JPH0897112A - 配管設置型パーティクルモニタ - Google Patents

配管設置型パーティクルモニタ

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Publication number
JPH0897112A
JPH0897112A JP23331594A JP23331594A JPH0897112A JP H0897112 A JPH0897112 A JP H0897112A JP 23331594 A JP23331594 A JP 23331594A JP 23331594 A JP23331594 A JP 23331594A JP H0897112 A JPH0897112 A JP H0897112A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
pipe
window
condenser lens
image
Prior art date
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Pending
Application number
JP23331594A
Other languages
English (en)
Inventor
Makoto Fujii
誠 藤井
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 半導体製造設備に装着され装置内に浮遊して
いる有害な塵埃の量を監視する塵埃監視装置に関し、突
発性発塵を含め製造設備内の塵埃を常時高精度に把握可
能な配管設置型パーティクルモニタの提供を目的とす
る。 【構成】 上記目的は投光部が配管の外側に配設された
光源、および投光窓を通し光源の出射光を配管内に集光
する集光レンズと、中央にピンホールを有し該ピンホー
ルが集光レンズの焦点に位置するよう配管内に配設され
た遮光板とを具え、受光部が受光窓を通し配管の外に放
射される乱反射光を集光する集光レンズ、中央に設けら
れたピンホールが集光レンズの焦点に位置するよう配設
された遮光板、および光検知器と、該ピンホールの像を
光検知器上に結像させる結像レンズとを具えてなる本発
明の配管設置型パーティクルモニタにより達成される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体製造設備に装着さ
れ装置内に浮遊している有害な塵埃の量を監視する塵埃
監視装置に係り、特に給排気管に装着され配管内に浮遊
している塵埃の量を常時監視する配管設置型パーティク
ルモニタに関する。
【0002】高集積半導体素子の製造工程において発生
する不良の原因は約70%がパターン欠陥でその大半が塵
埃の付着に起因し、関連する製造設備は高度にクリーン
化された環境を常時維持することが要求され塵埃の監視
は極めて重要視されている。
【0003】かかる塵埃には被加工部品から発生するも
の、製造設備から発生するもの、供給される気体が搬入
するもの等があり、通常は各種処理を行う処理室内の塵
埃を定期的に収集することによって製造設備内に浮遊し
ている塵埃の量を計測する。
【0004】しかし、かかる方法は製造設備の稼働率向
上や生産量増大を阻害し、しかも塵埃量の突発的な発生
に対応できない。そこで製造設備による処理を中断する
ことなく製造設備内の塵埃の量を常時監視可能なモニタ
の開発が要望されている。
【0005】
【従来の技術】図3は従来の配管設置型パーティクルモ
ニタを示す断面図である。図において従来の配管設置型
パーティクルモニタは給排気用の配管1の壁に投光窓11
と受光窓12が設けられており、投光窓11を介し配管1内
の浮遊体2を照らす投光部3と受光窓12を介し配管1内
の乱反射光を検知する受光部4を有する。
【0006】配管1の外に設けた投光部3は光源31と光
源31の出射光を投光窓11を通して配管1内に集光する集
光レンズ32とを有し、配管1の外に設けた受光部4は光
検知器41と受光窓12を通し放射される乱反射光を集光す
る集光レンズ42とを有する。
【0007】受光窓12を通して配管1の外に放射される
乱反射光の量は光源31の出射光によって照射される浮遊
体2の量に比例し、光検知器41を用いて受光窓12を通し
て放射される乱反射光の量を検知することによって浮遊
体2の量が計測可能である。
【0008】例えば、かかる配管設置型パーティクルモ
ニタを製造設備の排気管側に装着することで塵埃を常時
監視することができ、塵埃を監視するための作業中断が
