be used in combination. An additive can also be mix | blended and used in the range which does not have a big influence on a characteristic. The melting point is 270 ℃ or more that can withstand the processing when using a printed circuit board. The thickness is not particularly limited and is, for example, 3 to 200 µm, more specifically 5 to 150 µm. When thickness is thin, it is difficult to join to the unevenness | corrugation of the mat surface of metal foil, and it cannot contain a metal conductor circuit. And if it is thick, the thickness of the entire printed circuit board cannot be made thin, the price rises, and the overall mechanical strength becomes weak.

본 실시예에 따른 수지조성물층(21)은 기재를 사용할 수 있다. 기재로 사용될 수 있는 것으로는 인쇄회로기판에 사용되는 일반적인 기재일 수 있다. 구체적으로는, E, NE, T, D 유리 등의 일반적인 공지의 유리 섬유 직포, 부직포; 폴리오키사조르 섬유, 전방향족 폴리아미드 섬유, 액정 폴리에스테르 섬유의 직포, 부직포; 이러한 혼초천 등을 들 수 있다. 이러한 기재는 수지와의 밀착성을 향상시키기 위해서 기재의 표면을 공지의 처리를 한 것을 사용할 수 있다. In the resin composition layer 21 according to the present embodiment, a substrate may be used. What can be used as a substrate may be a general substrate used for a printed circuit board. Specifically, general well-known glass fiber woven fabrics and nonwoven fabrics, such as E, NE, T, and D glass; Woven fabric, nonwoven fabric of polyoxysazor fiber, wholly aromatic polyamide fiber, liquid crystalline polyester fiber; Such honcho spring etc. are mentioned. In order to improve the adhesiveness with resin, such a base material can use what used the well-known process of the surface of a base material.

본 실시예에서 사용하는 방법이 세미 애더티브법의 경우에는, 양면의 수지조성물층(21)에 블라인드 비어홀(23)을 뚫은 후 수지조성물층을 결점화해, 무전해 동도금, 전기 동도금으로 블라인드 비어홀(23) 내부를 충전한다. 그리고 외부 회로패턴(25)을 형성하고, 이와 같은 과정을 반복한다. 이때, 인쇄회로기판의 휘어짐(warpage)을 방지하기 위해 인쇄회로기판의 주위에 금속을 남겨 보강할 수도 있다. 물론, 풀 애더티브법도 사용할 수 있다.When the method used in the present embodiment is a semi-additive method, after the blind via hole 23 is drilled through the resin composition layers 21 on both sides, the resin composition layer is defected, and the blind via holes are made by electroless copper plating and electro copper plating. 23) Charge the inside. Then, the external circuit pattern 25 is formed, and this process is repeated. In this case, in order to prevent warpage of the printed circuit board, a metal may be reinforced around the printed circuit board. Of course, the full additive method can also be used.

적층 성형 조건으로 특별한 제한은 없으며, 열경화성 수지조성물을 사용하는 경우, 온도 100~300℃, 구체적으로는 110~250℃ 및 압력 1~50 kgf/cm2, 진공도 10 mmHg 이하 그리고 시간은 5~120분의 조건에서 성형한다. 세미 애더티브용 수지조성물에 대해서는 완전 경화전의 반경화로서 그 후에 수지 조성물의 적층을 실시하는 것이 많아, 이 경우에는 동도금 후에 후 경화를 실시한다. 온도 및 시간은 상기의 조건 중에서 선택한다.There is no particular limitation on the conditions of the laminate molding, and when the thermosetting resin composition is used, the temperature is 100 to 300 ° C., specifically 110 to 250 ° C., the pressure is 1 to 50 kgf / cm 2 , the degree of vacuum is 10 mmHg or less and the time is 5 to 120. Molding under conditions of minutes. The semi-additive resin composition is often semi-cured before complete curing, after which the resin composition is laminated. In this case, post-curing is performed after copper plating. The temperature and time are selected from the above conditions.

또한, 액정 폴리에스테르 수지 조성물층을 적층 성형해 접착시키는 경우, 액정 폴리에스테르 수지가 용해 하는 온도 이상 즉, 융점보다 10~50℃ 높은 온도로, 압력 1~50 kgf/cm2, 더욱 구체적으로는 5~30 kgf/cm2에서 또는 진공하에서 1~60분 또는 2~40분 적층 성형하여 일체화한다. 물론, 액정 폴리에스테르 수지 단독 사용으로 인쇄회로기판을 제작하는 것도 가능하다.In addition, when laminating and bonding a liquid-crystal polyester resin composition layer, it is pressure 1-50 kgf / cm <2> , More specifically, at the temperature more than the temperature which liquid crystalline polyester resin melt | dissolves, ie, 10-50 degreeC higher than melting | fusing point, Integrate by laminating at 5 to 30 kgf / cm 2 or under vacuum for 1 to 60 minutes or 2 to 40 minutes. Of course, it is also possible to manufacture a printed circuit board by using a liquid crystal polyester resin alone.

제1금속층(11)에 사용되는 금속으로는 특별한 한정은 없고, 전해동, 압연동 등의 동박, 니켈박 및 이들의 합금박 등이 사용되지만 단일 동박이 사용될 수도 있다. 두께는 1~35μm가 사용될 수 있다. 인쇄회로기판으로는 전해 동박이 적합하게 사용된다. 고주파 용도에서는 매트면의 요철이 Rz 값으로 2μm이하, 더욱 구체적으로는 1μm 이하와 작은 전해 동박, 압연 동박 등을 사용하는 것으로써 전송 손실을 작게 할 수 있다.The metal used for the first metal layer 11 is not particularly limited, and copper foils such as electrolytic copper and rolled copper, nickel foils and alloy foils thereof may be used, but a single copper foil may be used. Thickness of 1 ~ 35μm can be used. As a printed circuit board, an electrolytic copper foil is used suitably. In high frequency applications, transfer loss can be reduced by using unevenness of the mat surface of 2 μm or less, more specifically 1 μm or less, and a small electrolytic copper foil, a rolled copper foil, or the like as the Rz value.

동 도금은 일반적으로 공지의 공법이 사용된다. 예를 들면, 블라인드 비어홀(23)의 형성 후에, 공지의 디스미어 처리, 플라스마 처리 등을 실시한 후 무전해 동도금, 전기 동도금을 실시한다. 스택 비어(stack via)를 형성하기 위한 블라인드 비어홀(23)의 충진에 본 동도금이 이용된다. 이 후에 표면에 외부 회로패턴(25)을 형성하고 최종적으로는 귀금속 도금 레지스터를 형성하고 나서, 니켈 도금, 금 도금을 실시한다.Copper plating generally uses a well-known method. For example, after formation of the blind via hole 23, a known desmear treatment, a plasma treatment, and the like are performed, followed by electroless copper plating and electroplating. The present copper plating is used for filling blind via holes 23 to form stack vias. After that, an external circuit pattern 25 is formed on the surface, and finally a precious metal plating resistor is formed, and then nickel plating and gold plating are performed.

