JPH0911467A - 液体噴射記録ヘッドおよびその製造方法 - Google Patents

液体噴射記録ヘッドおよびその製造方法

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JPH0911467A
JPH0911467A JP16400695A JP16400695A JPH0911467A JP H0911467 A JPH0911467 A JP H0911467A JP 16400695 A JP16400695 A JP 16400695A JP 16400695 A JP16400695 A JP 16400695A JP H0911467 A JPH0911467 A JP H0911467A
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JP
Japan
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recording head
jet recording
liquid jet
manufacturing
photosensitive resin
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JP16400695A
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Shoji Shiba
昭二 芝
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 ノズル吐出口部分の障害発生を防いで製造す
る。 【構成】 第一の基板11の上のネガ型フォトレジスト
12にパターン露光してレジストパターン14を形成
し、この上に光硬化型材料15を塗布して天井部分とな
る第二の基板16を張り合わせて、光硬化型材料15を
平坦化しレジストパターン14に合致させてパターン露
光してから切断分離し、光硬化型材料15の未硬化部分
を溶解除去する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、インクジェット記録装
置に用いる記録液小滴を発生するための液体噴射記録ヘ
ッドおよびその製造方法、および液体噴射記録装置に関
し、特にエッジシュータタイプの液体噴射記録ヘッドお
よびその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】液体噴射記録装置(インクジェット記録
方式)に使用される液体噴射記録ヘッドは、一般に微細
な記録液吐出口(オリフィス)、液流路および液流路の
一部に設けられる液体吐出エネルギー発生部を備えてい
る。このような液体噴射記録ヘッドを製造する方法とし
ては、図3に示す以下のような方法が公知である。
【0003】まず、第一の基板1上に感光性樹脂層(ネ
ガ型フォトレジスト)2を形成し(図3(a))、これ
をマスク3を介して露光(図3(b))し、現像処理を
施して感光性樹脂層2をパターニングし、被処理基板上
にインク流路壁となる型材を形成する(図3(c))。
次に、パターニングされた型材上に接着層6を介して第
二の基板5を張り合わせる(図3(d))。さらに切断
分離を行って個々のヘッドに分割した後、必要に応じて
切断面の研磨を行うことにより吐出口7を形成する(図
3(e))。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記の製造方法によっ
て液体噴射記録ヘッドを製造する場合、吐出口は基板の
切断分離および研磨によって形成される。このため、切
断あるいは研磨の際に発生したゴミによる目詰まり、バ
リによるインクのヨレといった問題が発生する。
【0005】本発明は、上記従来の問題点を解消するた
めに成されたもので、前記のような吐出口の障害を発生
しない信頼性の高い液体噴射記録ヘッドおよびその製造
方法、そして記録装置の提供を目的とするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の液体噴射記録ヘ
ッドの製造方法は、次の構成によって前記目的を達成し
ようとするものである、(1)液体吐出エネルギー発生
部を有する基板上に、光硬化型の感光性樹脂材料をパタ
ーニングしてインク流路壁を形成した後、インク流路の
天井部分となる基材を張り合わせ切断分離することによ
り吐出口を形成するエッジシュータタイプの液体噴射記
録ヘッドの製造方法であって、前記パターニングされた
インク流路壁形成用の感光性樹脂材料上に光硬化型材料
を塗布して前記天井部分となる基材を張り合わせ、前記
光硬化型材料を平坦化しパターン露光してから切断分離
し、光硬化型材料の未硬化部分を溶解除去することを特
徴とする液体噴射記録ヘッドの製造方法、(2)前記パ
