JP2508360B2 - Continuous hot dip coating equipment - Google Patents

Continuous hot dip coating equipment

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JP2508360B2
JP2508360B2 JP2121763A JP12176390A JP2508360B2 JP 2508360 B2 JP2508360 B2 JP 2508360B2 JP 2121763 A JP2121763 A JP 2121763A JP 12176390 A JP12176390 A JP 12176390A JP 2508360 B2 JP2508360 B2 JP 2508360B2
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flat plate
continuous hot
wiping
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克広 野島
豊 鈴木
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、めっき浴面上にワイピングノズルを備えた
連続溶融めっき装置に関し、詳しくは溶融めっき後にお
けるストリップの振れが小さく、ワイピングノズルをス
トリップに近接させることができて効果的なワイピング
を行うことが可能な連続溶融めっき装置に関する。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a continuous hot dip plating apparatus provided with a wiping nozzle on the surface of a plating bath, and more specifically, the runout of the strip after hot dipping is small and the wiping nozzle is stripped. The present invention relates to a continuous hot-dip galvanizing apparatus that can be brought close to a substrate and can perform effective wiping.

(従来の技術) 鋼ストリップをめっき浴に連続的に供給し、その表面
に溶融金属、例えば溶融亜鉛をめっきする場合、第1図
に示すような連続溶融めっき装置が使用されている。こ
の装置では、前処理後のストリップ1は、めっき槽2内
の溶融亜鉛めっき浴3に連続的に浸漬され、浴中のボト
ムロール4により進行方向が上方に変えられ、支持ロー
ル5で案内されながら浴面上に垂直に引き上げられる。
めっき後のストリップ1は、浴面上にストリップ1を挟
んで対向配置されたワイピングノズル6から吹付けられ
るエヤー等のガスによりめっき厚が調整され、そのめっ
き層がほぼ凝固するまでそのまま垂直に上昇移送され
る。その後、トップロール7により進行方向が水平に変
えられて次工程へ送られる。
(Prior Art) When a steel strip is continuously supplied to a plating bath and a surface of the steel strip is plated with a molten metal, for example, molten zinc, a continuous hot dipping apparatus as shown in FIG. 1 is used. In this apparatus, the strip 1 after the pretreatment is continuously immersed in the hot dip galvanizing bath 3 in the plating tank 2, the traveling direction is changed upward by the bottom roll 4 in the bath, and guided by the support roll 5. While being pulled vertically onto the bath surface.
The thickness of the strip 1 after plating is adjusted vertically by a gas such as air sprayed from a wiping nozzle 6 disposed oppositely on the bath surface with the strip 1 interposed therebetween, and the plating layer rises vertically until the plating layer almost solidifies. Be transferred. After that, the traveling direction is horizontally changed by the top roll 7 and sent to the next step.

上記の連続溶融めっき装置においては、ストリップ面
に付着しためっき金属が凝固するまで、ストリップを垂
直に引き上げる必要があるので、垂直通板部の距離が長
くなる。このため、ストリップには第2図に示すように
横方向(左右方向)の振動が発生する。振動の幅(振
幅)はストリップの通板速度が速くなればなるほど大き
くなる。通板速度を速くすると、付着めっき金属の凝固
位置が高くなるので、垂直通板部はより長い距離を必要
とする。例えば150m/min以上の高速通板では垂直通板部
は30mを超える場合がある。垂直通板部が長くなると、
それだけ振動が増幅されるため、振幅はより大きくな
る。
In the above continuous hot-dip galvanizing apparatus, the strip must be pulled up vertically until the plating metal attached to the strip surface is solidified, so the distance between the vertical threading portions becomes long. Therefore, the strip is vibrated in the lateral direction (left-right direction) as shown in FIG. The width (amplitude) of the vibration increases as the strip passing speed increases. When the strip passing speed is increased, the solidified position of the deposited plating metal is increased, and thus the vertical strip passing portion requires a longer distance. For example, in high-speed threading of 150 m / min or more, the vertical threading portion may exceed 30 m. When the vertical threading section becomes long,
Since the vibration is amplified to that extent, the amplitude becomes larger.

ストリップの振動が発生すると、ワイピングノズル先
端とストリップ面との距離がたえず変動するので、スト
リップ長手方向、幅方向および表裏面において、均一な
めっき厚が得られず、その結果めっき層にむらが生じ、
製品品質が著しく損なわれる。また、ワイピングノズル
とストリップとが接触するのを防止するための振幅の大
きさを予測し、この範囲外にワイピングノズルを配置し
なければならないので、ワイピングノズルとストリップ
面との距離が長くなり、ワイピング能力、即ち、めっき
目付量の制御範囲が狭められる。めっき目付量の制御範
囲が狭められると高速通板の実施が困難となる。ストリ
ップ面に付着してくるめっき金属量は通板速度に比例し
て増大するため、めっき目付量の制御範囲が狭められる
と所定の目付量に調整することができなくなる。
When the vibration of the strip occurs, the distance between the tip of the wiping nozzle and the strip surface constantly fluctuates, so a uniform plating thickness cannot be obtained in the strip longitudinal direction, width direction, and front and back surfaces, resulting in uneven plating layers. ,
Product quality is significantly impaired. Further, since the magnitude of the amplitude for preventing the wiping nozzle and the strip from coming into contact with each other is predicted and the wiping nozzle must be arranged outside this range, the distance between the wiping nozzle and the strip surface becomes long, The wiping ability, that is, the control range of the coating weight is narrowed. If the control range of the coating weight is narrowed, it becomes difficult to carry out high-speed rolling. Since the amount of plating metal that adheres to the strip surface increases in proportion to the plate passing speed, it becomes impossible to adjust the coating weight to a predetermined value when the control range of the coating weight is narrowed.

