JPH0892715A - Gas wiping device - Google Patents

Gas wiping device

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Publication number
JPH0892715A
JPH0892715A JP23130794A JP23130794A JPH0892715A JP H0892715 A JPH0892715 A JP H0892715A JP 23130794 A JP23130794 A JP 23130794A JP 23130794 A JP23130794 A JP 23130794A JP H0892715 A JPH0892715 A JP H0892715A
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JP
Japan
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strip
wiping
gas
slits
nozzles
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP23130794A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Yoneda
寛 米田
Hiroyuki Uchida
裕之 内田
Yasuhiro Akita
靖博 秋田
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Nippon Steel Corp
Original Assignee
Nippon Steel Corp
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Publication date
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Publication of JPH0892715A publication Critical patent/JPH0892715A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE: To provide a wiping device which prevents edge overcoating by a simple method without adding intricate devices and mechanisms to an edge overcoating problem in gas wiping of a hot dip plating process, etc. CONSTITUTION: This gas wiping device is arranged with opposite wiping nozzles 3-1, 3-2 which are the main cause for edge overcoating and exist on the side outer than the width of a band body by intersecting the lines obtd. by projecting the gas ejection slits of both wiping nozzles disposed to face each other or the extensions of these slits on the plane parallel with the band body 1 with each other in order to avoid the direct collision of the gases ejected out of the slits 6, 6' of the wiping nozzles. The wiping nozzles are otherwise arranged by paralleling the lines obtd. by projecting the gas ejection slits of both wiping nozzles disposed to face each other on the plane parallel with the band body with each other by having a spacing.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、溶融めっきプロセス等
において、気体を帯体上に噴出する気体絞りにより、板
幅方向の塗布液目付量を均一に制御するためのガスワイ
ピング装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a gas wiping device for uniformly controlling the coating amount of a coating liquid in the plate width direction by a gas throttle for ejecting a gas onto a strip in a hot dip plating process or the like. is there.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば、連続溶融めっきプロセス等にお
いては、図1に示すように、一般的に溶融金属が満たさ
れているめっき浴にストリップ(帯体)を浸漬させた
後、該ストリップを垂直上方に引き上げるディップ工程
の後に、ストリップ表面に付着した溶融金属塗膜が板幅
方向および板長手方向に均一に所定の膜厚になるよう
に、帯体(ストリップ)と平行な面内に、このストリッ
プを挟んで対向して設けた帯体幅方向に延在するワイピ
ングノズルから気体をストリップ上に噴出させて、余剰
な溶融金属を絞り取るガスワイピング装置が設けられて
いる。このガスワイピング装置は、図1に示すように、
帯体(ストリップ)と平行な面内に、ワイピングノズル
が帯体(ストリップ)を挟んで対向して設けられてお
り、帯体と所定の間隙を有し、両ワイピングノズルのガ
ス噴出スリットは、通常、帯体進行方向と直交するよう
に、すなわち帯体の幅方向に延在するように配置されて
いる。そしてさらに、この両ワイピングノズルのガス噴
出スリットを、すなわちノズルに設けられたスリットの
位置を、帯体と平行な面上に投影した場合、二つの投影
線が一本の直線上に重なるように、対向ワイピングノズ
ルは、帯体面表裏対称に配置されている。またワイピン
グノズルは、多様な帯体の幅に対応すると同時に帯体の
引き上げ時の幅方向のずれなどに対応するため、通常、
帯体の幅より長く、すなわち帯体の幅端部より外側まで
延びている。
2. Description of the Related Art For example, in a continuous hot dip plating process, as shown in FIG. 1, a strip (belt) is generally immersed in a plating bath filled with a molten metal, and then the strip is vertically moved. After the dipping step of pulling up, so that the molten metal coating film adhered to the strip surface has a predetermined film thickness evenly in the plate width direction and plate length direction, in a plane parallel to the strip (strip), There is provided a gas wiping device that squeezes excess molten metal by ejecting a gas onto the strip from a wiping nozzle that extends in the width direction of the strip and is opposed to the strip. This gas wiping device, as shown in FIG.
Wiping nozzles are provided in a plane parallel to the strip (strip) so as to face each other across the strip (strip), and have a predetermined gap with the strip, and the gas ejection slits of both wiping nozzles are Usually, it is arranged so as to be orthogonal to the direction of travel of the strip, that is, to extend in the width direction of the strip. Further, when projecting the gas ejection slits of the two wiping nozzles, that is, the positions of the slits provided in the nozzles on a plane parallel to the strip, the two projection lines should be aligned on one straight line. The opposed wiping nozzles are arranged symmetrically with respect to the front and back of the strip surface. In addition, since the wiping nozzle is compatible with various widths of the strips, and at the same time, it is possible to deal with a shift in the width direction when the strips are pulled up,
It extends longer than the width of the strip, that is, extends outside the width end of the strip.