ターニングされた感光性樹脂上に塗布された光硬化型材
料の平坦化は、溶融平坦化により行うことを特徴とする
請求項1記載の液体噴射記録ヘッドの製造方法、(3)
前記パターニングされた感光性樹脂上に塗布された光硬
化型材料の溶融平坦化は、減圧下で行うことを特徴とす
る請求項2記載の液体噴射記録ヘッドの製造方法、
(4)前記パターニングされた感光性樹脂上に塗布され
た光硬化型材料の平坦化は、エッチバックにより行うこ
とを特徴とする請求項1記載の液体噴射記録ヘッドの製
造方法。
【0007】本発明の液体噴射記録ヘッドは、次の構成
によって前記目的を達成しようとするものである、
(1)前記の製造方法により製造されたことを特徴とす
る液体噴射記録ヘッド、(2)前記吐出口は多色用の吐
出口が一体成形されたものであることを特徴とする請求
項5記載の液体噴射記録ヘッド。
【0008】さらに本発明は、記録媒体の被記録面に対
向してインクを吐出する吐出口が設けられている前記の
液体噴射記録ヘッドおよび該液体噴射記録ヘッドを載置
する部材と、インク吐出エネルギー発生部を画像情報に
基づいて駆動する駆動手段とを備えたことを特徴とする
液体噴射記録装置によって、前記目的を達成しようとす
るものである。
【0009】
【作用】上記の製造方法は、パターニングされたインク
流路壁形成用の感光性樹脂材料上に光硬化型材料を塗布
し天井部分となる基材を張り合わせ、光硬化型材料を平
坦化しパターニングしてから切断分離後に光硬化型材料
の未硬化部分を溶解除去することにより、ゴミによる目
詰まりやバリによるインクのヨレといった障害の発生し
ない信頼性の高い液体噴射記録ヘッドを製造することが
できる。
【0010】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細
に説明する。
【0011】図1,図2に示す(a)〜(i)は、本発
明の液体噴射記録ヘッドの製造方法の実施例を模式的に
示した説明図であり、本発明にかかる液体噴射記録ヘッ
ドの要部の構成の一例を示した説明図でもある。
【0012】まず、第一の基板11上にネガ型フォトレ
ジスト12を形成する(図1の(a))。本実施例にお
いては第一の基板11として、例えばガラス,セラミッ
クス,プラスチック,金属等からなる基板が用いられ
る。この基板は液流路構成材料の一部として機能し、ま
た後記の流路壁等の支持体として機能させるものであ
り、その形状,材質等特に限定されることなく使用する
ことができる。
【0013】上記の基板11上には、電気熱変換体ある
いは圧電素子等の液体吐出エネルギー発生素子が所望の
個数配置される(不図示)。このような液体吐出エネル
ギー発生素子によって記録液小滴を吐出させるための吐
出エネルギーが記録液に与えられ、記録が行われる。上
記液体吐出エネルギー発生素子として電気熱変換体が用
いられる場合には、この素子が近傍の記録液を加熱する
ことにより吐出エネルギーを発生する。また、上記液体
吐出エネルギー発生素子として圧電素子が用いられる場
合は、この素子の機械的振動によって吐出エネルギーが
発生される。
【0014】なお、これらの液体吐出エネルギー発生素
子には、これらの素子を作動させるための制御信号入力
用電極が接続されている(不図示)。また、一般にこれ
ら液体吐出エネルギー発生素子の耐用性の向上等を目的
として、保護層等の各種の機能層が設けられるが、本実
施例においてもこのような機能層を設けることは差し支
えない。
【0015】次いで、第一のマスク13を介してパター
ン露光を行った後(図1の(b))、現像処理を行って
流路壁の一部となるレジストパターン14を形成する
(c)。ネガ型レジストとしては市販のものを使用する
ことができ、インクに対する耐性,密着性等の要求特性
を満足する光硬化型の材料であれば使用可能である。ま
た、一般にパターニング後に、乾燥あるいは熱キュア等
の目的で加熱処理が施されるが、本実施例においてもパ
ターニング後に加熱処理を行うことは何ら問題ない。ま
た、上記レジストパターンの大きさは所望のものとする
ことが可能であり、そのパターン間隔も液流路の大きさ
に応じたものとすることができる。
【0016】次いで、レジストパターン上に光硬化型材
料15を塗布する(d)。光硬化型材料15は、レジス
トパターンを完全に被覆するよう塗布することが好まし
く、その塗布方法としてはスピンコート,ロールコー
ト,バーコート,ディップコート,スプレーコート等の
手段を用いることができ、特に限定されるものではな
い。
【0017】次に、接着層17を介して第二の基板16
を載置し(e)、加熱することにより光硬化型材料15
の段差を平坦化する(図2の(f))。
【0018】この際用いられる第二の基板16として
は、光硬化型材料15を硬化させるために必要な波長の
光を透過することが必要であり、ガラスあるいはプラス
ティック等が用いられる。また、接着層17は光硬化型
