JPH11150449A - Hysteresis input circuit - Google Patents

Hysteresis input circuit

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JPH11150449A
JPH11150449A JP31327997A JP31327997A JPH11150449A JP H11150449 A JPH11150449 A JP H11150449A JP 31327997 A JP31327997 A JP 31327997A JP 31327997 A JP31327997 A JP 31327997A JP H11150449 A JPH11150449 A JP H11150449A
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JP
Japan
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type mosfet
electrode
inverter circuit
type
circuit
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JP31327997A
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Masami Hashimoto
正美 橋本
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To ensure large hysteresis width and to improve stability, even with low voltage by indirectly changing the threshold voltage of a first inverter, constituting a circuit by means of the signal of a second inverter circuit. SOLUTION: When the potential of an input terminal 15 is changed from a low potential to a high potential, an output terminal 17 of inverter circuit constituted of P and N-type MOSFETs 11 and 12 respectively has a low potential, an output terminal 16 has a high potential and the substrates of MOSFETs 11 and 12 have a high potential. Thus, the threshold voltage of P-type MOSFET 11 is changed into a high direction and the threshold voltage of MOSFET 12 to a low direction through back gate effect. Thus, a system goes into a state where the logic level of the inverter circuit changes. When the potential of the input terminal 15 changes from a high potential to a low potential, the threshold voltage of MOSFET 11 and 12 changes to the low direction and the high direction respectively. Thus, the logic level changes in accordance with the change of an input signal, and causes hydsteresist to be generated.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はMOSFETをもち
いた半導体集積回路装置において、かつ入力信号のノイ
ズによる誤動作や不安定さを除去するために入力回路の
入力信号が高電位から低電位へ、あるいは低電位から高
電位へ遷移する際にロジックレベルにヒステリシスを設
けた入力回路において、低電圧の電源の場合においても
ヒステリシス幅を充分に大きく確保する回路の構成に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device using a MOSFET, and in order to eliminate malfunction or instability due to noise in the input signal, the input signal of the input circuit is changed from a high potential to a low potential, or The present invention relates to a configuration of a circuit for securing a sufficiently large hysteresis width even in the case of a low-voltage power supply, in an input circuit having a logic level with hysteresis when transitioning from a low potential to a high potential.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来のヒステリシスを有する入力回路
は、インバータ回路と等価な回路を構成し、そのロジッ
クレベルを決定する大きな要因であるP型MOSFET
のコンダクタンス定数βとN型MOSFETのコンダ
クタンス定数βの比を2種設け、該2種のβとβ
の比を前の状態によって変える回路構成をとっていた。
2. Description of the Related Art A conventional input circuit having hysteresis constitutes a circuit equivalent to an inverter circuit, and a P-type MOSFET which is a major factor for determining its logic level.
Of the conductance constant β P of the N-type MOSFET and the conductance constant β N of the N-type MOSFET, and the two kinds of β P and β N
The circuit configuration changes the ratio in accordance with the previous state.

【0003】例えば図8は入力信号が入力したインバー
タ回路を2個設け、その内の1個を前の状態を記憶した
信号によってオン(ON)、オフ(OFF)することに
よりβとβの比を変えロジックレベルを変化させる
ことにより、前の状態によってロジックレベルに差をつ
けていた。つまりヒステリシスを作り出していた。
For example, in FIG. 8, two inverter circuits to which input signals are input are provided, and one of them is turned on (ON) and off (OFF) by a signal in which a previous state is stored, so that β P and β N By changing the logic level and changing the logic level, the logic level was different depending on the previous state. In other words, it created hysteresis.

【0004】また図9は別の従来回路例であり、特許公
開昭58−182914に示されたものであるが、この
回路もβ比の差によるインバータ回路としてのロジック
レベルの差を利用してヒステリシスを作り出していた。
FIG. 9 shows another example of a conventional circuit, which is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-182914. This circuit also utilizes a difference in logic level as an inverter circuit due to a difference in β ratio. Creating hysteresis.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】さて、前述した従来の
ヒステリシスを有する入力回路は等価回路としてインバ
ータ回路であるが、インバータ回路のロジックレベルは
図5のように、P型MOSFETとN型MOSFETの
コンダクタンス定数をそれぞれβ、βとし、またス
レッショルド電圧をそれぞれVTP、VTNとし、また
電源電圧VDD、基準の接地電位0、ロジックレベルを
GLとすると、このとき、 1/2・β(VDD−VGL−VTP = 1/
2・β(VGL−VTN が成立ち、ロックレ
ベルVGLは VGL={VDD−VTP+(β/β1/2・V
TN}/{1+(β/β1/2} となる。したがって、P型MOSFETとN型MOSF
ETの形状を変えて、(β/β)を0から無限大ま
で変えればロジックレベルが変わるので、 VTN ≦ VGL ≦ VDD−VTP の範囲に限定され、高い方のロジックレベルVIH
(β/β)が0のときで VIH = VDD−VTP となり、また低い方のロジックレベルVILは(β
β)が無限大のときで VIL = VTN である。したがってヒステリシス幅VWHLは VWHL = VDD−VTP−VTN となる。ただし、ロジックレベルの式を見れば判るよう
に(β/β)の項は分子にも分母にもあるので、
(β/β)の比を変えても、ロジツクレベルの変化
は小さい。したがってヒステリシス幅をある程度確保す
るためには(β/β)を大きく変化させる必要があ
る。また、(β/β)を0や無限大にすることは実
態として不可であるため、実際にはこれより更にヒステ
リシス幅は小さくなる。したがって電源電圧VDDが低
い電圧、例えば1.0V程度になるとVTPやVTN
一般にはせいぜい低くとも0.4V程度であるのでヒス
テリシス幅は非常に小さくなり、当初の目的を果たさな
くなる。したがって従来のヒステリシスを有する入力回
路は低電圧ではヒステリシス幅が大きくとれないという
問題点があった。なお、この様子を簡単に図示したのが
図6である。
The input circuit having the above-mentioned conventional hysteresis is an inverter circuit as an equivalent circuit. The logic level of the inverter circuit is, as shown in FIG. 5, of a P-type MOSFET and an N-type MOSFET. If the conductance constants are β P and β N respectively, the threshold voltages are V TP and V TN , respectively, and the power supply voltage V DD , the reference ground potential 0 and the logic level are V GL , then, β P ( VDD - VGL - VTP ) 2 = 1 /
2 · β N (V GL −V TN ) 2 is established, and the lock level V GL is V GL = {V DD −V TP + (β N / β P ) 1/2 · V
TN } / {1+ (β N / β P ) 1/2 }. Therefore, P-type MOSFET and N-type MOSFET
If the shape of the ET is changed and (β N / β P ) is changed from 0 to infinity, the logic level changes. Therefore, the logic level is limited to the range of V TN ≦ V GL ≦ V DD −V TP and the higher logic level V IH is (β N / β P) logic level V IL the V IH = V DD -V TP, and the addition lower when 0 (beta N /
V IL = V TN when β P ) is infinite. Therefore, the hysteresis width V WHL is V WHL = V DD -V TP -V TN . However, as can be seen from the logic level equation, the term (β N / β P ) exists in both the numerator and the denominator.
Even if the ratio (β N / β P ) is changed, the change in the logic level is small. Therefore, in order to secure a certain hysteresis width, it is necessary to greatly change (β N / β P ). Further, since it is impossible in practice to make (β N / β P ) 0 or infinity, the hysteresis width is actually smaller than this. Therefore, when the power supply voltage VDD becomes a low voltage, for example, about 1.0 V, VTP and VTN are generally about 0.4 V at the lowest, so that the hysteresis width becomes very small, and the original purpose is not fulfilled. Therefore, the conventional input circuit having hysteresis has a problem that the hysteresis width cannot be increased at a low voltage. FIG. 6 shows this situation simply.