 인쇄회로기판 전체를 비할로겐 및 UL94V-0으로 하기 위해서는, 영구 보호피막(27)을 형성하는 솔더 레지스트 수지조성물 자체를 난소성(UL94VTM-0)의 것을 사용한다. 이 경우에, 기재를 부가하여 인쇄회로기판 전체의 강도를 향상시킨다. 수지 조성물은 열경화성 수지조성물, 열가소성 수지조성물, 또는 UV선택 열경화성 수지조성물을 사용할 수 있다. 또한 인쇄회로기판의 신뢰성을 향상시키기 위해서 열경화성 수지조성물을 사용할 수 있다.In order to make the whole printed circuit board non-halogen and UL94V-0, the solder resist resin composition itself which forms the permanent protective film 27 itself uses the thing of the flame resistance (UL94VTM-0). In this case, the substrate is added to improve the strength of the entire printed circuit board. The resin composition may be a thermosetting resin composition, a thermoplastic resin composition, or a UV selective thermosetting resin composition. In addition, a thermosetting resin composition may be used to improve the reliability of the printed circuit board.

이와 같은 방법에 의해 형성된 다층 인쇄회로기판에는 플립칩 본딩 방식에 의해 반도체 칩이 탑재된다. 그리고 언더 필 레진을 충전해 반도체 패키지를 형성한다. 물론, 와이어 본딩법도 사용할 수 있다. 이면은 솔더 볼(29, 31)을 접속하거나 직접 메인보드(미도시)에 핸더 등으로 접속하는 것도 가능하다. The semiconductor chip is mounted on the multilayer printed circuit board formed by the above method by flip chip bonding. The underfill resin is then filled to form a semiconductor package. Of course, the wire bonding method can also be used. The back surface can also be connected to the solder balls 29 and 31 or directly to the main board (not shown) by hand.

아래에서는 본 발명의 실시예에 따른 다층 인쇄회로기판의 실시예와 비교예를 통해 본 발명을 구체적으로 설명한다. 단, 특별히 거론하지 않는 이상 "부"는 중량부를 나타낸다.Hereinafter, the present invention will be described in detail through examples and comparative examples of a multilayer printed circuit board according to an exemplary embodiment of the present invention. However, "part" shows a weight part unless there is particular notice.

실시예 1Example 1

2,2-나사(4-시아나트페닐) 프로판 900부, 나사(4-마레이미드페닐) 메탄 100부를 150℃에 용해 하고, 4.5시간 반응시켜 프리폴리머와 모노머의 혼합물을 얻는다.이를 메틸 에틸 케톤과 N,N'-디메틸 폼 아미드의 혼합 용제에 용해해 바니스 A를 제작하였다. 이에 비스페놀 A형 에폭시 수지(상품명:에피코트 1001, 저팬 에폭시 레진㈜제) 400부, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지(상품명:ESCN-220 F, 스미토모 화학공업㈜제) 600부를 더해 균일하게 용해 혼합한 후 촉매로서 옥틸산아연 0.4부를 첨가하여 용해시킨 후 균일하게 교반 혼합하여 바니스 B를 얻었다. 이것에 무기 충전제로서 수산화 알루미늄(평균 입자 지름:1.5μm)을 2200부, 몰리브덴산 아연 담지 탈크(상품명:KEMGARD911C, 샤윈·윌리암스㈜제) 20부를 배합한 후 균일하게 교반 혼합하여 바니스 C를 얻었다.900 parts of 2,2-screw (4-cyanaphenyl) propane and 100 parts of screw (4-marimide phenyl) methane are dissolved at 150 ° C. and reacted for 4.5 hours to obtain a mixture of prepolymer and monomer. Varnish A was prepared by dissolving in a mixed solvent of N, N'-dimethyl formamide. To this, 400 parts of bisphenol A type epoxy resin (brand name: Epicoat 1001, product made by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) and 600 parts of cresol novolac type epoxy resin (product name: ESCN-220F, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) were added and dissolved and mixed uniformly. Then, 0.4 part of zinc octylate was added as a catalyst to dissolve, followed by uniformly stirring to obtain varnish B. 2200 parts of aluminum hydroxide (average particle diameter: 1.5 micrometers) and 20 parts of zinc molybdate supporting talc (brand name: KEMGARD911C, the product made by Shawin Williams Co., Ltd.) were mix | blended with this as an inorganic filler, and it stirred and mixed uniformly, and obtained varnish C.

상기 바니스 C에 청색 안료(상품명:동프타로시아닌 블루 KRO, C.I.Pigment Blue 15:3, 산요오 색소㈜제)를 5부 첨가하여 바니스 D를 제작하였다. 상기 바니스 D를 두께 12μm의 유리 직포에 함침, 건조하고, 겔화 시간 155초(at170℃), 두께 35μm의 프리프레그 E를 얻었다. 그리고 상기 프리프레그 E를 190℃, 20 kgf/cm2, 5 mmHg 이하의 진공 하에서 1.5시간 적층 성형하여 얻은 적층판의 내연성은 UL94V-0이었다. 또한, 기재를 넣지 않고 두께 100μm의 수지조성물 시트를 제작해, 이것을 이용해 시험한 결과는 UL94VTM-0이었다.Varnish D was prepared by adding 5 parts of blue pigments (trade name: copper phthalocyanine blue KRO, Cigigment Blue 15: 3, manufactured by Sanyo Dyestuff Co., Ltd.) to the varnish C. The varnish D was impregnated into a glass cloth having a thickness of 12 µm and dried to obtain a prepreg E having a gelation time of 155 seconds (at170 ° C) and a thickness of 35 µm. The flame resistance of the laminate obtained by laminating the prepreg E under vacuum at 190 ° C., 20 kgf / cm 2 and 5 mmHg for 1.5 hours was UL94V-0. Moreover, the resin composition sheet | seat of 100 micrometers in thickness was produced, without using a base material, and it tested using this, The result was UL94VTM-0.

또한, 35μm 압연 동박 캐리어가 첨부된 두께 1μm의 low profile 동박(상품명:Olin XTF, Olin Brass제, Rz:0.5μm)의 매트면에 상기 바니스 C를 도포/건조 하여, 겔화 시간 133초(at170℃), 열경화성 수지 조성물의 두께가 70μm인 동박 첨부 B스테이지 열경화제 수지 조성물 시트 F를 얻었다. 또한, 겔화 시간 125초(at170℃), 열경화성 수지 조성물의 두께 40μm인 동박 첨부 B스테이지 열경화제 수지조성물 시트 G를 얻었다.In addition, the varnish C was applied / dried on a mat surface of a low profile copper foil (brand name: Olin XTF, Olin® Brass, Rz: 0.5 μm) having a thickness of 35 μm rolled copper foil carrier, and gelation time was 133 seconds (at170 ° C.). ), B-stage thermosetting resin composition sheet F with copper foil which is 70 micrometers in thickness of thermosetting resin composition was obtained. Furthermore, the gelation time 125 second (at170 degreeC) and the B-stage B thermosetting agent resin composition sheet G with copper foil which is 40 micrometers in thickness of a thermosetting resin composition were obtained.

