JPH09103638A - ガスから不純物を電解除去する方法 - Google Patents
ガスから不純物を電解除去する方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ガスの精製法
【解決手段】 ガス及び液状電解液を、順流又は向流
で、セパレーターにより固定床電極から分離された対電
極を有する電解槽の固定床電極に導き、かつ不純物を、
有効な槽電圧で電気化学的に変換させる場合に、固定床
電極を、細流床反応器として操作する。
で、セパレーターにより固定床電極から分離された対電
極を有する電解槽の固定床電極に導き、かつ不純物を、
有効な槽電圧で電気化学的に変換させる場合に、固定床
電極を、細流床反応器として操作する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、固定床電極を有す
る電解槽の使用下に、ガスから不純物を電解除去するこ
とによるガスの精製法に関する。
る電解槽の使用下に、ガスから不純物を電解除去するこ
とによるガスの精製法に関する。
【0002】
【従来の技術】ガス中のガス状有害物質又は不純物、例
えば、Cl2、SO2、NOxは、洗浄溶液を用いる湿式
化学的洗浄により除去することができる。このような精
製のために、吸収装置、例えば、充填塔を使用する。良
好な精製効果を得るために、吸収されたガス成分を、迅
速に反応させる必要がある。適当な化学薬品を使用する
必要があることは、欠点である。更に、洗浄溶液中に形
成された反応生成物により、排ガス問題から、しばしば
排水問題が生じる。
えば、Cl2、SO2、NOxは、洗浄溶液を用いる湿式
化学的洗浄により除去することができる。このような精
製のために、吸収装置、例えば、充填塔を使用する。良
好な精製効果を得るために、吸収されたガス成分を、迅
速に反応させる必要がある。適当な化学薬品を使用する
必要があることは、欠点である。更に、洗浄溶液中に形
成された反応生成物により、排ガス問題から、しばしば
排水問題が生じる。
【0003】電気化学的排ガス精製法も公知である。い
わゆる、”外部槽”法では、排ガスから除去されるガス
成分を、先ず吸収塔で、洗浄溶液中に吸収させ;引き続
き、洗浄溶液を、後続の電解槽中で、カソードで還元す
るか、又はアノードで酸化させる。これらの装置は、2
つの容器、つまり吸収のためのもの1つ及び電解のため
のもの1つを必要とする。いわゆる、”内部槽”法が有
利であり、その際、吸収及び電気化学的反応を、1つの
反応器、つまり、1つの電解槽中で行う。いわゆる、”
間接”電解工程では、湿式化学的排ガス処理で使用され
る酸化−又は還元剤を、使用洗浄溶液の電解により再生
させる。
わゆる、”外部槽”法では、排ガスから除去されるガス
成分を、先ず吸収塔で、洗浄溶液中に吸収させ;引き続
き、洗浄溶液を、後続の電解槽中で、カソードで還元す
るか、又はアノードで酸化させる。これらの装置は、2
つの容器、つまり吸収のためのもの1つ及び電解のため
のもの1つを必要とする。いわゆる、”内部槽”法が有
利であり、その際、吸収及び電気化学的反応を、1つの
反応器、つまり、1つの電解槽中で行う。いわゆる、”
間接”電解工程では、湿式化学的排ガス処理で使用され
る酸化−又は還元剤を、使用洗浄溶液の電解により再生
させる。
【0004】電解酸化又は還元による排ガス精製のため
に好適な”内部槽”法を、G.Kreysaet al. in der. Che
m. eng. 6(1983) 325〜336が教示している:精製される
ガスを、固定床電極として形成される吸収塔中で、電解
に導く洗浄液と接触させる。この吸収塔は、導電充填材
からなるばら積み体を有する。精製されるガス及び洗浄
液は、順流で、又は向流で、塔を貫流させることができ
る。どちらの場合にも、安定な2相混合物(ガス/液
体)が、塔を貫流すべきである。塔は、常にフラッディ
ング(geflutet)にしておくべきであり、かつ液体流の途
絶を回避すべきである。Kreysa et al. は、記載の条件
下に、塩素5000ppmを含有する排ガスを、K2S
O4−カソード液及び15Aの電流の使用下に、塩素5
0ppmまでに減らすことができることを記載してい
る。SO20.8容量%を含有するガスを、アノード酸
化により、SO2200ppmまでに減らすことができ
た。
に好適な”内部槽”法を、G.Kreysaet al. in der. Che
m. eng. 6(1983) 325〜336が教示している:精製される
ガスを、固定床電極として形成される吸収塔中で、電解
に導く洗浄液と接触させる。この吸収塔は、導電充填材
からなるばら積み体を有する。精製されるガス及び洗浄
液は、順流で、又は向流で、塔を貫流させることができ
る。どちらの場合にも、安定な2相混合物(ガス/液
体)が、塔を貫流すべきである。塔は、常にフラッディ
ング(geflutet)にしておくべきであり、かつ液体流の途
絶を回避すべきである。Kreysa et al. は、記載の条件
下に、塩素5000ppmを含有する排ガスを、K2S
O4−カソード液及び15Aの電流の使用下に、塩素5