【0006】また、(β/β)を変えるためにP型
MOSFETとN型MOSFETの形状を不自然な程、
変える必要があるため大きなチップ面積を占有したり、
駆動能力を小さくして応答性が低下したりする問題点が
あった。
In order to change (β N / β P ), the shapes of the P-type MOSFET and the N-type MOSFET become more unnatural,
Occupy a large chip area because it needs to be changed,
There is a problem that the responsiveness is reduced by reducing the driving capability.

【0007】そこで本発明はこのような問題点を解決す
るもので、その目的とするところは低電圧においてもヒ
ステリシス幅を確実に有する入力回路を提供することで
ある。
Accordingly, the present invention is to solve such a problem, and an object of the present invention is to provide an input circuit which has a hysteresis width even at a low voltage.

【0008】また、比較的に大きなヒステリシス幅を有
する入力回路を妥当なチップ面積で具現化できる回路を
提供することを目的とする。
Another object of the present invention is to provide a circuit capable of realizing an input circuit having a relatively large hysteresis width with an appropriate chip area.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明のヒステリシス入
力回路は、入力信号によって制御される第1のインバー
タ回路と前の状態を記憶した第2のインバータ回路を有
し、第2のインバータ回路の出力信号によって前記第1
のインバータ回路を構成するP型MOSFETとN型M
OSFETの基板電位を制御することを特徴とする。
A hysteresis input circuit according to the present invention has a first inverter circuit controlled by an input signal and a second inverter circuit storing a previous state. According to the output signal, the first
P-type MOSFET and N-type M constituting the inverter circuit of FIG.
It is characterized in that the substrate potential of the OSFET is controlled.

【0010】[0010]

【作用】本発明の上記の構成によれば、入力回路として
のロジックレベルは入力信号によって制御される第1の
インバータ回路の(β/β)比だけではなく前の状
態を記憶した第2のインバータ回路の信号によって第1
のインバータ回路を構成するP、NのMOSFETのバ
ックゲート効果から間接的にスレッショルド電圧をが変
り(VTP→VTP2、VTN→VTN2)、ロジック
レベルが影響を受けるので、入力回路としてヒステリシ
ス効果を有するようになる。なお、この様子を簡単に図
示したのが図7である。
According to the above configuration of the present invention, the logic level of the input circuit is not only the (β N / β P ) ratio of the first inverter circuit controlled by the input signal, but also the first inverter circuit stores the previous state. The first by the signal of the second inverter circuit
The threshold voltage changes indirectly (V TP → V TP2 , V TN → V TN2 ) due to the back gate effect of the P and N MOSFETs constituting the inverter circuit, and the logic level is affected. It has an effect. FIG. 7 simply shows this state.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、実施例により本発明の詳細
を示す。図1は本発明のヒステリシス入力回路の第1の
実施例を示す回路図である。なお、図1は埋め込み酸化
膜のあるSOI(シリコン・オン・インシュレータ)の
ウェハー基板を用いており、各MOSFET間の基板が
原則的に分離されている。また、正極の電源+VDD
負極の電源−VSSの電位差は0.5V程度の低い電源
電圧で使用している。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples. FIG. 1 is a circuit diagram showing a first embodiment of a hysteresis input circuit according to the present invention. FIG. 1 uses an SOI (silicon-on-insulator) wafer substrate having a buried oxide film, and the substrates between the MOSFETs are separated in principle. Further, the potential difference between the positive power supply + V DD and the negative power source -V SS is used at a low power supply voltage of about 0.5V.

