JPH0888263A - 基板供給装置およびこれを用いた露光装置 - Google Patents

基板供給装置およびこれを用いた露光装置

Info

Publication number
JPH0888263A
JPH0888263A JP6247245A JP24724594A JPH0888263A JP H0888263 A JPH0888263 A JP H0888263A JP 6247245 A JP6247245 A JP 6247245A JP 24724594 A JP24724594 A JP 24724594A JP H0888263 A JPH0888263 A JP H0888263A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
reticle
exhaust
substrate
exposure
substrate supply
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6247245A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshi Nakazato
博 中里
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP6247245A priority Critical patent/JPH0888263A/ja
Publication of JPH0888263A publication Critical patent/JPH0888263A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/70741Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Library & Information Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ロボットやハンドの駆動部を効率よく排気し
て発熱や発塵を防ぐ。 【構成】 収納棚21に収納されたレチクルカセットC
を昇降ロボット装置22のロボット22cによって取り
出して搬送ハンド装置23に受け渡し、レチクルハンド
23cによってレチクルRを取り出して露光台10のレ
チクルステージ15に搬入する。搬送ハンド装置23の
駆動部23dと収納棚21と昇降ロボット装置22の駆
動部22dはそれぞれ小型のファン25a〜25cによ
って必要な時だけ個別に排気される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体露光装置等にお
いて、レチクルおよびマスク等の原版やウエハ等の基板
を収納棚等に収納あるいは待機させておき、必要に応じ
て露光台や洗浄装置あるいは検査装置等に供給する基板
供給装置およびこれを用いた露光装置に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体露光装置等においては自動
化が一層進み、レチクルおよびマスク等の原版やウエハ
等基板(以下、原版を含めて「基板」という。)を所定
の位置に収納または待機させておき、必要に応じて露光
台や洗浄装置あるいは検査装置等に自動的に供給する基
板供給装置が開発されている。
【0003】基板供給装置は、例えば、露光台の周辺に
基板を積み重ねて待機させる収納棚や、収納棚に沿って
昇降し所定の棚から基板を取り出す昇降ロボット装置
や、昇降ロボット装置の基板を露光台の位置決めステー
ジ等へ搬入する搬送ハンド等からなり、これらは露光台
に近接して配設されるため、収納棚に基板を出し入れす
るときの発塵や、昇降ロボット装置および搬送ハンド装
置のアクチュエータからの発塵および発熱によって、露
光台上の基板が汚染されたり不必要に著しく加熱される
おそれがある。
【0004】そこで、収納棚や昇降ロボット装置および
搬送ハンド装置のそれぞれの駆動部に排気用のダクトや
ホースを接続し、これらを大型ファンによって一括して
連続的に排気することで収納棚および各アクチュエータ
からの発塵や発熱を防止する工夫がなされている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の技術によれば、前述のように、収納棚および昇降ロボ
ット装置や搬送ハンド等の駆動部を大型ファンによって
一括して連続的に排気するものであるため、大型ファン
に極めて容量の大きいものを必要とし、また、昇降ロボ
ット装置や搬送ハンド装置等のいずれかが作動していれ
ば、他の装置が不作動中でも大型ファンの運転は継続し
なければならずエネルギーロスが極めて大きい。
【0006】加えて、近年では半導体素子の微細化が進
み、これに伴ってレチクルやマスクおよびウエハ等基板
に極めて高いクリーン度や厳しい温度管理が要求されて
おり、他方では生産性の向上のために昇降ロボット装置
や搬送ハンド装置等が高速化され、各アクチュエータの
発熱量や発塵量が増加する傾向にある。ところが、この
ような状況に対応すべく大型ファンの容量をより一層大
きくすれば、大型ファンの駆動部から発生する振動が露
光台に伝わって転写パターンの精度を低下させるおそれ
があり、かつ、消費電力の増加も大きな問題となる。
【0007】さらに、複数の駆動部を大型ファンの吸引
口に接続する排気ダクトやホースの設置スペースのため
に、露光装置全体が大型化するという未解決の課題もあ
る。本発明は、上記従来の技術の有する未解決の課題に
鑑みてなされたものであって、収納棚等からレチクルや
ウエハ等の基板を取り出して露光台の位置決めステージ
等へ搬送するロボットやハンド等の駆動部を、効率よく
排気して発塵や発熱を効果的に防止するとともに、排気
用のファン等のエネルギーロスを低減し、かつ、省スペ
ースや振動防止にも大きく貢献できる基板供給装置およ
びこれを用いた露光装置を提供することを目的とするも
のである。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の基板供給装置は、収納手段から基板を取り
出して所定の位置決めステージに搬送する搬送手段を有
し、該搬送手段が複数の駆動部を備えており、各駆動部
に、これを個別に排気する排気手段が設けられているこ
とを特徴とする。
【0009】各駆動部の駆動と同期して排気手段を制御
する制御手段が設けられているとよい。
【0010】また、制御手段が、各駆動部の駆動速度に
基づいて排気手段を制御するように構成されているとよ
い。
【0011】また、収納手段を排気する第2の排気手段
が設けられているとよい。
【0012】また、排気手段の排気側が、搬送手段を支
持する支持手段と一体である角型管に接続されていると
よい。
【0013】
【作用】搬送手段の各駆動部を個別に排気することで、
各駆動部からの発塵や発熱を効果的に防止する。加え
て、各駆動部の駆動と同期して個別に排気手段を制御す
ることで、エネルギーロスを大幅に低減できる。また、
各駆動部の駆動速度に基づいて排気手段の出力を制御す
ることで、エネルギーロスを増大させることなく、搬送
手段の高速化に対応できる。
【0014】各駆動部を排気する排気手段は、すべての
駆動部を一括して連続的に排気するものに比べて、小型
で低容量のものですむ。従って、排気手段から発生する
振動も小さくて、露光台等を大きく振動させるおそれも
ない。
【0015】さらに、収納手段を排気する第2の排気手
段が設けられていれば、収納手段から基板を出し入れす
るときの発塵も防ぐことができる。
【0016】また、各排気手段の排気側が、搬送手段を
支持する支持手段と一体である角型管に接続されていれ
ば、各排気手段の排気を排出するためのダクトやホース
の少なくとも一部を省略し、搬送手段の設置スペースを
縮小できる。
【0017】
【実施例】本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
【0018】図1は一実施例による露光装置を説明する
説明図であって、これは一般的にステッパ(縮小投影型
露光装置)と呼ばれる露光手段である露光台10と、こ
れに基板(原版)であるレチクルRを自動的に供給する
基板供給装置であるレチクル供給装置20を有し、両者
は図示しないクリーンルーム内に設置され、該クリーン
ルーム内は公知のガス清浄化装置によって清浄化された
雰囲気に維持される。
【0019】露光台10は、床面F上にエアークッショ
ン11を介して支持されるウエハステージ支持体12
と、ウエハステージ支持体12上に支持された公知のウ
エハステージ13と、その上部に支持された投影レンズ
14と、該投影レンズ14とその上方の図示しない光源
の間に配設された位置決めステージであるレチクルステ
ージ15を有し、また、レチクル供給装置20は、レチ
クルステージ15に供給するレチクルやレチクルステー
ジ15から回収されたレチクルを垂直方向に積み重ねて
待機させる収納手段である収納棚21と、これに沿って
上下動し所定の棚からレチクルを取り出す昇降ロボット
装置22と、昇降ロボット装置22からレチクルを受け
取ってこれを露光台10のレチクルステージ15に搬入
する搬送ハンド装置23を備えており、昇降ロボット装
置22と搬送ハンド装置23は所定のタイミングで連携
作動し、レチクルを収納棚21からレチクルステージ1
5へ供給する作業や逆にレチクルを回収する作業を一貫
して行なう搬送手段を構成する。
【0020】なお、レチクルRは、取り扱い中の汚染を
防ぐためにレチクルカセットC内に収容されて収納棚2
1に収納され、昇降ロボット装置22によってレチクル
カセットCごと収納棚21から取り出されて搬送ハンド
装置23に搬入される。
【0021】搬送ハンド装置23は、露光台10のウエ
ハステージ支持体12に支持されたフレーム23a上の
受取台23bと、これに載置されたレチクルカセットC
の扉を開閉する図示しないレチクルカセット扉開閉装置
と、レチクルカセットC内のレチクルを取り出して反転
し、露光台10のレチクルステージ15に搬入するレチ
クルハンド23cを有し、レチクルハンド23cを駆動
する駆動部23dは前記フレーム23aに支持されてい
る。
【0022】収納棚21と昇降ロボット装置22は床面
Fに固定されたベース24上の支持手段である支持台2
4aに支持されており、収納棚21は、レチクルを入れ
たレチクルカセットCを垂直方向に積み重ねて収納自在
な複数の棚を有し、また、昇降ロボット装置22は、支
持台24aに立設された中空の支柱22aと、これに沿
って上下動する昇降台22bと、昇降台22b上を水平
方向に往復移動し、収納棚21の各棚に対してレチクル
カセットCの出し入れを行なうロボット22cと、昇降
台22bとロボット22cを駆動する駆動部22dを有
する。
【0023】搬送ハンド装置23のフレーム23aの下
面およびベース24上の支持台24aの下面には、搬送
ハンド装置23の駆動部23dと、収納棚21と、昇降
ロボット装置22の駆動部22dをそれぞれ個別に排気
する小型の排気手段であるファン25a〜25cが取り
付けられており、収納棚21と昇降ロボット装置22を
排気するファン25b,25cの排気側はベース24と
支持台24aの間に配設された補強用の角型管24bに
直接開口し、角型管24bの排気側はフレキシブルホー
ス24cに接続され、これによって、角型管24b内の
排気をクリーンルームの外へ放出する。
【0024】また、搬送ハンド装置23のファン25a
はホース24cによって角型管24bの吸気側に接続さ
れ、上記と同様にクリーンルームの外へ排気される。
【0025】各ファン25a〜25cは制御手段である
コントローラ26a〜26cによって個別に駆動、停止
され、またこれらの排気量も収納棚21や各駆動部22
d,23dの発熱量や発塵の程度あるいはこれらの駆動
速度に応じて個別に制御される。
【0026】次に、レチクル供給装置20の動作を説明
する。
【0027】まず、収納棚21の各棚にレチクルカセッ
トを収納し、各レチクルカセットに収容されたレチクル
名とこれが収納された棚の位置をコンピュータに記憶さ
せたうえで、クリーンルームを閉じて露光プロセスを開
始する。
【0028】昇降ロボット装置22は、コンピュータの
指令によって垂直方向に移動し、収納棚21に向かって
水平方向にロボット22cを往復移動させて所定の棚か
らレチクルカセットを取り出したうえでさらに上方へ移
動し、再びロボット22cを水平方向に往復移動させて
搬送ハンド装置23の受取台23bにレチクルカセット
Cを載置する。
【0029】続いて、搬送ハンド装置23が駆動され、
レチクルカセットCの扉が開かれてレチクルRがレチク
ルハンド23cによって取り出され、露光台10のレチ
クルステージ15に搬入され、レチクルRを透過して投
影レンズ系14によって集光される露光光によって、ウ
エハステージ13上のウエハWの露光が行なわれる。
【0030】ウエハWのすべての露光領域の露光を終了
したら、再び搬送ハンド装置23を駆動してレチクルス
テージ15上のレチクルRを回収し、上記と逆の手順で
収納棚21の所定の棚に収納したうえで、コンピュータ
の指令によって、次の露光サイクルに必要なレチクルを
入れたレチクルカセットCを昇降ロボット装置22によ
って収納棚21から取り出して前述と同じ手順で露光台
10のレチクルステージ15へ供給する。このようにし
て、露光台10のレチクルRを自動的に交換し、クリー
ンルームを開放することなく必要数の露光サイクルを繰
返す。
【0031】この間、搬送ハンド装置23、昇降ロボッ
ト装置22のファン25a,25cは各駆動部23d,
22dの駆動中のみ駆動され、また、収納棚21のファ
ン25bも収納棚21の各棚に対してレチクルカセット
Cの出し入れが行なわれているときのみ駆動される。加
えて、各ファン25a〜25cの排気量も各駆動部23
d,22dおよび収納棚21の発塵量や発熱量等に応じ
て制御され、エネルギーロスを大幅に低減する。
【0032】特に、昇降ロボット装置22については、
レチクルカセットCを出し入れする棚の高さによって昇
降台22bの昇降速度を変化させ、露光台10の待機時
間を短縮するように工夫されているのが一般的であり、
昇降台22bの昇降速度に応じてファン25cの排気量
を変化させればエネルギーロスをより一層低減できる。
【0033】また、収納棚21および昇降ロボット装置
22のファン25b,25cはその排気側が角型管24
bに直接接続されているためホース等を必要とせず、角
型管24b自体は支持台24aとベース24の間でこれ
らを補強する補強部材として用いられるものであるた
め、クリーンルームのスペース節約に大きく貢献でき
る。
【0034】本実施例は、レチクル供給装置の各駆動部
や収納棚をそれぞれ比較的小型のファンによって個別に
必要なときにのみ排気するものであるから、少ない消費
電力で各駆動部や収納棚を強力に排気して極めて効果的
に発熱や発塵を防ぐことができる。
【0035】また、各ファンが小型であってこれらが同
時に駆動されることもほとんどないため、大型のファン
を用いて一括して連続排気する場合のように、露光台に
大きな振動を与えるおそれもない。
【0036】従って、微細化の進んだ半導体製品の製造
に好適であり、かつ、高速化による生産性の向上も容易
である露光装置を実現できる。
【0037】なお、本実施例においてはレチクル供給装
置のみについて説明したが、ウエハステージに基板であ
るウエハを供給する装置にも同様に適用できる。
【0038】また、基板を露光台へ供給するものに限ら
ず、公知の洗浄装置や検査装置等に供給する場合にも適
用できることは言うまでもない。
【0039】
【発明の効果】本発明は上述のとおり構成されているの
で、次に記載するような効果を奏する。
【0040】収納棚等からレチクル等基板を取り出して
露光台のレチクルステージ等へ搬送するロボットやハン
ド等の駆動部を、効率よく排気して発塵や発熱を効果的
に防止するとともに、排気用のファン等のエネルギーロ
スを低減し、省スペースや振動防止にも大きく貢献でき
る。
【0041】その結果、レチクルやマスクおよびウエハ
等基板の汚染や熱歪のおそれがないために微細化の進ん
だパターンを高精度で転写できるうえに、小型で高速化
に適しておりしかもエネルギーロスの少ない露光装置を
実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は一実施例による露光装置を説明する説明
図である。
【符号の説明】
10 露光台 12 ウエハステージ支持体 13 ウエハステージ 14 投影レンズ 15 レチクルステージ 20 レチクル供給装置 21 収納棚 22 昇降ロボット装置 23 搬送ハンド装置 24a 支持台 24b 角型管 25a〜25c ファン 26a〜26c コントローラ

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 収納手段から基板を取り出して所定の位
    置決めステージに搬送する搬送手段を有し、該搬送手段
    が複数の駆動部を備えており、各駆動部に、これを個別
    に排気する排気手段が設けられていることを特徴とする
    基板供給装置。
  2. 【請求項2】 各駆動部の駆動と同期して排気手段を制
    御する制御手段が設けられていることを特徴とする請求
    項1記載の基板供給装置。
  3. 【請求項3】 制御手段が、各駆動部の駆動速度に基づ
    いて排気手段を制御するように構成されていることを特
    徴する請求項2記載の基板供給装置。
  4. 【請求項4】 収納手段を排気する第2の排気手段が設
    けられていることを特徴とする請求項1ないし3いずれ
    か1項記載の基板供給装置。
  5. 【請求項5】 排気手段の排気側が、搬送手段を支持す
    る支持手段と一体である角型管に接続されていることを
    特徴とする請求項1ないし4いずれか1項記載の基板供
    給装置。
  6. 【請求項6】 基板が原版であることを特徴とする請求
    項1ないし5いずれか1項記載の基板供給装置。
  7. 【請求項7】 請求項6記載の基板供給装置と、これに
    よって搬入された原版を通して、ウエハを露光する露光
    手段を有する露光装置。
JP6247245A 1994-09-14 1994-09-14 基板供給装置およびこれを用いた露光装置 Pending JPH0888263A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6247245A JPH0888263A (ja) 1994-09-14 1994-09-14 基板供給装置およびこれを用いた露光装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6247245A JPH0888263A (ja) 1994-09-14 1994-09-14 基板供給装置およびこれを用いた露光装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0888263A true JPH0888263A (ja) 1996-04-02

Family

ID=17160621

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6247245A Pending JPH0888263A (ja) 1994-09-14 1994-09-14 基板供給装置およびこれを用いた露光装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0888263A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005167284A (ja) * 2005-03-08 2005-06-23 Hirata Corp 駆動部隔離foupオープナ
JP2017168615A (ja) * 2016-03-16 2017-09-21 株式会社ディスコ 加工装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005167284A (ja) * 2005-03-08 2005-06-23 Hirata Corp 駆動部隔離foupオープナ
JP2017168615A (ja) * 2016-03-16 2017-09-21 株式会社ディスコ 加工装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101176238B1 (ko) 가열 처리 장치, 가열 처리 방법, 및 컴퓨터 판독 가능한기억 매체
JP4464993B2 (ja) 基板の処理システム
JPH11329955A (ja) 処理装置および処理方法
KR101092065B1 (ko) 기판처리시스템 및 기판처리방법
JP2002280296A (ja) 液処理装置
JP2009094460A (ja) 基板の処理装置
JP4877075B2 (ja) 塗布、現像装置及び塗布、現像装置の運転方法並びに記憶媒体
JP2008277528A (ja) 基板の処理方法、基板の処理システム及びコンピュータ読み取り可能な記憶媒体
JP3213748B2 (ja) 処理システム
JPH1154588A (ja) 基板搬送装置およびそれを用いた基板処理装置
JPH1126550A (ja) 基板搬送装置およびそれを用いた基板処理装置
JPH09205047A (ja) 処理装置
US7512456B2 (en) Substrate processing apparatus
JP3484067B2 (ja) ロボット装置
KR102081706B1 (ko) 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치
JP3983481B2 (ja) 基板処理装置及び基板処理装置における基板搬送方法
US20080008837A1 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method for heat-treating substrate
JP2004304003A (ja) 処理システム
JPH0888263A (ja) 基板供給装置およびこれを用いた露光装置
JP4164034B2 (ja) 基板処理装置
JP3254584B2 (ja) 処理システム
JP3673397B2 (ja) 基板冷却装置および基板冷却方法
JP3562743B2 (ja) 基板処理装置
KR102534203B1 (ko) 기판 처리 시스템
JP3254583B2 (ja) 処理システム