ところが、従来の連続溶融めっき装置では、垂直通板
部においては表面の付着金属が未凝固のため、ロール等
でストリップを接触支持して振動を防止することは不可
能である。
However, in the conventional continuous hot-dip galvanizing apparatus, since the adhered metal on the surface is not solidified in the vertical threading portion, it is impossible to prevent vibration by contact-supporting the strip with a roll or the like.

そこで、磁力や流体層を介してストリップを非接触的
に支持する装置が種々提案されている。例えば、特公昭
56−5821号公報には、第3図に示すようなワイピングノ
ズル6とトップロール7との間にマグネット8とこれを
挟んでガス供給ノズル9を備えたパット10とからなる装
置が提案されている。また、特開昭57−101657号公報に
は、第4図に示すようなワイピングノズル6の設置位置
上方の1000mm以内に静圧パッド11を配した装置が提案さ
れている。
Therefore, various devices for supporting the strip in a non-contact manner via a magnetic force or a fluid layer have been proposed. For example,
Japanese Patent Laid-Open No. 56-5821 proposes a device including a magnet 8 between a wiping nozzle 6 and a top roll 7 and a pad 10 having a gas supply nozzle 9 sandwiching the magnet 8 as shown in FIG. There is. Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-101657 proposes a device in which the static pressure pad 11 is arranged within 1000 mm above the installation position of the wiping nozzle 6 as shown in FIG.

しかし、特公昭56−5821号公報記載の装置の場合に
は、装置が大ががりであるため、ワイピングノズルの近
傍に設置するのが困難であり、その分振動防止効果は減
殺される。特開昭57−101657号公報記載の装置の場合に
は、ワイピングガスの圧力が弱いとき、ストリップ面に
上昇してくるガス流れが弱くなり、このガス流と静圧パ
ッドの下端から流れてくるガス流とで起こるとじ込め現
象による圧力の相乗効果が小さくなり、その結果、静圧
パッドの静圧力は減少するため振動を十分に防止するこ
とができない。
However, in the case of the device described in Japanese Examined Patent Publication No. 56-5821, since the device is large, it is difficult to install it near the wiping nozzle, and the vibration preventing effect is diminished accordingly. In the case of the device described in JP-A-57-101657, when the pressure of the wiping gas is weak, the gas flow rising to the strip surface becomes weak, and this gas flow and the lower end of the static pressure pad flow. The synergistic effect of pressure due to the confinement phenomenon that occurs with the gas flow becomes small, and as a result, the static pressure of the static pressure pad decreases, so that vibration cannot be sufficiently prevented.

(発明が解決しようとする課題) 本発明の課題は、溶融めっき後のストリップの振動を
確実に防止することにある。即ち、本発明の目的は、ス
トリップの振動が小さく、ワイピングノズルを可能な限
りストリップに近接させることができ、めっきむらのな
い品質に優れためっき製品を製造することができる連続
溶融めっき装置を提供することにある。
(Problem to be Solved by the Invention) An object of the present invention is to reliably prevent vibration of a strip after hot dipping. That is, an object of the present invention is to provide a continuous hot dip galvanizing apparatus capable of producing a plated product having a small vibration of the strip, allowing the wiping nozzle to be as close to the strip as possible, and having excellent quality without uneven plating. To do.

(課題を解決するための手段) 本発明者らは、図6に示すように垂直通板部にストリ
ップを挟み対向する、流体すなわち気体の噴出ノズルの
設置位置に近接して、その上下の平板をノズルのストリ
ップ幅方向には平行でストリップ面に向うほど間隔が拡
がるよう傾斜させ、ストリップ面に対しては面対称に配
置し、ストリップと平板との間の空隙に流体を空隙の狭
い方に向けて流すと、流体の圧力が高められ、ストリッ
プの振動が抑制されることを見出した。
(Means for Solving the Problems) As shown in FIG. 6, the inventors of the present invention have shown in FIG. 6 that the flat plate above and below the vertical passage plate portion, which sandwiches the strip, is close to the installation position of the jet nozzle of the fluid, that is, the gas. Is parallel to the strip width direction of the nozzle and is inclined so that the distance increases toward the strip surface, and is arranged symmetrically with respect to the strip surface, and the fluid is placed in the narrow space between the strip and the flat plate. It has been found that when directed, the pressure of the fluid is increased and the vibration of the strip is suppressed.

上記の知見に基づく本発明は下記の(1)〜(3)を
要旨とする。
The gist of the present invention based on the above findings is (1) to (3) below.

(1) 溶融めっき浴上にストリップを挟んで対向する
ワイピングノズルを備えた連続溶融めっき装置におい
て、前記ワイピングノズルの設置位置に近接してその上
下に、平板をノズルのストリップ幅方向には平行でスト
リップ面に向うほど間隔が拡がるように傾斜させ、スト
リップ面に対しては面対称に配置したことを特徴とする
連続溶融めっき装置。
(1) In a continuous hot dip galvanizing apparatus equipped with opposing wiping nozzles across a hot dip bath with a strip sandwiched between them, a flat plate is placed close to and above the installation position of the wiping nozzle, and a flat plate is parallel to the strip width direction of the nozzle. A continuous hot dip galvanizing apparatus, which is inclined so that the distance increases toward the strip surface, and is arranged symmetrically with respect to the strip surface.