【0012】さて、図1において11はP型MOSFE
Tであり、ソース電極は正極の電源+VDDに接続され
ている。12はN型MOSFETであり、ソース電極は
負極の電源−VSSに接続されている。P型MOSFE
T11とN型MOSFET12のそれぞれのゲート電極
は互いに接続され、かつ入力端子15に接続されてい
る。またそれぞれのドレイン電極も互いに接続されイン
バータ回路を構成している。また13はP型MOSFE
Tであり、ソース電極は正極の電源+VDDに接続され
ている。14はN型MOSFETであり、ソース電極は
負極の電源−VSSに接続されている。P型MOSFE
T13とN型MOSFET14のそれぞれのゲート電極
は互いに接続され、またそれぞれのドレイン電極も互い
に接続されインバータ回路を構成している。該P型MO
SFET13とN型MOSFET14からなるインバー
タ回路のゲート入力は前記P型MOSFET11とN型
MOSFET12からなるインバータ回路のドレイン出
力17に接続されている。また、P型MOSFET13
とN型MOSFET14からなるインバータ回路のドレ
イン出力は出力端子16に接続され、かつP型MOSF
ET11の基板とN型MOSFET12の基板に接続さ
れている。
In FIG. 1, reference numeral 11 denotes a P-type MOSFET.
T, and the source electrode is connected to the positive power supply + VDD . 12 is an N-type MOSFET, the source electrode is connected to the power supply -V SS of the negative electrode. P-type MOSFE
The gate electrodes of the T11 and the N-type MOSFET 12 are connected to each other and to the input terminal 15. The drain electrodes are also connected to each other to form an inverter circuit. 13 is a P-type MOSFE
T, and the source electrode is connected to the positive power supply + VDD . 14 is an N-type MOSFET, the source electrode is connected to the power supply -V SS of the negative electrode. P-type MOSFE
The gate electrodes of the T13 and the N-type MOSFET 14 are connected to each other, and the drain electrodes are also connected to each other to form an inverter circuit. The P-type MO
The gate input of the inverter circuit composed of the SFET 13 and the N-type MOSFET 14 is connected to the drain output 17 of the inverter circuit composed of the P-type MOSFET 11 and the N-type MOSFET 12. Also, the P-type MOSFET 13
And the drain output of the inverter circuit composed of the N-type MOSFET 14 is connected to the output terminal 16 and the P-type MOSFET
It is connected to the substrate of ET11 and the substrate of N-type MOSFET12.

【0013】さて、入力端子15に加わる信号の電位が
低電位(Low)から高電位(High)に遷移すると
P型MOSFET11とN型MOSFET12からなる
インバータ回路出力17は低電位となり、出力端子16
は高電位となる。出力端子16の高電位はP型MOSF
ET11の基板、およびN型MOSFET12の基板を
高電位にするのでバックゲート効果により、P型MOS
FET11のスレッショルド電圧は高い方向に変化し、
N型MOSFET12のスレッショルド電圧は低い方向
に変化する。つまり、P型MOSFET11はよりオフ
(OFF)となり、N型MOSFET12はよりオン
(ON)する。あるいはP型MOSFET11とN型M
OSFET12からなるインバータ回路のロジックレベ
ルが変化した状態となる。なお、このときN型MOSF
ET12の基板には高電位+VDDが与えられていて、
N型MOSFET12のソース電極には−VSSが加わ
っているのでソース電極のNと基板のPとのダイオード
に順方向の電圧が加わっていることになるが、電源電圧
が0.5V程度であり、PNダイオードの接触電位より
低い電圧なので順方向といえども電流は流れない。
When the potential of the signal applied to the input terminal 15 changes from a low potential (Low) to a high potential (High), the output 17 of the inverter circuit comprising the P-type MOSFET 11 and the N-type MOSFET 12 becomes low, and the output terminal 16
Becomes high potential. The high potential of the output terminal 16 is a P-type MOSF
Since the substrate of the ET11 and the substrate of the N-type MOSFET 12 are set to a high potential, the P-type MOS
The threshold voltage of FET 11 changes in the higher direction,
The threshold voltage of the N-type MOSFET 12 changes in a lower direction. That is, the P-type MOSFET 11 is turned off (OFF), and the N-type MOSFET 12 is turned on (ON). Or P-type MOSFET 11 and N-type M
The logic level of the inverter circuit including the OSFET 12 changes. At this time, the N-type MOSF
High potential + VDD is applied to the substrate of ET12,
Since the source electrode of the N type MOSFET12 are joined by -V SS would have applied the diode forward voltage of the N and the substrate P of the source electrode, but the power supply voltage be about 0.5V Since the voltage is lower than the contact potential of the PN diode, no current flows even in the forward direction.

【0014】さて、入力端子15に加わる信号の電位が
高電位(High)から低電位(Low)に遷移する場
合には前述したこととほぼ逆のことが起こる。したがっ
て図1の回路は入力信号の遷移が低電位から高電位への
遷移か、逆の高電位から低電位への遷移かによってロジ
ックレベルが変化しヒステリシスを持つことが解る。
When the potential of the signal applied to the input terminal 15 changes from a high potential (High) to a low potential (Low), the reverse of the above occurs. Therefore, it can be understood that the logic level of the circuit shown in FIG. 1 changes according to whether the transition of the input signal is from a low potential to a high potential or vice versa.

【0015】図2は本発明のヒステリシス入力回路の第
2の実施例を示す回路図である。なお、図2もSOI基
板を用いている。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a second embodiment of the hysteresis input circuit according to the present invention. FIG. 2 also uses an SOI substrate.