0ppmまでに減らすことができることを記載してい
る。SO20.8容量%を含有するガスを、アノード酸
化により、SO2200ppmまでに減らすことができ
た。
【0005】前記の方法並びにそのために適当な電解槽
の種々異なる実施様態を、Kreysaは、ドイツ特許公開
(DE−OS)第2901577号明細書中で教示して
いる。このようなセルは、接続された電極を有し、かつ
隔膜により分離された電極室を有し、その際、少なくと
も1つの電極が、固定床電極として形成されている。い
くつかのアノード及びカソードが、フィルタープレス状
にまとめられていてもよい。比較的大きい固定床電極内
では、対電極室及び隔膜を有するいくつかの対電極を設
置することもできる。
の種々異なる実施様態を、Kreysaは、ドイツ特許公開
(DE−OS)第2901577号明細書中で教示して
いる。このようなセルは、接続された電極を有し、かつ
隔膜により分離された電極室を有し、その際、少なくと
も1つの電極が、固定床電極として形成されている。い
くつかのアノード及びカソードが、フィルタープレス状
にまとめられていてもよい。比較的大きい固定床電極内
では、対電極室及び隔膜を有するいくつかの対電極を設
置することもできる。
【0006】Kreysa et al. の方法の欠点は、精製ガス
中の不純物の高い残分である。塩素の場合には、残分
は、例えば、ドイツで認められる限界値5ppmの約1
01乗以上である。更に、塩素含有ガスの記載の精製法
では、廃棄すべきK2SO4を含有する塩酸が生じる。ド
イツ特許公開(DE−OS)第2901577号明細書
によると、勿論、HCl−水溶液も、カソード液として
使用することができる。
中の不純物の高い残分である。塩素の場合には、残分
は、例えば、ドイツで認められる限界値5ppmの約1
01乗以上である。更に、塩素含有ガスの記載の精製法
では、廃棄すべきK2SO4を含有する塩酸が生じる。ド
イツ特許公開(DE−OS)第2901577号明細書
によると、勿論、HCl−水溶液も、カソード液として
使用することができる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の課題
は、同種の公知の方法の欠点を有さない、ガスから、ガ
ス状の不純物を除去するための改良方法を記載すること
である。殊に、この方法は、より良好な精製度をもたら
し、かつ法的な処方に相応する有害物質の残留濃度を得
ることを可能にすべきである。この方法は、容易に取り
扱い可能であるべきであり、かつ公知の方法より多い技
術費用を必要とすべきでない。
は、同種の公知の方法の欠点を有さない、ガスから、ガ
ス状の不純物を除去するための改良方法を記載すること
である。殊に、この方法は、より良好な精製度をもたら
し、かつ法的な処方に相応する有害物質の残留濃度を得
ることを可能にすべきである。この方法は、容易に取り
扱い可能であるべきであり、かつ公知の方法より多い技
術費用を必要とすべきでない。
【0008】
【課題を解決するための手段】ガスから、不純物を電解
除去する方法を発見し、その際、ガス及び液状電解液
を、順流又は向流で、セパレーターにより固定床電極か
ら分離された対電極及び対電極室を有する電解槽の固定
床電極に導き、かつ不純物を、有効槽電圧で電気化学的
に変換させる場合に、固定床電極を、細流床反応器とし
て操作することを特徴とする。
除去する方法を発見し、その際、ガス及び液状電解液
を、順流又は向流で、セパレーターにより固定床電極か
ら分離された対電極及び対電極室を有する電解槽の固定
床電極に導き、かつ不純物を、有効槽電圧で電気化学的
に変換させる場合に、固定床電極を、細流床反応器とし
て操作することを特徴とする。
【0009】従属請求項は、方法の有利な実施形に関す
る。
る。
【0010】本発明の方法を用いると、電解条件下で、
酸化又は還元可能な不純物を含有するようなガスを、精
製することができる。還元可能な不純物、例えば、ハロ
ゲン及び殊に塩素は、これらを、固定床カソードとして
形成されている固定床に導き、かつ水性カソード液、殊
にハロゲン化水素酸水溶液を、この固定床に細流で注ぐ
ことにより、ガスから、ほぼ定量的に分離除去すること
ができる(アノードに、そこに存在するアノード水溶液
から、酸素が生じる)。酸化可能な不純物、例えば、二
酸化硫黄、酸化窒素(NOx)及び酸化可能な有機化合
物、例えば、ホルムアルデヒドは、それらで不純化され
ているガスから、ガス及びアノード液を、固定床アノー
ドに導くことにより除去することができる。ガスから除
去される不純物は、少なくとも部分的に、固定床に細流
で流される電解液中に溶け、かつ電気化学的に反応可能
である必要がある。
酸化又は還元可能な不純物を含有するようなガスを、精
製することができる。還元可能な不純物、例えば、ハロ
ゲン及び殊に塩素は、これらを、固定床カソードとして
形成されている固定床に導き、かつ水性カソード液、殊
にハロゲン化水素酸水溶液を、この固定床に細流で注ぐ
ことにより、ガスから、ほぼ定量的に分離除去すること
ができる(アノードに、そこに存在するアノード水溶液
