JPH0897130A - 荷電ビーム描画装置等の試料温度調整装置及びこの装置に用いられる試料ホルダ - Google Patents

荷電ビーム描画装置等の試料温度調整装置及びこの装置に用いられる試料ホルダ

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JPH0897130A
JPH0897130A JP25879894A JP25879894A JPH0897130A JP H0897130 A JPH0897130 A JP H0897130A JP 25879894 A JP25879894 A JP 25879894A JP 25879894 A JP25879894 A JP 25879894A JP H0897130 A JPH0897130 A JP H0897130A
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 断熱膨張などにより僅かに温度低下を生じた
試料ホルダ13の温度を、短時間に、かつ高精度に所望
の値に到達可能にする。 【構成】 試料ホルダ13の本体13Aを高抵抗導伝性
材料で形成し、この本体13に電極15A,15B,1
6A,16Bを設けて本体13内に電流を流して本体1
3内で発熱させる。この発熱は本体13内で生じるため
試料ホルダ13を効果的に加熱して僅かな温度差を速や
かにかつ的確に補償する。このとき電極間に与える電力
量を、温度センサ21を有する温度測定装置によって測
定されている試料ホルダ13の温度と目標温度との差を
補償するのに必要な値に定めれば、より的確な制御が可
能になる。さらに、試料ホルダの温度変化の収束曲線を
求め、この収束曲線を考慮して加熱するようにすれば、
試料ホルダ13を取りまく周囲温度によって定まる収束
温度と目標温度が異なる場合でも的確な温度制御が可能
になる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、試料を試料ホルダにセ
ットして荷電ビームにより描画する装置等の試料温度調
整装置に係わり、特に短時間に、かつ高精度に試料及び
試料ホルダの温度を所望の値に到達させることのできる
試料温度調整装置及びこの装置に用いられる試料ホルダ
に関する。
【0002】
【従来の技術】荷電ビーム描画装置においては、ウェハ
またはマスクなどの試料を試料ホルダにセットし、これ
を高真空室内に設けたステージに取り付けて描画してい
る。描画中における試料の温度は、描画精度に影響する
ため、高精度に保つ必要がある。このため、荷電ビーム
描画装置においては、ステージの温度を極めて高精度に
保つように制御し、かつ試料ホルダの温度もステージの
温度と等しく調整してステージ上に載置するようにして
いる。
【0003】しかし、試料交換時に、試料ホルダを装置
内に持ち込み真空引きを行うと、試料及び試料ホルダの
温度は断熱膨張により低下するため、所定の温度に高精
度に保つことができず、ステージの温度と僅かではある
が温度差を生じ、描画精度に悪影響を与える。
【0004】そこで、従来、特開昭57ー190318
号公報に示されているように、試料ホルダを描画装置内
に持ち込んだときこれを支持して待機させるためのホル
ダ保持台にヒータを組み込み、温度低下を補償する装置
や、特開昭61ー239624号公報に示されているよ
うに、ヒータを用いずに一定温度に保たれる恒温板を設
けて待機中の試料ホルダをこの恒温板に接触させて温度
低下を補償する装置が提案され、実施されていた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ホルダ
保持台や恒温板を介して試料ホルダの温度を調整する装
置では、僅かな温度差を短時間で、かつ高精度に調整す
ることはできない。すなわち、ホルダ保持台や恒温板と
試料ホルダとの間の熱伝達は、両者の接触面を介して間
接的に行われるため、熱の伝達効率が悪く、0.1℃程
度ないしそれ以下のような僅かな温度差を的確に補償す
ることは困難である。また、恒温板を用いる装置では、
試料ホルダの温度が恒温板の温度に完全に一致するまで
には長時間を要するため、先行する試料の描画時間に関
係して左右される待機時間の長短により試料ホルダの温
度がバラつく欠点がある。
【0006】本発明は、上記の課題を解決し、短時間