【0016】さて、図2の回路において、図1の回路と
の違いはP型MOSFET29とN型MOSFET28
である。他のP型MOSFET21、23およびN型M
OSFET22、24はそれぞれ順に図1のP型MOS
FET11、13およびN型MOSFET12、14に
対応してそれぞれほぼ同じ役目をしている。さて、図2
においてP型MOSFET29のゲート電極とソース電
極は互いに接続され、かつP型MOSFET21の基板
に接続されている。またP型MOSFET29のドレイ
ン電極は出力端子26に接続されている。また、N型M
OSFET28のゲート電極とソース電極は互いに接続
され、かつN型MOSFET22の基板に接続されてい
る。またN型MOSFET28のドレイン電極は出力端
子26に接続されている。これにより、基板から出力端
子26方向への電流が流れるのを防いでいる。つまり、
図1の回路ではP型MOSFET11の基板に低電位が
加わったとき、もしくは、N型MOSFET12の基板
に高電位が加わったときは基板とソース電極間のPNダ
イオードが順方向になるため、PNの接触電位より0.
5V程度の低い電源電圧でしか使用できない回路であつ
たが、図2の回路ではP型MOSFET29、N型MO
SFET28を挿入し、前述のダイオードの順方向の電
流が流れるのを防いでいるのでPNの接触電位より高
い、つまり0.5V程度以上の電源電圧でも使用できる
回路となっている。
The difference between the circuit of FIG. 2 and the circuit of FIG.
It is. Other P-type MOSFETs 21 and 23 and N-type M
OSFETs 22 and 24 are respectively the P-type MOS of FIG.
The FETs 11 and 13 and the N-type MOSFETs 12 and 14 have substantially the same functions. Now, FIG.
, The gate electrode and the source electrode of the P-type MOSFET 29 are connected to each other and to the substrate of the P-type MOSFET 21. The drain electrode of the P-type MOSFET 29 is connected to the output terminal 26. In addition, N type M
The gate electrode and the source electrode of the OSFET 28 are connected to each other and to the substrate of the N-type MOSFET 22. The drain electrode of the N-type MOSFET 28 is connected to the output terminal 26. This prevents a current from flowing from the substrate toward the output terminal 26. That is,
In the circuit of FIG. 1, when a low potential is applied to the substrate of the P-type MOSFET 11 or a high potential is applied to the substrate of the N-type MOSFET 12, the PN diode between the substrate and the source electrode is in the forward direction. 0.
Although the circuit can be used only with a low power supply voltage of about 5 V, the circuit of FIG.
Since the SFET 28 is inserted to prevent the forward current of the diode from flowing, the circuit can be used with a power supply voltage higher than the contact potential of PN, that is, about 0.5 V or more.

【0017】図3は本発明のヒステリシス入力回路の第
3の実施例を示す回路図である。なお、図3もSOI基
板を用いている。また、正極の電源+VDDと負極の電
源−VSSの電位差は0.5V程度の低い電源電圧で使
用している。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a third embodiment of the hysteresis input circuit according to the present invention. FIG. 3 also uses an SOI substrate. Further, the potential difference between the positive power supply + V DD and the negative power source -V SS is used at a low power supply voltage of about 0.5V.

【0018】さて、図3において31はP型MOSFE
Tであり、ソース電極は正極の電源+VDDに接続され
ている。32はN型MOSFETであり、ソース電極は
負極の電源−VSSに接続されている。P型MOSFE
T31とN型MOSFET32のそれぞれのゲート電極
は互いに接続され、かつ入力端子35に接続されてい
る。またそれぞれのドレイン電極も互いに接続されイン
バータ回路を構成している。
In FIG. 3, reference numeral 31 denotes a P-type MOSFET.
T, and the source electrode is connected to the positive power supply + VDD . 32 is an N-type MOSFET, the source electrode is connected to the power supply -V SS of the negative electrode. P-type MOSFE
The gate electrodes of the T31 and the N-type MOSFET 32 are connected to each other and to the input terminal 35. The drain electrodes are also connected to each other to form an inverter circuit.

【0019】また、39と41はP型MOSFETであ
り、P型MOSFET39のソース電極は正極の電源+
DDに接続され、ドレイン電極はP型MOSFET4
1のソース電極に接続されている。また、40と42は
N型MOSFETであり、N型MOSFET40のソー
ス電極は負極の電源−VSSに接続され、ドレイン電極
はN型MOSFET42のソース電極に接続されてい
る。P型MOSFET41のドレイン電極とN型MOS
FET42のドレイン電極は互いに接続され、前記P型
MOSFET31とN型MOSFET32からなるイン
バータ回路のドレイン出力37に接続されている。また
P型MOSFET39のゲート電極とN型MOSFET
40のゲート電極はともに入力端子35に接続されてい
る。また33はP型MOSFETであり、ソース電極は
正極の電源+VDDに接続されている。34はN型MO
SFETであり、ソース電極は負極の電源−VSSに接
続されている。P型MOSFET33とN型MOSFE
T34のそれぞれのゲート電極は互いに接続され、また
それぞれのドレイン電極も互いに接続されインバータ回
路を構成している。該P型MOSFET33とN型MO
SFET34からなるインバータ回路のゲート入力は前
記P型MOSFET31とN型MOSFET32からな
るインバータ回路のドレイン出力37に接続されてい
る。また、P型MOSFET33とN型MOSFET3
4からなるインバータ回路のドレイン出力は出力端子3
6に接続され、かつP型MOSFET31、39、41
の基板とN型MOSFET32、40、42の基板、お
よびP型MOSFET41のゲート電極とN型MOSF
ET42のゲート電極に接続されている。
Reference numerals 39 and 41 denote P-type MOSFETs. The source electrode of the P-type MOSFET 39 has a positive power supply +
VDD , and the drain electrode is a P-type MOSFET 4
1 source electrode. Also, 40 and 42 are N-type MOSFET, the source electrode of the N type MOSFET40 are connected to the power supply -V SS of the negative electrode, the drain electrode is connected to the source electrode of the N-type MOSFET 42. Drain electrode of P-type MOSFET 41 and N-type MOS
The drain electrodes of the FET 42 are connected to each other and to the drain output 37 of the inverter circuit composed of the P-type MOSFET 31 and the N-type MOSFET 32. The gate electrode of the P-type MOSFET 39 and the N-type MOSFET
The gate electrodes 40 are both connected to the input terminal 35. Reference numeral 33 denotes a P-type MOSFET, and the source electrode is connected to a positive power supply + VDD . 34 is an N-type MO
A SFET, the source electrode is connected to the power supply -V SS of the negative electrode. P-type MOSFET 33 and N-type MOSFET
Each gate electrode of T34 is connected to each other, and each drain electrode is also connected to each other to form an inverter circuit. The P-type MOSFET 33 and the N-type MO
The gate input of the inverter circuit composed of the SFET 34 is connected to the drain output 37 of the inverter circuit composed of the P-type MOSFET 31 and the N-type MOSFET 32. Further, the P-type MOSFET 33 and the N-type MOSFET 3
The drain output of the inverter circuit consisting of
6 and P-type MOSFETs 31, 39, 41
Substrate and N-type MOSFETs 32, 40, and 42, and P-type MOSFET 41 gate electrode and N-type MOSFET.
It is connected to the gate electrode of ET42.