から、酸素が生じる)。酸化可能な不純物、例えば、二
酸化硫黄、酸化窒素(NOx)及び酸化可能な有機化合
物、例えば、ホルムアルデヒドは、それらで不純化され
ているガスから、ガス及びアノード液を、固定床アノー
ドに導くことにより除去することができる。ガスから除
去される不純物は、少なくとも部分的に、固定床に細流
で流される電解液中に溶け、かつ電気化学的に反応可能
である必要がある。
【0011】本発明の特徴は、ガスの不純物を吸収する
電解液を、固定床電極に細流で注ぐことである。固定床
電極を、細流床(trickle bed)の形でも操作する。Kreys
a etal.(Ger. Chem. Eng. 6(1983)325〜336, 殊に、329
頁)は、はっきりと、電気分解の間に、固定床電極の内
部に、安定な2相流を維持して、固定床電極を、フラッ
ディング状態(geflutetem Zustand)に保持すべきである
と教示しているが、本発明では、固定床電極を、常に、
非フラッディング状態で操作する。電極液は、固定床電
極の粒子上に、広い交換面積を有する液状フィルムを形
成する。この拡げられた交換面積に基づき、液体とガス
の不純物との物質交換が改良され、かつこれにより、ガ
スの本質的により高い精製度が達成される。固定床電極
を、細流床として操作することにより、細流床中の圧力
損失は、フラッディング固定床電極の操作の際に克服さ
れるべきものの僅かな一部分のみである。
電解液を、固定床電極に細流で注ぐことである。固定床
電極を、細流床(trickle bed)の形でも操作する。Kreys
a etal.(Ger. Chem. Eng. 6(1983)325〜336, 殊に、329
頁)は、はっきりと、電気分解の間に、固定床電極の内
部に、安定な2相流を維持して、固定床電極を、フラッ
ディング状態(geflutetem Zustand)に保持すべきである
と教示しているが、本発明では、固定床電極を、常に、
非フラッディング状態で操作する。電極液は、固定床電
極の粒子上に、広い交換面積を有する液状フィルムを形
成する。この拡げられた交換面積に基づき、液体とガス
の不純物との物質交換が改良され、かつこれにより、ガ
スの本質的により高い精製度が達成される。固定床電極
を、細流床として操作することにより、細流床中の圧力
損失は、フラッディング固定床電極の操作の際に克服さ
れるべきものの僅かな一部分のみである。
【0012】精製されるガス及び不純物を吸収する電解
液は、順流又は向流で、固定床電極に導通させることが
できる。いずれの場合にも、電解液を、上から下へ、電
極ばら積み体を通して細流で注ぐ。特に、ガス及び電解
液を、向流で導くのが有利である。この際、細流密度
(断面及び1時間当たりの電解液の量)及び向流のガス
量とを、相互に、フラッディングが生じないように調節
する。
液は、順流又は向流で、固定床電極に導通させることが
できる。いずれの場合にも、電解液を、上から下へ、電
極ばら積み体を通して細流で注ぐ。特に、ガス及び電解
液を、向流で導くのが有利である。この際、細流密度
(断面及び1時間当たりの電解液の量)及び向流のガス
量とを、相互に、フラッディングが生じないように調節
する。
【0013】本発明の方法を、アノード、カソードとア
ノードとの間のセパレーター並びにカソード室及びアノ
ード室を有する電解槽中で実施する。電極の少なくとも
一方を、相応する電極室中に設置された固定床として、
形成する。固定床電極を有する電解槽は、電解槽に一般
的に慣用の形、殊に、管−又はプレート状に形成するこ
とができる。管状に形成すると、電極室及びセパレータ
ーを伴う一方の電極が、固定床電極を形成する導電性粒
子のばら積み体の中心に存在するのが有利である。広い
断面を有するばら積み体の中心の唯一の対電極の代わり
に、その中に、それぞれ電極室及びセパレーターを伴う
複数の対電極を、管−又は袋状に設置することもでき
る;対電極相互は、電気的に短絡されている。ドイツ特
許公開(DE−OS)第2901577号明細書からも
公知のように、複数のプレート状電解槽をまとめること
もできる。
ノードとの間のセパレーター並びにカソード室及びアノ
ード室を有する電解槽中で実施する。電極の少なくとも
一方を、相応する電極室中に設置された固定床として、
形成する。固定床電極を有する電解槽は、電解槽に一般
的に慣用の形、殊に、管−又はプレート状に形成するこ
とができる。管状に形成すると、電極室及びセパレータ
ーを伴う一方の電極が、固定床電極を形成する導電性粒
子のばら積み体の中心に存在するのが有利である。広い
断面を有するばら積み体の中心の唯一の対電極の代わり
に、その中に、それぞれ電極室及びセパレーターを伴う
複数の対電極を、管−又は袋状に設置することもでき
る;対電極相互は、電気的に短絡されている。ドイツ特
許公開(DE−OS)第2901577号明細書からも
公知のように、複数のプレート状電解槽をまとめること
もできる。
【0014】酸化可能かつ還元可能なガス不純物の除去
のために、精製されるガスを、連続して、固定床カソー
ドを有する電解槽、引き続き、固定床アノードを有する
電解槽に導通させることができる。しかし、前記の2つ
