JPH0876388A - 画像形成方法および電子写真感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 繰り返し使用での残留電位の増加、および画
像形成時に現出する干渉縞模様と反転現像時のカブリや
黒ポチの現出を同時に解消した画像形成方法、およびそ
のために使用する電子写真感光体を提供する。 【構成】 電子写真感光体を帯電し、露光し、現像およ
び転写して画像を形成する画像形成方法において、該電
子写真感光体として、非鏡面化された感光層を有し、そ
の面粗さが、基準長さ２．５ｍｍにおける十点平均粗さ
ＲZ で０．１５〜５μｍである感光体を使用し、露光に
おける光源として、可干渉光を使用する。感光層を非鏡
面化するために、重量平均粒子径０．１５〜５μｍのハ
ロゲン化ガリウムフタロシアニンを含有させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、画像形成方法およびそ
れに用いる電子写真感光体に関し、詳しくはレーザービ
ームをライン走査する方式に適した画像形成方法および
それに用いる電子写真感光体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、レーザービームをライン走査する
方式の電子写真プリントにおいては、レーザービームと
して、半導体レーザーが使用されるようになってきた。
この半導体レーザーは、一般的に７５０ｎｍ以上の長波
長領域で発振波長を有しており、したがって、長波長領
域において高感度特性を持つ電子写真感光体が必要とな
り、そのための電子写真感光体が開発されている。この
ような長波長レーザー光に対して感光性を持つ電子写真
感光体は、それをレーザービーム走査方式の電子写真プ
リンタに取り付けて、レーザービーム露光を行うと、形
成されたトナー画像には干渉縞模様が現出し、良好な再
生画像が形成できないという欠点を有している。その理
由の一つとしては、例えば、積層型の感光層を有する電
子写真感光体の場合、長波長レーザー光が電荷発生層内
で完全に吸収されず、電荷発生層の導電性基体から遠い
側の界面で反射し、またはその透過光が基体表面で反射
し、このため感光層内でレーザービームの多重反射を生
じ、それが感光層表面の反射光との間で干渉を生じるこ
とが原因とされている。

【０００３】この欠点を解消する方法としては、これま
で電子写真感光体で用いている導電性基体の表面を、陽
極酸化法やサンドブラスト法などにより粗面化する方
法、感光層と基体の間に光吸収層あるいは反射防止層を
設ける方法などが提案されており、それにより感光層内
で生じる多重反射を解消することがはかられている。し
かしながら、実際問題として、導電性基体の表面を粗面
化する方法の場合は、均一な粗さをもつ粗面が形成され
難く、ある割合で比較的大きな粗さ部を形成することが
ある。このためこの大きな粗さを有する部分が形成され
ることがある。そのためこの大きな粗さを有する部分が
感光層内へのキャリア注入部として作用し、反転現像方
式を用いた場合、画像形成時の黒ポチの原因となり、好
ましい方法とはいえなかった。また、光吸収層あるいは
反射防止層を設ける方法についても、十分に干渉縞模様
を解消することができず、しかも製造上コストが上昇す
る等の欠点を有していた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前述した従
来の技術における問題点を解消することを目的とするも
のである。すなわち、本発明の目的は、繰り返し使用で
の残留電位の増加、および画像形成時に現出する干渉縞
模様と反転現像時のカブリや黒ポチの現出を同時に解消
した画像形成方法、およびそのために使用する電子写真
感光体を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、検討の結
果、上記の目的は、感光層の表面または感光層内の界面
が、重量平均粒子径が０．１５〜５μｍのハロゲン化ガ
リムフタロシアニン粒子群によって非鏡面とされること
により達成されることを見出し、本発明を完成するに至
った。本発明の画像形成方法は、電子写真感光体を帯電
し、露光し、現像および転写して画像形成するものであ
って、該電子写真感光体として、非鏡面化された感光層
を有し、その面粗さが、基準長さ２．５ｍｍにおける十
点平均粗さＲZ で０．１５〜５μｍである感光体を使用
し、露光における光源として、可干渉光（レーザー光）
を使用することを特徴とする。本発明の上記画像形成方
法に使用する電子写真感光体は、導電性基体上に感光層
を有し、その感光層が非鏡面化されたものであって、面
粗さが、基準長さ２．５ｍｍにおける十点平均粗さＲZ
で０．１５〜５μｍであることを特徴とする。この感光
層は、重量平均粒子径０．１５〜５μｍのハロゲン化ガ
リウムフタロシアニンを含有させることによって構成さ
れる。