【0020】以上の回路は、従来の回路の図8のβ比の
異なるインバータ回路を切り替えることによりヒステリ
シスを持たせていたことに加え、基板の電位を制御する
ことにより、バックゲート効果によるスレッショルド電
圧の変化によるロジックレベルの変化を持たせヒステリ
シス幅をより大きくしたものである。
The above circuit has a hysteresis by switching the inverter circuit having a different β ratio in FIG. 8 of the conventional circuit, and also controls the threshold voltage due to the back gate effect by controlling the substrate potential. , And the hysteresis width is further increased by providing a change in the logic level due to the change in.

【0021】図4は本発明のヒステリシス入力回路の第
4の実施例を示す回路図である。なお、図4もSOI基
板を用いている。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a fourth embodiment of the hysteresis input circuit according to the present invention. FIG. 4 also uses an SOI substrate.

【0022】さて、図4の回路において、図3の回路と
の違いはP型MOSFET49とN型MOSFET48
である。他のP型MOSFET31、33、39、41
およびN型MOSFET32、34、40、42は図3
の同番号のMOSFETにに対応してそれぞれ同じ役目
をしている。
4 differs from the circuit of FIG. 3 in that a P-type MOSFET 49 and an N-type MOSFET 48
It is. Other P-type MOSFETs 31, 33, 39, 41
And N-type MOSFETs 32, 34, 40 and 42 are shown in FIG.
Have the same role in correspondence with the same numbered MOSFETs.

【0023】さて、図4においてP型MOSFET49
のゲート電極とソース電極は互いに接続され、かつP型
MOSFET31、39、41の基板に接続されてい
る。またP型MOSFET49のドレイン電極は出力端
子26に接続されている。また、N型MOSFET48
のゲート電極とソース電極は互いに接続され、かつN型
MOSFET32、40、42の基板に接続されてい
る。またN型MOSFET48のドレイン電極は出力端
子46に接続されている。これにより、図2のP型MO
SFET29とN型MOSFET28と同様に基板から
出力端子36方向への電流が流れるのを防いでいる。し
たがってPNダイオードの接触電位より高い、つまり
0.5V程度以上の電源電圧でも使用できる回路となっ
ている。
Now, referring to FIG.
Are connected to each other and to the substrates of the P-type MOSFETs 31, 39 and 41. The drain electrode of the P-type MOSFET 49 is connected to the output terminal 26. The N-type MOSFET 48
Are connected to each other and to the substrates of the N-type MOSFETs 32, 40, and 42. The drain electrode of the N-type MOSFET 48 is connected to the output terminal 46. Thereby, the P-type MO shown in FIG.
Like the SFET 29 and the N-type MOSFET 28, it prevents a current from flowing from the substrate to the output terminal 36. Therefore, the circuit can be used even with a power supply voltage higher than the contact potential of the PN diode, that is, about 0.5 V or more.

【0024】なお、以上においてはSOI基板のウェハ
ーを用いる実施例で説明したが、SOS(シリコン・オ
ン・サファイヤ)でもよいし、また通常のバルクのウェ
ハーでも3重のウエル(Well)構造をとれば同様に
基板電位を制御できる。
In the above description, an embodiment using a wafer of an SOI substrate has been described. However, an SOS (silicon on sapphire) may be used, or a normal bulk wafer may have a triple well structure. The substrate potential can be similarly controlled.

【0025】また、図3、図4においては従来例の図8
の回路に更に基板電位の制御を加えた例を示したが、図
9等の従来のβ比の異なるインバータ回路を切り替える
回路一般において、基板電位の制御を加えてより大きな
ヒステリシス幅を得ることが出来る。
FIGS. 3 and 4 show a conventional example shown in FIG.
Although the example in which the substrate potential is further added to the above circuit is shown, a general hysteresis width can be obtained by adding the substrate potential in a general circuit for switching between the conventional inverter circuits having different β ratios as shown in FIG. I can do it.

【0026】[0026]

【発明の効果】以上、述べたように本発明によれば、低
電圧電源においてもヒステリシス幅を確保できるヒステ
リシス入力回路が提供できるという効果がある。
As described above, according to the present invention, there is an effect that a hysteresis input circuit which can secure a hysteresis width even in a low-voltage power supply can be provided.

【0027】したがって、低電圧においてもノイズに強
いヒステリシス入力回路が提供できるという効果があ
る。
Therefore, there is an effect that a hysteresis input circuit resistant to noise can be provided even at a low voltage.

【0028】また、基板電位を制御する方式であるの
で、従来のβ比を変える型の回路に比較して回路のチッ
プ面積が小さくてすむという効果がある。
Further, since the method is a method of controlling the substrate potential, there is an effect that the circuit chip area can be reduced as compared with the conventional circuit of changing the β ratio.