に、かつ高精度に試料ホルダの温度を所望の値に到達さ
せることのできる試料温度調整装置及びこの装置に用い
られる試料ホルダを提供することを目的としている。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明は、試料を試料ホルダにセットして荷電ビーム
により描画する装置等の試料温度調整装置において、本
体を高抵抗導電性材料で形成された試料ホルダと、この
試料ホルダ本体に互いに間隔をおいて取り付けられた少
なくとも1対の電極と、この電極間に電位差を与える電
源とを具備するものである。
【0008】なお、上記試料温度調整装置は、試料ホル
ダに取り付けられた温度測定装置と、この温度測定装置
によって測定された試料ホルダ温度と予め設定された基
準温度とを比較し、これらの温度差に応じて前記試料ホ
ルダに所定の熱容量分の電力を供給するように前記電源
から電極への供給電力量を制御する制御部とを具備する
ことが好ましい。
【0009】また、前記温度測定装置は試料ホルダの温
度を所定時間測定するように構成され、制御部は温度測
定装置からの出力を取り込んで温度変化の収束曲線を計
算予測するとともにこの収束曲線に基づいて所定時間後
に試料ホルダの温度が所定の値となるように電極への供
給電力量を制御するように構成することが好ましい。さ
らにまた、制御部には、各試料ホルダ毎の加熱特性を予
め記憶させ、供給電力量を個々の試料ホルダに応じて補
正可能に構成することが好ましい。
【0010】さらにまた、試料ホルダに接触可能に設け
られた冷却装置を具備することが好ましい。
【0011】また、本発明は、上記本発明による試料温
度調整装置に用いる試料ホルダにおいて、高抵抗導電性
材料で形成された試料ホルダ本体と、この試料ホルダ本
体に互いに間隔をおいて取り付けられた少なくとも1対
の電極とを具備するものである。
【0012】
【作用】試料をセットした試料ホルダを荷電ビーム描画
装置等の処理装置内に搬入して真空引きすると、断熱膨
張により試料及び試料ホルダの温度が低下する。この温
度低下の割合は、試料及び試料ホルダの大きさや熱容量
に対する表面積の割合などにより異なるが、例えば10
Torr程度の高真空に真空引きする荷電ビーム描画
装置においては、0.3℃程度の温度低下を生じる。
【0013】この温度低下を補償するように、試料ホル
ダの温度低下を測定し、または前もって温度低下の量を
求めておき、これを補償するのに必要な熱量を与えるよ
うに所定量の電力を1対の電極間に与える。試料ホルダ
の本体は高抵抗導電性材料で形成されているため、電極
間を流れる電流によって発熱し、試料ホルダの温度を上
昇させる。
【0014】この発熱は、試料ホルダ内で起こるため、
試料ホルダを効果的に加熱昇温させるとともに、僅かな
温度差であっても試料ホルダの全体に速やかに行き渡
り、試料ホルダ全体をより均一な温度で昇温させる。ま
た、試料ホルダに全発熱量が与えられるため、試料を含
む試料ホルダの熱容量を求めておけば、温度補償に必要
な電力量を比較的正確に与えて的確な温度補償を行うこ
とが可能になる。個々の試料ホルダの熱に関する特性を
求めておけば、個々の試料ホルダに応じた温度補償が可
能になる。
【0015】さらに、試料の温度を所定時間測定して温
度変化の収束曲線を計算予測し、この収束曲線を考慮し
て所定の電力量を与えるようにすれば、収束温度と目標
温度とに差があっても所望の時間に所望の温度にするこ
とが可能になる。
【0016】
【実施例】以下本発明の実施例を図1ないし図3を参照
して説明する。図1は、本発明の概要構成を示してい
る。10は真空容器で、図示しない開閉扉を有し、後述
する試料14をセットした試料ホルダ13を出入可能に
形成されるとともに、図示しない真空ポンプにより例え
ば10 Torr程度に真空引きされるようになってい
る。11は、真空容器10内に設置されたエレベータ台
で、図示しない上下動機構により昇降可能に設けられて
いる。エレベータ台11上には、電気絶縁材料で形成さ
れたスペーサ12が取り付けられており、このスペーサ
12を介して試料ホルダ13を交換可能に載置するよう
に構成されている。
【0017】試料ホルダ13は、図2に示すように、本
体13Aとこれに一体的に取り付けられた試料保持機構
13Bとからなり、少なくとも本体13AはSiCセラ