(2) 溶融めっき浴上にストリップを挟んで対向する
ワイピングノズルを備えた連続溶融めっき装置におい
て、前記ワイピングノズルとこのノズル上方に設けられ
ているトップロールとの間にストリップを挟んで対向す
る気体噴出ノズルを設け、且つ、この気体噴出ノズルの
設置位置に近接してその上下に、平板をノズルのストリ
ップ幅方向には平行でストリップ面に向うほど間隔が拡
がるよう傾斜させ、ストリップ面に対しては面対称に配
置したことを特徴とする連続溶融めっき装置。
(2) In a continuous hot dip galvanizing apparatus having a wiping nozzle that faces a hot dip bath with a strip interposed therebetween, a gas that opposes the strip between the wiping nozzle and a top roll provided above the nozzle. A jet nozzle is provided, and a flat plate is tilted so that the flat plate is parallel to the strip width direction of the nozzle and widens toward the strip surface in proximity to the installation position of the gas jet nozzle, and with respect to the strip surface. Is a continuous hot-dip galvanizing system, which is arranged symmetrically about the plane.

(3) 溶融めっき浴上にストリップを挟んで対向する
ワイピングノズルを備えた連続溶融めっき装置におい
て、前記ワイピングノズルとこのノズル上方に設けられ
ているトップロールとの間にストリップを挟んで対向す
る気体噴出ノズルを設け、且つ、この気体噴出ノズルの
設置位置の上下およびワイピングノズルの設置位置に近
接してその上下に、平板をノズルのストリップ幅方向に
は平行でストリップ面に向うほど間隔が拡がるよう傾斜
させ、ストリップ面に対しては面対称に配置したことを
特徴とする連続溶融めっき装置。
(3) In a continuous hot-dip galvanizing apparatus provided with a wiping nozzle that faces a hot dip bath with a strip interposed therebetween, a gas that opposes the strip between the wiping nozzle and a top roll provided above the nozzle. A jet nozzle is provided, and the flat plate is parallel to the strip width direction of the nozzle and is widened toward the strip surface above and below the installation position of the gas jet nozzle and close to and above the installation position of the wiping nozzle. A continuous hot-dip galvanizing device, which is inclined and arranged symmetrically with respect to the strip surface.

上記(1)〜(3)の装置において、ストリップ面に
対する平板の傾斜角度を平板に作用させるべき圧力に応
じて調整できるようにしておくのが望ましい。
In the above devices (1) to (3), it is desirable that the inclination angle of the flat plate with respect to the strip surface can be adjusted according to the pressure to be applied to the flat plate.

(作用) 以下本発明を図面に示す実施例に基づいて詳細に説明
する。
(Operation) The present invention will be described in detail below based on the embodiments shown in the drawings.

第5図〜第7図は本発明の連続溶融めっき装置の一実
施態様を示す図である。
FIG. 5 to FIG. 7 are views showing an embodiment of the continuous hot-dip galvanizing apparatus of the present invention.

図において、1はストリップ、2はめっき槽、3は溶
融めっき浴、4はボトムロール、6はワイピングノズ
ル、7はトップロールである。
In the figure, 1 is a strip, 2 is a plating tank, 3 is a hot dip plating bath, 4 is a bottom roll, 6 is a wiping nozzle, and 7 is a top roll.

本願第1発明の連続溶融めっき装置は、第5図に示す
ように前記ワイピングノズル6の設置位置の上下にそれ
ぞれ一対の平板12a、12bが配置されている。
In the continuous hot-dip galvanizing apparatus of the first invention of the present application, as shown in FIG. 5, a pair of flat plates 12a and 12b are arranged above and below the installation position of the wiping nozzle 6, respectively.

第2発明の連続溶融めっき装置は、第6図に示すよう
にワイピングノズル6とトップロール7との間にストリ
ップ1を挟んで対向する流体噴出ノズル13が設けられて
おり、この流体噴出ノズル13の設置位置の上下に一対の
平板12c、12dが配置されている。
As shown in FIG. 6, the continuous hot-dip galvanizing apparatus of the second invention is provided with a fluid ejection nozzle 13 which is opposed to the strip 1 between the wiping nozzle 6 and the top roll 7 with the strip 1 interposed therebetween. A pair of flat plates 12c and 12d are arranged above and below the installation position of.

第3発明の連続溶融めっき装置は、第7図に示すよう
にワイピングノズル6とトップロール7との間にストリ
ップ1を挟んで対向する流体噴出ノズル13が設けられて
おり、この流体噴出ノズル13およびワイピングノズル6
のそれぞれの設置位置の上下に一対の平板12a、12b、12
c、12dが配置されている。具体的には、ワイピングノズ
ル6の上側の平板12aおよび流体噴出ノズル13の上側の
平板12cは、それぞれストリップ1を挟んで面対称とな
るようにストリップの幅方向から見てハ字状に対向配置
される。ワイピングノズル6の下側の平板12bおよび流
体噴出ノズル13の下側の平板12dは、それぞれストリッ
プ1を挟んで面対称となるようにストリップの幅方向か
ら見て逆ハ字状に対向配置される。
In the continuous hot-dip galvanizing apparatus of the third invention, as shown in FIG. 7, a fluid jet nozzle 13 is provided between the wiping nozzle 6 and the top roll 7 so as to sandwich the strip 1, and the fluid jet nozzle 13 is provided. And wiping nozzle 6
A pair of flat plates 12a, 12b, 12 above and below the respective installation positions of
c and 12d are arranged. Specifically, the flat plate 12a on the upper side of the wiping nozzle 6 and the flat plate 12c on the upper side of the fluid ejection nozzle 13 are arranged so as to be plane-symmetrical with respect to the strip 1 so as to face each other in a V shape when viewed from the width direction of the strip. To be done. The flat plate 12b on the lower side of the wiping nozzle 6 and the flat plate 12d on the lower side of the fluid ejection nozzle 13 are arranged so as to be plane-symmetrical with the strip 1 sandwiched therebetween so as to face each other in an inverted V shape when viewed in the width direction of the strip. .