の電解槽は、両極性フィルタープレスユニットの形にま
とめることもできる−この場合、アノード固定床電極及
びカソード固定床電極を隔膜で、双極性作動する対電極
から分けておく。
のために、精製されるガスを、連続して、固定床カソー
ドを有する電解槽、引き続き、固定床アノードを有する
電解槽に導通させることができる。しかし、前記の2つ
の電解槽は、両極性フィルタープレスユニットの形にま
とめることもできる−この場合、アノード固定床電極及
びカソード固定床電極を隔膜で、双極性作動する対電極
から分けておく。
【0015】固定床電極の接触は、コンタクトロッド、
コンタクトグリッド又はコンタクトプレート又はこれら
のコンタクト装置の組み合わせにより行うことができ
る。固定床電極を、円形の断面を有する円筒形に形成し
ている場合には、接触を、円筒ジャケット状の接触電極
により実施するのが有利である。接触のための好適な材
料は、Ta、Zr、Nb及び殊にTiである。
コンタクトグリッド又はコンタクトプレート又はこれら
のコンタクト装置の組み合わせにより行うことができ
る。固定床電極を、円形の断面を有する円筒形に形成し
ている場合には、接触を、円筒ジャケット状の接触電極
により実施するのが有利である。接触のための好適な材
料は、Ta、Zr、Nb及び殊にTiである。
【0016】後記の図2a〜2dは、それぞれ異なるコ
ンタクト装置を有する電解槽の4つの異なる構造を示し
ている。対電極が、平面的に形成されている電解槽で
は、相対する平面又は網状コンタクトを有する固定床電
極が、コンタクトロッドによる接触を有するものよりも
有利であることが判明した。
ンタクト装置を有する電解槽の4つの異なる構造を示し
ている。対電極が、平面的に形成されている電解槽で
は、相対する平面又は網状コンタクトを有する固定床電
極が、コンタクトロッドによる接触を有するものよりも
有利であることが判明した。
【0017】本発明で使用される電解槽の特に有利な実
施形−図2c及び2d参照−は、2つの相対する長い方
の面に、隔膜により隔てられたそれぞれ1つの対電極室
を伴う対電極を有する長方形の断面を有する固定床電極
を含む;双方の対電極を、電気的に短絡させておく。前
記の実施形では、固定床電極の接触のために、固定床電
極内に、かつ本質的に、相互に相対する対電極に平行し
て、電解条件下で腐食安定な金属からなるグリッドを設
置するのが、特に有利である。
施形−図2c及び2d参照−は、2つの相対する長い方
の面に、隔膜により隔てられたそれぞれ1つの対電極室
を伴う対電極を有する長方形の断面を有する固定床電極
を含む;双方の対電極を、電気的に短絡させておく。前
記の実施形では、固定床電極の接触のために、固定床電
極内に、かつ本質的に、相互に相対する対電極に平行し
て、電解条件下で腐食安定な金属からなるグリッドを設
置するのが、特に有利である。
【0018】固定床電極は、腐食安定な材料、殊に、金
属、グラファイト又は導電性に被覆された不導体からな
る充填材のばら積み体である。固定床電極のための材料
の選択は、電解条件下での材料の腐食安定性並びに精製
されるガスの成分に対する材料の安定性に合わせる。固
定床カソードとしては、有利にグラファイト又は弁金
属、殊にタンタル及びチタンからなる充填材が好適であ
る。固定床アノードとしては、殊に、グラファイト並び
に貴金属をベースとする充填材が好適である。必要な導
電性及び充分に高い容量比表面積を有し、かつ腐食安定
であるならば、固定床電極のために、本質的に全ての吸
収技術で慣用の充填材を使用することができる。慣用の
充填材は、くら、ロッド、スパイラル及びラーシッヒリ
ングの形を有する。本発明の方法では、一方で、可能な
限り高い容量比表面積を有し、他方で、固定床内に高い
圧損失をもたらさない充填材を固定床電極のために使用
するのが有利である。2〜5mmの範囲の直径を有する
粒子が、特に有利である。
属、グラファイト又は導電性に被覆された不導体からな
る充填材のばら積み体である。固定床電極のための材料
の選択は、電解条件下での材料の腐食安定性並びに精製
されるガスの成分に対する材料の安定性に合わせる。固
定床カソードとしては、有利にグラファイト又は弁金
属、殊にタンタル及びチタンからなる充填材が好適であ
る。固定床アノードとしては、殊に、グラファイト並び
に貴金属をベースとする充填材が好適である。必要な導
電性及び充分に高い容量比表面積を有し、かつ腐食安定
であるならば、固定床電極のために、本質的に全ての吸
収技術で慣用の充填材を使用することができる。慣用の
充填材は、くら、ロッド、スパイラル及びラーシッヒリ
ングの形を有する。本発明の方法では、一方で、可能な
限り高い容量比表面積を有し、他方で、固定床内に高い
圧損失をもたらさない充填材を固定床電極のために使用
するのが有利である。2〜5mmの範囲の直径を有する
粒子が、特に有利である。
【0019】対電極の形は、本質的に電解槽の構造に合
わせる。相応して、薄片、ネット又はグリッドの形並び
にロッドの形の対電極を使用することができる。
わせる。相応して、薄片、ネット又はグリッドの形並び