ミックスなどの高抵抗導電性材料で形成されている。試
料ホルダ本体13Aには、それぞれ対をなした2組の電
極15A,15B,16A,16Bが取り付けられてい
る。対をなす電極15A,15B及び16A,16B
は、互いに間隔を置いて対向しており、これらの間に位
置する試料ホルダ本体13A中に電気を流して発熱させ
るようになっている。
【0018】電極15A,16Aと電極15B,16B
は、電気絶縁材料からなる台17を介して試料ホルダ本
体13Aに取り付けられたコンタクトプローブピン18
A,18Bにそれぞれコード19により電気的に接続さ
れている。なお、20は、コード19を通すために試料
ホルダ本体13Aに設けられた通孔である。コンタクト
プローブピン18A,18Bは、プリント基板の検査用
として広く用いられてものである。
【0019】試料ホルダ本体13Aには、例えば四線式
の白金抵抗測温体などの温度センサ21が埋設されてい
る。温度センサ21から伸びる四本のコード22は、台
17と同様な台23を介して試料ホルダ13Aに取り付
けられた四本のコンタクトプローブピン24にそれぞれ
接続されている。
【0020】エレベータ台11には、図1に示すよう
に、電源25と温度測定装置26にそれぞれコード2
7,28を介して接続された電極用接続端子29と測温
用接続端子30が取り付けられ、これらの両接続端子2
9,30は試料ホルダ13をエレベータ台11に設置し
たとき、コンタクトプローブピン18A,18Bとコン
タクトプローブピン24にそれぞれ接触して、電極15
A,15Bと温度センサ21を電源25と温度測定装置
26に電気的に接続させるようになっている。
【0021】31は制御部で、温度測定装置26の出力
を取り込み、この値と制御部31内に記憶されている基
準温度との差に応じて電源25を作動させ、電極15
A,15Bに所定量の電力を供給するようになってい
る。
【0022】次いで本装置の作用について説明する。図
1に示すように、試料14をセットした試料ホルダ13
を真空容器10内に入れて真空容器10を密閉し、10
Torr程度まで真空引きすると、試料14及び試料
ホルダ13は断熱膨張により温度が低下する。なお、試
料14及び試料ホルダ13は、一般的には予め所望の温
度に調整されており、上記断熱膨張による温度低下がな
ければ、図3に示す周囲温度T1(真空容器10内の温
度)にほぼ一致しているものとする。
【0023】図3の曲線Aは、断熱膨張によって試料1
4及び試料ホルダ13の温度が周囲温度T1から所定量
低下した後、周囲温度T1に収束していく状態を示して
いる。図3は、試料14及び試料ホルダ13の目標温度
T2が周囲温度T1と異なる場合を示しているが、両温
度T1,T2が一致している場合には、制御部31によ
って電源25を制御することにより、温度測定装置26
によって検出されている試料ホルダ13の温度と目標温
度(基準温度)との差をなくすのに必要な電力量を電極
15A,15Bと16A,16B間に与える。
【0024】電極15A,15Bと16A,16B間に
電力を供給すると、試料ホルダ本体13Aが高抵抗導電
性材料で形成されているため、試料ホルダ本体13Aの
うちの該電極間の部分に電流が流れて発熱し、試料ホル
ダ本体13Aの温度を上昇させる。
【0025】なお、上記温度差に応じて電極15A,1
5Bと16A,16B間に与える電力量は、上記発熱に
よる昇温が上記温度差を補償するのに合致した値になる
ように、予め実験によって求めておくことが好ましい。
また、この実験は各試料ホルダ13毎に行っておき、各
試料ホルダ13毎に供給電力量を制御することが好まし
い。
【0026】本発明によれば、試料ホルダ本体13A内
で発熱が起こるため、発熱による熱量は100%試料ホ
ルダ13に与えられる。このため、僅かな温度差であっ
ても効果的に試料ホルダ13の温度をより正確にかつ速
やかに目標温度(T2=T1)に移行させることができ
る。
【0027】なお、エレベータ台11は試料14及び試
料ホルダ13に比較して熱容量が大きく、かつこの熱容
量に対する表面積の割合が小さいため、断熱膨張による
温度低下は実質的に生じない。
【0028】上記のように目標温度T2と周囲温度T1
が等しい場合には、一旦試料ホルダ13の温度を目標温
度に到達させれば、以後その温度に保たれる。しかしな