【０００６】なお、本発明で使用する面粗さＲZ は、例
えば日本工業規格ＪＩＳ Ｂ ０６０１−１９８２に規
定された表面粗さであり、基準長さ２．５ｍｍでの十点
平均粗さであり、測定は東京精密社製のＳＵＲＦＣＯＭ
５７５ＡもしくはＰｅｒｔｈｅｎ社製のＰｅｒｔｈｏ
ｍｅｔｅｒ Ｃ５Ｄ等で測定される。また、本発明にお
いて、感光層が非鏡面化されていることは、感光層が単
層型の光導電層を有する場合には、導電性基体から遠い
側の界面、例えば、光導電層の表面が非鏡面化されてい
ることを意味し、感光層が電荷発生層と電荷輸送層とに
機能分離された積層構造を有する場合には、その電荷発
生層と電荷輸送層との界面、または導電性基体から遠い
側の界面、例えば、電荷発生層が上層の場合には、その
表面が非鏡面化されていることを意味する。

【０００７】以下、本発明を詳細に説明する。まず、本
発明の電子写真感光体について説明する。本発明の電子
写真感光体は、感光層が単層型の光導電層を有する電子
写真感光体（以下、単層型感光体という）であってもよ
く、あるいは電荷発生層と電荷輸送層との二種の層に機
能分離した積層構造の感光層を有する電子写真感光体
（以下、積層型感光体という）であってもよい。本発明
の電子写真感光体は、積層型感光体の場合、図１に示し
たような構成とすることができる。図１において、１は
導電性基体、２は下引き層、３は電荷発生層、４は電荷
輸送層であり、そして、電荷発生層３と電荷輸送層４と
の境界面が、ＲZ ０．１５〜５μｍの非鏡面にされてい
る。また、単層型感光体の場合、図２に示したような構
成とすることができる。図２中において、１は導電性基
体、２は下引き層、５は光導電層であり、光導電層５の
導電性基体１から遠い側の界面が、ＲZ ０．１５〜５μ
ｍの非鏡面にされている。

【０００８】本発明において、界面を非鏡面化するに当
たっては、光導電層または電荷発生層の形成後、その表
面を機械的に研磨する方法、例えば、ブラスト処理等も
適用することが可能であるが、これらの場合は、機械的
研磨により電子的欠陥が発生しやすく白ポチ、黒ポチ等
の画像欠陥を発生することがある。したがって、コスト
面、および画像上の欠陥を少なくするために、重量平均
粒子径０．１５〜５μｍの微粒子、特に電荷発生材料の
粒子を混入して、光導電層または電荷発生層の形成と同
時に、非鏡面化を行うことが有利である。非鏡面を形成
するための粒子の粒子径は、重量平均粒子径で０．１５
〜５μｍであって、必要とする界面の表面粗さ以上であ
るものが使用される。なお、重量平均粒子径は、遠心分
離型光透過式粒度分布計（ＣＡＰＡ−５００堀場製作所
製）等で測定される。

【０００９】本発明において、非鏡面を形成するための
電荷発生材料粒子としては、ハロゲン化ガリウムフタロ
シアニン粒子を用いるのが好ましい。ハロゲン化ガリウ
ムフタロシアニン粒子は、電荷輸送能をもつことが知ら
れており、この性質により、干渉防止かつ画面上均一な
解像度を達成するため厚膜化した電荷発生層から構成さ
れた感光体においても、電荷発生層中および界面に電荷
がたまりにくい特徴をもつ。この結果、カブリや黒点等
の画質欠陥がなく、繰り返し使用しても電位変化が小さ
く電位保持性にも優れた感光体が得られる。ハロゲン化
ガリウムフタロシアニン粒子としては、ＣｕＫα特性Ｘ
線に対するブラッグ角度（２θ±０．２°）の少なくと
も１１．０°、１３．５°および２７．１°に回折ピー
クを有するクロロガリウムフタロシアニン粒子が特に好
ましい。このクロロガリウムフタロシアニンを用いる場
合、その粗大粒子を粉砕することにより、非鏡面を形成
するために必要な重量平均粒子径が０．１５〜５μｍの
粒子にすることができる。粉砕に使用する粉砕機として
は、ボールミル、アトライター、サンドミル、超音波振
動機等があげられ、それらを適宜選択し、粉砕時間を制
御することにより、任意の粒子径のものを得ることがで
きる。したがって、本発明において上記ハロゲン化ガリ
ウムフタロシアニン粒子を使用する場合には、所望の面
粗さのものを、容易に得ることができるという製造上の
利点がある。