にロッドの形の対電極を使用することができる。
【0020】電解槽の双方の電極の間のセパレーター
(少なくとも1つの電極室を、固定床電極で少なくとも
部分的に満たす)は、例えば、多孔性プラスチック又は
セラミックからなる又はイオン交換膜からなる機械的分
離系からなっていてよい。イオン交換膜からなるセパレ
ーターが、特に有利である。一般に、カチオン交換膜が
使用される。塩素を不純物として含有する排ガスの精製
には、脂肪族過フッ素化ポリエーテルスルホン酸をベー
スとするカチオン交換膜が特に好適である。イオン交換
膜を、シートの形で、又は多孔性担体材料上に施与され
た非常に薄い膜の形で使用するのが有利である。
(少なくとも1つの電極室を、固定床電極で少なくとも
部分的に満たす)は、例えば、多孔性プラスチック又は
セラミックからなる又はイオン交換膜からなる機械的分
離系からなっていてよい。イオン交換膜からなるセパレ
ーターが、特に有利である。一般に、カチオン交換膜が
使用される。塩素を不純物として含有する排ガスの精製
には、脂肪族過フッ素化ポリエーテルスルホン酸をベー
スとするカチオン交換膜が特に好適である。イオン交換
膜を、シートの形で、又は多孔性担体材料上に施与され
た非常に薄い膜の形で使用するのが有利である。
【0021】カソード液及びアノード液は、充分な導電
性を有するべきである。水性酸、塩基又は水性塩溶液を
使用することができる。カソード液としても、アノード
液としても、酸水溶液を使用するのが有利である。ガス
を、その中に含有される塩素から、固定床カソードの使
用下でのその還元により精製する場合には、塩酸水溶液
を使用するのが有利である;本発明の方法により、使用
可能な濃塩酸溶液が得られる。
性を有するべきである。水性酸、塩基又は水性塩溶液を
使用することができる。カソード液としても、アノード
液としても、酸水溶液を使用するのが有利である。ガス
を、その中に含有される塩素から、固定床カソードの使
用下でのその還元により精製する場合には、塩酸水溶液
を使用するのが有利である;本発明の方法により、使用
可能な濃塩酸溶液が得られる。
【0022】電気分解操作のために、電流をかけ、かつ
電流の強さを、有効な電圧に達するまで高める。通常、
3〜20A、殊に3〜10Aの電流及び2〜6Vの電圧
で電気分解する。有効な電流密度及び電位は、床の深さ
が増すと低下する。当業者は、相応して、最適な床の深
さを調査実験で決定する。
電流の強さを、有効な電圧に達するまで高める。通常、
3〜20A、殊に3〜10Aの電流及び2〜6Vの電圧
で電気分解する。有効な電流密度及び電位は、床の深さ
が増すと低下する。当業者は、相応して、最適な床の深
さを調査実験で決定する。
【0023】本発明の方法は、特に有利に、ガスからの
塩素の除去のために、図1に記載の電解槽中で使用する
ことができる。層の縦断面を、図示した。ここで:電解
槽(1);アノード(2及び2′);アノード室(3及
び3′);陽イオン交換膜(4及び4′);固定床カソ
ード(5);コンタクトロッド(6);アノード液供給
口(7及び7′);アノード液排出口(8及び8′);
カソード液供給口(9);カソード液排出口(10);
ガス導入口もしくは導出口(11及び12);細流分配
機(13);穿孔された担体プレート(14);カソー
ド液収集室(15)を表す。
塩素の除去のために、図1に記載の電解槽中で使用する
ことができる。層の縦断面を、図示した。ここで:電解
槽(1);アノード(2及び2′);アノード室(3及
び3′);陽イオン交換膜(4及び4′);固定床カソ
ード(5);コンタクトロッド(6);アノード液供給
口(7及び7′);アノード液排出口(8及び8′);
カソード液供給口(9);カソード液排出口(10);
ガス導入口もしくは導出口(11及び12);細流分配
機(13);穿孔された担体プレート(14);カソー
ド液収集室(15)を表す。
【0024】図2a〜2dは、模式図で、これらは、例
中で使用されたような固定床カソードを有する4つの異
なる槽構造を、断面(展望)で、示している:図2aの
槽(1)Z1は、固定床カソードを有するカソード室
(5)、隔膜(4)、アノード室(3)、アノード
(2)及び接触のためのTi−ロッド(6)を有する。
図2bの槽Z2は、Z1に相応するが、接触のために、
白金箔(6f)を有する。図2cの槽Z3は、固定床カ
ソードを有するカソード室(5)、アノード(2)及び
(2′)を有する2つの相対するアノード室(3)及び
(3′)及び隔膜(4)及び(4′)及び固定床の接触
のためのTi−ロッド(6)を有する。図2dの槽Z4
は、槽Z3にそれぞれ相応するが、これは、コンタクト
のために、コンタクトロッドの代わりにTi−グリッド
(6g)を、固定床カソードの中央に、アノード室に平
行に有する。
中で使用されたような固定床カソードを有する4つの異
なる槽構造を、断面(展望)で、示している:図2aの
槽(1)Z1は、固定床カソードを有するカソード室
(5)、隔膜(4)、アノード室(3)、アノード
(2)及び接触のためのTi−ロッド(6)を有する。
図2bの槽Z2は、Z1に相応するが、接触のために、