なお、ワイピングノズルまなは流体噴出ノズルの上下
に配置される平板は、これらノズルに対しては必ずしも
対称になっている必要はない。
The flat plates arranged above and below the wiping nozzle or the fluid ejection nozzle do not necessarily have to be symmetrical with respect to these nozzles.

前記流体噴出ノズル13は、第8図に示すように先端に
はスリット14が形成されており、このスリット14からス
トリップ面に向けて流体を噴出する。流体は例えば空気
もしくは窒素ガス等の不活性ガスを用いることができ
る。流体噴出ノズル13とこの上下の平板12cおよび12dは
ワイピングノズル6とトップロール7との間に設けるの
であるが、望ましい態様として支持ロールとトップロー
ルとの間のほぼ中間に配置するのがよい。
As shown in FIG. 8, the fluid ejection nozzle 13 has a slit 14 formed at the tip thereof, and ejects the fluid from the slit 14 toward the strip surface. As the fluid, for example, air or an inert gas such as nitrogen gas can be used. The fluid jet nozzle 13 and the upper and lower flat plates 12c and 12d are provided between the wiping nozzle 6 and the top roll 7, but it is preferable to place the fluid jet nozzle 13 substantially in the middle between the support roll and the top roll.

ストリップの振動は第2図に示すように支持ロール5
とトップロール7の間で生じるが、支持ロール5とトッ
プロール7との間のほぼ中央で大きな振幅δとなり、
この影響でワイピングノズル6の位置にも振幅δの振
動が生じる。従って、流体噴出ノズル13と平板12cおよ
び12dは支持ロール5とトップロール7との間のほぼ中
間に配置すれば大きな振幅δの振動を抑制することが
できる。その結果、ワイピングノズル6位置での振幅δ
も小さくすることができる。
The vibration of the strip is generated by the support roll 5 as shown in FIG.
Between the supporting roll 5 and the top roll 7, a large amplitude δ 1 is generated at approximately the center between the supporting roll 5 and the top roll 7,
Due to this effect, vibration of the amplitude δ 2 also occurs at the position of the wiping nozzle 6. Therefore, if the fluid ejection nozzle 13 and the flat plates 12c and 12d are arranged substantially in the middle between the support roll 5 and the top roll 7, it is possible to suppress the vibration of large amplitude δ 1 . As a result, the amplitude δ at the wiping nozzle 6 position
2 can be reduced.

図中15aと15bはワイピングノズル6および15cと15dは
流体噴出ノズル13からそれぞれ噴出されたガスの流れる
様子を示したものである。ワイピングノズル6から噴出
され、ストリップ面に衝突したガスのうち、ストリップ
面に沿って上方に向かうガス流れ15aは、ストリップ1
と平板12aとの間の空隙の狭い方に向かって流れ込み、
下方に向かうガス流れ15bは、ストリップ1と平板12bと
の間の空隙の狭い方に向かって流れ込む。流体噴出ノズ
ル13から噴出され、ストリップ面に衝突したガスも前記
と同様に上方に向かうガス流れ15cはストリップ1と平
板12cとの間の空隙の狭い方に向かって流れ込み、下方
に向かうガス流れ15dはストリップ1と平板12dとの間の
空隙の狭い方に向かって流れ込む。
In the figure, 15a and 15b show wiping nozzles 6 and 15c and 15d show how gas ejected from the fluid ejection nozzle 13 flows. Of the gas ejected from the wiping nozzle 6 and colliding with the strip surface, the gas flow 15a directed upward along the strip surface is the strip 1
Flows toward the narrower gap between the flat plate 12a and
The downward gas flow 15b flows toward the narrower gap between the strip 1 and the flat plate 12b. As for the gas ejected from the fluid ejection nozzle 13 and colliding with the strip surface, the upward gas flow 15c flows toward the narrower gap between the strip 1 and the flat plate 12c, and the downward gas flow 15d. Flows into the narrower space between the strip 1 and the flat plate 12d.

このようにガスがストリップと平板との間の空隙の広
い方から狭い方に向かって流れ込むとガスの圧力が高ま
り、それぞれの平板12a〜12dには圧力が作用する。
Thus, when the gas flows from the wide side to the narrow side of the gap between the strip and the flat plate, the pressure of the gas increases, and the pressure acts on each of the flat plates 12a to 12d.

第9図はこの様子を示した説明図である。 FIG. 9 is an explanatory diagram showing this situation.

同図において、矢印方向に動いているストリップ1
と、この上に角度θで傾斜させて配置した平板12との間
の空隙に、流体16が速度Vaで空隙の狭い方に向かって流
れ込むと、流体16はくさび状に押し込まれることにな
る。流体16がくさび状に押し込まれると、流体16の圧力
が高まり、平板12には上向きの、ストリップ1には下向
きの圧力がそれぞれ作用する(以下、これをくさび作用
と呼ぶ)。平板に作用する圧力は、同図に示すように平
板12の入側(流体の流入側)および出側(流体の流出
側)で低く、空隙の狭い方に寄った位置で最も高い圧力
分布を示す。
In the figure, the strip 1 moving in the direction of the arrow
When the fluid 16 flows into the space between the flat plate 12 and the flat plate 12 which is inclined at the angle θ, the fluid 16 is pushed in a wedge shape when flowing toward the narrower space at the velocity Va. When the fluid 16 is pushed into a wedge shape, the pressure of the fluid 16 increases, and upward pressure acts on the flat plate 12 and downward pressure acts on the strip 1 (hereinafter, referred to as wedge action). As shown in the figure, the pressure acting on the flat plate is low on the inlet side (fluid inflow side) and the outflow side (fluid outflow side) of the flat plate 12, and has the highest pressure distribution at a position closer to the narrower gap. Show.