그리고 두께 0.8μm의 니켈박의 양면에 두께 50μm의 Cu:97.3%, Fe:2.5%, P:0.1%, Zn:0.1%으로 구성된 압연 합금판을 접착시킨 3층의 금속판(상품명:FINE CLAD, 동양 강판㈜제)를 사용하여, 이 구리합금 한 면에 에칭 방지용 필름을 부착한 후(도 1 참조), 제2금속층인 니켈박을 용해시키지 못하는 에칭액을 사용해 상부 회로패턴(17)을 형성하였다(도 2 참조). 그리고 상부 회로패턴(17)의 표면에 흑색 산화동 처리를 행한 후, 이 면에 동박 첨부 B스테이지 열경화성 수지조성물 시트 F를 배치한 후 190℃, 압력 20 kgf/cm2로 1.5시간 적층 성형하여 회로의 틈새를 충전했다(도 3 참조). 이 반대면의 구리합금도 이와 같은 방법으로 하부 회로패턴(18)을 형성한 후, 노출된 제2금속층(13)인 니켈박을 구리합금을 용해시키지 못하는 에칭액으로 용해 제거하여 내층 회로패턴(19)을 형성하였다. 그리고 도체 회로의 표면에 흑색 산화동 처리를 행하고 125℃로 1시간 기판을 건조한 후 이 회로면에 상기 동박 첨부 B스테이지 열경화성 수지 조성물 시트 F를 배치하여 같은 조건으로 적층 성형하여 도 4와 같이 하였다. And three layers of metal plates (brand name: FINE CLAD, which bonded the rolled alloy plate which consists of Cu: 97.3%, Fe: 2.5%, P: 0.1%, Zn: 0.1% of thickness 50micrometer on both surfaces of the nickel foil of 0.8 micrometer in thickness, After attaching the anti-etching film to one surface of the copper alloy (see Fig. 1) using Dongyang Steel Co., Ltd., an upper circuit pattern 17 was formed using an etchant that cannot dissolve the nickel foil as the second metal layer. (See Figure 2). After the black copper oxide treatment was performed on the surface of the upper circuit pattern 17, the B-stage thermosetting resin composition sheet F with copper foil was disposed on this surface, followed by lamination and molding at 190 ° C. and a pressure of 20 kgf / cm 2 for 1.5 hours. The gap was filled (see FIG. 3). The copper alloy on the opposite side also forms the lower circuit pattern 18 in the same manner, and then removes and removes the nickel foil, which is the exposed second metal layer 13, with an etchant that does not dissolve the copper alloy, thereby removing the inner circuit pattern 19. ) Was formed. Then, black copper oxide treatment was performed on the surface of the conductor circuit, and the substrate was dried at 125 ° C. for 1 hour. Then, the B-stage thermosetting resin composition sheet F with copper foil was disposed on the circuit surface, and laminated molding was performed under the same conditions, as in FIG. 4.

그리고 도 4에 도시된 양면의 35μm 캐리어 동박(33)을 박리 제거하고 나서, 한 면씩 양면에 UV-YAG 레이저로 직경 50μm의 블라인드 비어홀을 뚫은 후 디스미 어 처리한다. 1μm의 무전해 동도금 실시 후 패턴 레지스터를 형성하고, 전기 동도금으로 비어홀(23)의 내부를 충전함과 동시에 회로용 동도금 및 패턴 레지스터를 박리한 후에 플래시 에칭으로 라인/스페이스=20/20μm의 외부 회로패턴(25)을 형성한다(도 5 참조). 그리고 흑색 산화동 처리를 행하여 기판 H로 했다. 이 양면에 상기 동박 첨부 B스테이지 열경화성 수지 조성물 시트 G를 배치한 후 동일한 방법으로 적층 성형하는 공정을 되풀이 하여 프린트 배선판I를 얻었다.And after peeling off the 35μm carrier copper foil 33 on both sides shown in Figure 4, by drilling a blind via hole of 50μm in diameter with a UV-YAG laser on both sides by one side and then desmearing. After 1μm of electroless copper plating, a pattern resistor is formed, and the inside of the via hole 23 is filled with electric copper plating, and the copper plating and pattern resistors for the circuit are peeled off, followed by flash etching, and an external circuit of line / space = 20 / 20μm. A pattern 25 is formed (see FIG. 5). Then, black copper oxide treatment was performed to obtain the substrate H. After arrange | positioning the said B stage thermosetting resin composition sheet G with copper foil on both surfaces, the process of carrying out lamination by the same method was repeated, and the printed wiring board I was obtained.

상기 프린트 배선판I를 맥크사의 CZ 처리를 가한 후, 양 표층에 상기 프리프레그 E를 각 1매 배치하고 그 양 외측에 두께 50μm의 불소 수지 필름을 배치한 후 상기와 같은 조건으로 적층 성형한 후, 플립 칩을 접속하는 개소 그리고 반대면의 핸더 볼을 접속하는 개소에 블라인드 블라인드 비어홀(23)을 UV-YAG 레이저를 이용해 형성했다. 그 후, 플라스마 처리 공정을 수행한 후, 니켈 도금, 금 도금을 실시했다. 이 표면의 플립 칩 접속 부분에 솔더 프리(solder free) 핸더로 범프(29)를 형성하고 이면은 핸더 볼(31)을 접속해, 도 6에 도시된 바와 같은 다층 인쇄회로기판을 제작하였다. 이와 같이 제작된 다층 인쇄회로기판에 대한 평가 결과를 표 1에 나타내었다.After applying the CZ treatment to the printed wiring board I, one sheet of the prepreg E was disposed on both surface layers, and a fluorine resin film having a thickness of 50 μm was disposed on both outer sides thereof, and then laminated molding was performed under the above conditions. The blind blind via hole 23 was formed in the place which connects a flip chip, and the place which connects the handball of the opposite side using a UV-YAG laser. Then, after performing a plasma processing process, nickel plating and gold plating were performed. A bump 29 was formed on the flip chip connection portion of this surface by a solder free hand, and the handball 31 was connected to the back surface thereof to produce a multilayer printed circuit board as shown in FIG. Table 1 shows the evaluation results of the multilayer printed circuit board manufactured as described above.