【0029】また、従来のβ比を変える型とは異なり、
MOSFETの形状に無理がないので応答性を容易に確
保しやすいという効果がある。
Also, unlike the conventional β ratio changing type,
Since the shape of the MOSFET is reasonable, there is an effect that the response can be easily secured.

【0030】また、従来のβ比を変える型の回路と併用
すれば更に大きなヒステリシス幅を確保し、かつ低電圧
特性のよいヒステリシス入力回路を提供できるという効
果がある。
Further, when used in combination with a conventional circuit of changing the β ratio, there is an effect that a larger hysteresis width can be ensured and a hysteresis input circuit having good low voltage characteristics can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施例を示す回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram showing a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2の実施例を示す回路図である。FIG. 2 is a circuit diagram showing a second embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第3の実施例を示す回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram showing a third embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第4の実施例を示す回路図である。FIG. 4 is a circuit diagram showing a fourth embodiment of the present invention.

【図5】本発明の回路および従来回路において用いるイ
ンバータ回路の構成を示す回路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing a configuration of an inverter circuit used in the circuit of the present invention and a conventional circuit.

【図6】従来の回路のヒステリシスを持つ様子を図示し
た電気特性図である。
FIG. 6 is an electrical characteristic diagram illustrating a state in which a conventional circuit has hysteresis.

【図7】本発明の回路のヒステリシスを持つ様子を図示
した電気特性図である。
FIG. 7 is an electrical characteristic diagram illustrating a state of the circuit of the present invention having hysteresis.

【図8】従来回路の例を示す回路図である。FIG. 8 is a circuit diagram showing an example of a conventional circuit.

【図9】従来回路の例を示す回路図である。FIG. 9 is a circuit diagram showing an example of a conventional circuit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11、13、21、23、29、31、33、39、4
1、49・・・P型MOSFET 12、14、22、24、28、32、34、40、4
2、48・・・N型MOSFET 15、25、35、45・・・入力端子 16、26、36、46・・・出力端子
11, 13, 21, 23, 29, 31, 33, 39, 4
1, 49 ... P-type MOSFETs 12, 14, 22, 24, 28, 32, 34, 40, 4
2, 48 ... N-type MOSFET 15, 25, 35, 45 ... input terminal 16, 26, 36, 46 ... output terminal