【0003】このようなガスワイピング装置において
は、ストリップエッジ部の塗膜厚が中央部に比べて厚く
なるエッジオーバーコートが発生し、ストリップ表面品
質の低下を招くばかりでなく、コイル巻取り時における
荷崩れの原因にも繋がるという問題があった。このエッ
ジオーバーコートが生じる主要因は、図2に示すよう
に、ストリップ幅端部より外側の領域において対向した
両ワイピングノズルのスリットから噴出した高速ガス流
が、直接衝突する際に起こるガス流の乱れにより、スト
リップエッジ部でワイピング圧力が低下し、ストリップ
エッジ部の目付量が厚くなることである。
In such a gas wiping apparatus, an edge overcoat is produced in which the coating thickness of the strip edge portion becomes thicker than that of the central portion, which not only deteriorates the strip surface quality but also causes a coil winding. There was a problem that it would lead to the collapse of the load. The main cause of this edge overcoat is, as shown in FIG. 2, a gas flow that occurs when the high-speed gas flow ejected from the slits of the two wiping nozzles facing each other in the region outside the strip width end directly collides with each other. The turbulence lowers the wiping pressure at the strip edge and increases the basis weight of the strip edge.

【0004】このような問題に対し、従来より数多くの
防止対策がとられてきた。例えば、エッジ部に補助ノズ
ルを設ける方法(特開昭62−40350号公報、特開
昭63−9242号公報)、エッジ部に遮蔽板を設ける
方法(特開昭63−105955号公報、特開平4−7
4857号公報)等が提案されている。しかし、いずれ
の場合においても、板幅可変および板蛇行に対応するめ
には、装置が複雑化し、また充分な効果を得ることもで
きていない。
To prevent such problems, many preventive measures have been taken conventionally. For example, a method of providing an auxiliary nozzle at the edge portion (JP-A-62-40350 and JP-A-63-9242) and a method of providing a shielding plate at the edge portion (JP-A-63-105955, JP-A-63-95555). 4-7
Japanese Patent No. 4857) has been proposed. However, in any case, in order to deal with the variable plate width and the meandering of the plate, the device is complicated and the sufficient effect cannot be obtained.

【0005】また、別の手段として、電磁力をエッジ部
に付加する方法(特開平2−217454号公報)が提
案されているが、この場合も、装置が複雑化・高コスト
化するにもかかわらず、充分な効果を得ることができて
いない。
As another means, a method of applying an electromagnetic force to the edge portion (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-217454) has been proposed, but in this case as well, the apparatus becomes complicated and the cost becomes high. However, it has not been able to obtain a sufficient effect.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述のよう
なガスワイピングにおけるエッジオーバーコート問題に
対して、複雑な装置・機構を付加することなく、簡易な
手法にてエッジオーバーコートを防止するガスワイピン
グ装置の提供を目的とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention prevents the edge overcoating problem in gas wiping as described above by a simple method without adding a complicated device / mechanism. An object of the present invention is to provide a gas wiping device.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明のガスワイピング
装置は、エッジオーバーコートの主要因である、帯体幅
端部より外側の領域で、ワイピングノズルのスリットか
ら噴出するガスが直接衝突し、ガスワイピング作用に悪
影響を与えるのを回避するための装置である。すなわ
ち、本発明の要旨とするところは下記のとおりである。
In the gas wiping device of the present invention, the gas ejected from the slit of the wiping nozzle directly collides in the region outside the band width end, which is the main factor of the edge overcoat, It is a device for avoiding a bad influence on the gas wiping action. That is, the gist of the present invention is as follows.