【００１０】次に、本発明の電子写真感光体を構成する
各層について説明するが、感光層が積層構造を有する場
合を中心にして説明する。本発明において、導電性基体
としては、電子写真感光体として使用することが可能な
ものならば、何如なるものも使用することができる。具
体的には、アルミニウム、ニッケル、クロム、ステンレ
ス鋼等の金属類のほかに、アルミニウム、チタニウム、
ニッケル、クロム、ステンレス鋼、金、バナジウム、酸
化スズ、酸化インジウム、ＩＴＯ等の薄膜を被覆したプ
ラスチックフィルム等、あるいは導電性付与剤を塗布ま
たは含浸させた紙、プラスチックフィルム等があげられ
る。これらの導電性基体は、ドラム状、シート状、プレ
ート状等、適宜の形状のものとして使用されるが、これ
らに限定されるものではない。さらに必要に応じて、導
電性支持体の表面は画質に影響のない範囲で各種の処理
を行ってもよく、例えば、表面の酸化処理や薬品処理お
よび着色処理等またはサンドブラスト等の乱反射処理等
を行うことができる。

【００１１】本発明において、導電性基体と単層型の場
合における光導電層または積層構造の場合における電荷
発生層との間に、必要に応じて下引き層を設けてよい。
この下引き層は、積層構造からなる感光層の帯電時にお
いて、導電性基体から感光層への電荷の注入を阻止する
とともに、感光層を導電性基体に対して、一体的に接着
保持させる接着層としての作用、あるいは場合によって
は、導電性基体からの光の反射を防止する作用等を示
す。下引き層に用いる樹脂は、ポリエチレン樹脂、ポリ
プロピレン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリ
アミド樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、フェノ
ール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、
ポリイミド樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリビニルアセ
タール樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリビ
ニルアルコール樹脂、水溶性ポリエステル樹脂、ニトロ
セルロース、カゼイン、ゼラチン、ポリグルタミン酸樹
脂、澱粉、スターチアセテート、アミノ澱粉、ポリアク
リル酸樹脂、ポリアクリルアミド樹脂等の結着樹脂の他
に、ジルコニウムキレート化合物、ジルコニウムアルコ
キシド化合物等の有機ジルコニウム化合物、チタニルキ
レート化合物、チタニルアルコキシド化合物等の有機チ
タニル化合物、シランカップリング剤等の公知の材料を
用いることができる。下引き層の形成は、電子写真感光
体の製造において用いられる公知の塗布法により行うこ
とができる。膜厚は、０．０１〜１０μｍ、好ましくは
０．０５〜２μｍに設定される。

【００１２】本発明における電荷発生層は、電荷発生材
料を適当な結着樹脂中に含有させて形成されている。電
荷発生材料としては、無金属フタロシアニン、クロロガ
リウムフタロシアニン、ジクロロスズフタロシアニン、
オキソガリウムフタロシアニン、チタニルフタロシアニ
ン等のフタロシアニン顔料、キノン顔料、キノシアニン
顔料、ペリレン顔料、インジゴ顔料、ビスベンゾイミダ
ゾール顔料、アントロン顔料、キナクリドン顔料等を用
いることができる。また、これらの電荷発生材料は、単
独または２種以上を混合して用いることができる。これ
ら電荷発生材料の重量平均粒子径は、一般に０．０１〜
５μｍ、好ましくは０．０１〜０．３μｍの範囲にある
ものが使用される。本発明においては、上記の電荷発生
材料に加えて、電荷発生層表面を非鏡面化するために、
重量平均粒子径で０．１５〜５μｍの電荷発生材料、好
ましくは、ハロゲン化ガリウムフタロシアニン粒子、特
に好ましくはＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角度
（２θ±０．２°）の少なくとも１１．０°、１３．５
°および２７．１°に強い回折ピークを有するクロロガ
リウムフタロシアニン粒子を混合する。

【００１３】結着樹脂としては、広範囲な絶縁性樹脂か
ら選択することができる。また、ポリ−Ｎ−ビニルカル
バゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレ
ン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択する
こともできる。好ましい結着樹脂としては、ポリビニル
ブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノール
Ａとフタル酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、
ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸
ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリ
アクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロ
ース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポ
リビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等
の絶縁性樹脂をあげることができるが、これらに限定さ
れるものではない。また、これらの結着樹脂は、単独ま
たは２種以上混合して用いることができる。