がら、図3に示すように、目標温度T2と周囲温度T1
が異なる場合には、一旦目標温度T2に到達しても時間
の経過に伴って、周囲温度T1に向かって次第に変化す
る。
【0029】このような場合には、以下に述べるように
温度補償を行うことが好ましい。なお、図3は、目標温
度T2が周囲温度T1より高い場合を示しており、曲線
A(実線部分のみでなく点線部分も含む:曲線C,Eに
ついても同じ)は、前述したように周囲温度T1に対し
所定量低い温度から周囲温度T1に収束していく状態を
示す曲線であるが、曲線Cは逆に周囲温度T1に対し曲
線Aと同じ温度だけ高い状態から周囲温度T1に収束し
ていく状態を示している。すなわち、曲線Aと曲線C
は、周囲温度T1に対して対称である。
【0030】曲線Aは、予め実験によって求めた基準と
なる収束曲線と、図3に示すように、温度測定装置26
により所定の時間間隔で測定された試料ホルダ13の温
度t1,t2,t3,t4とから、制御部31で計算す
ることにより求められる。
【0031】この場合の温度補償は、まず断熱膨張によ
り低下した試料ホルダ13の温度が曲線Aの実線部分で
示されるように周囲温度T1に向かって変化していく状
態を、t1,t2,t3,t4で示すように測定して曲
線Aを計算予測し、この曲線Aから曲線Cを求め、その
後、線Bで示すように、試料ホルダ13の温度を目標温
度T2より高い曲線C上の温度t5となるように電極1
5A,15B,16A,16Bに電力を供給して加熱す
る。
【0032】この後、加熱を停止すると、試料ホルダ1
3の温度は曲線Cで示すように低下して行き時間H1の
ところで目標温度T2に達する。このとき、目標温度T
2と等しい温度に保たれている図示省略した電子ビーム
描画室などの恒温真空処理室へ試料14及び試料ホルダ
13を搬入する。
【0033】ところで、この場合、搬入が遅れると試料
ホルダ13の温度は目標温度T2より低くなるが、これ
は以後、上記と同様の操作を繰り返すことにより再び目
標温度T2に戻すことができる。
【0034】しかしながら、恒温真空処理室への搬入時
間が、H2で示すように予め判明している場合には、曲
線Cを曲線Eで示すように図3において右方へ平行移動
させ、曲線Eが目標温度T2に到達する時間が上記搬入
時間H2となるようにし、線B,Dで示すように、試料
ホルダ13の温度を曲線E上の温度t6まで上昇させれ
ば、上記搬入時間H2に至ったとき試料ホルダ13の温
度を目標温度T2に到達させることが可能になる。
【0035】図4は、本発明の他の実施例を示すもの
で、前述した実施例に試料ホルダ13を冷却するための
装置40を組み込んだものである。冷却装置40は、ピ
エゾ素子41を有し、このピエゾ素子41の図において
左側の低温側面に先端が真空容器10内に伸びる接触子
42をベローズ43によって進退可能に取り付け、ピエ
ゾ素子41の右側の高温側面に冷却水配管44によって
冷却される放熱ブロック45を取り付けたものである。
【0036】この実施例は、試料ホルダ13の温度が何
らかの事情により目標温度T2より高くなっているため
に、前述した加熱による温度調整が不可能な場合に用い
られるものであり、試料ホルダ13を接触子42に接触
させることにより試料ホルダ13の温度を目標温度T2
より低い温度に下げる。この試料ホルダ13の温度低下
は目標温度T2より単に低くすれば良いため、微妙な温
度調整は必要なく、試料ホルダ13と接触子42との温
度差を大きくとって短時間で行わせることができる。そ
の後、前述した本発明の加熱による温度調節により目標
温度T2に到達させる。
【0037】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、試料
ホルダ本体を高抵抗導電性材料で形成し、これに電気を
流して発熱させることにより試料ホルダを昇温させる構
成としたため、効果的に試料ホルダを加熱することがで
き、短時間に、かつ高精度に試料ホルダの温度を所望の
値に到達させることができる。
【0038】また、試料ホルダの温度とその目標温度で
ある基準温度との差に応じた熱容量分の電力量を予め求
めておいて供給するようにすれば、より的確に所望の温
度に到達させることができる。
【0039】さらにまた、試料ホルダの温度を所定時間
測定して温度変化の収束曲線を求め、この収束曲線を考
慮して加熱するようにすれば、周囲温度によって定まる