【0008】(1)帯体を液体浴に浸漬して引き出すデ
ィップ工程の後に、帯体と平行な面内に該帯体を挟んで
対向して設けたワイピングノズルから、気体を噴出させ
て帯体表面の余剰の液体を除去するガスワイピング装置
において、前記ワイピングノズルを、前記対向して設け
られる両ワイピングノズルのガス噴出スリットまたは該
スリットの延長を帯体と平行な面上に投影した線を互い
に交差させて配置したことを特徴とするガスワイピング
装置。
(1) After the dipping step of immersing the strip in a liquid bath and pulling it out, gas is jetted from the wiping nozzles provided opposite to each other with the strip sandwiched in a plane parallel to the strip. In a gas wiping device for removing excess liquid on the body surface, the wiping nozzle is a gas ejection slit of both of the wiping nozzles provided opposite to each other, or a line obtained by projecting an extension of the slit on a plane parallel to the strip. A gas wiping device, which is arranged so as to cross each other.

【0009】(2)前記ワイピングノズルを、前記対向
して設けられる両ワイピングノズルのガス噴出スリット
を帯体と平行な面上に投影した線を、帯体の幅内で互い
に交差させて配置したことを特徴とする前項(1)記載
のガスワイピング装置。 (3)前記ワイピングノズルを、前記対向して設けられ
る両ワイピングノズルのガス噴出スリットまたは該スリ
ットの延長を帯体と平行な面上に投影した線を、帯体の
幅端部より外側で互いに交差させて配置したことを特徴
とする前項(1)記載のガスワイピング装置。
(2) The wiping nozzles are arranged such that lines obtained by projecting the gas ejection slits of the opposing wiping nozzles on a plane parallel to the strip intersect with each other within the width of the strip. The gas wiping device according to (1) above, which is characterized in that. (3) Lines obtained by projecting the wiping nozzles on the gas ejection slits of the opposing wiping nozzles or the extensions of the slits on a plane parallel to the strip are outside the width end of the strip. The gas wiping device according to item (1), wherein the gas wiping device is arranged so as to intersect with each other.

【0010】(4)帯体を液体浴に浸漬して引き出すデ
ィップ工程の後に、帯体と平行な面内に該帯体を挟んで
対向して設けたワイピングノズルから、気体を噴出させ
て帯体表面の余剰の液体を除去するガスワイピング装置
において、前記ワイピングノズルを、前記対向して設け
られる両ワイピングノズルのガス噴出スリットを帯体と
平行な面上に投影した線を互いに間隔を有して平行に配
置したことを特徴とするガスワイピング装置。
(4) After the dipping step of immersing the strip in a liquid bath and pulling it out, gas is ejected from the wiping nozzles provided in the plane parallel to the strip to face each other with the strip sandwiched therebetween. In a gas wiping device for removing excess liquid on the body surface, the wiping nozzles have a line in which the gas ejection slits of the opposing wiping nozzles are projected on a plane parallel to the strip. A gas wiping device characterized by being arranged in parallel.

【0011】ここで、スリットの帯体との平行な面へ投
影した線は、スリット自体およびスリットをノズルの延
在方向に延長した線を投影したものを含んでおり、ま
た、帯体と平行な面とは、帯体自体の面および帯体を拡
張した面も含んでいる。
Here, the line projected onto the plane parallel to the band of the slit includes the slit itself and a line obtained by extending the slit in the extending direction of the nozzle, and the line parallel to the band. The surface includes the surface of the strip itself and the surface obtained by expanding the strip.

【0012】[0012]

【作用】本発明の一例である図3〜図8を用いて本発明
のガスワイピング装置を詳細に説明する。図3において
は、帯体1が液体浴2より引き上げられたところであ
り、帯体1の進行方向の前方において、帯体1と平行な
面内においてこれと所定の間隙10をもって帯体1を挟
むように、ワイピングノズル3−1、3−2が対向して
設けられている。
The gas wiping device of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 3 to 8 which are examples of the present invention. In FIG. 3, the strip 1 is just pulled up from the liquid bath 2, and the strip 1 is sandwiched in a plane parallel to the strip 1 with a predetermined gap 10 in the front in the traveling direction of the strip 1. As described above, the wiping nozzles 3-1 and 3-2 are provided so as to face each other.