【００１４】電荷発生層を形成する際に用いる溶剤とし
ては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ
−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセロソル
ブ、エチルセロソルブ、アセトン、メチルエチルケト
ン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、
ジオキサン、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、クロ
ロホルム等の通常の有機溶剤を単独または２種以上を混
合して用いることができる。本発明において、電荷発生
材料と結着樹脂の配合比（重量比）１０：１〜１：１０
の範囲が好ましい。また、上記成分を用いて、分散させ
る方法としては、ボールミル分散法、アトライター分散
法、サンドミル分散法等の通常の方法を採用することが
できる。また、電荷発生層を設けるときに用いる塗布方
法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコ
ーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティ
ング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティ
ング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用い
ることができる。電荷発生層の厚みは、０．１〜５μ
ｍ、好ましくは０．２〜２μｍが適当である。

【００１５】なお、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ
角度（２θ±０．２°）の少なくとも１１．０°、１
３．５°および２７．１°に強い回折ピークを有するク
ロロガリウムフタロシアニン粒子を電荷発生材料の一つ
として混合する場合、電荷発生材料、結着樹脂、溶剤と
の分散とは別に、ボールミル、アトライター、サンドミ
ル、超音波振動機等の粉砕機を適宜選択し、粉砕するこ
とにより、任意の粒子径を得ることができる。また、こ
れらの粉砕に用いる溶剤としては、メタノール、エタノ
ール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルア
ルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、アセ
トン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メ
チル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、塩化メチレン、クロロホルム等の通常の有機溶剤を
単独または２種以上を混合して用いることができる。こ
れらの粉砕により任意の粒子径を得た上で、あらかじめ
分散済みの電荷発生材料分散液を混合する。電荷発生材
料分散液へのＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角度
（２θ±０．２°）の少なくとも１１．０°、１３．５
°および２７．１°に強い回折ピークを有するクロロガ
リウムフタロシアニン粒子懸濁液の添加量は、好ましい
粒度分布および所望の電気特性を調整する目的によって
決められる。

【００１６】電荷輸送層は、電荷輸送材料を適当な結着
樹脂中に含有させて形成されている。電荷輸送材料とし
ては、アミノ系化合物、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン
化合物、オキサゾール化合物、オキサジアゾール化合
物、スチルベン化合物、カルバゾール化合物、ベンジジ
ン化合物等何如なる公知の材料も用いることができる。
また、これら電荷輸送材料は、単独あるいは２種以上を
混合して用いることができる。電荷輸送層に用いる結着
樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹
脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹
脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ
ビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合
体、塩化ビニルデン−アクリロニトリル共重合体、塩化
ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル
−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコー
ン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹
脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカル
バゾール等の公知の樹脂があげられるが、これらに限定
されるものではない。これらの結着樹脂は、単独あるい
は２種以上混合して用いることができる。電荷輸送材料
と結着樹脂との配合比（重量比）１０：１〜１：５の範
囲が好ましい。電荷輸送層を形成する際に用いる溶剤と
しては、ベンゼン、トルエン、キシレン、モノクロロベ
ンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、２−ブタノン
等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチ
レン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフ
ラン、エチルエーテル等の環状もしくは直鎖状のエーテ
ル類等の通常使用される有機溶剤があげられ、これらは
単独あるいは２種以上混合して用いることができる。塗
布方法としては、電荷発生層を形成する際に用いられる
公知の方法を使用することができる。また、電荷輸送層
の厚みは、一般的には、５〜５０μｍ、好ましくは１０
〜３０μｍが適当である。

【００１７】また、複写機中で発生するオゾンや酸化性
ガス、あるいは光、熱による感光体の劣化を防止する目
的で、感光層中に酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤等の
添加剤を添加することができる。例えば、酸化防止剤と
しては、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パ
ラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキ
ノン、スピロクロマン、スピロインダノンおよびそれら
の誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物等があげられ
る。光安定剤の例としては、ベンゾフェノン、ベンゾト
リアゾール、ジチオカルバメート、テトラメチルピペリ
ジン等の誘導体があげられる。また、感度の向上、残留
電位の低減、繰り返し使用時の疲労低減等を目的とし
て、少なくとも１種の電子受容性物質を含有させること
ができる。具体的には、無水コハク酸、無水マレイン
酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブ
ロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラシア
ノキノジメタン、ｏ−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロ
ベンゼン、クロラニル、ジニトロアントラキノン、トリ
ニトロフルオレノン、ピクリン酸、ｏ−ニトロ安息香
酸、ｐ−ニトロ安息香酸、フタル酸等をあげることがで
きる。これらのうち、フルオレノン系、キノン系やＣ
ｌ、ＣＮ、ＮＯ₂ 等の電子吸引性置換基を有するベンゼ
ン誘導体が特に好ましい。