無くなって生産量が増大すると共に発塵源の追求や突発
性発塵の把握が可能になる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記配管設置
型パーティクルモニタは気体の含有成分からなる被膜が
投光窓と受光窓に生成され、しかも、配管内に浮遊して
いる塵埃が投光窓と受光窓に付着し時間の経過に伴って
透明度を低下させる。その結果、塵埃を照射する投光部
からの光が暗くなり受光窓から配管外に放射される乱反
射光が減少する。
【0010】また、従来のパーティクルモニタは投光部
の出射光以外の光が配管内の塵埃を照射して乱反射光を
生じ、受光窓から放射される配管内の乱反射光以外の光
が集光レンズを通して光検知器に入射する場合があり、
周囲の状況によって投光部が照射する浮遊体の量と光検
知器の検出値とが比例しないという問題があった。
【0011】本発明の目的は突発性発塵を含め製造設備
内の塵埃を常時高精度に把握可能な配管設置型パーティ
クルモニタを提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】図1は本発明になるパー
ティクルモニタの原理を示す断面図である。なお全図を
通し同じ対象物は同一記号で表している。
【0013】上記課題は投光窓を介し配管内の浮遊体を
照射する投光部と、受光窓を介し配管内の乱反射光を検
知する受光部とを具え、浮遊体により生じる乱反射光を
検知することで該浮遊体の量を検知するパーティクルモ
ニタであって、投光部が配管の外側に配設された光源、
および投光窓を通し光源の出射光を配管内に集光する集
光レンズと、中央にピンホールを有し該ピンホールが集
光レンズの焦点に位置するよう配管内に配設された遮光
板とを具え、受光部が受光窓を通し配管の外に放射され
る乱反射光を集光する集光レンズ、中央に設けられたピ
ンホールが集光レンズの焦点に位置するよう配設された
遮光板、および光検知器と、該ピンホールの像を光検知
器上に結像させる結像レンズとを具えてなる本発明の配
管設置型パーティクルモニタにより達成される。
【0014】
【作用】図1において中央に設けられたピンホールが集
光レンズの焦点に位置するよう遮光板を配管内に配設す
ることによって、投光窓から入射した投光部の出射光以
外の光は遮光板で遮光され浮遊体が乱反射する光は投光
部の出射光のみになる。
【0015】また、中央に設けられたピンホールが乱反
射光を集光する集光レンズの焦点に位置するよう遮光板
を配設すると共に、ピンホールの像を結像レンズにより
光検知器上に結像させることで光検知器に入射する乱反
射光以外の光が遮光される。
【0016】その結果、周囲の状況に関係なく投光部が
照射する浮遊体の量と光検知器における検出値とが比例
するようになり、突発性発塵を含め製造設備内の塵埃を
常時高精度に把握可能な配管設置型パーティクルモニタ
を実現することができる。
【0017】
【実施例】以下添付図により本発明の実施例について説
明する。図2は本発明の一実施例を示す断面図である。
【0018】本発明になるパーティクルモニタは図1に
示す如く給排気用の配管1の壁に投光窓11と受光窓12が
設けられており、投光窓11を介し配管1内の浮遊体2を
照らす投光部5と受光窓12を介し配管1内の乱反射光を
検知する受光部6を有する。
【0019】投光部5は光源31と光源31の出射光を投光
窓11を通し配管1内に集光する集光レンズ32とが配管1
の外側に配設され、中央に設けたピンホール51が集光レ
ンズ32の焦点に位置し光源31の出射光を通す遮光板52が
配管1内に配設されている。
【0020】このように中央に設けられたピンホールが
集光レンズの焦点に位置するよう遮光板を配管内に配設
することによって、投光窓から入射した投光部の出射光
以外の光は遮光板で遮光されて浮遊体が乱反射する光は
投光部の出射光のみになる。
【0021】なお、配管1内の投光窓11と反対側の壁面
に設けられた光吸収膜層53は配管の壁面における反射を
低減するもので、投光窓11を通して配管1内を照射し配
管1の反対側の壁面に到達した光源31の出射光を吸収可
能なように構成されている。
【0022】また、受光部6は受光窓12の外側に集光レ
ンズ42と遮光板62と結像レンズ63と光検知器41とが順次
配列されており、配管1内の浮遊体2によって生じた乱
反射光は受光窓12を通して配管1の外に放射され集光レ
ンズ42の焦点に集光される。
【0023】集光レンズ42の焦点に位置するよう配設さ
れ乱反射光のみを透過させるピンホール61は遮光板62の