【0013】このワイピングノズル3−1、3−2は、
ワイピングノズルのガス噴出スリット6、6′を帯体1
面上に投影した場合、この二つ投影線6p、6p′が互
いにある角度5をもって交差するように設置されている
(図4)。この場合の交差角度5は、帯体1の移動速
度、所定塗膜厚、ガス噴出圧、液体の粘性等の操業条件
で決められるが、5〜90度が適当である。また、この
交差角度5はある所定の値に固定してもエッジオーバー
コート防止効果はあるが、操業条件あるいはエッジオー
バーコート状況を計測し、その計測値をフィードバック
させて交差角度5を制御すれば、より大きな効果を得る
ことができる。
The wiping nozzles 3-1 and 3-2 are
The gas ejection slits 6 and 6'of the wiping nozzle are attached to the strip 1
When projected onto a plane, the two projection lines 6p and 6p 'are installed so as to intersect each other at an angle 5 (Fig. 4). The intersecting angle 5 in this case is determined by operating conditions such as the moving speed of the strip 1, the predetermined coating film thickness, the gas ejection pressure, the viscosity of the liquid, etc., but 5 to 90 degrees is suitable. Further, even if the intersection angle 5 is fixed to a certain predetermined value, the effect of preventing the edge overcoat is obtained, but if the operating condition or the edge overcoat condition is measured and the intersection value 5 is controlled by feeding back the measured value. , A greater effect can be obtained.

【0014】ワイピングノズル3−1、3−2の長さ7
は、帯体1の最大幅に、帯体1の幅の多様性および通過
位置での幅方向の変動に対応するための余裕代としての
帯体の両端部より外側に板道外距離8、8′を加えた以
上の長さが必要であり、スリット投影線6p、6p′の
交差角度5によっても影響される。なお、図4のワイピ
ングノズルは、スリット6、6′を帯体面上に投影した
線、すなわちスリット投影線6p、6p′が帯体1表裏
で逆対称になるように配置した例であるが、また別の形
態として、図5に示すように、どちらか一方のノズルの
みを傾斜させて、スリット投影線が交差するように配置
することも可能である。また、図4、図5では、いずれ
の場合もスリット6、6′を帯体面上に投影した線、す
なわちスリット投影線6p、6p′が帯体センターライ
ン4上で交差している形態を示しており、帯体1の振動
および変形挙動を考慮するとこれらの形態が最適ではあ
るが、必ずしも前記スリットの投影線6p、6p′は帯
体センターライン4上で交差する必要はなく、図6に示
すように、帯体1の幅内において交差していることが好
ましい。
The length 7 of the wiping nozzles 3-1 and 3-2
Is the maximum width of the strip 1 and outside the both ends of the strip 8 as a margin allowance for accommodating variations in the width of the strip 1 and fluctuations in the width direction at the passage position. It is necessary to have a length longer than the length of ′ ′ and is also affected by the intersection angle 5 of the slit projection lines 6p and 6p ′. The wiping nozzle shown in FIG. 4 is an example in which the slits 6 and 6'are projected on the surface of the strip, that is, the slit projection lines 6p and 6p 'are arranged so as to be antisymmetric on the front and back of the strip 1. As another form, as shown in FIG. 5, it is possible to incline only one of the nozzles and arrange it so that the slit projection lines intersect. 4 and 5, the line in which the slits 6 and 6'are projected onto the band surface, that is, the slit projection lines 6p and 6p 'intersect on the band center line 4 in both cases. Although these forms are optimal in consideration of the vibration and deformation behavior of the strip 1, the projection lines 6p and 6p 'of the slit do not necessarily have to intersect on the strip center line 4, and as shown in FIG. As shown, it is preferable that they intersect within the width of the strip 1.