材料15と第二の基板16との密着性を向上させるため
に用いるものであり、光硬化型材料15と第二の基板1
6との密着性が十分に得られる場合には用いる必要はな
い。また、接着層17を用いる場合に、流路壁の形状に
併せてパターニングしておくこと、あるいは光硬化型材
料15のパターニング時に同時にパターニングすること
も可能である。また、光硬化型材料15としては市販の
ネガ型レジスト材料を使用することが可能であり、特に
限定されるものではない。
【0019】本実施例においては、第二の基板16を光
硬化型材料15の上に設置した後、加熱することにより
光硬化型材料15を平坦化する例を示すが、これはあら
かじめメルトフロー,エッチバック等の手段により光硬
化型材料15を平坦化した後に第二の基板16を設置す
るものであっても特に問題はない。また、第二の基板1
6を設置後加熱により平坦化を行う場合には、第二の基
板16と光硬化型材料15の間に残留する空気を除去す
る目的で、減圧条件下での加熱、あるいは第二の基板1
6の上面から荷重を加えた状態での加熱を行うことが好
ましい。また、加熱を行う際の熱処理条件としては、光
硬化型材料15が十分に溶融し、かつ熱硬化反応が進行
しない程度の条件を選択する必要があり、光硬化型材料
15としてこれらの特性を満足するものを用いることが
好ましい。
【0020】次いで、第二のマスク18を介して光硬化
型材料15にパターン露光を行い(g)、切断分離する
ことにより個々のヘッドとし、必要に応じて切断面の研
磨を行う(h)。また、パターン露光後、あるいは分離
切断後に光硬化型材料15と第二の基板16との密着性
向上を目的として熱処理を施すことも可能である。
【0021】引き続き、未硬化の光硬化型材料15を溶
解除去することにより吐出口19を形成する(i)。未
硬化の光硬化型材料15を溶解除去する際の溶剤として
は、アセトン,アルコール等の有機溶剤、あるいはアル
カリ現像タイプの光硬化型材料であればアルカリ水溶液
等が使用でき、未硬化の光硬化型材料15を溶解するも
のであれば特に限定されるものではない。
【0022】上記の本発明実施例を、より具体的に説明
する。
【0023】(実施例1)液体吐出エネルギー発生素子
である電気熱変換体を形成したシリコン基板上にネガ型
フォトレジストOMR−83(東京応化製)を膜厚15
μmとなるようスピンコートし、オーブン中90℃で2
0分間のプリベークを行う。次いで、フォトマスクを介
してパターン露光を行った後、現像しレジストパターン
を得る。
【0024】次いで、レジストパターン上にOMR−8
3を平板上15μmの条件でスピンコートし、オーブン
中90℃で20分間のプリベークを行う。この上に、イ
ンク供給用の貫通口を有するガラス製の基板を設置し、
10mmHgの減圧条件下、120℃で10分間の熱処理
を施しOMR−83を平坦化する。
【0025】さらに、最初に用いたものと同様のフォト
マスクを介してパターン露光を行った後、150℃で1
0分間の熱処理を施し、分離切断して個々のヘッドとす
る。引き続きアセトン中で超音波処理を行って未硬化の
OMR−83を溶解除去する。
【0026】上記のようにして作成されたノズルを光学
顕微鏡により観察したところ、ノズル中にゴミ,切断バ
リは全く観察されなかった。さらに、このようにして作
成された液体噴射記録ヘッドは安定な印字が可能であっ
た。
【0027】(実施例2)液体吐出エネルギー発生素子
である電気熱変換体を形成したシリコン基板上に光硬化
型材料JSR−THL(日本合成ゴム製)を膜厚15μ
mとなるようスピンコートし、オーブン中90℃で20
分間のプリベークを行う。次いで、フォトマスクを介し
てパターン露光を行った後、現像しレジストパターンを
得る。
【0028】次いで、レジストパターン上にJSR−T
HLを平板上15μmの条件でスピンコートし、オーブ
ン中90℃で20分間のプリベークを行う。さらに、ポ
ジ型フォトレジストPMER−AR900(東京応化
製)を膜厚30μmとなるようスピンコートし、オーブ
ン中90℃で20分間のプリベークを行う。引き続き酸
素プラズマにより35μmのエッチバックを行って、J
SR−THLを平坦化する。
【0029】この上に、接着層として5μmのJST−
THLを形成したインク供給用の貫通口を有するガラス
製の基板を設置し、最初に用いたものと同様のフォトマ
スクを介してパターン露光を行う。さらに、150℃で
30分間の熱処理を施し、分離切断して個々のヘッドと
する。引き続き3wt%の水酸化ナトリウム水溶液中で
超音波処理を行って未硬化のJSR−THLを溶解除去
する。
【0030】上記のようにして作成されたノズルを光学
顕微鏡により観察したところ、ノズル中にゴミ,切断バ
リは全く観察されなかった。さらに、このようにして作
成された液体噴射記録ヘッドは安定な印字が可能であっ
た。
【0031】(比較例)液体吐出エネルギー発生素子と
しての電気熱変換体を形成したシリコン基板上にネガ型
フォトレジストOMR−83(東京応化製)を膜厚20
μmとなるようスピンコートし、オーブン中90℃で2
0分間のプリベークを行った。次いで、フォトマスクを
介してパターン露光を行った後、現像しレジストパター
ンを得た。
【0032】この上に接着層として5μmのOMR−8
3を形成したインク供給用の貫通口を有するガラス製の
基板を設置し、全面露光を行って接着した。次いで、1
50℃で30分間の熱処理を施し、分離切断して個々の
ヘッドとした。
【0033】このようにして作成されたノズルを光学顕
微鏡により観察したところ、ノズル中に多数のゴミが観
察された。さらに、このようにして作成された液体噴射
記録ヘッドを用いて印字検査を行ったところ1000ノ
ズル中19ノズルが不吐出であった。
【0034】
【発明の効果】以上説明したように、本発明による液体
噴射記録ヘッドの製造方法を採用することにより、信頼
性の高い液体噴射記録ヘッドを製造することができる。
そして、この液体噴射記録ヘッドを備えることにより、
液体噴射記録装置は安定して高品位な記録を実施するこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 実施例の製造工程説明図である。
【図2】 実施例の製造工程説明図である。
【図3】 従来のノズル形成方法の説明図である。
【符号の説明】
1 第一の基板 2 ネガ型フォトレジスト 3 マスク 4 インク流路壁 5 第二の基板 6 接着層 7 吐出口 11 第一の基板 12 ネガ型フォトレジスト 13 第一のマスク 14 レジストパターン 15 光硬化型材料 16 第二の基板 17 接着層 18 第二のマスク 19 吐出口

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 液体吐出エネルギー発生部を有する基板
    上に、光硬化型の感光性樹脂材料をパターニングしてイ
    ンク流路壁を形成した後、インク流路の天井部分となる
    基材を張り合わせ切断分離することにより吐出口を形成
    するエッジシュータタイプの液体噴射記録ヘッドの製造
    方法であって、 前記パターニングされたインク流路壁形成用の感光性樹
    脂材料上に光硬化型材料を塗布して前記天井部分となる
    基材を張り合わせ、前記光硬化型材料を平坦化しパター
    ン露光してから切断分離し、光硬化型材料の未硬化部分
    を溶解除去することを特徴とする液体噴射記録ヘッドの
    製造方法。
  2. 【請求項2】 前記パターニングされた感光性樹脂上に
    塗布された光硬化型材料の平坦化は、溶融平坦化により
    行うことを特徴とする請求項1記載の液体噴射記録ヘッ
    ドの製造方法。
  3. 【請求項3】 前記パターニングされた感光性樹脂上に
    塗布された光硬化型材料の溶融平坦化は、減圧下で行う
    ことを特徴とする請求項2記載の液体噴射記録ヘッドの
    製造方法。
  4. 【請求項4】 前記パターニングされた感光性樹脂上に
    塗布された光硬化型材料の平坦化は、エッチバックによ
    り行うことを特徴とする請求項1記載の液体噴射記録ヘ
    ッドの製造方法。
  5. 【請求項5】 請求項1記載の製造方法により製造され
    たことを特徴とする液体噴射記録ヘッド。
  6. 【請求項6】 前記吐出口は多色用の吐出口が一体成形
    されたものであることを特徴とする請求項5記載の液体
    噴射記録ヘッド。
  7. 【請求項7】 記録媒体の被記録面に対向してインクを
    吐出する吐出口が設けられている請求項5または6記載
    の液体噴射記録ヘッドおよび該液体噴射記録ヘッドを載
    置する部材と、インク吐出エネルギー発生部を画像情報
    に基づいて駆動する駆動手段とを備えたことを特徴とす
    る液体噴射記録装置。
JP16400695A 1995-06-29 1995-06-29 液体噴射記録ヘッドおよびその製造方法 Withdrawn JPH0911467A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100396559B1 (ko) * 2001-11-05 2003-09-02 삼성전자주식회사 일체형 잉크젯 프린트헤드의 제조 방법
JP2008026247A (ja) * 2006-07-25 2008-02-07 Seiko Epson Corp 外観検査装置および外観検査方法

Cited By (2)

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Effective date: 20020903