収束温度と目標温度が異なる場合でも的確な温度制御が
可能になる。
【0040】さらにまた、本発明による温度制御は、個
々の試料ホルダの熱的な特性を考慮して行うことによ
り、より一層的確な制御が可能になる。
【0041】さらにまた、試料ホルダの冷却手段を設け
れば、試料ホルダの温度が目標温度より高い場合でも上
記の加熱による温度制御を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例を示す概要構成図。
【図2】本発明による試料ホルダの具体例を示す断面
図。
【図3】本発明による試料ホルダの温度変化の一例を示
す図。
【図4】本発明の他の実施例を示す概要構成図。
【符号の説明】
10 真空容器 11 エレベータ台 13 試料ホルダ 13A 試料ホルダ本体 13B 試料保持機構 14 試料 15A,15B,16A,16B 電極 21 温度センサ 25 電源 26 温度測定装置 31 制御部 40 冷却装置 41 ピエゾ素子 42 接触子 44 冷却水配管 45 放熱ブロック

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 試料を試料ホルダにセットして荷電ビー
    ムにより描画する装置等の試料温度調整装置において、
    本体を高抵抗導電性材料で形成された試料ホルダと、こ
    の試料ホルダ本体に互いに間隔をおいて取り付けられた
    少なくとも1対の電極と、この電極間に電位差を与える
    電源とを具備することを特徴とする荷電ビーム描画装置
    等の試料温度調整装置。
  2. 【請求項2】 前記試料ホルダに取り付けられた温度測
    定装置と、この温度測定装置によって測定された試料ホ
    ルダ温度と予め設定された基準温度とを比較し、これら
    の温度差に応じて前記試料ホルダに所定の熱容量分の電
    力を供給するように前記電源から電極への供給電力量を
    制御する制御部とを具備することを特徴とする請求項1
    の荷電ビーム描画装置等の試料温度調整装置。
  3. 【請求項3】 前記温度測定装置は試料ホルダの温度を
    所定時間測定するように構成され、制御部は温度測定装
    置からの出力を取り込んで温度変化の収束曲線を計算予
    測するとともに前記収束曲線に基づいて所定時間後に試
    料ホルダの温度が所定の値になるように電極への供給電
    力量を制御するように構成されていることを特徴とする
    請求項2の荷電ビーム描画装置等の試料温度調整装置。
  4. 【請求項4】 前記制御部は各試料ホルダ毎の加熱特性
    を予め記憶され、供給電力量を個々の試料ホルダに応じ
    て補正可能に構成されていることを特徴とする請求項2
    または3の荷電ビーム描画装置等の試料温度調整装置。
  5. 【請求項5】 試料ホルダに接触可能に設けられた冷却
    装置を具備することを特徴とする請求項1、2、3また
    は4の荷電ビーム描画装置等の試料温度調整装置。
  6. 【請求項6】 試料をセットして荷電ビームによる描画
    等の処理を施すための試料ホルダにおいて、高抵抗導電
    性材料で形成された試料ホルダ本体と、この試料ホルダ
    本体に互いに間隔をおいて取り付けられた少なくとも1
    対の電極とを具備することを特徴とする試料ホルダ。
JP25879894A 1994-09-28 1994-09-28 荷電ビーム描画装置等の試料温度調整装置及びこの装置に用いられる試料ホルダ Expired - Lifetime JP3404608B2 (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US6190808B1 (en) 1998-09-22 2001-02-20 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha X-ray mask and method of manufacturing the same
JP2012084574A (ja) * 2010-10-07 2012-04-26 Samco Inc プラズマ処理装置

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