【0015】さらに、図7の例に示すように、スリット
投影線、この場合スリットの延長を投影した線、を帯体
の幅端部より外側で交差させてノズルを配置してもよ
い。すなわち図7において、ノズルのスリットを延長し
た線を帯体と平行な面に投影した線、すなわちスリット
投影線6p、6p′は、帯体の幅端部より外側の領域で
交差している。このように配置しても、ガスの直接衝突
が、従来のように対向した線で生じることなく点となる
ためエッジオーバーコートは低減される。この場合、帯
体の移動速度、所定塗膜厚、ガス噴出圧、液体の粘性等
の操業条件により異なるが、スリット投影線6p、6
p′の帯体の幅端部より外側の領域で交差する位置は、
帯体の幅端部より充分離れるようにスリットを配置する
ことが好ましく、一般的に30〜50mm以上離れたと
ころにあるようにノズルを配置すればワイピングノズル
スリットから噴出するガスの直接衝突をよりよく避ける
ことができる。
Further, as shown in the example of FIG. 7, the nozzles may be arranged so that the slit projection line, in this case, a line obtained by projecting the extension of the slit, intersects outside the width end of the strip. That is, in FIG. 7, lines obtained by projecting a line extending from the slit of the nozzle onto a plane parallel to the strip, that is, slit projection lines 6p and 6p 'intersect in a region outside the width end of the strip. Even with such an arrangement, the direct gas collision does not occur in the lines facing each other as in the conventional case, but becomes a point, so that the edge overcoat is reduced. In this case, the slit projection lines 6p, 6 differ depending on the operating conditions such as the moving speed of the strip, the predetermined coating film thickness, the gas ejection pressure, and the viscosity of the liquid.
The position intersecting with the area outside the width end of the strip of p ′ is
It is preferable to arrange the slits so as to be sufficiently separated from the width end of the strip, and in general, if the nozzles are arranged so as to be separated by 30 to 50 mm or more, the direct collision of the gas ejected from the wiping nozzle slits can be further improved. You can often avoid it.

【0016】さらに、本発明の他の装置は、図8に示す
ように、帯体1と平行な面内において、ワイピングノズ
ルのどちらか一方を他方に対し、ある所定の間隙距離9
だけ平行移動させた形となっており、対向する前記の両
ワイピングノズルのガス噴出スリット6、6′を帯体に
平行な面上に投影した場合、この二つの投影線6p、6
p′が互いに間隙を有して平行になるようにしてワイピ
ングノズルを設置したものである。すなわち、スリット
6、6′を帯体面上に投影した投影線6p、6p′は、
所定の間隙距離9だけ間があいた平行線となっている。
この場合、間隙距離9は帯体1の移動速度、所定塗膜
厚、ガス噴出圧、液体の粘性等の操業条件および帯体1
の振動状況によって決められる。この間隙距離9は、あ
まり短すぎてはエッジオーバーコート防止効果が薄れ、
逆に長すぎては帯体1の振動を誘発するため、溶融めっ
きプロセスでのワイピングに使用する場合は、20〜1
00mmが最適である。
Further, in another apparatus of the present invention, as shown in FIG. 8, in a plane parallel to the strip 1, one of the wiping nozzles is connected to the other by a predetermined gap distance 9
When the gas ejection slits 6 and 6'of the opposing wiping nozzles are projected on a plane parallel to the strip, these two projection lines 6p and 6p
The wiping nozzle is installed so that p'is parallel to each other with a gap. That is, the projection lines 6p and 6p 'obtained by projecting the slits 6 and 6'on the strip surface are
The parallel lines are separated by a predetermined gap distance 9.
In this case, the gap distance 9 is the operating speed such as the moving speed of the strip 1, the predetermined coating film thickness, the gas ejection pressure, the viscosity of the liquid, and the strip 1.
It depends on the vibration situation of. If the gap distance 9 is too short, the effect of preventing edge overcoat is weakened,
On the contrary, if it is too long, it induces the vibration of the strip 1, so that when it is used for wiping in the hot dip plating process, it is 20 to 1
00 mm is optimal.

【0017】本発明では、上記したようにワイピングノ
ズルを取り付けることにより、エッジオーバーコートの
主要因である、帯体幅より外側にある対向ワイピングノ
ズルのスリットから噴出するガスの直接衝突を容易に回
避することができ、板エッジ部のワイピング圧の低下を
防ぐことができ、結果として板エッジ部の厚目付、すな
わちエッジオーバーコートを防止することができる。さ
らに、本発明のガスワイピング装置では、帯体幅より外
側にある対向ワイピングノズルのスリットから噴出する
ガスの直接衝突を回避しているため、このガス衝突で生
じるワイピングノズル騒音を同時に低減することができ
る。
In the present invention, by attaching the wiping nozzle as described above, it is possible to easily avoid the direct collision of the gas ejected from the slit of the opposing wiping nozzle outside the band width, which is the main factor of the edge overcoat. Therefore, it is possible to prevent the wiping pressure of the plate edge portion from decreasing, and as a result, it is possible to prevent thickening of the plate edge portion, that is, edge overcoat. Further, in the gas wiping device of the present invention, direct collision of the gas ejected from the slit of the opposing wiping nozzle located outside the band width is avoided, so that the wiping nozzle noise caused by the gas collision can be reduced at the same time. it can.