실시예 2Example 2

상기 실시예 1의 기판 G를 이용해 그 양면에 비할로겐으로 두께 40μm의 세미 애더티브용 수지 조성물(상품명:APL-3601, 스미토모 베이크라이트㈜제, UL94VTM-0)을 배치하고 170℃에서 40분 적층 성형 후, 표면의 PET 필름을 박리한 다. 그리고 UV-YAG 레이저를 이용하여 직경 50μm의 블라인드 비어홀을 형성하고 디스미어 처리해 결점화한 후, 무전해 동도금 1μm부착 후 패턴 레지스터를 표면에 형성하고 나서 전기 동도금으로 비어홀의 내부를 충전함과 동시에 수지 조성물층(21) 상을 동 도금 하였다. 그리고 패턴 레지스터를 박리한 후 210℃으로 수지조성물층(21)을 1시간 동안 경화시킨 후, 플래시 에칭에서 라인/스페이스=20/20μm의 외부 회로패턴(25)을 형성했다(도 5참조). 외부 회로패턴(25)을 맥크사의 CZ처리를 행하고 이 양면에 두께 50μm로 융점 280℃의 액정 폴리에스테르 수지조성물 시트를 배치한 후 그 외 측에 35μm압연 동박 캐리어 첨부 두께 1μm의 low profile 동박(상품명:Olin XTF, Olin Brass제, Rz:0.5μm)를 배치하고 295℃, 5 mmHg 이하의 진공하에서 10분 적층한 후 표층의 캐리어 동박(33)을 박리 한다. 동일한 방법으로 직경 50μm의 블라인드 비어홀(23)을 형성하고 디스미어 처리, 무전해 동도금, 패턴 레지스터 형성, 비어홀의 내부를 포함하는 전체 동도금, 패턴 레지스터 박리, 플래시 에칭을 행하고, 라인/스페이스=15/15μm의 회로를 형성해, 5층의 프린트 배선판J를 제작했다. 이 표면을 맥크사의 CZ처리한 후 그 위에 실시예 1의 프리프레그 E를 배치하여 실시예 1과 같이 적층 성형한다. 동일한 방법으로 레이저 가공하여 니켈 도금, 금 도금을 실시하여 범프, 핸더 볼을 접속했다. 이와 같이 제작된 인쇄회로기판의 평가 결과를 표 1에 나타내었다. Using the substrate G of Example 1, a resin composition for semiadditives (trade name: APL-3601, manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd., UL94VTM-0) having a thickness of 40 μm was placed on both surfaces thereof with non-halogen, and laminated at 40 ° C. for 40 minutes. After molding, the surface PET film is peeled off. After forming a blind via hole with a diameter of 50 μm using a UV-YAG laser, desmearing it to make defects, attaching 1 μm of electroless copper plating, forming a pattern resistor on the surface, and filling the inside of the via hole with electric copper plating, The composition layer 21 was copper-plated. After the pattern resist was peeled off, the resin composition layer 21 was cured at 210 ° C. for 1 hour, and an external circuit pattern 25 having a line / space = 20/20 μm was formed by flash etching (see FIG. 5). The external circuit pattern 25 was subjected to CZ treatment of Mack Corporation, and a liquid crystal polyester resin composition sheet having a melting point of 280 ° C. was disposed on both surfaces thereof at a thickness of 50 μm. : Olin XTF, manufactured by Olin 'Brass, Rz: 0.5 µm) were placed and laminated at 10 ° C. under a vacuum of 5 mmHg or less for 10 minutes, and then the carrier copper foil 33 of the surface layer was peeled off. In the same manner, a blind via hole 23 having a diameter of 50 μm is formed, desmearing, electroless copper plating, pattern resistor formation, all copper plating including the inside of the via hole, pattern resist stripping, and flash etching, and line / space = 15 / The circuit of 15 micrometers was formed, and the printed wiring board J of five layers was produced. After the CZ process of this surface, the prepreg E of Example 1 is arrange | positioned on it, and laminated | stack-molding like Example 1 is carried out. Laser processing was carried out in the same manner to perform nickel plating and gold plating to connect bumps and handballs. Table 1 shows the evaluation results of the printed circuit board manufactured as described above.

비교예 1Comparative Example 1

비교예 1에 따른 다층 인쇄회로기판의 단면도는 도 7과 같다. 두께 0.3 mm 로, 12μm전해 동박(요철 Rz:3.7μm)을 양면에 붙인 유리 테플론 양면 동장적층판을 이용해 관통 홀을 형성한 후, 동 밀착력 향상을 위해서 불소계 테트라 표면 처리를 한 후 동 도금을 부착시켜 가공판 K를 얻었다. 이 때 불소계 테트라 표면 처리를 실시하지 않는 경우 동도금이 부착 불량을 일으켜 도통 불량이 되었다. 가공판 K를 이용해 정법으로 양면에 회로를 형성하고 일반의 가연성을 가진 할로겐이 적은 비할로겐 UV 선택 열경화형 레지스터(상품명:PSR4000AUS308, 타이요 인크제조㈜제)를 두께 25μm로 표면에 형성하고 니켈 도금, 금 도금을 실시한 후, 범프, 핸더 볼을 접속하여, 도 7에 도시된 바와 같은 인쇄회로기판을 제작했다. 이와 같이 제작된 인쇄회로기판에 대한 평가 결과를 표 1에 나타내었다. 도 7에서 도면부호 (41)은 영구보호피막, (43)은 반도체 칩 접합용 핸더 볼, (45)는 유리직포 기재 불소 수지 조성물, (47)은 메인보드 접합용 핸더 볼, (49)는 솔더 레지스트를 나타낸다.7 is a cross-sectional view of the multilayer printed circuit board according to Comparative Example 1. FIG. After forming a through hole using a glass Teflon double-sided copper clad laminate with 12 μm electrolytic copper foil (roughness Rz: 3.7 μm) on both sides, and having a thickness of 0.3 mm, the copper plating was applied after fluorine-based tetra surface treatment to improve copper adhesion. Process board K was obtained. At this time, in the case where the fluorine-based tetra surface treatment was not performed, copper plating caused poor adhesion, resulting in poor conduction. A non-halogen UV selective thermosetting resistor (trade name: PSR4000AUS308, manufactured by Taiyo Ink Co., Ltd.) with a low halogen content is formed on the surface with nickel plating, After gold plating, bumps and handballs were connected to produce a printed circuit board as shown in FIG. Table 1 shows the results of the evaluation of the printed circuit board. In FIG. 7, reference numeral 41 denotes a permanent protective film, 43 denotes a handball for bonding semiconductor chips, 45 denotes a glass cloth-based fluororesin composition, and 47 denotes a motherboard bonding handball. Represent the solder resist.

비교예 2Comparative Example 2

비교예 2에 따른 다층 인쇄회로기판의 단면도는 도8과 같다. 실시예 1에서 두께 125μm의 구리합금만을 사용하고 정법으로 주위의 테두리와 연결해 회로를 형성한 후 흑색 산화동 처리를 행한다. 그리고 이 양면에 B스테이지 열경화성 수지조성물 시트 F를 100℃의 롤에서 5 kgf/cm의 선압으로 라미네이트 접착한 후 표층의 PET 필름을 박리 하고 나서, 그 위에 두께 12μm의 전해 동박을 배치한 후 190℃, 20 kgf/cm2, 5 mmHg 이하의 진공에서 적층 접착한다. 실시예 1과 같은 방법으로 표층 동박을 2μm까지 에칭하여 블라인드 비어홀 형성 및 동도금 충전한 후 회로 형성 및 적층을 반복하여 6층의 인쇄회로기판을 제작하였다. 그리고 솔더 레지시트는 비교예 1의 UV선택 열경화형 레지스터를 사용했다. 이와 같이 제작된 인쇄회로기판은 도 8과 같다. 도 8에 도시된 바와 같이 제작된 인쇄회로기판에 대한 실험 결과를 표 1에 나타내었다. 도 8에서, 도면부호 (43)은 반도체 칩 접합용 핸더 볼, (47)은 메인 보드 접합용 핸더볼, (51)은 경화된 열경화성 수지 조성물, (53)은 영구보호피막을 나타낸다. 8 is a cross-sectional view of the multilayer printed circuit board according to Comparative Example 2. FIG. In Example 1, only a copper alloy having a thickness of 125 µm is used, and a black copper oxide treatment is performed after a circuit is formed by connecting to a peripheral edge by a regular method. Then, the B stage thermosetting resin composition sheet F was laminated on the roll at 100 ° C. with a linear pressure of 5 kgf / cm, and then the PET film of the surface layer was peeled off. Then, an electrolytic copper foil having a thickness of 12 μm was placed thereon, and then 190 ° C. , 20 kgf / cm 2 , laminated bonding in a vacuum of 5 mmHg or less. After the surface layer copper foil was etched to 2 μm in the same manner as in Example 1, blind via holes were formed and copper plating was charged, and circuit formation and lamination were repeated to fabricate a six-layer printed circuit board. And the solder resist sheet used the UV selective thermosetting resistor of the comparative example 1. The printed circuit board manufactured as described above is illustrated in FIG. 8. Table 1 shows the experimental results for the printed circuit board manufactured as shown in FIG. 8. In Fig. 8, reference numeral 43 denotes a handball for semiconductor chip bonding, 47 denotes a main board bonding handball, 51 denotes a cured thermosetting resin composition, and 53 denotes a permanent protective film.