平板12に対しては上向きで、ストリップ1に対しては
下向きの圧力が作用すると、このくさび作用がストリッ
プの支持力となり、ストリップの振動を抑制する。従っ
て、本発明の装置のようにワイピングノズル6の設置位
置の上下又は流体噴出ノズル13の設置位置の上下のいず
れか一方又は両方にストリップを挟んで一対の平板を配
置すれば、ストリップは両面からのくさび作用を受けな
がら引き上げられるため、ストリップの振動は小さくな
る。
When upward pressure is applied to the flat plate 12 and downward pressure is applied to the strip 1, this wedge action serves as a supporting force for the strip and suppresses vibration of the strip. Therefore, if a pair of flat plates are arranged with the strip sandwiched either above or below the installation position of the wiping nozzle 6 or above or below the installation position of the fluid ejection nozzle 13 as in the device of the present invention, the strip will be cut from both sides. Since the strip is pulled up while being subjected to the wedge action, the vibration of the strip is reduced.

前記ワイピングノズルおよび/又は流体噴出ノズルの
それぞれの設置位置の上下に配置する平板は、ストリッ
プ面に対する傾斜角度が変えられるようにするのがよ
い。一定角度で傾斜させて平板を固定配置してもストリ
ップの振動は抑えられるが、傾斜角度が変えられるよう
にすればストリップの支持力および支持位置を変えるこ
とができるので、振動はより確実に抑制される。
It is preferable that the flat plates disposed above and below the respective installation positions of the wiping nozzle and / or the fluid ejection nozzle have a tilt angle with respect to the strip surface changed. Vibration of the strip can be suppressed even if the flat plate is fixedly arranged by inclining it at a certain angle, but if the inclination angle can be changed, the supporting force and the supporting position of the strip can be changed, so the vibration is suppressed more reliably. To be done.

第10図は下記のように定義される平板の傾斜を表すパ
ラメータをmとし、平板に作用する無次元圧力分布の定
性的な傾向を示したものである。
FIG. 10 shows a qualitative tendency of the dimensionless pressure distribution acting on the flat plate, where m is a parameter representing the inclination of the flat plate defined as follows.

m=(h1−h0)/h0 但し、h0は平板とストリップとの間の最小空隙、h1
平板とストリップとの間の最大空隙(第9図参照) この図からmが5.0および10.0のとき(平板とストリ
ップとの間の最大空隙h1が大きいとき)は圧力はやや小
さく、圧力の最高点は最小空隙側に寄り、mが0.1およ
び0.2のとき(最大空隙h1と最小空隙h0の差が小さいと
き)は圧力は小さく、圧力の最高点は平板のほぼ中央と
なり、mが1.2および2.0のとき最高圧力が高く、ストリ
ップの支持力が大きいことがわかる。
m = (h 1 −h 0 ) / h 0 where h 0 is the minimum air gap between the flat plate and the strip, h 1 is the maximum air gap between the flat plate and the strip (see FIG. 9) At 5.0 and 10.0 (when the maximum air gap h 1 between the flat plate and the strip is large), the pressure is slightly small, the highest point of the pressure is closer to the minimum air gap side, and when m is 0.1 and 0.2 (the maximum air gap h 1 It can be seen that the pressure is small when the difference between the minimum gap h 0 and the minimum gap h 0 ) is small, the highest point of the pressure is almost in the center of the flat plate, and when m is 1.2 and 2.0, the highest pressure is high and the strip supporting force is large.

このように平板のストリップ面に対する傾斜角度が変
われば、発生圧力の大きさや最大圧力の位置が変わる。
従って、傾斜角度が変えられる平板の場合は、ストリッ
プの支持力および支持位置を変更することができるの
で、ストリップの振動が最小となる最適な支持が可能と
なる。
If the inclination angle of the flat plate with respect to the strip surface changes in this way, the magnitude of the generated pressure and the position of the maximum pressure change.
Therefore, in the case of a flat plate whose inclination angle can be changed, the supporting force and the supporting position of the strip can be changed, so that optimal support can be achieved with minimal vibration of the strip.

第11図は傾斜角度が変えられるようにした平板の一例
を示す概略図である。
FIG. 11 is a schematic view showing an example of a flat plate whose tilt angle can be changed.

図中17はモーター、18および19はギヤー、12は一端が
軸支された支持棒20に取付けられた平板であり、平板12
はモーター17の駆動によりギヤー18および19を介して回
動し、ストリップ面に対する傾斜角度が変えられる。
In the figure, 17 is a motor, 18 and 19 are gears, 12 is a flat plate attached to a support rod 20 whose one end is pivotally supported.
Is rotated by driving a motor 17 via gears 18 and 19, and the inclination angle with respect to the strip surface is changed.

上記傾斜角度の制御は、同図に示すように平板12の背
面に圧力センサー21を取付け、これで平板に作用する圧
力を測定して行うようにするのがよい。例えば、表裏面
で付着量の異なる差厚めっき鋼板を製造するような場
合、ワイピングノズルの噴出ガス圧力をストリップ表裏
面で変える必要がある。ストリップ表裏面で噴出ガス圧
力を変えると、ストリップは噴出ガス圧力の低い方に片
寄るが、圧力センサーで表裏面の平板に発生するガス圧
力を測定し、噴出ガス圧力の低い方の平板に生じる圧力
を噴出ガス圧力の高い方の平板に生じる圧力より大きく
なるように平板の傾斜角度を制御してやればストリップ
の片寄りが防止される。この場合、変位計等の位置検出
器を平板に取付ければより正確な制御を行うことができ
る。
The control of the inclination angle is preferably performed by mounting a pressure sensor 21 on the back surface of the flat plate 12 as shown in the figure and measuring the pressure acting on the flat plate with this. For example, when manufacturing different thickness plated steel sheets with different amounts of adhesion on the front and back surfaces, it is necessary to change the pressure of the gas ejected from the wiping nozzle on the front and back surfaces of the strip. When the pressure of the ejected gas on the front and back of the strip changes, the strip deviates to the lower side of the ejected gas, but the pressure generated by the flat plate on the lower side of the ejected gas is measured with a pressure sensor. If the inclination angle of the flat plate is controlled so as to be larger than the pressure generated in the flat plate having the higher ejection gas pressure, the deviation of the strip can be prevented. In this case, if a position detector such as a displacement gauge is attached to the flat plate, more accurate control can be performed.