【0018】[0018]

【実施例】次に、本発明を溶融めっきプロセスに実施し
た場合の例を示す。ライン操業条件としては、板幅11
27mm、板厚1.6mm、ラインスピード80m/m
inであり、目標目付厚は5μmである。また、ワイピ
ングノズル仕様としては、ノズルスリット間隙0.7m
m、ノズル長さ1500mm、ノズル〜ストリップ間隙
30mmである。図4に示すように、対向したワイピン
グノズルの帯体へ投影した線の交差角度は20度とし、
交差点は帯体センターライン上になるようにした。図9
には、本発明の効果を見るため、本発明を実施する前と
実施した後での板幅方向の目付量分布を示す。
EXAMPLES Next, examples in which the present invention is applied to a hot dip plating process will be shown. Line operating conditions include a plate width of 11
27 mm, plate thickness 1.6 mm, line speed 80 m / m
and the target areal thickness is 5 μm. As for the wiping nozzle specifications, the nozzle slit gap is 0.7 m.
m, nozzle length 1500 mm, nozzle-strip gap 30 mm. As shown in FIG. 4, the intersecting angle of the lines projected on the strip of the opposing wiping nozzle is 20 degrees,
The intersection was on the center line of the strip. Figure 9
In order to see the effect of the present invention, the distribution of the basis weight in the plate width direction before and after carrying out the present invention is shown.

【0019】[0019]

【発明の効果】図9からも分かるように、本発明を用い
ることにより、簡易な手法にてエッジオーバーコートを
防止することができた。また、ガスワイピング騒音にお
いても、現行ワイピング法に比べて約5割程度の騒音低
減効果があった。
As can be seen from FIG. 9, by using the present invention, the edge overcoat can be prevented by a simple method. In addition, with respect to gas wiping noise, there was a noise reduction effect of about 50% compared to the current wiping method.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】従来のガスワイピング装置を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a conventional gas wiping device.

【図2】エッジオーバーコート状況を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing an edge overcoat state.

【図3】本発明の実施例の一つを示す図であり、(a)
は鳥瞰図、(b)は側面図を示す。
FIG. 3 is a diagram showing one example of the present invention, (a)
Shows a bird's-eye view and (b) shows a side view.

【図4】板面に垂直な方向から見た本発明のガスワイピ
ング装置の実施例の一つを示す図であり、帯体の面内に
おいてスリット投影線が交差している。
FIG. 4 is a diagram showing one embodiment of the gas wiping device of the present invention viewed from a direction perpendicular to the plate surface, in which slit projection lines intersect in the plane of the strip.

【図5】板面に垂直な方向から見た本発明のガスワイピ
ング装置の別の例を示す図であり、帯体の面内において
スリット投影線が交差している。
FIG. 5 is a diagram showing another example of the gas wiping device of the present invention viewed from a direction perpendicular to the plate surface, in which slit projection lines intersect in the plane of the strip.

【図6】板面に垂直な方向から見た本発明のガスワイピ
ング装置の別の例を示す図であり、帯体の面内において
スリット投影線が交差している。
FIG. 6 is a diagram showing another example of the gas wiping device of the present invention viewed from a direction perpendicular to the plate surface, in which slit projection lines intersect in the plane of the strip.

【図7】板面に垂直な方向から見た本発明のガスワイピ
ング装置の別の例を示す図であり、帯体の幅端部より外
側でスリット投影線が交差している。
FIG. 7 is a view showing another example of the gas wiping device of the present invention viewed from the direction perpendicular to the plate surface, in which slit projection lines intersect outside the width end of the strip.

【図8】板面に垂直な方向から見た本発明のガスワイピ
ング装置の別の例を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing another example of the gas wiping device of the present invention when viewed from the direction perpendicular to the plate surface.

【図9】本発明を用いた場合の板幅方向目付量分布を示
す図である。
FIG. 9 is a diagram showing a distribution of basis weight in the plate width direction when the present invention is used.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 帯体(鋼帯) 2 液体浴 3−1、3−2 ワイピングノズル 4 鋼帯センターライン 5 スリットの投影線の交差角度 6、6′ ワイピングノズルスリット 6p、6p′ ワイピングノズルスリットの投影線 7 ワイピングノズル長さ 8、8′ ワイピング両端部板道外距離 9 対向ワイピング間距離 10 ワイピングノズルと帯体との間隙 11 帯体の延長面 1 strip (steel strip) 2 liquid bath 3-1 3-2 wiping nozzle 4 steel strip center line 5 crossing angle of projection line of slit 6, 6'wiping nozzle slit 6p, 6p 'projection line of wiping nozzle slit 7 Wiping nozzle length 8, 8'Outside distance of wiping both ends plate path 9 Distance between opposing wiping 10 Gap between wiping nozzle and strip 11 Extension surface of strip

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 帯体を液体浴に浸漬して引き出すディッ
プ工程の後に、帯体と平行な面内に該帯体を挟んで対向
して設けたワイピングノズルから、気体を噴出させて帯
体表面の余剰の液体を除去するガスワイピング装置にお
いて、前記ワイピングノズルを、前記対向して設けられ
る両ワイピングノズルのガス噴出スリットまたは該スリ
ットの延長を帯体と平行な面上に投影した線を互いに交
差させて配置したことを特徴とするガスワイピング装
置。
1. After the dipping step of immersing the strip in a liquid bath and pulling it out, gas is jetted from a wiping nozzle provided in a plane parallel to the strip to face each other with the strip sandwiched therebetween. In a gas wiping device for removing surplus liquid on the surface, the wiping nozzles are arranged such that the gas ejection slits of the two wiping nozzles provided opposite to each other or the lines obtained by projecting the extensions of the slits on a plane parallel to the band are mutually formed. A gas wiping device characterized by being arranged so as to cross each other.
【請求項2】 前記ワイピングノズルを、前記対向して
設けられる両ワイピングノズルのガス噴出スリットを帯
体と平行な面上に投影した線を、帯体の幅内で互いに交
差させて配置したことを特徴とする請求項1記載のガス
ワイピング装置。
2. The wiping nozzle is arranged such that lines obtained by projecting the gas ejection slits of the opposing wiping nozzles on a plane parallel to the strip intersect with each other within the width of the strip. The gas wiping device according to claim 1, wherein:
【請求項3】 前記ワイピングノズルを、前記対向して
設けられる両ワイピングノズルのガス噴出スリットまた
は該スリットの延長を帯体と平行な面上に投影した線
を、帯体の幅端部より外側で互いに交差させて配置した
ことを特徴とする請求項1記載のガスワイピング装置。
3. A line obtained by projecting the gas jetting slits of the wiping nozzles facing each other or the extension of the slits on a plane parallel to the strip is outside the width end of the strip. 2. The gas wiping device according to claim 1, wherein the gas wiping devices are arranged so as to intersect with each other.
【請求項4】 帯体を液体浴に浸漬して引き出すディッ
プ工程の後に、帯体と平行な面内に該帯体を挟んで対向
して設けたワイピングノズルから、気体を噴出させて帯
体表面の余剰の液体を除去するガスワイピング装置にお
いて、前記ワイピングノズルを、前記対向して設けられ
る両ワイピングノズルのガス噴出スリットを帯体と平行
な面上に投影した線を互いに間隔を有して平行に配置し
たことを特徴とするガスワイピング装置。
4. After the dipping step of immersing the strip in a liquid bath and pulling it out, gas is jetted from a wiping nozzle provided opposite to the strip in a plane parallel to the strip to strip the strip. In a gas wiping device for removing excess liquid on the surface, the wiping nozzles are arranged such that lines projecting the gas ejection slits of the opposing wiping nozzles on a plane parallel to the strip are spaced from each other. A gas wiping device characterized by being arranged in parallel.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007308778A (en) * 2006-05-20 2007-11-29 Jfe Steel Kk Method for producing hot dip metal plated steel strip
JP2020190005A (en) * 2019-05-20 2020-11-26 Jfeスチール株式会社 Method for manufacturing hot-dip metal coated steel strip, and continuous hot-dip metal coating equipment
JP2021021108A (en) * 2019-07-26 2021-02-18 Jfeスチール株式会社 Hot dip galvanizing apparatus for steel pipe

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