【００１８】さらに必要に応じて、電荷輸送層の上に保
護層を設けてもよい。この保護層は、積層構造からなる
感光層の帯電時の電荷輸送層の化学的変質を防止すると
ともに、感光層の機械的強度を改善する作用を有する。
保護層は、導電性材料を適当なバインダーの中に含有さ
せて形成されている。導電性材料としては、Ｎ，Ｎ′−
ジメチルフェロセン等のメタロセン化合物、Ｎ，Ｎ′−
ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス−（３−メチルフェニル）
−［１，１′−ビフェニル］−４，４′−ジアミン等の
芳香族アミン化合物、酸化アンチモン、酸化スズ、酸化
チタン、酸化インジウム、酸化スズ−酸化アンチモン等
の金属酸化物等の材料を用いることができるが、これら
に限定されるものではない。また、保護層に用いる結着
樹脂としては、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポ
リエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリケトン樹脂、ポリ
カーボネート樹脂、ポリビニルケトン樹脂、ポリスチレ
ン樹脂、ポリアクリルアミド樹脂等公知の樹脂を用いる
ことができる。保護層は、その電気抵抗が１０⁹ 〜１０
¹⁴Ω・ｃｍとなるように構成することが好ましい。電気
抵抗が１０¹⁴Ω・ｃｍ以上になると残留電位が上昇しカ
ブリの多い複写物となってしまい、また、１０⁹ ・ｃｍ
以下になると、画像のボケ、解像力の低下が生じてしま
う。また、保護層は、像露光に用いられる光の透過を実
質上妨げないように構成されなければならない。保護層
の膜厚は、０．５〜２０μｍ、好ましくは１〜１０μｍ
が適当である。

【００１９】次に本発明の画像形成方法について説明す
る。電子写真感光体の帯電、露光、現像および転写は、
従来実施されている公知の方法が使用される。すなわ
ち、帯電工程において、例えば、コロナ帯電器によって
均一に帯電し、ついで、露光工程において像露光が行わ
れる。露光における光源としては、半導体レーザー光等
の可干渉光が使用される。なお、可干渉光とは、位相の
揃った波形がかなり長く保たれている光であり、干渉性
を持つ光を指す。電子写真感光体上に形成された静電潜
像は、ついで、現像剤によって現像され、転写材に転写
され定着されて画像が形成される。

【００２０】

【作用】さらに、図１および図２中に、画像形成のため
像露光を行う際の光源からの光に対する干渉防止作用に
ついて説明する。図１において、入射光Ｉは電荷発生層
３と電荷輸送層４の界面により位相差を発生する。した
がって、各層中での入射光Ｉ₁ 、Ｉ₂ 、Ｉ₃ および各界
面での反射光Ｒ₀ 、Ｒ₁ 、Ｒ₂ 、Ｒ₃ は、それぞれ位相
的に差を生ずる。すなわち位相的にはＲ₁ と、Ｒ₀ 、Ｒ
₂ およびＲ₃ とがそれぞれ異なるものとなり、干渉縞防
止の効果としての必要十分条件を満たすことになる。図
２において、反射光Ｒ′₀ は光導電層５の導電性基体１
から遠い側の界面より位相差を発生する。したがって、
各層中での入射光Ｉ′、Ｉ′₁ 、Ｉ′₂ および各界面で
の反射光Ｒ′₀ 、Ｒ′₁ 、Ｒ′₂ はそれぞれ位相的に差
を生ずる。すなわち位相的にはＲ′₀ とＲ′₁ 、Ｒ′₂
が異なるものとなり、干渉縞防止の効果としての必要十
分条件を満たすことになる。

【００２１】以下、積層型感光体を例にとって、感光層
表面を非鏡面とすることによる作用効果について説明す
る。積層型感光体の構成で、可干渉光による電子写真的
に画像形成を行う時に発生する干渉縞は、感光体構成層
の積層による界面において隣接する層の屈折率差から生
ずるフレネル反射成分による干渉により、入射光量の変
化に応じて発生するものである。特に、電荷発生層およ
び電荷輸送層から構成される積層型感光体の場合、電荷
発生層と電荷輸送層との境界面での反射に起因する干渉
縞の発生が最も著しい。したがって、この境界面におけ
る干渉防止対策が最も効果的である。そこで本発明の効
果が最も顕著なのは、かかる境界面を非鏡面化すること
により、感光体内部の光学距離をランダムにし、可干渉
光に位相差を積極的に設けて干渉性を取り除くことであ
る。基本的に干渉防止は、感光体内部の光学的位相差が
可干渉光の１／２波長未満であると、干渉成分が十分取
り除けないため、干渉防止効果が不十分である。それ
故、十分な干渉防止効果を得るためには、感光体内部の
光学的位相差、すなわち界面で形成される位相差が１／
２波長以上であることが望ましい。そこで、境界面の表
面粗さを１／２波長以上とすることが特に有効である。
しかしながら本発明によれば、電荷発生層と電荷輸送層
との境界面において干渉防止の効果を達成する場合に
は、電荷発生層による光吸収の効果があり、干渉防止の
効果が高く１／２波長よりもはるかに小さな表面粗さで
実質的な干渉防止が可能になる。具体的には表面粗さＲ
Z が０．１５〜５μｍであれば十分な効果が得られる。

【００２２】

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。なお、「部」は「重量部」を意味する。 製造例１ １，３−ジイミノイソインドリン３０部、３塩化ガリウ
ム９．１部をキノリン２３０部中に入れ、窒素気流下に
２００℃において３時間反応させた後、生成物を濾別
し、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドおよびメタノールで
洗浄し、次いで湿ケーキを乾燥後、クロロガリウムフタ
ロシアニン粒子２８部を得た。得られたクロロガリウム
フタロシアニン粒子の粉末Ｘ線回折図を図３に示す。重
量平均粒子径は５０μｍであった。

【００２３】製造例２ 製造例１で得られたクロロガリムフタロシアニン粒子１
０部を、ｎ−ブタノール１００部中で、室温において１
０分間超音波分散し、重量平均粒子径３μｍのクロロガ
リウムフタロシアニン粒子懸濁液を得た。得られたクロ
ロガリウムフタロシアニン粒子の結晶型は、粉末Ｘ線回
折から製造例１で得られたクロロガリウムフタロシアニ
ン粒子と同様な結晶型であることを確認した。 製造例３ 製造例１で得られたクロロガリムフタロシアニン粒子１
０部を、ｎ−ブタノール１００部中で、室温において３
０分間超音波分散し、重量平均粒子径０．３μｍのクロ
ロガリウムフタロシアニン粒子懸濁液を得た。得られた
クロロガリウムフタロシアニン粒子の結晶型は、粉末Ｘ
線回折から製造例１で得られたクロロガリウムフタロシ
アニン粒子と同様な結晶型であることを確認した。

【００２４】製造例４ 製造例１で得られたクロロガリムフタロシアニン粒子１
０部を、振動ミルで１５０時間乾式粉砕し、重量平均粒
子径０．０５μｍのクロロガリウムフタロシアニン粒子
を得た。得られたクロロガリウムフタロシアニン粒子の
粉末Ｘ線回折図を図４に示す。 製造例５ 製造例４で得られたクロロガリウムフタロシアニン粒子
４部を、５ｍｍφガラスビーズ６０部とともにベンジル
アルコール１７部中で、室温において４８時間ボールミ
リングした後、結晶を分離した。次いで、酢酸エチル５
００部で洗浄した後、乾燥してＣｕＫα特性Ｘ線に対す
るブラッグ角度（２θ±０．２°）の少なくとも７．４
°、１６．６°、２５．５°および２８．３°に強い回
折ピークを有する重量平均粒子径０．０５μｍのクロロ
ガリウムフタロシアニン粒子を得た。得られたクロロガ
リウムフタロシアニン粒子の粉末Ｘ線回折図を図５に示
す。

【００２５】製造例６ 製造例１で得られたクロロガリウムフタロシアニン粒子
３部を濃硫酸６０部にて溶解後、この溶液を５℃の蒸留
水４５０部に滴下し結晶を析出させた。蒸留水、希アン
モニア水等で洗浄後、乾燥して、重量平均粒子径０．０
５〜０．５μｍのヒドロキシガリウムフタロシアニン粒
子２．５部を得た。得られたヒドロキシガリウムフタロ
シアニン粒子に粉末Ｘ線回折図を図６に示す。 製造例７ 製造例６で得られたヒドロキシガリウムフタロシアニン
粒子１部を、５ｍｍφガラスビーズ３０部とともにジメ
チルホルムアミド３０部中で、室温において２４時間ボ
ールミリングした後、結晶を分離した。次いで、メタノ
ール５００部で洗浄後、乾燥して、ＣｕＫα特性Ｘ線に
対するブラッグ角度（２θ±０．２°）の少なくとも
７．５°、９．９°、１２．５°、１６．３°、１８．
６°、２５．１°および２８．３°に強い回折ピークを
有する重量平均粒子径０．０５〜０．２μｍのヒドロキ
シガリウムフタロシアニン粒子を得た。得られたヒドロ
キシガリウムフタロシアニン粒子の粉末Ｘ線回折図を図
７に示す。

【００２６】製造例８ 酸化チタン粒子５部、ｎ−ブタノール１００部を、１ｍ
ｍφガラスビーズを入れたサンドミル分散機で室温にお
いて１０時間分散し、重量平均粒子径０．３μｍの酸化
チタン粒子懸濁液を得た。

【００２７】実施例１ ８−ナイロン樹脂（ラッカマイド５００３、大日本イン
キ化学工業社製）のメタノール／ｎ−ブタノ−ル混合液
を４０ｍｍφ×３１９ｍｍのアルミパイプに浸漬塗布法
により塗布し、１３５℃において、１０分間加熱乾燥
し、膜厚０．５μｍの下引き層を形成した。製造例５で
得られたクロロガリウムフタロシアニン粒子２部を予め
ポリビニルブチラール樹脂（エスレックＢＭ−１、積水
化学工業社製）３部をｎ−ブタノール１００部に溶解し
て得た溶液に入れて混合し、２時間サンドミルで分散し
た後、製造例３で得られたクロロガリウムフタロシアニ
ン粒子懸濁液２０部と混合し、ｎ−ブタノールで希釈
し、固形分濃度３．５重量％の塗布液を得た。この塗布
液を、形成された下引き層の上に、リング塗布機により
塗布し、１００℃において、１０分間加熱乾燥後、表面
粗さＲZ ０．３μｍ、膜厚０．４μｍの電荷発生層を形
成した。さらに、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビ
ス−（３−メチルフェニル）−［１，１′−ビフェニ
ル］−４，４′−ジアミン４部をポリカーボネートＺ樹
脂６部とともに、モノクロロベンゼン４０部に溶解さ
せ、得られた溶液を浸漬塗布法により、前記電荷発生層
上に浸漬コーティング法で塗布し、１１５℃において、
６０分間加熱乾燥し、膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成
し、電子写真感光体を作製した。

【００２８】実施例２ 実施例１における、製造例３で得られたクロロガリウム
フタロシアニン粒子懸濁液２０部の代わりに、製造例２
で得られたクロロガリウムフタロシアニン粒子懸濁液２
０部とし、表面粗さＲZ ３μｍ、膜厚３μｍの電荷発生
層を形成した。なお、基体、下引き層、電荷輸送層は実
施例１にしたがって同様に設けた。 実施例３ 実施例１における、製造例５で得られたクロロガリウム
フタロシアニン粒子２部の代わりに、製造例７で得られ
たヒドロキシガリウムフタロシアニン粒子２部とし、表
面粗さＲZ ０．３μｍ、膜厚０．４μｍの電荷発生層を
形成した。なお、基体、下引き層、電荷輸送層は実施例
１にしたがって同様に設けた。

【００２９】実施例４ 実施例１における、製造例３で得られたクロロガリウム
フタロシアニン粒子懸濁液２０部の代わりに、製造例８
で得られた酸化チタン粒子（重量平均粒子径０．３μ
ｍ）懸濁液４０部とし、表面粗さＲZ ０．３μｍ、膜厚
０．４μｍの電荷発生層を形成した。なお、基体、下引
き層、電荷輸送層は実施例１にしたがって同様に設け
た。

【００３０】比較例１ 実施例１における、製造例５で得られたクロロガリウム
フタロシアニン粒子２部を４部とし、製造例３で得られ
たクロロガリウムフタロシアニン粒子懸濁液２０部の添
加を行わず、表面粗さＲZ ０．０３μｍ、膜厚０．４μ
ｍの電荷発生層を形成した。なお、基体、下引き層、電
荷輸送層は実施例１にしたがって同様に設けた。

【００３１】上記実施例１〜４および比較例１の電子写
真感光体に対して、レーザープリンター（ＸＰ−１１、
富士ゼロックス社製）に装着し、全面にラインスキャン
を行い全面が薄い黒色トナー像となる画像について、干
渉縞の有無を評価した。次ぎに、グリッド印加電圧−７
００Ｖのスコロトロン帯電器で帯電し（Ａ），７８０ｎ
ｍの半導体レーザーを用いて、１秒後に１５．０ｅｒｇ
／ｃｍ² の光を照射して放電を行い（Ｂ）、さらに、３
秒後に５０ｅｒｇ／ｃｍ² の赤色ＬＥＤ光を照射して除
電を行う（Ｃ）というプロセスによって、各部の電位を
測定した。また、５０００回繰り返し帯電後の各部の測
定も行った。（Ａ）の電位ＶH が高いほど、感光体の受
容電位が高いので、コントラストを高くすることがで
き、（Ｂ）の電位ＶL は低いほど、高感度であり、
（Ｃ）の電位ＶRPは低いほど、残留電位が少なく、画像
メモリーやカブリが少ない感光体と評価される。得られ
た画像について、画像評価を行った。それらの結果を表
１に示す。

【００３２】

【表１】

【００３３】

【発明の効果】本発明の電子写真感光体は、上記の構成
を有するから、像露光、現像後の干渉縞状の濃度ムラが
生じなく、カブリや黒点等の画質欠陥がない鮮明な複写
画像が得られる。本発明の電子写真感光体は、特に、可
干渉光とりわけレーザーを像露光用光源として用いる画
像形成方法に使用するのに適しており、繰り返し使用し
ても電位変化が小さく、電位保持特性に優れているとい
う利点がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明にかかる積層型感光体の模式的断面図
を示す。

【図２】 本発明にかかる単層型感光体の模式的断面図
を示す。

【図３】 製造例１で得られたクロロガリウムフタロシ
アニン粒子の粉末Ｘ線回折図を示す。

【図４】 製造例４で得られたクロロガリウムフタロシ
アニン粒子の粉末Ｘ線回折図を示す。

【図５】 製造例５で得られたクロロガリウムフタロシ
アニン粒子の粉末Ｘ線回折図を示す。

【図６】 製造例６で得られたヒドロキシガリウムフタ
ロシアニン粒子の粉末Ｘ線回折図を示す。

【図７】 製造例７で得られたヒドロキシガリウムフタ
ロシアニン粒子の粉末Ｘ線回折図を示す。

【符号の説明】

１…導電性基体、２…下引き層、３…電荷発生層、４…
電荷輸送層、５…光導電層。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 電子写真感光体を帯電し、露光し、現像
   および転写して画像を形成する画像形成方法において、
   該電子写真感光体として、非鏡面化された感光層を有
   し、その面粗さが、基準長さ２．５ｍｍにおける十点平
   均粗さＲZ で０．１５〜５μｍである感光体を使用し、
   露光における光源として、可干渉光を使用することを特
   徴とする画像形成方法。
2. 【請求項２】 導電性基体上に感光層を有する電子写真
   感光体において、感光層が非鏡面化されたものであっ
   て、その面粗さが、基準長さ２．５ｍｍにおける十点平
   均粗さＲZ で０．１５〜５μｍであることを特徴とする
   電子写真感光体。
3. 【請求項３】 感光層が重量平均粒子径０．１５〜５μ
   ｍのハロゲン化ガリウムフタロシアニンを含有すること
   を特徴とする請求項２記載の電子写真感光体。
4. 【請求項４】 該感光層が電荷発生層とその上に積層さ
   れた電荷輸送層とからなり、電荷発生層が重量平均粒子
   径０．１５〜５μｍのハロゲン化ガリウムフタロシアニ
   ンを含有することを特徴とする請求項３記載の電子写真
   感光体。
5. 【請求項５】 ハロゲン化ガリウムフタロシアニンが、
   ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角度（２θ±０．２
   °）の１１．０°、１３．５°および２７．１°に回折
   ピークを有するクロロガリウムフタロシアニンであるこ
   と特徴とする請求項３または請求項４記載の電子写真感
   光体。