中央に設けられ、ピンホール61を透過した光はピンホー
ル61の像を光検知器41上に結像させる結像レンズ63を介
して光検知器41に入射する。
【0024】このように中央に設けたピンホールが乱反
射光を集光する集光レンズの焦点に位置するよう遮光板
を配設すると共に、ピンホールの像を結像レンズにより
光検知器上に結像させることで光検知器に入射する乱反
射光以外の光が遮光される。
【0025】その結果、周囲の状況に関係なく投光部が
照射する浮遊体の量と光検知器における検出値とが比例
するようになり、突発性発塵を含め製造設備内の塵埃を
常時高精度に把握可能な配管設置型パーティクルモニタ
を実現することができる。
【0026】しかし、投光部と受光部のそれぞれにピン
ホールを設けても被膜や塵埃等の付着による透明度の低
下は避けられない。そこで本発明の一実施例では投光部
を透明度低下を監視するモニタを設け内部をクリーニン
グする時期を検知している。
【0027】即ち、図2において投光窓11の内側が清浄
であれば光源31の出射光は殆ど投光窓11を通し配管1内
に集光されるが、投光窓11の内側が汚染されるに伴って
配管1内に集光される光が減少し反対に投光窓11におい
て反射される光が増加する。
【0028】本発明の一実施例では、投光部5が集光レ
ンズ32と投光窓11との間に配設され反射光のみ取り出す
ハーフミラー71と、集光レンズ72を介し集光された反射
光の強さに対応して信号を出力する光検知器73からなる
汚染モニタ7を具えている。
【0029】このように投光部に汚染モニタを設け反射
光の強さに対応する信号を予め設定されている基準と比
較することにより、装置の内部をクリーニングする時期
等が明らかになって装置内部の清浄度を常に基準値内に
維持することができる。
【0030】
【発明の効果】上述の如く本発明によれば突発性発塵を
含め製造設備内の塵埃を常時高精度に把握可能な配管設
置型パーティクルモニタを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明になるパーティクルモニタの原理を示
す断面図である。
【図2】 本発明の一実施例を示す断面図である。
【図3】 従来の配管設置型パーティクルモニタを示す
断面図である。
【符号の説明】
1 配管 2 浮遊体 5 投光部 6 受光部 7 汚染モニタ 11 投光窓 12 受光窓 31 光源 32 集光レンズ 41 光検知器 42 集光レンズ 51 ピンホール 52 遮光板 53 光吸収膜層 61 ピンホール 62 遮光板 63 結像レンズ 71 ハーフミラー 72 集光レンズ 73 光検知器

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 投光窓を介し配管内の浮遊体を照射する
    投光部と、受光窓を介し該配管内の乱反射光を検知する
    受光部とを具え、該浮遊体により生じる該乱反射光を検
    知することで該浮遊体の量を検知するパーティクルモニ
    タであって、 該投光部が該配管の外側に配設された光源、および該投
    光窓を通し該光源の出射光を該配管内に集光する集光レ
    ンズと、中央にピンホールを有し該ピンホールが該集光
    レンズの焦点に位置するよう該配管内に配設された遮光
    板とを具え、 該受光部が該受光窓を通し該配管の外に放射される該乱
    反射光を集光する集光レンズ、中央に設けられたピンホ
    ールが該集光レンズの焦点に位置するよう配設された遮
    光板、および光検知器と、該ピンホールの像を該光検知
    器上に結像させる結像レンズとを具えてなることを特徴
    とする配管設置型パーティクルモニタ。
  2. 【請求項2】 前記投光部が投光窓によって反射される
    光を検知し該投光窓の汚染度を監視する汚染モニタを具
    え、 該汚染モニタが該投光窓と集光レンズとの間に配設され
    たハーフミラーと、該ハーフミラーの反射光を集光する
    集光レンズと、該ハーフミラーの反射光を受光する光検
    知器とを具えてなる請求項1記載の配管設置型パーティ
    クルモニタ。
JP23331594A 1994-09-28 1994-09-28 配管設置型パーティクルモニタ Pending JPH0897112A (ja)

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Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20040127