本発明において、ワイピングノズルおよび/又は流体
噴出ノズルのそれぞれの設置位置の上下にはストリップ
を挟んで一対の平板を複数組み配置してもよい。
In the present invention, a plurality of pairs of flat plates may be arranged above and below the respective installation positions of the wiping nozzle and / or the fluid ejection nozzle with a strip interposed therebetween.

第12図は、ワイピングノズル6の設置位置の上下に一
対の平板12a、12bを一組配置し、流体噴出ノズル13の設
置位置の上下に一対の平板12c、12dともう一対の平板12
e、12fの合計二組みの平板を配置した本発明の他の態様
を示すものである。
In FIG. 12, a pair of flat plates 12a and 12b are arranged above and below the installation position of the wiping nozzle 6, and a pair of flat plates 12c and 12d and another pair of flat plates 12 are arranged above and below the installation position of the fluid ejection nozzle 13.
It shows another embodiment of the present invention in which a total of two sets of flat plates of e and 12f are arranged.

ワイピングノズルおよび/又は流体噴出ノズルのそれ
ぞれの設置位置の上下に複数組みの平板を配置すれば、
ストリップをより長い距離の範囲で支持することができ
るので、振動は一層効果的に抑制される。
If a plurality of sets of flat plates are arranged above and below the respective installation positions of the wiping nozzle and / or the fluid ejection nozzle,
Vibration can be suppressed more effectively because the strip can be supported over longer distances.

また、ワイピングノズル6の設置位置の上下に平板を
配置する場合は、第13図に示すように下側の平板12bの
下端をめっき浴3に浸漬させて配置してもよい。こうす
ればストリップ面に沿って下降するガス流れ15bがスト
リップ1と平板12bとの間の空隙を通り抜けるのが防止
されるので、平板12bにはより大きな圧力が発生し、大
きさストリップ支持力が得られる。
When the flat plates are arranged above and below the installation position of the wiping nozzle 6, the lower end of the lower flat plate 12b may be immersed in the plating bath 3 as shown in FIG. This prevents the gas flow 15b descending along the strip surface from passing through the gap between the strip 1 and the flat plate 12b, so that a larger pressure is generated on the flat plate 12b and the magnitude strip supporting force is increased. can get.

さらにはそれぞれの平板を第14図に示すようにストッ
パーを有する平板としてもよい。なお、(a)は側面
図、(b)はA−A線に沿う正面図、(c)はB−B線
に沿う正面図である。
Further, each flat plate may be a flat plate having a stopper as shown in FIG. Note that (a) is a side view, (b) is a front view taken along the line AA, and (c) is a front view taken along the line BB.

両端部および空隙の狭い側の端部にストッパー22を取
付けた平板12の場合も、ガスが空隙内を通り抜けたり両
側から逃げたりするのが防止されるので、ガス圧力が高
くなり、より大きなストリップ支持力が得られる。
Even in the case of the flat plate 12 with the stoppers 22 attached to both ends and the end on the narrow side of the gap, the gas is prevented from passing through the gap or escaping from both sides, resulting in a higher gas pressure and a larger strip. Supportive power is obtained.

次に具体的な実施例について述べる。 Next, specific examples will be described.

(実施例) ワイピングノズルとトップロールとの間にストリップ
を挟んで対向する一対の流体噴出ノズルを設け、この流
体噴出ノズルの設置位置に近接してその上下に、平板を
ノズルのストリップ幅方向には平行でストリップ面に向
うほど間隔が拡がるように傾斜させ、ストリップ面に対
しては面対称となるように一組配置して第6図に示す構
造の連続溶融めっき装置とした。
(Example) A pair of fluid ejection nozzles facing each other with a strip sandwiched between a wiping nozzle and a top roll are provided in proximity to the installation position of the fluid ejection nozzles, and a flat plate in the strip width direction of the nozzle. Are inclined parallel to each other so that the distance increases toward the strip surface, and one set is arranged so as to be plane-symmetric with respect to the strip surface to obtain a continuous hot dip coating apparatus having the structure shown in FIG.

流体噴出ノズル13の設置位置上下の平板12c、12dの大
きさをそれぞれ400mm×1000mm、ストリップ1とこれら
の平板12c、12dとの間の最小空隙h0を20mm、最大空隙h1
を50mm、mを1.5、流体噴出ノズル13から吹き出す空気
圧力を0.8kg/cm2として、板厚0.8mm、板幅900mmのスト
リップを通板速度150m/minで溶融亜鉛めっきした。この
ときの振動を調べたところ、従来の平板を配置していな
い装置では振幅はワイピングノズルの位置で片側当たり
10mm程度であったものが、本発明の装置では片側当たり
1mm程度の振幅であった。
The size of the flat plates 12c and 12d above and below the installation position of the fluid jet nozzle 13 is 400 mm × 1000 mm, the minimum gap h 0 between the strip 1 and these flat plates 12c and 12d is 20 mm, and the maximum gap h 1
Was 50 mm, m was 1.5, the air pressure blown out from the fluid jet nozzle 13 was 0.8 kg / cm 2 , and a strip having a plate thickness of 0.8 mm and a plate width of 900 mm was hot-dip galvanized at a sheet passing speed of 150 m / min. When the vibration at this time was examined, it was found that the amplitude of one side contact at the wiping nozzle position in the conventional device without a flat plate.
Although it was about 10 mm, in the device of the present invention
The amplitude was about 1 mm.