비교예 3Comparative Example 3

두께 125μm의 구리합금을 기재로 하고 이 양면에 온도 200℃, 두께 50μm의 B스테이지 에폭시 수지 조성물 시트를 위치시킨 후, 그 위에 두께 12μm의 전해 동박을 둔다. 그 위에 실시예 2의 세미 애더티브용 수지 조성물을 배치한 후, 실시예 2와 같은 방법으로 적층 및 블라인드 비어홀을 형성한다. 그리고 디스미어 처리, 동도금 및 회로 형성을 반복하여 두께 125μm의 구리합금의 양측으로 4층의 빌드업 인쇄회로기판을 제작했다. 그리고 1층을 전면 동도금으로 피복 한 후, 이것을 200℃로 10분 가열해 중앙으로부터 각 5층의 프린트 배선판을 박리 했다. 그 후에 양면에 회로를 형성하고 이 표층에는 비교예 1의 UV선택 열경화형 레지스터를 피복 하여 동일한 방법으로 다층의 인쇄회로기판을 제작하였다. 이와 같이 제작된 인쇄 회로기판은 도 9에 도시된 바와 같다. 그리고 비교예 3에 대한 실험 결과를 표 1에 나타내었다. 도 9에서, (55)는 구리합금판, (57)은 동박, (59)는 에폭시 수지 조성물, (61)은 전해 동박을 나타낸다. A copper alloy having a thickness of 125 µm is used as the substrate, and a B stage epoxy resin composition sheet having a temperature of 200 ° C. and a thickness of 50 µm is placed on both surfaces, and an electrolytic copper foil having a thickness of 12 µm is placed thereon. After the resin composition for semiadditives of Example 2 was arrange | positioned on it, a lamination and a blind via hole are formed by the method similar to Example 2. The desmearing process, copper plating, and circuit formation were repeated to produce four layers of buildup printed circuit boards on both sides of a 125 μm thick copper alloy. And after covering 1 layer with full copper plating, it heated at 200 degreeC for 10 minutes, and peeled each 5 layers of printed wiring boards from the center. Thereafter, circuits were formed on both surfaces, and the surface layer was coated with the UV selective thermosetting resistors of Comparative Example 1 to produce multilayer printed circuit boards in the same manner. The printed circuit board manufactured as described above is illustrated in FIG. 9. And the experimental results for Comparative Example 3 are shown in Table 1. In Fig. 9, reference numeral 55 denotes a copper alloy plate, 57 denotes a copper foil, 59 denotes an epoxy resin composition, and 61 denotes an electrolytic copper foil.

표 1Table 1

실시예1Example 1 실시예2Example 2 비교예1Comparative Example 1 비교예2Comparative Example 2 비교예3Comparative Example 3 가공 사전 처리Machining Pretreatment 필요 없음not needed 필요 없음not needed 특수 처리 필요Special handling required 필요 없음not needed 필요 없음not needed 회로의 엇갈림Staggered circuit 없음none 없음none 없음none 중앙의 회로가 어긋나 있음Center circuit is out of order 없음none 스택(stack)구조Stack structure 있음has exist 있음has exist 없음none 없음none 있음has exist 휘어진 상태(㎛)Curved state (㎛) 4747 6161 210210 120120 569569 플립칩 실장후 휘어진 상태(㎛)Curved state after flip chip mounting (㎛) 6767 8181 275275 155155 측정불가Not measurable 내연성Flame resistance V-0V-0 V-0V-0 HBHB HBHB V-1V-1 Br, Cl 함유Contains Br, Cl 비할로겐Non-halogen 비할로겐Non-halogen -- 비할로겐Non-halogen 비할로겐Non-halogen 방열성Heat dissipation 3434 3737 7171 4545 -- 전송로스(dB) at 25㎓Transmission loss (dB) at 25㎓ -- -3.5-3.5 -7.5-7.5 -27-27 -- 유전율(25㎓)Dielectric constant (25㎓) 4.74.7 2.92.9 2.32.3 4.84.8 --

 

측정 방법How to measure

(1) 홀 전 처리 : 홀의 동도금전의 특수 처리의 유무를 나타냈다.(1) Hole pretreatment: Indicates the presence or absence of special treatment before copper plating of holes.

(2) 회로의 엇갈림 : 회로를 형성한 위치로부터의 100μm이상의 엇갈림을 분석.(2) Circuit gap: Analyze the gap of 100μm or more from the position where the circuit is formed.

(3) 스택(stack)구조 : 스택(stack)구조 유무.(3) Stack structure: presence of stack structure.

(4) 휨 : 프린트 배선판 제작 후, 40x40mm size로, 중앙에 13 mm의 플립 칩을 납 리플로우 핸더(Max.온도:260℃)로 탑재 접속한 후의 휨을 측정한다. 보강 기재를 접착하지 않는 비교예3의 인쇄회로기판은 리플로우 처리를 하지 못하여 측정하지 않았다.(4) Warpage: After fabrication of the printed wiring board, the warpage after measuring the size of 40x40mm and mounting a 13mm flip chip in the center with a lead reflow hander (Max. Temperature: 260 ° C) is measured. The printed circuit board of Comparative Example 3, which does not adhere the reinforcing substrate, was not measured because the reflow treatment was not performed.

(5)내연성 : 동일 구성에서 회로용 동박을 제외한 후 기판을 제작하여 UL-94에 준해 측정했다.(5) Flame resistance: The board | substrate was produced after removing the copper foil for circuits in the same structure, and measured according to UL-94.