白金箔(6f)を有する。図2cの槽Z3は、固定床カ
ソードを有するカソード室(5)、アノード(2)及び
(2′)を有する2つの相対するアノード室(3)及び
(3′)及び隔膜(4)及び(4′)及び固定床の接触
のためのTi−ロッド(6)を有する。図2dの槽Z4
は、槽Z3にそれぞれ相応するが、これは、コンタクト
のために、コンタクトロッドの代わりにTi−グリッド
(6g)を、固定床カソードの中央に、アノード室に平
行に有する。
【0025】本発明方法の利点は、従来公知の方法に比
べて本質的により高い精製度、細流床として操作される
固定床電極の簡単な取り扱い、僅かな圧損失及びそれに
伴う僅かなエネルギー必要量である。もう1つの利点
は、精製されるガスと固定床に細流で注がれる、電極液
及び吸収剤として作用する洗浄液との容量流の比が、公
知の方法に比べて高められ、かつそれにより空時収率を
高めることができることである。
べて本質的により高い精製度、細流床として操作される
固定床電極の簡単な取り扱い、僅かな圧損失及びそれに
伴う僅かなエネルギー必要量である。もう1つの利点
は、精製されるガスと固定床に細流で注がれる、電極液
及び吸収剤として作用する洗浄液との容量流の比が、公
知の方法に比べて高められ、かつそれにより空時収率を
高めることができることである。
【0026】
【実施例】例により、本発明を更に詳述する。
【0027】例 塩素を不純物として含有するガスの精製を実験した。
【0028】この精製を、図2a〜2dに記載のセル構
造Z1、Z2、Z3及びZ4を有する電解槽の使用下に
行った。セル断面は、37.8cm2(Z1、Z2及び
Z3)もしくは31.5cm2及び60cm2(Z4)で
ある。固定床カソードとしては、実験に記載の粒度もし
くは容量比表面積を有するグラファイト粒子からなるば
ら積み体を使用した。積層体の高さは、31.5〜42
cmであった。接触のために、チタンロッド(Z1及び
Z3)、Pt箔(Z3)並びにチタングリッド(Z4)
を使用した。隔膜としては、それぞれ、市販の陽イオン
交換膜(ナフィオン−膜)を使用した。アノードとし
て、白金薄板を使用した。カソード液として、塩酸水溶
液(0.5モル/l)を、アノード液として、H2SO4
−水溶液(0.5モル/l)を使用した。電流3〜10
Aで電気分解した。カソード液流(l/時間)もしくは
細流密度(m3/m2・時間)(=床の断面積当たりのカ
ソード液流)並びにガス流(l/時間)もしくはガス流
密度(m3/m2・時間)及び塩素の残留濃度もしくは除
去度を、表に記載した。
造Z1、Z2、Z3及びZ4を有する電解槽の使用下に
行った。セル断面は、37.8cm2(Z1、Z2及び
Z3)もしくは31.5cm2及び60cm2(Z4)で
ある。固定床カソードとしては、実験に記載の粒度もし
くは容量比表面積を有するグラファイト粒子からなるば
ら積み体を使用した。積層体の高さは、31.5〜42
cmであった。接触のために、チタンロッド(Z1及び
Z3)、Pt箔(Z3)並びにチタングリッド(Z4)
を使用した。隔膜としては、それぞれ、市販の陽イオン
交換膜(ナフィオン−膜)を使用した。アノードとし
て、白金薄板を使用した。カソード液として、塩酸水溶
液(0.5モル/l)を、アノード液として、H2SO4
−水溶液(0.5モル/l)を使用した。電流3〜10
Aで電気分解した。カソード液流(l/時間)もしくは
細流密度(m3/m2・時間)(=床の断面積当たりのカ
ソード液流)並びにガス流(l/時間)もしくはガス流
密度(m3/m2・時間)及び塩素の残留濃度もしくは除
去度を、表に記載した。
【0029】例1〜4 試験ガス中のCl2−含有率0.102容量%; 充填材:グラファイト粒子 d=約3mm;セル Z
1;ばら積み体高さ42センチ; 温度:約20℃; 向流:例1、2及び4;順流:例3。
1;ばら積み体高さ42センチ; 温度:約20℃; 向流:例1、2及び4;順流:例3。
【0030】
【表1】
【0031】例1及び2は、細流床方式で可能な予期で
きなかった実際に定量的な塩素の除去を示している。
きなかった実際に定量的な塩素の除去を示している。
【0032】例3及び4の比較は、除去度に関して、向
流方式が、順流よりもより有効であることを示してい
る。
流方式が、順流よりもより有効であることを示してい
る。
【0033】例5及び6 例5及び6−第2表参照−は、充填材の容量比表面積O
v(m2/m3)の影響を明らかにしている(近似的に測
定:Ov=6/dm;dm=平均粒子直径)。
v(m2/m3)の影響を明らかにしている(近似的に測
定:Ov=6/dm;dm=平均粒子直径)。
【0034】細流密度:8m3/m2・時間; ガス流密度:168m3/m2・時間; 槽:Z4、断面積60cm2、高さ39cm 試験ガス濃度:Cl20.1容量% 電流:10A;向流。
【0035】
【表2】
【0036】この比較は、より高い容量比表面積を有す
る粒子を用いる本発明の細流床方式で、より高い精製度
が達成されることを示している。
る粒子を用いる本発明の細流床方式で、より高い精製度
が達成されることを示している。
【0037】例7〜10 異なる槽構造Z1〜Z4(図2a〜2d参照)を用い
て、Cl2の除去度を、ガス流密度(m3/m2・時間)
に関して測定した。
て、Cl2の除去度を、ガス流密度(m3/m2・時間)
に関して測定した。
【0038】dm=約3mmの充填材(グラファイ
ト); 試験ガス濃度Cl20.1容量%; 細流密度8〜12m3/m2・時間; 電流10A。
ト); 試験ガス濃度Cl20.1容量%; 細流密度8〜12m3/m2・時間; 電流10A。
【0039】結果を、第3表に示した。槽構造Z3及び
殊にZ4は、高いガス流密度(断面当たりの容量流)ま
で予期せぬ高い効果を示している。
殊にZ4は、高いガス流密度(断面当たりの容量流)ま
で予期せぬ高い効果を示している。
【0040】
【表3】
【図1】本発明の方法を実施する電解槽の有利な1実施
形を示す図
形を示す図
【図2】本発明の方法を実施するそれぞれ異なるコンタ
クト装置を有する電解槽を示す図
クト装置を有する電解槽を示す図
1 電解槽、 2及び2′ アノード、 3及び3′
アノード室、 4及び4′ 隔膜、 5 固定床カソー
ド、 6 コンタクトロッド、 6f 白金箔、 6g
Ti−グリッド、 7及び7′ アノード液供給口、
8及び8′アノード液排出口、 9 カソード液供給
口、 10 カソード液排出口、 11及び12 ガス
導入口又は導出口、 13 細流分配機、 14 穿孔
担体プレート、 15 カソード液収集室
アノード室、 4及び4′ 隔膜、 5 固定床カソー
ド、 6 コンタクトロッド、 6f 白金箔、 6g
Ti−グリッド、 7及び7′ アノード液供給口、
8及び8′アノード液排出口、 9 カソード液供給
口、 10 カソード液排出口、 11及び12 ガス
導入口又は導出口、 13 細流分配機、 14 穿孔
担体プレート、 15 カソード液収集室
フロントページの続き (72)発明者 ライナー ザンツェンバッハー ドイツ連邦共和国 ゲルンハウゼン キン ツィッヒシュトラーセ 74
Claims (4)
- 【請求項1】 ガスから不純物を電解除去する方法にお
いて、ガスと液状電解液を、向流又は順流で、セパレー
ターにより固定床電極から分離された対電極及び対電極
室を有する電解槽の固定床電極に導き、かつ不純物を、
有効セル電圧で電気化学的に変換する場合に、固定床電
極を、細流床反応器として操作することを特徴とする、
ガスから不純物を電解除去する方法。 - 【請求項2】 塩素で不純化されたガスを、電解槽の使
用下に、固定床カソード及びカソード液としての塩酸水
溶液を用いて精製する、請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 長方形の固定床電極の2つの相対する長
い方の面に接して、それぞれ、隔膜により分離された対
電極室を伴う対電極を有する電解槽を使用する、請求項
1又は2に記載の方法。 - 【請求項4】 固定床電極内に、かつ本質的に、相互に
相対する対電極に平行に、電解条件下に安定な金属から
なるグリッドを、接触のために設置しておく、請求項3
に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19531707.6 | 1995-08-30 | ||
DE19531707A DE19531707A1 (de) | 1995-08-30 | 1995-08-30 | Verfahren zur Reinigung von Gasen |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09103638A true JPH09103638A (ja) | 1997-04-22 |
Family
ID=7770642
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8225649A Pending JPH09103638A (ja) | 1995-08-30 | 1996-08-27 | ガスから不純物を電解除去する方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5840174A (ja) |
EP (1) | EP0761285B1 (ja) |
JP (1) | JPH09103638A (ja) |
KR (1) | KR970009865A (ja) |
CA (1) | CA2184309A1 (ja) |
DE (2) | DE19531707A1 (ja) |
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---|---|---|---|---|
DE19614018A1 (de) * | 1996-04-09 | 1997-10-16 | Degussa | Verfahren und Elektrolysezelle zur Reinigung von Gasen |
DE19649832A1 (de) * | 1996-12-02 | 1998-06-04 | Metallgesellschaft Ag | Verfahren zum Durchführen von chemischen Reaktionen in einer elektrochemischen Zelle |