次いで、この装置のワイピングノズル6の設置位置の
上下に大きさが200mm×1000mmの平板12a、12bを上記の
流体噴出ノズルの場合と同様に配置して第7図に示す構
造の連続溶融めっき装置とした。
Next, the flat plate 12a, 12b having a size of 200 mm × 1000 mm is arranged above and below the installation position of the wiping nozzle 6 of this apparatus in the same manner as in the case of the above fluid ejection nozzle, and the continuous hot-dip plating apparatus having the structure shown in FIG. And

ストリップ1とこれらの平板12a、12bとの間の最小空
隙h0は20mm、最大空隙h1は50mm、mは1.5である。ワイ
ピングノズル6から吹き出すガス圧力を0.3kg/cm2
し、流体噴出ノズル13の設置位置上下の平板12c、12dの
大きさ、最大空隙、最小空隙、mおよび流体噴出ノズル
のガス圧力は前記と同じ条件で同サイズのストリップを
同じ速度で溶融亜鉛めっきしたところ、ワイピングノズ
ル6の位置での振幅は片側当たり0.5mm以下と小さかっ
た。
The minimum gap h 0 between the strip 1 and these flat plates 12a, 12b is 20 mm, the maximum gap h 1 is 50 mm, and m is 1.5. The gas pressure blown out from the wiping nozzle 6 is set to 0.3 kg / cm 2, and the sizes of the flat plates 12c and 12d above and below the installation position of the fluid jet nozzle 13, the maximum gap, the minimum gap, m and the gas pressure of the fluid jet nozzle are the same as above. When strips of the same size were hot dip galvanized at the same speed under the conditions, the amplitude at the position of the wiping nozzle 6 was as small as 0.5 mm or less per side.

また、流体噴出ノズル13の設置位置上下の平板12c、1
2dを400mm×1000mmの大きさのものとして、最大空隙と
最小空隙を調整してm値を1.5、5.0、0.2に変えてテス
トを行った。その他の条件は前記第6図の装置と同じ条
件である。その結果、m値が1.5のときは振幅は片側当
たり1.0mm程度、m値が0.2および5.0のときは振幅は片
側当たりそれぞれ5mm程度であった。
Further, the flat plates 12c, 1 above and below the installation position of the fluid ejection nozzle 13
The test was conducted by setting 2d to a size of 400 mm × 1000 mm, adjusting the maximum void and the minimum void, and changing the m value to 1.5, 5.0 and 0.2. Other conditions are the same as those of the apparatus shown in FIG. As a result, when the m value was 1.5, the amplitude was about 1.0 mm per side, and when the m values were 0.2 and 5.0, the amplitude was about 5 mm per side.

この結果から、m値が1.5のときのように平板の広範
囲にわたり、高い圧力でストリップを支持してやること
がストリップの振動振幅を小さくする上で有効であると
いえる。
From this result, it can be said that supporting the strip with a high pressure over a wide range of the flat plate as when the m value is 1.5 is effective in reducing the vibration amplitude of the strip.