(6)Br, Cl함유 : 일본 인쇄회로기판 공업회(JPCA) 규격 JPCA-ES-01-1999에 준해 측정. 솔더 레지스트 첨부 기판의 Br, Cl 각각의 함유량이 900ppm 이하의 것을 비할로겐으로 하였다. 솔더 레지스트는 비할로겐에서도 그 자체가 가연성의 것, 자기 소화성의 것이 있기 때문에 가연성의 것을 사용하면 내연성은 HB 또는 V-1이 된다. 불소에 대해서는 규정되어 있지 않기 때문에 측정하지 않았다.(6) Br, Cl content: measured according to Japan Printed Circuit Board Industry Association (JPCA) standard JPCA-ES-01-1999. The thing of each 900 ppm or less of Br and Cl of the board | substrate with a soldering resist was made into non-halogen. Since solder resists are flammable and self-extinguishing in non-halogen itself, the flame resistance becomes HB or V-1 when using a flammable one. Since it is not prescribed about fluorine, it was not measured.

(7) 방열성 : 반도체 칩을 접속한 후 언더 필 수지를 흘려 넣어 경화시킨 것을 메인보드에 접속한 후 연속해 1000시간 사용하고 나서 패키지의 온도를 측정하였다. (7) Heat dissipation: After connecting a semiconductor chip, the underfill resin was poured and hardened, and it connected to the main board, and used for 1000 hours continuously, and measured the package temperature.

(8)전송 로스 : 마이크로 스트립 라인으로 절연층 100±15μm, 라인폭 220±15μm, 라인 두께 35±5μm, 길이 10 cm로 제작하여 25 GHz로의 전송 로스를 측정했다. 그리고 실시예 2에서는 액정 폴리에스테르 수지 조성물층을 측정했다.(8) Transmission loss: The transmission loss to 25 GHz was measured using a microstrip line with an insulating layer of 100 ± 15 μm, a line width of 220 ± 15 μm, a line thickness of 35 ± 5 μm, and a length of 10 cm. And in Example 2, the liquid crystal polyester resin composition layer was measured.

(9)유전율 : 25 GHz로의 유전율을 공동공진기법에서 측정했다. (9) Dielectric constant: The dielectric constant to 25 GHz was measured by the cavity resonance method.

실험 결과Experiment result

표 1에서 알 수 있는 바와 같이 본 발명의 실시예에 따른 다층 인쇄회로기판은 가공전 전 처리 및 회로의 엇갈림이 발생하지 않았다. 또한, 회로 전체의 휨이 비교예1과 비교예 3에서와 같이 크게 발생하지 않을 뿐만 아니라, 내연성 및 비 할로겐성의 특징을 나타내었다. 그리고 본 발명 실시예의 실시예1 및 실시예2는 방열성이 우수하고 전송 로스 및 유전율에 있어서 비교예1과 비교예3에 비해 우수한 특성을 나타낸다. As can be seen from Table 1, the multi-layer printed circuit board according to the embodiment of the present invention did not have a pre-processing and a circuit gap. In addition, warpage of the entire circuit did not occur as much as in Comparative Example 1 and Comparative Example 3, but also exhibited characteristics of flame resistance and non-halogenity. And Example 1 and Example 2 of the Example of this invention are excellent in heat dissipation, and exhibit the outstanding characteristic compared with Comparative Example 1 and Comparative Example 3 in transmission loss and dielectric constant.

이상에서 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명의 다양한 변경예와 수정예도 본 발명의 기술적 사상을 구현하는 한, 본 발명의 범위에 속하는 것으로 해석되어야 한다. Although the embodiments of the present invention have been described above, various changes and modifications of the present invention should also be construed as falling within the scope of the present invention as long as the technical idea of the present invention is realized.

본 발명은 신호 전달성이 뛰어나고 방열성이 우수한 다층 인쇄회로기판을 제공할 수 있다. The present invention can provide a multilayer printed circuit board having excellent signal transmission and excellent heat dissipation.

본 발명은 보강재를 필요로 하지 않고, 고주파, 특히 20 GHz 이상에서 유전 특성이 우수하고 전송 손실이 뛰어난 다층 인쇄회로기판을 제공할 수 있다. The present invention does not require a reinforcing material, and can provide a multilayer printed circuit board having excellent dielectric properties and excellent transmission loss at a high frequency, particularly 20 GHz or more.

본 발명은 UL94V-0의 내연성을 가지는 비할로겐(non halogen)의 다층 인쇄회로기판을 제공할 수 있다. The present invention can provide a non-halogen (non halogen) multilayer printed circuit board having a flame resistance of UL94V-0.

Claims (36)