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】a)絶縁ゲート電界効果型トランジスタ
(以下MOSFETと略す)を用いた半導体集積回路装
置の入力回路において、 b)ソース電極が正極の電源+VDDに接続された第1
のP型MOSFETとソース電極が負極の電源−VSS
に接続された第1のN型MOSFETとからなり、かつ
前記第1のP型MOSFETと第1のN型MOSFET
のそれぞれのゲート電極は互いに接続され、かつそれぞ
れのドレイン電極も互いに接続された構成による第1の
インバータ回路と、 c)ソース電極が正極の電源+VDDに接続された第2
のP型MOSFETとソース電極が負極の電源−VSS
に接続された第2のN型MOSFETとからなり、かつ
前記第2のP型MOSFETと第2のN型MOSFET
のそれぞれのゲート電極は互いに接続され、かつそれぞ
れのドレイン電極も互いに接続された構成による第2の
インバータ回路とからなり、 d)前記第1のインバータ回路の入力は入力回路として
の入力端子に接続され、出力は前記第2のインバータ回
路の入力に接続され、前記第2のインバータ回路の出力
は前記第1のP型MOSFETおよび第1のN型MOS
FETの基板に接続したことを特徴とするヒステリシス
入力回路。
A) an input circuit of a semiconductor integrated circuit device using an insulated gate field effect transistor (hereinafter abbreviated as MOSFET); b) a first electrode having a source electrode connected to a positive power supply + VDD .
P-type MOSFET and power supply -V SS with negative electrode
A first N-type MOSFET connected to the first P-type MOSFET and a first N-type MOSFET.
A first inverter circuit having a configuration in which respective gate electrodes are connected to each other and respective drain electrodes are also connected to each other; c) a second inverter circuit in which a source electrode is connected to a positive power supply + VDD .
P-type MOSFET and power supply -V SS with negative electrode
And a second N-type MOSFET connected to the second P-type MOSFET and a second N-type MOSFET.
And a second inverter circuit having a configuration in which the respective gate electrodes are connected to each other and the respective drain electrodes are also connected to each other. D) An input of the first inverter circuit is connected to an input terminal as an input circuit. The output is connected to the input of the second inverter circuit, and the output of the second inverter circuit is connected to the first P-type MOSFET and the first N-type MOS.
A hysteresis input circuit connected to an FET substrate.
【請求項2】請求項1記載の半導体集積回路装置がシリ
コン・オン・インシュレータ(SOI)で形成されてい
ることを特徴とするヒステリシス入力回路。
2. The hysteresis input circuit according to claim 1, wherein said semiconductor integrated circuit device is formed of a silicon-on-insulator (SOI).
【請求項3】a)MOSFETを用いた半導体集積回路
装置の入力回路において、 b)ソース電極が正極の電源+VDDに接続された第1
のP型MOSFETとソース電極が負極の電源−VSS
に接続された第1のN型MOSFETとからなり、かつ
前記第1のP型MOSFETと第1のN型MOSFET
のそれぞれのゲート電極は互いに接続され、かつそれぞ
れのドレイン電極も互いに接続された構成による第1の
インバータ回路と、 c)ソース電極が正極の電源+VDDに接続された第2
のP型MOSFETとソース電極が負極の電源−VSS
に接続された第2のN型MOSFETとからなり、かつ
前記第2のP型MOSFETと第2のN型MOSFET
のそれぞれのゲート電極は互いに接続され、かつそれぞ
れのドレイン電極も互いに接続された構成による第2の
インバータ回路と、 d)ドレインもしくはソースとなる第1電極とゲート電
極が接続された第3のP型MOSFETと、 e)ドレインもしくはソースとなる第1電極とゲート電
極が接続された第3のN型MOSFETとからなり、 f)前記第1のインバータ回路の入力は入力回路として
の入力端子に接続され、出力は前記第2のインバータ回
路の入力に接続され、前記第2のインバータ回路の出力
は前記第3のP型MOSFETの第2電極と前記第3の
N型MOSFETの第2電極に接続され、 g)前記第3のP型MOSFETの第1電極は前記第1
のP型MOSFETの基板に接続され、前記第3のN型
MOSFETの第1電極は前記第1のN型MOSFET
の基板に接続したことを特徴とするヒステリシス入力回
路。
3. An input circuit of a semiconductor integrated circuit device using a MOSFET, b) a first electrode having a source electrode connected to a positive power supply + VDD .
P-type MOSFET and power supply -V SS with negative electrode
A first N-type MOSFET connected to the first P-type MOSFET and a first N-type MOSFET.
A first inverter circuit having a configuration in which respective gate electrodes are connected to each other and respective drain electrodes are also connected to each other; c) a second inverter circuit in which a source electrode is connected to a positive power supply + VDD .
P-type MOSFET and power supply -V SS with negative electrode
And a second N-type MOSFET connected to the second P-type MOSFET and a second N-type MOSFET.
A second inverter circuit having a configuration in which the respective gate electrodes are connected to each other and the respective drain electrodes are also connected to each other; E) a third N-type MOSFET having a drain and a source connected to a first electrode and a gate electrode, and f) an input of the first inverter circuit is connected to an input terminal as an input circuit. The output is connected to the input of the second inverter circuit, and the output of the second inverter circuit is connected to the second electrode of the third P-type MOSFET and the second electrode of the third N-type MOSFET. G) the first electrode of the third P-type MOSFET is the first electrode
And a first electrode of the third N-type MOSFET is connected to the first N-type MOSFET.
A hysteresis input circuit connected to a substrate.
【請求項4】a)MOSFETを用いた半導体集積回路
装置の入力回路において、 b)ソース電極が正極の電源+VDDに接続された第1
のP型MOSFETとソース電極が負極の電源−VSS
に接続された第1のN型MOSFETとからなり、かつ
前記第1のP型MOSFETと第1のN型MOSFET
のそれぞれのゲート電極は互いに接続され、かつそれぞ
れのドレイン電極も互いに接続された構成による第1の
インバータ回路と、 c)ソース電極が正極の電源+VDDに接続された第2
のP型MOSFETとソース電極が負極の電源−VSS
に接続された第2のN型MOSFETとからなり、かつ
前記第2のP型MOSFETと第2のN型MOSFET
のそれぞれのゲート電極は互いに接続され、かつそれぞ
れのドレイン電極も互いに接続された構成による第2の
インバータ回路と、 d)ソース電極が正極の電源+VDDに接続された第3
のP型MOSFETと該第3のP型MOSFETに直列
に接続された第4のP型MOSFETと、ソース電極が
負極の電源−VSSに接続された第3のN型MOSFE
Tと該第3のN型MOSFETに直列に接続された第4
のN型MOSFETとからなり、かつ前記第4のP型M
OSFETのドレイン電極と前記第4のN型MOSFE
Tのドレイン電極が互いに接続された直列回路からな
り、 e)前記第1のインバータ回路の入力は入力回路として
の入力端子に接続され、出力は前記第2のインバータ回
路の入力に接続され、 f)前記第2のインバータ回路の出力は前記第4のP型
MOSFETのゲート電極と前記第4のN型MOSFE
Tのゲート電極に接続するとともに、前記第1、第3、
第4のP型MOSFETおよび第1、第3、第4のN型
MOSFETの各基板にも接続し、 g)前記第4のP型MOSFETと前記第4のN型MO
SFETのドレイン電極の接続点は前記第1のインバー
タ回路の出力に接続され、前記第3のP型MOSFET
と前記第3のN型MOSFETのゲート電極はともに前
記入力回路としての入力端子に接続されたことを特徴と
するヒステリシス入力回路。
4. An input circuit of a semiconductor integrated circuit device using a MOSFET, b) a first electrode having a source electrode connected to a positive power supply + VDD .
P-type MOSFET and power supply -V SS with negative electrode
A first N-type MOSFET connected to the first P-type MOSFET and a first N-type MOSFET.
A first inverter circuit having a configuration in which respective gate electrodes are connected to each other and respective drain electrodes are also connected to each other; c) a second inverter circuit in which a source electrode is connected to a positive power supply + VDD .
P-type MOSFET and power supply -V SS with negative electrode
And a second N-type MOSFET connected to the second P-type MOSFET and a second N-type MOSFET.
A second inverter circuit having a configuration in which the respective gate electrodes are connected to each other and the respective drain electrodes are also connected to each other; and d) a third inverter circuit in which the source electrode is connected to the positive power supply + VDD .
A fourth P-type MOSFET connected in series with the P-type MOSFET and said third P-type MOSFET of the third N-type MOSFE its source electrode connected to the power supply -V SS of the negative electrode
T and a fourth N-type MOSFET connected in series with the third N-type MOSFET.
And the fourth P-type M
A drain electrode of the OSFET and the fourth N-type MOSFET;
E) an input of the first inverter circuit is connected to an input terminal as an input circuit, and an output is connected to an input of the second inverter circuit; The output of the second inverter circuit is connected to the gate electrode of the fourth P-type MOSFET and the fourth N-type MOSFET.
T, and the first, third,
A fourth P-type MOSFET and first, third, and fourth N-type MOSFETs are also connected to each other; g) the fourth P-type MOSFET and the fourth N-type MO.
The connection point of the drain electrode of the SFET is connected to the output of the first inverter circuit, and the third P-type MOSFET
And a gate electrode of the third N-type MOSFET is connected to an input terminal as the input circuit.
【請求項5】請求項4記載の半導体集積回路装置がシリ
コン・オン・インシュレータ(SOI)で形成されてい
ることを特徴とするヒステリシス入力回路。
5. The hysteresis input circuit according to claim 4, wherein said semiconductor integrated circuit device is formed of a silicon-on-insulator (SOI).
【請求項6】a)MOSFETを用いた 半導体集積回
路装置の入力回路において、 b)ソース電極が正極の電源+VDDに接続された第1
のP型MOSFETとソース電極が負極の電源−VSS
に接続された第1のN型MOSFETとからなり、かつ
前記第1のP型MOSFETと第1のN型MOSFET
のそれぞれのゲート電極は互いに接続され、かつそれぞ
れのドレイン電極も互いに接続された構成による第1の
インバータ回路と、 c)ソース電極が正極の電源+VDDに接続された第2
のP型MOSFETとソース電極が負極の電源−VSS
に接続された第2のN型MOSFETとからなり、かつ
前記第2のP型MOSFETと第2のN型MOSFET
のそれぞれのゲート電極は互いに接続され、かつそれぞ
れのドレイン電極も互いに接続された構成による第2の
インバータ回路と、 d)ソース電極が正極の電源+VDDに接続された第3
のP型MOSFETと該第3のP型MOSFETに直列
に接続された第4のP型MOSFETと、ソース電極が
負極の電源−VSSに接続された第3のN型MOSFE
Tと該第3のN型MOSFETに直列に接続された第4
のN型MOSFETとからなり、かつ前記第4のP型M
OSFETのドレイン電極と前記第4のN型MOSFE
Tのドレイン電極が互いに接続された直列回路と、 e)ドレインもしくはソースとなる第1電極とゲート電
極が接続された第5のP型MOSFETと、 f)ドレインもしくはソースとなる第1電極とゲート電
極が接続された第5のN型MOSFETとからなり、 g)前記第1のインバータ回路の入力は入力回路として
の入力端子に接続され、出力は前記第2のインバータ回
路の入力に接続され、 h)前記第2のインバータ回路の出力は前記第4のP型
MOSFETのゲート電極と前記第4のN型MOSFE
Tのゲート電極に接続するとともに、前記第5のP型M
OSFETの第2電極と前記第5のN型MOSFETの
第2電極に接続され、 i)前記第5のP型MOSFETの第1電極は前記第
1、第3、第4のP型MOSFETの基板に接続され、
前記第5のN型MOSFETの第1電極は前記第1、第
3、第4のN型MOSFETの基板に接続し、 j)前記第4のP型MOSFETと前記第4のN型MO
SFETのドレイン電極の接続点は前記第1のインバー
タ回路の出力に接続され、前記第3のP型MOSFET
と前記第3のN型MOSFETのゲート電極はともに前
記入力回路としての入力端子に接続されたことを特徴と
するヒステリシス入力回路。
6. An input circuit of a semiconductor integrated circuit device using a MOSFET, wherein: b) a first electrode having a source electrode connected to a positive power supply + VDD .
P-type MOSFET and power supply -V SS with negative electrode
A first N-type MOSFET connected to the first P-type MOSFET and a first N-type MOSFET.
A first inverter circuit having a configuration in which respective gate electrodes are connected to each other and respective drain electrodes are also connected to each other; c) a second inverter circuit in which a source electrode is connected to a positive power supply + VDD .
P-type MOSFET and power supply -V SS with negative electrode
And a second N-type MOSFET connected to the second P-type MOSFET and a second N-type MOSFET.
A second inverter circuit having a configuration in which the respective gate electrodes are connected to each other and the respective drain electrodes are also connected to each other; and d) a third inverter circuit in which the source electrode is connected to the positive power supply + VDD .
A fourth P-type MOSFET connected in series with the P-type MOSFET and said third P-type MOSFET of the third N-type MOSFE its source electrode connected to the power supply -V SS of the negative electrode
T and a fourth N-type MOSFET connected in series with the third N-type MOSFET.
And the fourth P-type M
A drain electrode of the OSFET and the fourth N-type MOSFET;
A series circuit in which drain electrodes of T are connected to each other; e) a fifth P-type MOSFET in which a first electrode serving as a drain or a source and a gate electrode are connected; f) a first electrode and a gate serving as a drain or a source A fifth N-type MOSFET to which electrodes are connected; g) an input of the first inverter circuit is connected to an input terminal as an input circuit, and an output is connected to an input of the second inverter circuit; h) The output of the second inverter circuit is connected to the gate electrode of the fourth P-type MOSFET and the fourth N-type MOSFET.
And the fifth P-type M
A second electrode of the OSFET and a second electrode of the fifth N-type MOSFET, i) a first electrode of the fifth P-type MOSFET is a substrate of the first, third, and fourth P-type MOSFETs; Connected to
A first electrode of the fifth N-type MOSFET is connected to a substrate of the first, third, and fourth N-type MOSFETs; and j) the fourth P-type MOSFET and the fourth N-type MOSFET are connected.
The connection point of the drain electrode of the SFET is connected to the output of the first inverter circuit, and the third P-type MOSFET
And a gate electrode of the third N-type MOSFET is connected to an input terminal as the input circuit.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004282349A (en) * 2003-03-14 2004-10-07 Seiko Epson Corp Schmidt trigger circuit, semiconductor device, and method of manufacturing schmidt trigger circuit
US6833749B2 (en) 2002-12-09 2004-12-21 Honeywell International Inc. System and method for obtaining hysteresis through body substrate control
WO2005096497A1 (en) * 2003-12-10 2005-10-13 Honeywell International Inc. A system and method for obtaining hysteresis through body substrate control
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