(発明の効果) 以上説明したとおり、本発明の連続溶融めっき装置を
用いればストリップの振動を小さくすることができる。
このため、本発明の連続溶融めっき装置では、ワイピン
グノズルをストリップ面に近接させることができ、目付
量の制御範囲が大幅に拡大され、ワイピング能力が大き
く向上する。また、ワイピングノズル先端とストリップ
面との距離がほとんど変動しないので、得られるめっき
鋼板は長手方向、幅方向および表裏におけるめっき厚が
均一で、品質の優れたものとなる。
(Effects of the Invention) As described above, the vibration of the strip can be reduced by using the continuous hot-dip galvanizing apparatus of the present invention.
Therefore, in the continuous hot-dip galvanizing apparatus of the present invention, the wiping nozzle can be brought close to the strip surface, the control range of the basis weight is greatly expanded, and the wiping capability is greatly improved. Further, since the distance between the tip of the wiping nozzle and the strip surface hardly changes, the obtained plated steel sheet has a uniform plating thickness in the longitudinal direction, the width direction, and the front and back surfaces, and is of excellent quality.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は、従来の連続式溶融めっき装置を示す概略図、 第2図は、ストリップの横方向(左右方向)の振動を示
す説明図、 第3図は、ストリップ支持装置を備えた従来の連続式溶
融めっき装置を示す概略図、 第4図は、同じくストリップ支持装置を備えた従来の連
続式溶融めっき装置を示す概略図、 第5図は、本願第1発明の連続式溶融めっき装置の一実
施態様を示す図、 第6図は、本願第2発明の連続式溶融めっき装置の一実
施態様を示す図、 第7図は、本願第3発明の連続式溶融めっき装置の一実
施態様を示す図、 第8図は、流体噴出ノズル先端を示す図、 第9図は、流体層を介して平板に作用する圧力を説明す
る図、 第10図は、ストリップ面に対する平板の傾斜角度の違い
による平板に作用する無次元圧力の分布を示すグラフ、 第11図は、ストリップ面に対する傾斜角度が変えられる
ようにした平板を示す概略図、 第12図は、複数組みの平板を配置した本発明の連続溶融
めっき装置を示す図、 第13図は、ワイピングノズルの下の平板を下端がめっき
浴に浸漬するように配置した本発明の連続溶融めっき装
置の一部概略図、 第14図は、ストッパーを有する平板を示す図、 である。 1:ストリップ、2:めっき槽、3:めっき浴、4:ボトムロー
ル、5:支持ロール、6:ワイピングノズル、7:トップロー
ル、12,12a,12b,12c,12d,12eおよび12f:平板、13:流体
噴出ノズル、15a,15b,15cおよび15d:ガス流れ。
FIG. 1 is a schematic view showing a conventional continuous hot-dip galvanizing apparatus, FIG. 2 is an explanatory view showing vibration of a strip in a lateral direction (horizontal direction), and FIG. 3 is a conventional diagram equipped with a strip supporting device. FIG. 4 is a schematic view showing a continuous hot-dip galvanizing apparatus, FIG. 4 is a schematic view showing a conventional continuous hot-dip galvanizing apparatus similarly equipped with a strip supporting device, and FIG. 5 is a drawing of the continuous hot-dip galvanizing apparatus of the first invention of the present application. FIG. 6 is a view showing an embodiment, FIG. 6 is a view showing an embodiment of a continuous hot-dip plating apparatus according to the second invention of the present application, and FIG. 7 is a view showing an embodiment of a continuous hot-dip plating apparatus according to the third invention of the present application. Fig. 8 is a diagram showing the tip of the fluid ejection nozzle, Fig. 9 is a diagram explaining the pressure acting on the flat plate through the fluid layer, and Fig. 10 is a difference in the inclination angle of the flat plate with respect to the strip surface. Graph showing the distribution of the dimensionless pressure acting on the flat plate by FIG. 11 is a schematic view showing a flat plate in which the inclination angle with respect to the strip surface can be changed, FIG. 12 is a view showing a continuous hot dip plating apparatus of the present invention in which a plurality of sets of flat plates are arranged, and FIG. 13 is a wiping. FIG. 14 is a partial schematic view of a continuous hot dip galvanizing apparatus of the present invention in which a flat plate under a nozzle is arranged so that its lower end is immersed in a plating bath, and FIG. 14 is a view showing a flat plate having a stopper. 1: strip, 2: plating bath, 3: plating bath, 4: bottom roll, 5: support roll, 6: wiping nozzle, 7: top roll, 12, 12a, 12b, 12c, 12d, 12e and 12f: flat plate, 13: Fluid ejection nozzle, 15a, 15b, 15c and 15d: Gas flow.

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】溶融めっき浴上にストリップを挟んで対向
するワイピングノズルを備えた連続溶融めっき装置にお
いて、前記ワイピングノズルの設置位置に近接して、そ
の上下に平板をノズルのストリップ幅方向には平行でス
トリップ面に向うほど間隔が拡がるように傾斜させ、ス
トリップ面に対しては面対称に配置したことを特徴とす
る連続溶融めっき装置。
1. A continuous hot-dip galvanizing apparatus having a wiping nozzle facing a hot dip bath with a strip interposed therebetween. Flat plates are provided above and below the wiping nozzle in the strip width direction of the nozzle. A continuous hot-dip galvanizing apparatus, which is inclined so as to be parallel and widens toward the strip surface, and symmetrically arranged with respect to the strip surface.
【請求項2】溶融めっき浴上にストリップを挟んで対向
するワイピングノズルを備えた連続溶融めっき装置にお
いて、前記ワイピングノズルとこのノズル上方に設けら
れているトップロールとの間にストリップを挟んで対向
する気体噴出ノズルを設け、且つ、この気体噴出ノズル
の設置位置に近接して、その上下に平板をノズルのスト
リップ幅方向には平行でストリップ面に向うほど間隔が
拡がるよう傾斜させ、ストリップ面に対しては面対称に
配置したことを特徴とする連続溶融めっき装置。
2. A continuous hot dip coating apparatus provided with a wiping nozzle facing a hot dipping bath with a strip interposed therebetween. A strip is sandwiched between the wiping nozzle and a top roll provided above the nozzle. A gas ejection nozzle is provided, and flat plates are provided close to the installation position of the gas ejection nozzle, parallel to the strip width direction of the nozzle, and inclined so that the distance increases toward the strip surface. Contrary to this, the continuous hot dip galvanizing device is characterized by being arranged symmetrically.
【請求項3】溶融めっき浴上にストリップを挟んで対向
するワイピングノズルを備えた連続溶融めっき装置にお
いて、前記ワイピングノズルとこのノズル上方に設けら
れているトップロールとの間にストリップを挟んで対向
する気体噴出ノズルを設け、且つ、この気体噴出ノズル
の設置位置の上下およびワイピングノズルの設置位置に
近接して、その上下に平板をノズルのストリップ幅方向
には平行でストリップ面に向うほど間隔が拡がるよう傾
斜させ、ストリップ面に対しては面対称に配置したこと
を特徴とする連続溶融めっき装置。
3. A continuous hot dip galvanizing apparatus provided with a wiping nozzle which faces a hot dip bath with a strip interposed therebetween. A strip is sandwiched between the wiping nozzle and a top roll provided above the nozzle. A gas ejection nozzle is provided, and a flat plate is provided above and below the installation position of the gas ejection nozzle and close to the installation position of the wiping nozzle, and the gaps are parallel to the strip width direction of the nozzle toward the strip surface. A continuous hot-dip galvanizing apparatus, which is inclined so as to spread and is symmetrically arranged with respect to the strip surface.
【請求項4】ストリップ面に対する平板の傾斜角度を調
整する手段を備えた請求項(1)、(2)又は(3)記
載の連続溶融めっき装置。
4. A continuous hot dip galvanizing apparatus according to claim 1, further comprising means for adjusting an inclination angle of the flat plate with respect to the strip surface.
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