적어도 한 쌍의 제1금속층 및 상기 제1금속층 사이에 개재되어 적층된 제2금속층으로부터 형성되는 상부 회로패턴, 하부 회로패턴 및 내부 회로패턴과;An upper circuit pattern, a lower circuit pattern, and an internal circuit pattern formed from at least a pair of first metal layers and a second metal layer interposed between the first metal layers and stacked; 상기 제1금속층 상에 각각 적층되며 상기 상부 회로패턴 및 상기 하부 회로패턴을 매몰하는 수지조성물층과;A resin composition layer laminated on the first metal layer and buried in the upper circuit pattern and the lower circuit pattern; 상기 수지조성물층에 형성되며 상기 상부 회로패턴 및 상기 하부 회로패턴과 연결되는 블라인드 비어홀과;A blind via hole formed in the resin composition layer and connected to the upper circuit pattern and the lower circuit pattern; 상기 수지조성물층에 형성되며 상기 블라인드 비어홀과 연결되는 외층 회로패턴과;An outer circuit pattern formed on the resin composition layer and connected to the blind via hole; 상기 외층 회로패턴과 연결되는 외부 연결수단을 구비하는 다층 인쇄회로기판. Multi-layer printed circuit board having an external connection means connected to the outer circuit pattern. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제1금속층은 동박 또는 동박 합금에 의해 형성되는 다층 인쇄회로기판.The first metal layer is a multilayer printed circuit board formed of copper foil or copper foil alloy. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 제2금속층은 니켈, 알루미늄, 주석, 티탄, 스테인레스 또는 이들의 합금, 42 합금(alloy)에 의해 형성되는 다층 인쇄회로기판.The second metal layer is a multilayer printed circuit board formed of nickel, aluminum, tin, titanium, stainless or alloys thereof, alloy 42. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제1금속층 및 상기 제2금속층의 두께는 50~300㎛인 다층 인쇄회로기판.The thickness of the first metal layer and the second metal layer is a multilayer printed circuit board of 50 ~ 300㎛. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 제2금속층의 양면에는 한 쌍의 상기 제1금속층이 적층되는 다층 인쇄회로기판.A multilayer printed circuit board having a pair of the first metal layer stacked on both sides of the second metal layer. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 수지조성물층은 에폭시 수지, 시안산 에스테르 수지, 마레이미드 수지, 폴리이미드 수지, 관능기 부가 폴리페닐렌 에테르 수지 또는 이들의 조합에 의해 형성되는 다층 인쇄회로기판.The resin composition layer is a multilayer printed circuit board formed by epoxy resin, cyanic acid ester resin, marimide resin, polyimide resin, functional group addition polyphenylene ether resin or a combination thereof. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 수지조성물층은 액정 폴리에스테르 수지에 의해 형성되는 다층 인쇄회로기판.The resin composition layer is a multilayer printed circuit board formed by a liquid crystal polyester resin. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 수지조성물층은 시안산 에스테르 수지인 다층 인쇄회로기판.The resin composition layer is a multilayer printed circuit board of cyanic acid ester resin. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 수지조성물층은 시안산 에스테르 수지와 액정 폴리에스테르 섬유포 기재의 혼합물에 의해 형성되는 다층 인쇄회로기판. The resin composition layer is a multilayer printed circuit board formed by a mixture of a cyanic acid ester resin and a liquid crystal polyester fiber cloth base. 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 수지조성물층에는 경화제 및/또는 촉매제가 첨가된 다층 인쇄회로기판. The resin composition layer is a multilayer printed circuit board is added with a curing agent and / or a catalyst. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 수지조성물층은 유리 섬유 직포 또는 부직포, 폴리오키사조르 섬유, 전방향족 폴리아미드 섬유, 액정 폴리에스테르 섬유의 직포 또는 부직포에 의해 형성되는 다층 인쇄회로기판. The resin composition layer is a multilayer printed circuit board formed of a woven or nonwoven fabric of glass fiber woven or nonwoven fabric, polykisazor fiber, wholly aromatic polyamide fiber, liquid crystal polyester fiber. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 외부 연결수단은 상기 수지조성물층에 형성된 솔더볼인 다층 인쇄회로기판.The external connection means is a multilayer printed circuit board is a solder ball formed on the resin composition layer. 제 12 항에 있어서,The method of claim 12, 상기 솔더볼은 칩과 연결되는 칩 접합용 솔더볼 및 기판과 연결되는 기판 접합용 솔더볼인 다층 인쇄회로기판. The solder ball is a multi-layer printed circuit board which is a solder ball for chip bonding and a board for solder bonding to the board connected to the chip. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 외층 회로패턴 상에는 영구 보호피막이 형성되는 다층 인쇄회로기판.A multilayer printed circuit board having a permanent protective film formed on the outer circuit pattern. 제 14 항에 있어서,The method of claim 14, 상기 영구 보호피막은 솔더 레지스트인 다층 인쇄회로기판.The permanent protective film is a multilayer printed circuit board is a solder resist. 제 15 항에 있어서,The method of claim 15, 상기 솔더 레지스트는 난소성인 다층 인쇄회로기판.The solder resist is a multi-layer printed circuit board of the refractory. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 수지조성물층은 비할로겐(non halogen)이며 자기 소화성(UL94V-1)인 다층 인쇄회로기판.The resin composition layer is a non-halogen (non halogen) and self-extinguishing (UL94V-1) multilayer printed circuit board. (a) 제2금속층의 양 면에 제1금속층을 적층하는 단계와;(a) depositing a first metal layer on both sides of the second metal layer; (b) 일면의 상기 제1금속층에 상부 회로패턴을 형성한 후 수지조성물층을 적층하는 단계와;(b) forming an upper circuit pattern on the first metal layer on one surface and then laminating a resin composition layer; (c) 타면의 상기 제1금속층에 하부 회로패턴을 그리고 상기 제2금속층에 내부 회로패턴을 형성한 후 수지조성물층을 적층하는 단계와;(c) forming a lower circuit pattern on the first metal layer on the other surface and an internal circuit pattern on the second metal layer, and then laminating a resin composition layer; (d)상기 수지조성물층에 상기 상부 회로패턴 및 상기 하부 회로패턴과 연결되는 블라인드 비어홀을 형성하는 단계와;(d) forming a blind via hole connected to the upper circuit pattern and the lower circuit pattern in the resin composition layer; (e) 상기 블라인드 비어홀을 충전함과 동시에 외층 회로패턴을 형성하는 단계;를 포함하는 다층 인쇄회로기판 제작방법.(e) filling the blind via hole and simultaneously forming an outer layer circuit pattern. 제 18 항에 있어서,The method of claim 18, 상기 제1금속층은 동박 또는 동박 합금에 의해 형성되는 다층 인쇄회로기판 제작방법.The first metal layer is a multilayer printed circuit board manufacturing method formed of copper foil or copper foil alloy. 제 19 항에 있어서,The method of claim 19, 상기 제2금속층은 니켈, 알루미늄, 주석, 티탄, 스테인레스 또는 이들의 합금, 42 합금(alloy)에 의해 형성되는 다층 인쇄회로기판 제작방법.And the second metal layer is formed of nickel, aluminum, tin, titanium, stainless or an alloy thereof, alloy 42. 제 18 항에 있어서,The method of claim 18, 상기 제1금속층 및 상기 제2금속층의 두께는 50~300㎛인 다층 인쇄회로기판 제작방법.The first metal layer and the second metal layer has a thickness of 50 ~ 300㎛ multi-layer printed circuit board manufacturing method. 제 18 항에 있어서,The method of claim 18, 상기 제1금속층은 상기 제2금속층의 양면에 상온 및 저압의 조건에서 압접 에 의해 적층되는 다층 인쇄회로기판 제작방법.The first metal layer is a multilayer printed circuit board manufacturing method is laminated on both sides of the second metal layer by pressure welding under conditions of room temperature and low pressure. 제 22 항에 있어서,The method of claim 22, 상기 제1금속층의 압접 전, 상기 제2금속층의 양면을 이온 에칭하는 다층 인쇄회로기판 제작방법.And ion-etching both surfaces of the second metal layer before the pressure welding of the first metal layer. 제 18 항에 있어서,The method of claim 18, 상기 제1금속층은 상기 제2금속층의 양면에 도금에 의해 형성되는 다층 인쇄회로기판 제작방법.The first metal layer is a multilayer printed circuit board manufacturing method formed by plating on both sides of the second metal layer. 제 18 항에 있어서, The method of claim 18, 상기 수지조성물층은 에폭시 수지, 시안산 에스테르 수지, 마레이미드 수지, 폴리이미드 수지, 관능기 부가 폴리페닐렌 에테르 수지 또는 이들의 조합에 의해 형성되는 다층 인쇄회로기판 제작방법.The resin composition layer is a method of manufacturing a multilayer printed circuit board formed by epoxy resin, cyanic acid ester resin, marimide resin, polyimide resin, functional group addition polyphenylene ether resin or a combination thereof. 제 18 항에 있어서,The method of claim 18, 상기 수지조성물층은 액정 폴리에스테르 수지에 의해 형성되는 다층 인쇄회로기판 제작방법.The resin composition layer is a multilayer printed circuit board manufacturing method formed by a liquid crystal polyester resin. 제 18 항에 있어서,The method of claim 18, 상기 수지조성물층은 시안산 에스테르 수지인 다층 인쇄회로기판 제작방법.The resin composition layer is a cyanate ester resin multilayer printed circuit board manufacturing method. 제 18 항에 있어서,The method of claim 18, 상기 수지조성물층은 시안산 에스테르 수지와 액정 폴리에스테르 섬유포 기재의 혼합물에 의해 형성되는 다층 인쇄회로기판 제작방법.The resin composition layer is a multilayer printed circuit board manufacturing method formed by a mixture of a cyanic acid ester resin and a liquid crystal polyester fiber cloth base. 제 18 항에 있어서,The method of claim 18, 상기 수지조성물층에는 경화제 및/또는 촉매제가 첨가된 다층 인쇄회로기판 제작방법. The resin composition layer is a multilayer printed circuit board manufacturing method to which a curing agent and / or a catalyst is added. 제 18 항에 있어서,The method of claim 18, 상기 수지조성물층은 유리 섬유 직포 또는 부직포, 폴리오키사조르 섬유, 전방향족 폴리아미드 섬유, 액정 폴리에스테르 섬유의 직포 또는 부직포에 의해 형성되는 다층 인쇄회로기판 제작방법.The resin composition layer is a multi-layer printed circuit board manufacturing method formed of a woven or non-woven fabric of glass fiber woven or non-woven fabric, polykisosa fiber, wholly aromatic polyamide fiber, liquid crystal polyester fiber. 제 18 항에 있어서,The method of claim 18, 상기 외층 회로패턴과 연결되는 외부 연결수단을 형성하는 단계를 더 포함하고, Forming an external connection means connected to the outer circuit pattern; 상기 외부 연결수단은 상기 수지조성물층에 형성된 솔더볼인 다층 인쇄회로기판 제작방법.The external connection means is a solder ball formed in the resin composition layer is a multilayer printed circuit board manufacturing method. 제 31 항에 있어서,The method of claim 31, wherein 상기 솔더볼은 칩과 연결되는 칩 접합용 솔더볼 및 기판과 연결되는 기판 접합용 솔더볼인 다층 인쇄회로기판 제작방법.The solder ball is a chip bonding solder ball is connected to the chip and a solder ball for bonding the board is connected to the substrate manufacturing method of a multilayer printed circuit board. 제 18 항에 있어서,The method of claim 18, (f) 상기 외층 회로패턴 상에 영구 보호피막을 형성하는 단계를 추가로 포함하는 다층 인쇄회로기판 제작방법.(f) forming a permanent protective film on the outer circuit pattern. 제 33 항에 있어서,The method of claim 33, wherein 상기 영구 보호피막은 솔더 레지스트인 다층 인쇄회로기판 제작방법.Wherein the permanent protective film is a solder resist multilayer printed circuit board manufacturing method. 제 34 항에 있어서,The method of claim 34, wherein 상기 솔더 레지스트는 난소성인 다층 인쇄회로기판 제작방법.The solder resist is a flame-retardant multilayer printed circuit board manufacturing method. 제 18 항에 있어서,The method of claim 18, 상기 수지조성물층은 비할로겐(non halogen)이며 자기 소화성(UL94V-1)인 다층 인쇄회로기판 제작방법.The resin composition layer is a non-halogen (non halogen) and self-extinguishing (UL94V-1) of the multilayer printed circuit board manufacturing method.
KR1020050118613A 2005-12-07 2005-12-07 Multilayer printed circuit board and fabricating method therefore KR100722741B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050118613A KR100722741B1 (en) 2005-12-07 2005-12-07 Multilayer printed circuit board and fabricating method therefore