DE10004877A1 (de) * | 2000-02-04 | 2001-08-09 | Sgl Technik Gmbh | Verfahren und Elektrolysezelle zum Reduzieren korrodierend wirkender Bestandteile in Flüssigkeiten |
WO2004033061A2 (en) * | 2002-10-04 | 2004-04-22 | The Regents Of The University Of California | Fluorine separation and generation device |
DE202007019051U1 (de) | 2007-07-26 | 2010-05-20 | Otto Bock Healthcare Gmbh | Orthopädisches Interface |
US8790506B2 (en) * | 2010-03-24 | 2014-07-29 | Alexander David Deptala | Method of purifying a hydrogen stream using an electrochemical cell |
US8945368B2 (en) | 2012-01-23 | 2015-02-03 | Battelle Memorial Institute | Separation and/or sequestration apparatus and methods |
WO2023028728A1 (zh) * | 2021-08-30 | 2023-03-09 | 湘潭大学 | 电化学填充床反应器及其应用 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4004993A (en) * | 1976-02-26 | 1977-01-25 | The United States Of America As Represented By The United States Energy Research And Development Administration | Electrolytic trapping of iodine from process gas streams |
DE2901577A1 (de) * | 1979-01-17 | 1980-07-31 | Dechema Deutsche Ges F Chem Ap | Verfahren und vorrichtung zum entfernen von gasfoermigen verunreinigungen aus gasen |
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1995
- 1995-08-30 DE DE19531707A patent/DE19531707A1/de not_active Withdrawn
-
1996
- 1996-08-03 EP EP96112596A patent/EP0761285B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-08-03 DE DE59603664T patent/DE59603664D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1996-08-27 JP JP8225649A patent/JPH09103638A/ja active Pending
- 1996-08-28 CA CA002184309A patent/CA2184309A1/en not_active Abandoned
- 1996-08-29 KR KR1019960036225A patent/KR970009865A/ko not_active Application Discontinuation
- 1996-08-30 US US08/705,627 patent/US5840174A/en not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
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CA2184309A1 (en) | 1997-03-01 |
DE59603664D1 (de) | 1999-12-23 |
KR970009865A (ko) | 1997-03-27 |
EP0761285B1 (de) | 1999-11-17 |
EP0761285A3 (ja) | 1997-04-09 |
EP0761285A2 (de) | 1997-03-12 |
US5840174A (en) | 1998-11-24 |
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