JPH0897366A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JPH0897366A
JPH0897366A JP6231373A JP23137394A JPH0897366A JP H0897366 A JPH0897366 A JP H0897366A JP 6231373 A JP6231373 A JP 6231373A JP 23137394 A JP23137394 A JP 23137394A JP H0897366 A JPH0897366 A JP H0897366A
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JP
Japan
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potential
field effect
effect transistor
conductivity type
node
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Withdrawn
Application number
JP6231373A
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Japanese (ja)
Inventor
Masaaki Mihara
雅章 三原
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Publication of JPH0897366A publication Critical patent/JPH0897366A/en
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Abstract

PURPOSE: To provide a rectifying circuit with a minimum of leak current where no parasitic bipolar transistor is forward biased. CONSTITUTION: When a node n1 provides potential higher than a node n2, a P-type field-effect transistor PI is turned in an OFF state while a P-type field- effect transistor is turned in an ON state so that the potential of the node n1 may be conveyed to a node n3 by way of the field-effect transistor P2. On the contrary, when the node n2 is in a higher potential than the node n1, the P-type field-effect (transistor P1 is turned in an ON state while the P-type field-effect transistor P2 is turned in an OFF state so that the potential of the node n2 may be conveyed to the node n3 by way of the P-type field-effect transistor P1 where the potential of an N-type well 10 is turned to be higher, thereby preventing a parasitic transistor from being forward-biased.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置に関し、特
に、回路としてチャージポンプ回路などに用いられる半
導体装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly to a semiconductor device used as a circuit in a charge pump circuit or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】図6は、電源電圧以上の電圧を発生させ
るチャージポンプ回路の具体例を示す回路図である。
2. Description of the Related Art FIG. 6 is a circuit diagram showing a specific example of a charge pump circuit for generating a voltage higher than a power supply voltage.

【0003】図6において、チャージポンプ回路は、整
流回路D1、D2と、コンデンサC1、C2とを含む。
In FIG. 6, the charge pump circuit includes rectifier circuits D1 and D2 and capacitors C1 and C2.

【0004】ノードn1で、コンデンサC1の一方電極
とダイオードD1の順バイアス方向の出力とダイオード
D2の順バイアス方向の入力とが接続され、ノードn2
で、コンデンサC2の一方電極とダイオードD2の順バ
イアス方向の出力とが接続され、ダイオードD1の順バ
イアス方向の入力が接続された端子n11は電源電圧V
ccに接続され、コンデンサC1の他方電極は制御信号
CLK1が入力され、コンデンサC2の他方電極は接地
されている。
At the node n1, one electrode of the capacitor C1 is connected to the output of the diode D1 in the forward bias direction and the input of the diode D2 in the forward bias direction.
Then, the one electrode of the capacitor C2 and the output of the diode D2 in the forward bias direction are connected, and the terminal n11 to which the input of the diode D1 in the forward bias direction is connected is connected to the power supply voltage V1.
The control signal CLK1 is input to the other electrode of the capacitor C1 connected to cc, and the other electrode of the capacitor C2 is grounded.

【0005】端子n11に電源電圧が印加され、コンデ
ンサC1、C2を利用して制御信号CLK1の制御によ
り電源電圧以上の電圧がチャージされる。
A power supply voltage is applied to the terminal n11, and a voltage higher than the power supply voltage is charged by controlling the control signal CLK1 using the capacitors C1 and C2.

【0006】上記整流回路D1、D2は、ダイオード接
続されたN型電界効果トランジスタ、もしくはダイオー
ド接続されたP型電界効果トランジスタで構成されてい
る。
The rectifier circuits D1 and D2 are composed of diode-connected N-type field effect transistors or diode-connected P-type field effect transistors.

【0007】図7は、上記ダイオード接続されたN型電
界効果トランジスタを示す回路図である。
FIG. 7 is a circuit diagram showing the diode-connected N-type field effect transistor.

【0008】図8は、上記ダイオード接続されたP型電
界効果トランジスタを示す回路図である。
FIG. 8 is a circuit diagram showing the diode-connected P-type field effect transistor.

【0009】図7および図8において、端子n1、n2
は、それぞれ図6における整流回路D2のノードn1、
n2に対応し、また整流回路D1の端子n11、ノード
n1に対応している。
7 and 8, terminals n1 and n2
Are the nodes n1 of the rectifier circuit D2 in FIG.
It corresponds to n2, and also corresponds to the terminal n11 and the node n1 of the rectifier circuit D1.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図8の
ダイオード接続されたP型電界効果トランジスタは、ソ
ース電位が高くなると、基板バイアス効果のために、ソ
ースから基板裏面への電子の流れが起こりにくくなって
しきい電圧が高くなり、チャージポンプ回路の昇圧効率
が悪くなるという問題点があった。
However, in the diode-connected P-type field effect transistor of FIG. 8, when the source potential becomes high, the flow of electrons from the source to the back surface of the substrate hardly occurs due to the substrate bias effect. However, there is a problem that the threshold voltage becomes high and the boosting efficiency of the charge pump circuit becomes poor.

【0011】図9は、図8のダイオード接続されたP型
電界効果トランジスタの縦構造の断面図である。
FIG. 9 is a sectional view of the vertical structure of the diode-connected P-type field effect transistor of FIG.

【0012】図9において、ダイオード接続されたP型
電界効果トランジスタは、P型基板200(GND(接
地)電位)と、N型ウェル100(ノードn2と同電
位)と、P+ 層のソース(ノードn1と同電位)と、P
+ 層のドレイン(ノードn2と同電位)と、ゲート(ノ
ードn2と同電位)と、N+ 不純物層(ノードn2と同
電位)とを含む。
In FIG. 9, the diode-connected P-type field effect transistor includes a P-type substrate 200 (GND (ground) potential), an N-type well 100 (same potential as the node n2), and a P + layer source ( Same potential as node n1), and P
The drain of the + layer (the same potential as the node n2), the gate (the same potential as the node n2), and the N + impurity layer (the same potential as the node n2) are included.

【0013】P型基板200上にN型ウェル100が形
成され、N型ウェル100上に形成されたソース
(P+ )にノードn1が、またドレイン(P+ )とゲー
トにノードn2が接続されている。このとき、上記ソー
ス(P+ )、N型ウェル100、P型基板200が、そ
れぞれエミッタ、ベース、コレクタ電極に相当するよう
な寄生バイポーラトランジスタが形成される。
An N-type well 100 is formed on a P-type substrate 200, a source (P + ) formed on the N-type well 100 is connected to a node n1, and a drain (P + ) and a gate are connected to a node n2. ing. At this time, a parasitic bipolar transistor is formed in which the source (P + ), N-type well 100 and P-type substrate 200 correspond to the emitter, base and collector electrodes, respectively.

【0014】そして、ダイオード接続されたP型電界効
果トランジスタが順バイアスされてノードn1がN型ウ
ェル100より高電位にあるとき、上記寄生バイポーラ
トランジスタが順バイアスされてベース電流が流れる。
これに応じてコレクタ電流が流れ、ノードn1からGN
Dに接続されている(接地されている)P型基板200
へリーク電流が流れる。
When the diode-connected P-type field effect transistor is forward biased and the node n1 is at a higher potential than the N-type well 100, the parasitic bipolar transistor is forward biased and a base current flows.
In response to this, a collector current flows, and the node n1 to GN
P-type substrate 200 connected to D (grounded)
A leak current flows.

【0015】このリーク電流により、チャージポンプ回
路の昇圧効率が粗くなるという問題点があった。
There is a problem that the boosting efficiency of the charge pump circuit becomes rough due to the leak current.

【0016】本発明は、以上のような問題点を解決する
ためになされたもので、PまたはN型電界効果トランジ
スタをダイオードとして用いたチャージポンプ回路の整
流回路において、上記寄生バイポーラトランジスタが順
バイアスされることを防止し、接地されたP型またはN
型基板へのリーク電流が非常に少ない改良されたチャー
ジポンプ回路の整流回路を提供することを目的とする。
The present invention has been made to solve the above problems, and in a rectifier circuit of a charge pump circuit using a P or N type field effect transistor as a diode, the parasitic bipolar transistor is forward biased. To prevent it from being grounded and grounded to a P-type or N-type
An object of the present invention is to provide an improved rectifier circuit of a charge pump circuit, which has a very small leak current to a mold substrate.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項1の半導
体装置は、第1導電型半導体基板と、第1導電型半導体
基板上に形成された第2導電型不純物領域と、第2導電
型不純物領域上に形成された第1導電型第1電界効果ト
ランジスタとを含み、上記第1導電型第1電界効果トラ
ンジスタの一方電極が第1電位に接続され、他方電極お
よび制御電極が第2電位に接続されている。そして、上
記第2導電型不純物領域上に形成され、第1および第2
電位のうちの高いほうの電位を選択的に第2導電型不純
物領域に印加する選択的印加手段とを設けたものであ
る。
According to another aspect of the present invention, there is provided a semiconductor device having a first conductivity type semiconductor substrate, a second conductivity type impurity region formed on the first conductivity type semiconductor substrate, and a second conductivity type. A first conductivity type first field effect transistor formed on the type impurity region, one electrode of the first conductivity type first field effect transistor is connected to a first potential, and the other electrode and the control electrode are second. Connected to the electric potential. Then, the first and second impurity regions are formed on the second conductivity type impurity region.
Selective application means for selectively applying the higher one of the potentials to the second conductivity type impurity region is provided.

【0018】本発明の請求項2の半導体装置は、請求項
1の半導体装置において、上記選択的印加手段が、第1
電位を供給する第1電位供給端子と、第2導電型不純物
領域との間に設けられた第1導電型第2電界効果トラン
ジスタと、第2電位を供給する第2電位供給端子と第2
導電型不純物領域との間に設けられた第1導電型第3電
界効果トランジスタとを含み、上記第1導電型第2電界
効果トランジスタの制御電極が第2電位供給端子に接続
され、上記第1導電型第3電界効果トランジスタの制御
電極が第1電位供給端子に接続されている。
A semiconductor device according to a second aspect of the present invention is the semiconductor device according to the first aspect, wherein the selective applying means is the first device.
A first potential type second field effect transistor provided between a first potential type supply terminal for supplying a potential and a second conductivity type impurity region; a second potential type supply terminal for supplying a second potential;
A first conductivity type third field effect transistor provided between the first conductivity type second field effect transistor and a control electrode of the first conductivity type second field effect transistor, the control electrode being connected to the second potential supply terminal; The control electrode of the conductivity type third field effect transistor is connected to the first potential supply terminal.

【0019】本発明の請求項3の半導体装置は、第1導
電型半導体基板と、第1導電型半導体基板上に形成され
た第2導電型不純物領域と、第2導電型不純物領域上に
形成された第1導電型第1電界効果トランジスタとを含
み、上記第1導電型第1電界効果トランジスタの一方電
極が第1電位に接続され、他方電極が第2電位に接続さ
れている。そして、第1および第2電位のうちの高いほ
うの電位を選択的に第2導電型不純物領域に印加する選
択的印加手段を設けたものであり、上記選択的印加手段
は、第1電位を供給する第1電位供給端子と第2導電型
不純物領域との間に設けられた第1導電型第2電界効果
トランジスタと、第2電位を供給する第2電位供給端子
と第2導電型不純物領域との間に設けられた第1導電型
第3電界効果トランジスタとを含み、上記第1導電型第
2電界効果トランジスタの制御電極が第2電位供給端子
に、上記第1導電型第3電界効果トランジスタの制御電
極が第1電位供給端子に接続されている。さらに、第1
および第2電位のうちの高いほうの電位または接地電位
である第3電位を出力する第3電位準備手段を設けたも
のであり、上記第3電位準備手段は、第3電位が上記第
1導電型電界効果トランジスタの制御電極に接続されて
いる。
A semiconductor device according to a third aspect of the present invention is formed on a first conductivity type semiconductor substrate, a second conductivity type impurity region formed on the first conductivity type semiconductor substrate, and a second conductivity type impurity region. And a first field effect transistor of the first conductivity type, wherein one electrode of the first field effect transistor of the first conductivity type is connected to the first potential and the other electrode is connected to the second potential. Further, a selective applying means for selectively applying the higher one of the first and second potentials to the second conductivity type impurity region is provided, and the selective applying means applies the first potential to A first conductivity type second field effect transistor provided between a first potential supply terminal for supplying and a second conductivity type impurity region, a second potential supply terminal for supplying a second potential and a second conductivity type impurity region. And a third field effect transistor of the first conductivity type, wherein a control electrode of the second field effect transistor of the first conductivity type is provided at a second potential supply terminal. The control electrode of the transistor is connected to the first potential supply terminal. Furthermore, the first
And a third potential preparation means for outputting a third potential which is the higher one of the second potential and the ground potential, and the third potential preparation means is configured such that the third potential is the first conductivity. Type field effect transistor is connected to the control electrode.

【0020】[0020]

【作用】本発明の請求項1の半導体装置においては、第
2導電型の不純物領域に第1および第2電位のうちの高
いほうの電位が印加されるので、第2導電型不純物領域
は第1および第2電位のうちの高いほうの電位となる。
In the semiconductor device according to the first aspect of the present invention, since the higher potential of the first and second potentials is applied to the impurity region of the second conductivity type, the impurity region of the second conductivity type is The higher one of the first and second potentials.

【0021】本発明の請求項2の半導体装置において
は、第1電位のほうが高いとき、第1導電型第2電界効
果トランジスタがオンし、第1導電型第3電界効果トラ
ンジスタがオフして、第1電位が第2導電型不純物領域
に印加されるので、第2導電型不純物領域は第1電位と
なる。一方、第2電位のほうが高いとき、第1導電型第
3電界効果トランジスタがオンし、第1導電型第2電界
効果トランジスタがオフして、第2電位が第2導電型不
純物領域に印加されるので、第2導電型不純物領域は第
2電位となる。すなわち、第2導電型不純物領域は第1
および第2電位のうちの高いほうの電位となる。
In the semiconductor device according to claim 2 of the present invention, when the first potential is higher, the first conductivity type second field effect transistor is turned on and the first conductivity type third field effect transistor is turned off, Since the first potential is applied to the second conductivity type impurity region, the second conductivity type impurity region has the first potential. On the other hand, when the second potential is higher, the first conductivity type third field effect transistor is turned on, the first conductivity type second field effect transistor is turned off, and the second potential is applied to the second conductivity type impurity region. Therefore, the second conductivity type impurity region has the second potential. That is, the second conductivity type impurity region is the first
And the higher one of the second potentials.

【0022】本発明の請求項3の半導体装置は、第1電
位のほうが高いとき第1導電型第2電界効果トランジス
タがオンし、第1導電型第3電界効果トランジスタがオ
フして、第1電位が第2導電型不純物領域に印加される
ので、第2導電型不純物領域は第1電位となる。一方、
第2電位のほうが高いとき、第1導電型第3電界効果ト
ランジスタがオンし、第1導電型第2電界効果トランジ
スタがオフして、第2電位が第2導電型不純物領域に印
加されるので、第2導電型不純物領域は第2電位とな
る。また、第1導電形第1電界効果トランジスタの制御
電極には第1および第2電位のうちの高いほうの電位ま
たは接地電位である第3電位が印加されるので、制御電
極の電位は、第1および第2電位のうちの高いほうの電
位と接地電位との間をスイングする。
In the semiconductor device according to claim 3 of the present invention, when the first potential is higher, the first conductivity type second field effect transistor is turned on, the first conductivity type third field effect transistor is turned off, and the first conductivity type third field effect transistor is turned off. Since the potential is applied to the second conductivity type impurity region, the second conductivity type impurity region has the first potential. on the other hand,
When the second potential is higher, the first conductivity type third field effect transistor is turned on, the first conductivity type second field effect transistor is turned off, and the second potential is applied to the second conductivity type impurity region. The second conductivity type impurity region has the second potential. Further, since the control electrode of the first conductivity type first field effect transistor is applied with the higher one of the first and second potentials or the third potential which is the ground potential, the potential of the control electrode is Swing between the higher one of the first and second potentials and the ground potential.

【0023】[0023]

【実施例】以下、本発明の半導体装置をチャージポンプ
回路などに用いられる整流回路に適用したものについ
て、図面を参照しながら説明する。 (1)第1実施例 図1は、本発明の半導体装置を用いたチャージポンプ回
路などに用いられる整流回路の第1実施例を示した回路
図である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A semiconductor device of the present invention applied to a rectifier circuit used in a charge pump circuit or the like will be described below with reference to the drawings. (1) First Embodiment FIG. 1 is a circuit diagram showing a first embodiment of a rectifier circuit used in a charge pump circuit or the like using the semiconductor device of the present invention.

【0024】図1において、整流回路は、P型電界効果
トランジスタP1 、P2とを含む。ノードn1で、P型
電界効果トランジスタP1のゲートとP型電界効果トラ
ンジスタP2のソースとが接続され、ノードn2で、P
型電界効果トランジスタP1のソースとP型電界効果ト
ランジスタP2のゲートが接続され、ノード3で、P型
電界効果トランジスタP1およびP2のドレインとN型
ウェル100とが接続されている。
In FIG. 1, the rectifier circuit includes P-type field effect transistors P1 and P2. At the node n1, the gate of the P-type field effect transistor P1 and the source of the P-type field effect transistor P2 are connected, and at the node n2, P
The source of the P-type field effect transistor P1 is connected to the gate of the P-type field effect transistor P2, and the drain of the P-type field effect transistors P1 and P2 is connected to the N-type well 100 at the node 3.

【0025】以下、この整流回路をチャンピオン回路と
呼ぶ。ノードn1がノードn2より高い電位にあると
き、P型電界効果トランジスタP1はオフ状態、P型電
界効果トランジスタP2はオン状態にある。したがっ
て、P型電界効果トランジスタP2を通じてノードn1
の電位がノードn3に伝えられる。
Hereinafter, this rectifier circuit is called a champion circuit. When the node n1 is at a higher potential than the node n2, the P-type field effect transistor P1 is off and the P-type field effect transistor P2 is on. Therefore, the node n1 passes through the P-type field effect transistor P2.
Is transmitted to the node n3.

【0026】逆に、ノードn2がノードn1より高い電
位にあるとき、P型電界効果トランジスタP1はオン状
態、P型電界効果トランジスタP2はオフ状態にある。
したがって、P型電界効果トランジスタP1を通じてノ
ードn2の電位がノードn3に伝えられる。
Conversely, when the node n2 is at a higher potential than the node n1, the P-type field effect transistor P1 is on and the P-type field effect transistor P2 is off.
Therefore, the potential of the node n2 is transmitted to the node n3 through the P-type field effect transistor P1.

【0027】ノードn3に伝えられた電位は寄生バイポ
ーラトランジスタの順バイアスを防ぐための電位として
使用することができる。 (2)第2実施例 図2は、本発明の半導体装置を用いたチャージポンプ回
路などに用いる整流回路の第2実施例を示した回路図で
ある。
The potential transmitted to the node n3 can be used as a potential for preventing forward bias of the parasitic bipolar transistor. (2) Second Embodiment FIG. 2 is a circuit diagram showing a second embodiment of a rectifier circuit used in a charge pump circuit or the like using the semiconductor device of the present invention.

【0028】図2において整流回路は、上記第1実施例
のチャンピオン回路と、チャンピオン回路のノードn3
に接続されたP型電界効果トランジスタP3とを含む。
In FIG. 2, the rectifier circuit includes a champion circuit of the first embodiment and a node n3 of the champion circuit.
And a P-type field effect transistor P3 connected to.

【0029】チャンピオン回路の構成および接続関係は
上記第1実施例と同様である。P型電界効果トランジス
タP3のソースおよびゲートはノードn2に接続され、
ドレインはノードn1に接続され、N型ウェル100は
ノードn3に接続されている。
The structure and connection relationship of the champion circuit are the same as in the first embodiment. The source and gate of the P-type field effect transistor P3 are connected to the node n2,
The drain is connected to the node n1 and the N-type well 100 is connected to the node n3.

【0030】図3は、本発明の第2実施例の整流回路の
縦構造を示した断面図である。図3において、第2実施
例の整流回路は、P型基板200(GND電位)と、N
型ウェル100(ノードn3と同電位)と、P型電界効
果トランジスタP1のゲートP+ (ノードn1と同電
位)およびソースP+ (ノードn2と同電位)およびド
レインP+ (ノードn3と同電位)と、P型電界効果ト
ランジスタP2のゲートP+ (ノードn2と同電位)お
よびソースP+ (ノードn1と同電位)およびドレイン
+ (ノードn3と同電位)と、P型電界効果トランジ
スタP3のゲートP+ (ノードn2と同電位)およびソ
ースP+ (ノードn2と同電位)およびドレインP
+ (ノードn1と同電位)とを含む。
FIG. 3 is a sectional view showing the vertical structure of the rectifier circuit of the second embodiment of the present invention. In FIG. 3, the rectifier circuit according to the second embodiment includes a P-type substrate 200 (GND potential), an N
Type well 100 (same potential as node n3), gate P + (same potential as node n1) and source P + (same potential as node n2) and drain P + (same potential as node n3) of P-type field effect transistor P1. ), A gate P + (same potential as the node n2) and a source P + (same potential as the node n1) and a drain P + (same potential as the node n3) of the P-type field effect transistor P2, and a P-type field effect transistor P3. Gate P + (same potential as node n2), source P + (same potential as node n2), and drain P of
+ (The same potential as the node n1).

【0031】P型基板200上にN型ウェル100が形
成され、そのN型ウェル100上に形成されたP型電界
効果トランジスタP1のゲートとP型電界効果トランジ
スタP2のソースとP型電界効果トランジスタP3のド
レインとがノードn1に接続され、P型電界効果トラン
ジスタP1のソースとP型電界効果トランジスタP2の
ゲートとP型電界効果トランジスタP3のソースおよび
ゲートとがノードn2に接続され、N型ウェル100と
P型電界効果トランジスタP1のドレインとP型電界効
果トランジスタP2のドレインとがノードn3に接続さ
れている。
The N-type well 100 is formed on the P-type substrate 200, and the gate of the P-type field effect transistor P1, the source of the P-type field effect transistor P2, and the P-type field effect transistor formed on the N-type well 100. The drain of P3 is connected to the node n1, the source of the P-type field effect transistor P1 and the gate of the P-type field effect transistor P2, the source and gate of the P-type field effect transistor P3 are connected to the node n2, and the N-type well 100, the drain of the P-type field effect transistor P1 and the drain of the P-type field effect transistor P2 are connected to the node n3.

【0032】このとき、上記ノードn1またはn2(各
P型電界効果トランジスタのソース)と、N型ウェル1
00と、P型基板200が、それぞれエミッタ、ベー
ス、コレクタ電極に相当するような寄生バイポーラトラ
ンジスタが形成される。
At this time, the node n1 or n2 (source of each P-type field effect transistor) and the N-type well 1 are used.
00 and the P-type substrate 200 correspond to the emitter, base and collector electrodes, respectively.

【0033】ノードn1がノードn2より高い電位にあ
るとき、P型電界効果トランジスタP1はオフ状態、P
型電界効果トランジスタP2はオン状態にある。したが
って、P型電界効果トランジスタP2を通じてノードn
1の電位がノードn3に伝えられる。
When the node n1 is at a higher potential than the node n2, the P-type field effect transistor P1 is in the off state, P
The field effect transistor P2 is in the ON state. Therefore, through the P-type field effect transistor P2, the node n
The potential of 1 is transmitted to the node n3.

【0034】逆に、ノードn2がノードn1より高い電
位にあるとき、P型電界効果トランジスタP1はオン状
態、P型電界効果トランジスタP2はオフ状態にある。
したがって、P型電界効果トランジスタP1を通じてノ
ードn2の電位がノードn3に伝えられる。
Conversely, when the node n2 is at a higher potential than the node n1, the P-type field effect transistor P1 is on and the P-type field effect transistor P2 is off.
Therefore, the potential of the node n2 is transmitted to the node n3 through the P-type field effect transistor P1.

【0035】ノードn3に伝えられた電位により、P型
電界効果トランジスタP1、P2、P3のN型ウェル1
00の電位が高電位になり、図2のような簡単な構成の
回路で、各P型電界効果トランジスタの寄生バイポーラ
トランジスタが順バイアスされることが防止され、リー
ク電流が非常に少ない整流回路を得ることができる。 (3)第3実施例 図4は、本発明の半導体装置を用いたチャージポンプ回
路などに用いられる整流回路の第3実施例を示した回路
図である。
Due to the potential transmitted to the node n3, the N-type well 1 of the P-type field effect transistors P1, P2 and P3.
00 becomes a high potential, and a rectifier circuit having a simple configuration as shown in FIG. 2 is provided, in which the parasitic bipolar transistor of each P-type field effect transistor is prevented from being forward biased and the leak current is very small. Obtainable. (3) Third Embodiment FIG. 4 is a circuit diagram showing a third embodiment of a rectifier circuit used in a charge pump circuit or the like using the semiconductor device of the present invention.

【0036】図4において整流回路は、上記第1実施例
のチャンピオン回路と、チャンピオン回路のn3に接続
されたP型電界効果トランジスタP4と電界効果トラン
ジスタP4とノードn3とに接続されたレベルシフト回
路L1とを含む。
In FIG. 4, the rectifier circuit is a level shift circuit connected to the champion circuit of the first embodiment, a P-type field effect transistor P4 connected to n3 of the champion circuit, a field effect transistor P4, and a node n3. L1 and.

【0037】チャンピオン回路の構成および接続関係は
上記第1実施例と同様である。P型電界効果トランジス
タP4のソースはノードn2に接続され、ゲートはレベ
ルシフト回路L1のノードn6に接続され、ドレインは
ノードn1に接続されている。さらに、レベルシフト回
路L1のノードn7はチャンピオン回路のノードn3に
接続されている。
The structure and connection relationship of the champion circuit are the same as in the first embodiment. The source of the P-type field effect transistor P4 is connected to the node n2, the gate is connected to the node n6 of the level shift circuit L1, and the drain is connected to the node n1. Further, the node n7 of the level shift circuit L1 is connected to the node n3 of the champion circuit.

【0038】図5は、本発明の第3実施例の整流回路を
レベルシフト回路L1を除いた縦構造を示した断面図で
ある。
FIG. 5 is a sectional view showing the vertical structure of the rectifier circuit of the third embodiment of the present invention except for the level shift circuit L1.

【0039】図5において、第3の実施例の整流回路
は、P型基板200(GND電位)と、N型ウェル10
0(ノードn3と同電位)と、P型電界効果トランジス
タP1のゲートP+ (ノードn1と同電位)およびソー
スP+ (ノードn2と同電位)およびドレインP+ (ノ
ードn3と同電位)と、P型電界効果トランジスタP2
のゲートP+ (ノードn2と同電位)およびソースP+
(ノードn1と同電位)およびドレインP+ (ノードn
3と同電位)と、P型電界効果トランジスタP4のゲー
トP+ (ノードn2と同電位)およびソースP+ (ノー
ドn2と同電位)およびドレインP+ (ノードn1と同
電位)とを含む。
In FIG. 5, the rectifier circuit of the third embodiment has a P-type substrate 200 (GND potential) and an N-type well 10.
0 (the same potential as the node n3), the gate P + (the same potential as the node n1) and the source P + (the same potential as the node n2) and the drain P + (the same potential as the node n3) of the P-type field effect transistor P1. , P-type field effect transistor P2
Gate P + (same potential as node n2) and source P +
(Same potential as node n1) and drain P + (node n
3), the gate P + (the same potential as the node n2), the source P + (the same potential as the node n2) and the drain P + (the same potential as the node n1) of the P-type field effect transistor P4.

【0040】P型基板200上にはN型ウェル100が
形成され、そのN型ウェル100上に形成されたP型電
界効果トランジスタP1のゲートとP型電界効果トラン
ジスタP2のソースとP型電界効果トランジスタP4の
ドレインとがノードn1に接続され、P型電界効果トラ
ンジスタP1のソースとP型電界効果トランジスタP2
のゲートとP型電界効果トランジスタP4のソースとが
ノードn2に接続され、N型ウェル100とP型電界効
果トランジスタP1のドレインとP型電界効果トランジ
スタP2のドレインとがノードn3に接続され、P型電
界効果トランジスタP4のゲートがノードn6に接続さ
れている。
The N-type well 100 is formed on the P-type substrate 200, and the gate of the P-type field effect transistor P1, the source of the P-type field effect transistor P2, and the P-type field effect formed on the N-type well 100. The drain of the transistor P4 is connected to the node n1, and the source of the P-type field effect transistor P1 and the P-type field effect transistor P2.
And the source of the P-type field effect transistor P4 are connected to the node n2, the N-type well 100, the drain of the P-type field effect transistor P1 and the drain of the P-type field effect transistor P2 are connected to the node n3, and The gate of the field effect transistor P4 is connected to the node n6.

【0041】このとき、上記ノードn1またはn2(各
P型チャネル電界効果トランジスタのソース)と、N型
ウェル100と、P型基板200が、それぞれエミッ
タ、ベース、コレクタ電極に相当するような寄生バイポ
ーラトランジスタが形成される。
At this time, the node n1 or n2 (source of each P-type channel field effect transistor), the N-type well 100, and the P-type substrate 200 correspond to an emitter, a base, and a collector electrode, respectively. A transistor is formed.

【0042】さて、上記レベルシフト回路L1は、N型
電界効果トランジスタN5、N6、N7と、P型電界効
果トランジスタP5、P6、P7と、インバータINV
とを含む。
The level shift circuit L1 includes N-type field effect transistors N5, N6 and N7, P-type field effect transistors P5, P6 and P7, and an inverter INV.
Including and

【0043】レベルシフト回路L1において、ノードn
4で、N型電界効果トランジスタN5のソースとP型電
界効果トランジスタP5のドレインとP型電界効果トラ
ンジスタP6のゲートとが接続され、ノードn5で、N
型電界効果トランジスタN6のソースとN型電界効果ト
ランジスタN7のゲートとP型電界効果トランジスタP
5のゲートとP型電界効果トランジスタP6のドレイン
とP型電界効果トランジスタP7のゲートとが接続さ
れ、ノードn6で、N型電界効果トランジスタN7のソ
ースとP型電界効果トランジスタP7のドレインとが接
続され、ノードn7で、P型電界効果トランジスタP5
のソースとP型電界効果トランジスタP6のソースとP
型電界効果トランジスタP7のソースとが接続されてい
る。
In the level shift circuit L1, the node n
4, the source of the N-type field effect transistor N5, the drain of the P-type field effect transistor P5 and the gate of the P-type field effect transistor P6 are connected, and at the node n5, N
Source of N-type field effect transistor N6, gate of N-type field effect transistor N7 and P-type field effect transistor P
5 is connected to the drain of the P-type field effect transistor P6 and the gate of the P-type field effect transistor P7, and at the node n6, the source of the N-type field effect transistor N7 and the drain of the P-type field effect transistor P7 are connected. At the node n7, the P-type field effect transistor P5
Source and P-type field effect transistor P6 source and P
The source of the field effect transistor P7 is connected.

【0044】さらに、制御信号CLK2は、N型電界効
果トランジスタN5のゲートとインバータINVに入力
される。インバータINVの出力は、N型電界効果トラ
ンジスタN6のゲートに接続されている。また、N型電
界効果トランジスタN5、N6、N7の各ドレインは接
地されている。
Further, the control signal CLK2 is input to the gate of the N-type field effect transistor N5 and the inverter INV. The output of the inverter INV is connected to the gate of the N-type field effect transistor N6. The drains of the N-type field effect transistors N5, N6 and N7 are grounded.

【0045】レベルシフト回路の動作を説明する。ま
ず、制御信号CLK2が電源電圧レベルVdd(“H”)
のとき、N型電界効果トランジスタN5はオン状態、N
型電界効果トランジスタN6はオフ状態になる。する
と、ノードn4はN型電界効果トランジスタN5を通じ
てGND電位になる。ノードn4がGND電位になる
と、P型電界効果トランジスタP6がオンする。P型電
界効果トランジスタP6がオン状態、N型電界効果トラ
ンジスタN6がオフ状態だから、ノードn5はノードn
3と同電位になる。ノードn5がノードn3と同電位に
なると、N型電界効果トランジスタN7がオンし、P型
電界効果トランジスタP7がオフする。これにより、P
型電界効果トランジスタP4のゲート電位はGND電位
となる。
The operation of the level shift circuit will be described. First, the control signal CLK2 changes to the power supply voltage level V dd (“H”).
At this time, the N-type field effect transistor N5 is in the ON state,
The field effect transistor N6 is turned off. Then, the node n4 becomes the GND potential through the N-type field effect transistor N5. When the node n4 becomes the GND potential, the P-type field effect transistor P6 is turned on. Since the P-type field effect transistor P6 is on and the N-type field effect transistor N6 is off, the node n5 becomes the node n.
It becomes the same potential as 3. When the node n5 has the same potential as the node n3, the N-type field effect transistor N7 turns on and the P-type field effect transistor P7 turns off. This gives P
The gate potential of the field effect transistor P4 becomes the GND potential.

【0046】一方、制御信号CLK2がGND電位
(“L”)のとき、N型電界効果トランジスタんN5が
オフ状態、N型電界効果トランジスタN6がオン状態に
なる。ノードn5はN型電界効果トランジスタN6を通
じてGND電位になる。ノードn5がGND電位になる
と、P型電界効果トランジスタP5がオンする。P型電
界効果トランジスタP5がオン状態、N型電界効果トラ
ンジスタN5がオフ状態だから、ノードn4はノードn
3と同電位になる。ノードn5がGND電位になると、
N型電界効果トランジスタN7がオフし、P型電界効果
トランジスタP7がオンする。これにより、P型電界効
果トランジスタP4のゲート電位はノードn3と同電位
となる。
On the other hand, when the control signal CLK2 is at the GND potential ("L"), the N-type field effect transistor N5 is turned off and the N-type field effect transistor N6 is turned on. The node n5 becomes the GND potential through the N-type field effect transistor N6. When the node n5 becomes GND potential, the P-type field effect transistor P5 is turned on. Since the P-type field effect transistor P5 is on and the N-type field effect transistor N5 is off, the node n4 is the node n.
It becomes the same potential as 3. When the node n5 becomes GND potential,
The N-type field effect transistor N7 turns off and the P-type field effect transistor P7 turns on. As a result, the gate potential of the P-type field effect transistor P4 becomes the same potential as the node n3.

【0047】このようにレベルシフト回路L1により、
cc−GNDをスイングする入力信号(CLK2)に応
じて、出力信号(P型電界効果トランジスタP4のゲー
トの電位)はノードn3の電位−GND電位の間をスイ
ングする。
Thus, by the level shift circuit L1,
The output signal (the potential of the gate of the P-type field effect transistor P4) swings between the potential of the node n3 and the potential of GND according to the input signal (CLK2) swinging Vcc- GND.

【0048】したがって、レベルシフト回路L1で制御
信号CLK2が“H”のとき、P型電界効果トランジス
タP7がオフ状態、N型電界効果トランジスタN7がオ
ン状態となり、P型電界効果トランジスタP4のゲート
電位はGNDレベルになる。このとき、P型電界効果ト
ランジスタP4はオン状態なので、ノードn1とノード
n2は電気的に導通状態になる。
Therefore, when the control signal CLK2 is "H" in the level shift circuit L1, the P-type field effect transistor P7 is in the off state, the N-type field effect transistor N7 is in the on state, and the gate potential of the P-type field effect transistor P4. Becomes GND level. At this time, since the P-type field effect transistor P4 is on, the nodes n1 and n2 are electrically connected.

【0049】一方、レベルシフト回路L1で制御信号C
LK2が“L”のとき、P型電界効果トランジスタP7
がオン状態、N型電界効果トランジスタN7がオフ状態
となり、P型電界効果トランジスタP4のゲート電位は
チャンピオン回路の出力であるノードn3と同電位とな
る。このとき、P型電界効果トランジスタP4はオフ状
態なので、ノードn1とノードn2は電気的に遮断状態
になる。
On the other hand, in the level shift circuit L1, the control signal C
When LK2 is "L", P-type field effect transistor P7
Is turned on, the N-type field effect transistor N7 is turned off, and the gate potential of the P-type field effect transistor P4 becomes the same potential as the node n3 which is the output of the champion circuit. At this time, since the P-type field effect transistor P4 is off, the nodes n1 and n2 are electrically cut off.

【0050】よって、整流回路が順方向にバイアスされ
る場合は制御信号CLK2を“H”に、逆方向にバイア
スされる場合は制御信号CLK2を“L”にそれぞれ設
定することにより、しきい電圧によるチャージポンプ回
路の出力電圧の絶対値の低下を防いだ効率のよい整流回
路が実現でできる。
Therefore, when the rectifier circuit is biased in the forward direction, the control signal CLK2 is set to "H", and when it is biased in the reverse direction, the control signal CLK2 is set to "L". It is possible to realize an efficient rectifier circuit that prevents the absolute value of the output voltage of the charge pump circuit from decreasing due to.

【0051】そしてこの整流回路は、P型電界効果トラ
ンジスタP4、P5、P6、P7のN型ウェル100に
チャンピオン回路の出力であるノードn3が接続されて
いるので、各P型電界効果トランジスタの寄生バイポー
ラトランジスタは順バイアスされず、リーク電流が非常
に少ない、または全く整流回路となる。
In this rectifier circuit, since the node n3, which is the output of the champion circuit, is connected to the N-type well 100 of the P-type field effect transistors P4, P5, P6 and P7, the parasitic of each P-type field effect transistor. Bipolar transistors are not forward biased and have very little or no leakage current.

【0052】上記全実施例では、P型基板上のN型ウェ
ルに形成されたP型電界効果トランジスタを用いている
が、N型基板上のP型ウェルに形成されたN型電界効果
トランジスタに変えて構成することもできる。
In all the above-mentioned embodiments, the P-type field effect transistor formed in the N-type well on the P-type substrate is used. However, the N-type field effect transistor formed in the P-type well on the N-type substrate is used. It can be configured by changing.

【0053】[0053]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、請求項1
の半導体装置において、第1導電型半導体基板と、上記
第1導電型半導体基板上に形成された第2導電型不純物
領域と、上記第2導電型不純物領域上に形成された第1
導電型第1電界効果トランジスタとを含み、上記第1導
電型第1電界効果トランジスタの一方電極が第1電位に
接続され、他方電極および制御電極が第2電位に接続さ
れ、上記第2導電型不純物領域に第1および第2電位の
うちの高いほうの電位が印加されるので、上記第2導電
型不純物領域は第1および第2のうちの高いほうの電位
となる。
As described above, according to the present invention, claim 1
Of the first conductivity type semiconductor substrate, the second conductivity type impurity region formed on the first conductivity type semiconductor substrate, and the first conductivity type impurity region formed on the second conductivity type impurity region.
A first conductivity type field effect transistor, wherein one electrode of the first conductivity type first field effect transistor is connected to a first potential, the other electrode and a control electrode are connected to a second potential, and the second conductivity type is included. Since the higher potential of the first and second potentials is applied to the impurity region, the second conductivity type impurity region has the higher potential of the first and second potentials.

【0054】その結果、上記第1導電型第1電界効果ト
ランジスタの寄生バイポーラの順バイアスが防止され、
リーク電流が非常に少ない整流回路を得ることができ
る。
As a result, the forward bias of the parasitic bipolar of the first conductivity type first field effect transistor is prevented,
It is possible to obtain a rectifier circuit with a very small leak current.

【0055】請求項2の半導体装置において、第1電位
のほうが高いとき、第1導電型第2電界効果トランジス
タがオンし、第1導電型第3電界効果トランジスタがオ
フして第1電位が上記第2導電型不純物領域に印加され
るので、上記第2導電型不純物領域は第1電位となる。
According to another aspect of the semiconductor device of the present invention, when the first potential is higher, the first conductivity type second field effect transistor is turned on, the first conductivity type third field effect transistor is turned off, and the first potential is the above. Since it is applied to the second conductivity type impurity region, the second conductivity type impurity region has the first potential.

【0056】一方、第2電位のほうが高いとき、第1導
電型第3電界効果トランジスタがオンし、第1導電型第
2電界効果トランジスタがオフして、第2電位が上記第
2導電型不純物領域に印加されるので、上記第2導電型
不純物領域は第2電位となり、第2導電型の不純物領域
を第1および第2電位のうち高いほうの電位とすること
ができる。
On the other hand, when the second potential is higher, the first conductivity type third field effect transistor is turned on, the first conductivity type second field effect transistor is turned off, and the second potential is the second conductivity type impurity. Since it is applied to the region, the impurity region of the second conductivity type has the second potential, and the impurity region of the second conductivity type can have the higher potential of the first and second potentials.

【0057】その結果、簡単な構成で上記第1導電型第
1電界効果トランジスタの寄生バイポーラの順バイアス
が防止され、、リーク電流が非常に少ない整流回路を得
ることができる。
As a result, forward bias of the parasitic bipolar of the first conductivity type first field effect transistor can be prevented with a simple structure, and a rectifier circuit with a very small leak current can be obtained.

【0058】請求項3の半導体装置において、第1電位
のほうが高いとき、第1導電型第2電界効果トランジス
タがオンし、第1導電型第3電界効果トランジスタがオ
フして、第1電位が上記第2導電型不純物領域に印加さ
れるので、上記第2導電型不純物領域は第1電位とな
る。
In the semiconductor device of claim 3, when the first potential is higher, the first conductivity type second field effect transistor is turned on, the first conductivity type third field effect transistor is turned off, and the first potential is changed. Since it is applied to the second conductivity type impurity region, the second conductivity type impurity region has the first potential.

【0059】一方、第2電位のほうが高いとき、第1導
電型第3電界効果トランジスタがオンし、第1導電型第
2電界効果トランジスタがオフして、第2電位が上記第
2導電型不純物領域に印加されるので、上記第2導電型
不純物領域は第2電位となる。
On the other hand, when the second potential is higher, the first conductivity type third field effect transistor is turned on, the first conductivity type second field effect transistor is turned off, and the second potential is the second conductivity type impurity. Since it is applied to the region, the second conductivity type impurity region has the second potential.

【0060】また、第1導電型第1電界効果トランジス
タの制御電極には第1および第2電位のうちの高いほう
の電位または接地電位である第3電位が印加されるの
で、制御電極の電位は、第1および第2電位のうちの高
いほうの電位と、接地電位の間をスイングする。
Further, since the higher potential of the first and second potentials or the third potential which is the ground potential is applied to the control electrode of the first conductivity type first field effect transistor, the potential of the control electrode is increased. Swings between the higher one of the first and second potentials and the ground potential.

【0061】その結果、上記第1導電型第1電界効果ト
ランジスタの寄生バイポーラの順バイアスが防止され、
リーク電流が非常に少ない整流回路を得ることができ
る。
As a result, the forward bias of the parasitic bipolar of the first conductivity type first field effect transistor is prevented,
It is possible to obtain a rectifier circuit with a very small leak current.

【0062】また、制御電極の電位のスイングを利用し
て、上記第1導電型第1電界効果トランジスタの導通を
制御することにより、整流回路のしきい電圧によるチャ
ージポンプの出力電圧の絶対値の低下を防止し、上記整
流回路の効率を上げることができる。
Further, by controlling the conduction of the first conductivity type first field effect transistor by utilizing the swing of the potential of the control electrode, the absolute value of the output voltage of the charge pump due to the threshold voltage of the rectifier circuit can be controlled. It is possible to prevent the decrease and increase the efficiency of the rectifier circuit.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の半導体装置を用いたチャージポンプ
回路などに用いられる整流回路の第1実施例を示した回
路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a first embodiment of a rectifier circuit used in a charge pump circuit or the like using a semiconductor device of the present invention.

【図2】 本発明の半導体装置を用いたチャージポンプ
回路などに用いられる整流回路の第2実施例を示した回
路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a second embodiment of a rectifier circuit used in a charge pump circuit or the like using the semiconductor device of the present invention.

【図3】 本発明の第2実施例の整流回路の縦構造を示
した断面図である。
FIG. 3 is a sectional view showing a vertical structure of a rectifier circuit according to a second embodiment of the present invention.

【図4】 本発明の半導体装置を用いたチャージポンプ
回路などに用いられる整流回路の第3実施例を示した回
路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a third embodiment of a rectifier circuit used in a charge pump circuit or the like using the semiconductor device of the present invention.

【図5】 本発明の第3実施例の整流回路の縦構造を示
した断面図である。
FIG. 5 is a sectional view showing a vertical structure of a rectifier circuit according to a third embodiment of the present invention.

【図6】 従来の電源電圧以上の電圧を発生させるチャ
ージポンプ回路の具体例を示す回路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram showing a specific example of a charge pump circuit that generates a voltage higher than a conventional power supply voltage.

【図7】 従来のチャージポンプ回路に整流回路として
用いられたダイオード接続されたN型電界効果トランジ
スタを示す回路図である。
FIG. 7 is a circuit diagram showing a diode-connected N-type field effect transistor used as a rectifier circuit in a conventional charge pump circuit.

【図8】 従来のチャージポンプ回路に整流回路として
用いられたダイオード接続されたP型電界効果トランジ
スタを示す回路図である。
FIG. 8 is a circuit diagram showing a diode-connected P-type field effect transistor used as a rectifier circuit in a conventional charge pump circuit.

【図9】 従来のチャージポンプ回路に整流回路として
用いられたダイオード接続されたP型電界効果トランジ
スタの縦構造の断面図である。
FIG. 9 is a sectional view of a vertical structure of a diode-connected P-type field effect transistor used as a rectifier circuit in a conventional charge pump circuit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

P1、P2、P3、P4,P5,P6、P7 P型電界
効果トランジスタ、N5、N6、N7 N型電界効果ト
ランジスタ、INV インバータ、200 P型基板、
100 N型ウェル。
P1, P2, P3, P4, P5, P6, P7 P type field effect transistor, N5, N6, N7 N type field effect transistor, INV inverter, 200 P type substrate,
100 N-type well.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1導電型半導体基板と、 前記第1導電型半導体基板上に形成された第2導電型不
純物領域と、 前記第2導電型不純物領域上に形成された前記第1導電
型第1電界効果トランジスタとを含み、 前記第1導電型第1電界効果トランジスタの一方電極が
第1電位に接続され、他方電極および制御電極が第2電
位に接続され、 前記第2導電型不純物領域上に形成され、前記第1およ
び第2電位のうちの高いほうの電位を選択的に前記第2
導電型不純物領域に印加する選択的印加手段を含む半導
体装置。
1. A first conductivity type semiconductor substrate, a second conductivity type impurity region formed on the first conductivity type semiconductor substrate, and the first conductivity type formed on the second conductivity type impurity region. A first field effect transistor, one electrode of the first conductivity type first field effect transistor is connected to a first potential, the other electrode and a control electrode are connected to a second potential, and the second conductivity type impurity region is included. Which is formed on the upper surface of the first and second electric potentials, the higher electric potential being selectively applied to the second electric potential.
A semiconductor device including a selective applying means for applying to a conductivity type impurity region.
【請求項2】 前記選択的印加手段は、 前記第1電位を供給する第1電位供給端子と前記第2導
電型不純物領域との間に設けられた前記第1導電型第2
電界効果トランジスタと、 前記第2電位を供給する第2電位供給端子と前記第2導
電型不純物領域との間に設けられた前記第1導電型第3
電界効果トランジスタとを含み、 前記第1導電型第2電界効果トランジスタの制御電極が
前記第2電位供給端子に接続され、前記第1導電型第3
電界効果トランジスタの制御電極が前記第1電位供給端
子に接続された請求項1に記載の半導体装置。
2. The second conductive type second element is provided between the first potential supply terminal supplying the first potential and the second conductive type impurity region.
A field effect transistor, a second potential supply terminal that supplies the second potential, and the first conductivity type third region provided between the second conductivity type impurity region.
A field effect transistor, wherein the control electrode of the first conductivity type second field effect transistor is connected to the second potential supply terminal, and the first conductivity type third
The semiconductor device according to claim 1, wherein a control electrode of the field effect transistor is connected to the first potential supply terminal.
【請求項3】 第1導電型半導体基板と、 前記第1導電型半導体基板上に形成された第2導電型不
純物領域と、 前記第2導電型不純物領域上に形成された前記第1導電
型第1電界効果トランジスタとを含み、 前記第1導電型第1電界効果トランジスタの一方電極が
第1電位に接続され、他方電極が第2電位に接続され、 さらに、前記第1および第2電位のうちの高いほうの電
位を選択的に前記第2導電型不純物領域に印加する選択
的印加手段を含み、 前記選択的印加手段は、 前記第1電位を供給する第1電位供給端子と前記第2導
電型不純物領域との間に設けられた第1導電型第2電界
効果トランジスタと、 前記第2電位を供給する第2電位供給端子と前記第2導
電型不純物領域との間に設けられた第1導電型第3電界
効果トランジスタとを含み、前記第1導電型第2電界効
果トランジスタの制御電極が前記第2電位供給端子に接
続され、前記第1導電型第3電界効果トランジスタの制
御電極が前記第1電位供給端子に接続され、 さらに、前記第1および第2電位のうちの高いほうの電
位または接地電位である第3電位を出力する第3電位準
備手段を含み、 前記第3電位が前記第1導電型電界効果トランジスタの
制御電極に接続された半導体装置。
3. A first conductivity type semiconductor substrate, a second conductivity type impurity region formed on the first conductivity type semiconductor substrate, and the first conductivity type formed on the second conductivity type impurity region. A first field effect transistor, wherein one electrode of the first conductivity type first field effect transistor is connected to a first potential and the other electrode is connected to a second potential; A selectively applying means for selectively applying the higher potential of the two to the second conductivity type impurity region, wherein the selectively applying means includes a first potential supply terminal for supplying the first potential and the second potential supply terminal for supplying the first potential. A first conductivity type second field effect transistor provided between the conductivity type impurity region and a second potential supply terminal for supplying the second potential and the second conductivity type impurity region. One conductivity type third field effect transistor A control electrode of the first conductivity type second field effect transistor is connected to the second potential supply terminal, and a control electrode of the first conductivity type third field effect transistor is connected to the first potential supply terminal. Further comprising a third potential preparation means for outputting a third potential which is the higher one of the first and second potentials or a ground potential, wherein the third potential is the first conductivity type field effect transistor. A semiconductor device connected to the control electrode.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004047274A1 (en) * 2002-11-18 2004-06-03 Renesas Technology Corp. Booster circuit
US7245513B2 (en) 2004-10-13 2007-07-17 Renesas Technology Corp. Semiconductor integrated circuit device, contactless electronic device, and handheld terminal

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