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050118613A KR100722741B1 (en) 2005-12-07 2005-12-07 Multilayer printed circuit board and fabricating method therefore

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR100722741B1 true KR100722741B1 (en) 2007-05-30

Family

ID=38278483

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020050118613A KR100722741B1 (en) 2005-12-07 2005-12-07 Multilayer printed circuit board and fabricating method therefore

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100722741B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100872574B1 (en) * 2007-07-04 2008-12-08 삼성전기주식회사 Multilayered printed circuit board and fabricating method therefore

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0883980A (en) * 1994-09-13 1996-03-26 Toagosei Co Ltd Manufacture of multilayer printed-wiring board
JPH10117068A (en) 1996-10-14 1998-05-06 Cmk Corp Conductive sheet and manufacture of multilayered printed wiring board using the same
JP2001177240A (en) 1999-12-21 2001-06-29 Toyo Kohan Co Ltd Multilayer printed wiring board and method of manufacturing the same
JP2003017848A (en) 2001-06-29 2003-01-17 Toppan Printing Co Ltd Method for manufacturing multilayer printed wiring board having filled-via structure

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0883980A (en) * 1994-09-13 1996-03-26 Toagosei Co Ltd Manufacture of multilayer printed-wiring board
JPH10117068A (en) 1996-10-14 1998-05-06 Cmk Corp Conductive sheet and manufacture of multilayered printed wiring board using the same
JP2001177240A (en) 1999-12-21 2001-06-29 Toyo Kohan Co Ltd Multilayer printed wiring board and method of manufacturing the same
JP2003017848A (en) 2001-06-29 2003-01-17 Toppan Printing Co Ltd Method for manufacturing multilayer printed wiring board having filled-via structure

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100872574B1 (en) * 2007-07-04 2008-12-08 삼성전기주식회사 Multilayered printed circuit board and fabricating method therefore

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100276747B1 (en) Circuit board using heat resistant resin for adhesive layer
JP4273895B2 (en) Manufacturing method of package substrate for mounting semiconductor device
US8030752B2 (en) Method of manufacturing semiconductor package and semiconductor plastic package using the same
JP4820388B2 (en) Semiconductor plastic package and manufacturing method thereof
KR101386373B1 (en) Resin composition, insulating sheet with base, prepreg, multilayer printed wiring board and semiconductor device
US20120174393A1 (en) Method of fabricating multilayered printed circuit board
JPWO2009028110A1 (en) Multilayer wiring board and semiconductor device
TW201341439A (en) Method for making the prepreg
US6866919B2 (en) Heat-resistant film base-material-inserted B-stage resin composition sheet for lamination and use thereof
JP2012131947A (en) Resin composition for printed wiring board, prepreg, metal-clad laminate, resin sheet, printed wiring board, and semiconductor device
KR100747023B1 (en) Multi-layer printed circuit board and fabricating method therefore
KR100751286B1 (en) Method for manufacturing semiconductor mounting substrate and semiconductor package
KR100870652B1 (en) Semiconductor package and fabricating method therefore
KR100957220B1 (en) Method for manufacturing insulating sheet and method for manufacturing laminated plate clad with metal foil and printed circuit board thereof using the same
KR100752025B1 (en) Manufacturing method of printed circuit board
JP2012131946A (en) Resin composition for printed wiring board, prepreg, laminate, resin sheet, printed wiring board, and semiconductor device
JP5672694B2 (en) Resin sheet, printed wiring board, and semiconductor device
KR100744993B1 (en) Multilayer printed circuit board and fabricating method therefore
KR100736634B1 (en) Laminated layer, printed circuit board and fabricating method therefore
KR100722741B1 (en) Multilayer printed circuit board and fabricating method therefore
KR100872574B1 (en) Multilayered printed circuit board and fabricating method therefore
TWI419636B (en) Multiple circuit board and semiconductor device
KR100815319B1 (en) Printed circuit board with high density and manufacturing method thereof
JP2005183599A (en) B stage resin composition sheet and method of manufacturing printed circuit substrate for mounting flip chip using the same
KR100971294B1 (en) Semiconductor plastic package and fabricating method therefore

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee