JPH0871136A - 殺菌方法 - Google Patents
殺菌方法Info
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- JPH0871136A JPH0871136A JP6238438A JP23843894A JPH0871136A JP H0871136 A JPH0871136 A JP H0871136A JP 6238438 A JP6238438 A JP 6238438A JP 23843894 A JP23843894 A JP 23843894A JP H0871136 A JPH0871136 A JP H0871136A
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- Japan
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- hypochlorous acid
- sterilizing
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- sterilized
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Abstract
(57)【要約】
〔目的〕 殺菌力が強く、しかも安全性および残留性に
問題がない殺菌方法を得る。 〔構成〕 電解槽１で水を電気分解し、ｐＨ４〜６．５
で次亜塩素酸濃度が２０〜１００ｐｐｍの殺菌水を生成
する。この殺菌水を、粒子径が２．５〜５ミクロンの超
微粒子の霧状にして、空間４内に噴霧する。次亜塩素酸
を含む殺菌水は少量の噴霧でも極めて強い殺菌力が得ら
れ、また殺菌後は、通常の水に戻るので、安全性および
残留性が問題になることはない。
問題がない殺菌方法を得る。 〔構成〕 電解槽１で水を電気分解し、ｐＨ４〜６．５
で次亜塩素酸濃度が２０〜１００ｐｐｍの殺菌水を生成
する。この殺菌水を、粒子径が２．５〜５ミクロンの超
微粒子の霧状にして、空間４内に噴霧する。次亜塩素酸
を含む殺菌水は少量の噴霧でも極めて強い殺菌力が得ら
れ、また殺菌後は、通常の水に戻るので、安全性および
残留性が問題になることはない。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、病室、手術室、実験動
物舎、食品工場、あるいはビニールハウス等の空間内を
殺菌する殺菌方法に係り、特に殺菌力が強く安全性およ
び残留性に問題がない殺菌方法に関する。
物舎、食品工場、あるいはビニールハウス等の空間内を
殺菌する殺菌方法に係り、特に殺菌力が強く安全性およ
び残留性に問題がない殺菌方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、菌による汚染は、物から物の他
に、空気中に浮遊している菌が落下して起こることも多
い。そこで従来、病室等の空間内を殺菌する場合には、
噴霧機等を用いて殺菌剤を前記空間内に噴霧する方法を
採っている。
に、空気中に浮遊している菌が落下して起こることも多
い。そこで従来、病室等の空間内を殺菌する場合には、
噴霧機等を用いて殺菌剤を前記空間内に噴霧する方法を
採っている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】前記従来の殺菌方補に
おいては、殺菌剤を用いているため、強い殺菌力を得よ
うとすれば、強力な殺菌剤を多量に噴霧せざるを得ず、
この場合には、殺菌剤の安全性および残留性が大きな問
題となる。
おいては、殺菌剤を用いているため、強い殺菌力を得よ
うとすれば、強力な殺菌剤を多量に噴霧せざるを得ず、
この場合には、殺菌剤の安全性および残留性が大きな問
題となる。
【０００４】本発明は、かかる現況に鑑みなされたもの
で、殺菌すべき空間内を、短時間でほぼ完全な無菌状態
にすることができ、しかも安全性や残留性が問題となる
ことが全くない殺菌方法を提供することを目的とする。
で、殺菌すべき空間内を、短時間でほぼ完全な無菌状態
にすることができ、しかも安全性や残留性が問題となる
ことが全くない殺菌方法を提供することを目的とする。
【０００５】本発明の他の目的は、より少ない噴霧量で
より安全に殺菌することができる殺菌方法を提供するに
ある。
より安全に殺菌することができる殺菌方法を提供するに
ある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
本発明は、水の電気分解により生成したｐＨ３〜７の次
亜塩素酸含有殺菌水を、殺菌すべき空間内に噴霧して前
記空間内を殺菌するようにしたことを特徴とする。
本発明は、水の電気分解により生成したｐＨ３〜７の次
亜塩素酸含有殺菌水を、殺菌すべき空間内に噴霧して前
記空間内を殺菌するようにしたことを特徴とする。
【０００７】本発明はまた、ｐＨが４〜６．５で次亜塩
素酸濃度が２０〜１００ｐｐｍの次亜塩素酸含有殺菌水
を用いるようにしたことを特徴とする。
素酸濃度が２０〜１００ｐｐｍの次亜塩素酸含有殺菌水
を用いるようにしたことを特徴とする。
【０００８】本発明はさらに、次亜塩素酸含有殺菌水
は、粒子径が２．５〜５ミクロンの超微粒子の霧状で噴
霧するようにしたことを特徴とする。
は、粒子径が２．５〜５ミクロンの超微粒子の霧状で噴
霧するようにしたことを特徴とする。
【０００９】
【作用】本発明においては、空間内に噴霧される殺菌水
として、水の電気分解により生成したｐＨ３〜７の次亜
塩素酸含有殺菌水が用いられる。
として、水の電気分解により生成したｐＨ３〜７の次亜
塩素酸含有殺菌水が用いられる。
【００１０】ところで、次亜塩素酸水溶液は、ｐＨ８以
上では次亜塩素酸イオン（ＣｌＯ￣）の存在比が高くな
り、殺菌力が次亜塩素酸（ＨＣｌＯ）の場合に比較して
著しく減少するが、ｐＨ３〜７の範囲では、ＨＣｌＯの
形で保たれ、殺菌力が飛躍的に増大する。したがって、
ｐＨ３〜７の次亜塩素酸水は、残留塩素濃度が３０〜６
０ｐｐｍ程度の低濃度であっても、ｐＨ８で残留塩素濃
度が２００ｐｐｍ程度の殺菌水と同等の殺菌効果が得ら
れる。しかも、次亜塩素酸水は、殺菌後は通常の水に戻
るので、残留性が問題となることがない。
上では次亜塩素酸イオン（ＣｌＯ￣）の存在比が高くな
り、殺菌力が次亜塩素酸（ＨＣｌＯ）の場合に比較して
著しく減少するが、ｐＨ３〜７の範囲では、ＨＣｌＯの
形で保たれ、殺菌力が飛躍的に増大する。したがって、
ｐＨ３〜７の次亜塩素酸水は、残留塩素濃度が３０〜６
０ｐｐｍ程度の低濃度であっても、ｐＨ８で残留塩素濃
度が２００ｐｐｍ程度の殺菌水と同等の殺菌効果が得ら
れる。しかも、次亜塩素酸水は、殺菌後は通常の水に戻
るので、残留性が問題となることがない。
【００１１】本発明においてはまた、ｐＨが４〜６．５
で次亜塩素酸濃度が２０〜１００ｐｐｍの次亜塩素酸含
有殺菌水が用いられる。このため、次亜塩素酸の存在比
の高い殺菌水が得られ、より大きな殺菌力が得られる。
で次亜塩素酸濃度が２０〜１００ｐｐｍの次亜塩素酸含
有殺菌水が用いられる。このため、次亜塩素酸の存在比
の高い殺菌水が得られ、より大きな殺菌力が得られる。
【００１２】本発明はさらに、次亜塩素酸含有殺菌水が
粒子径が２．５〜５ミクロンの超微粒子の霧状で噴霧さ
れる。このため、殺菌すべき空間内の空気の対流による
拡散現象により、空間内全域で均一な殺菌効果が得ら
れ、少量の殺菌水で完全な殺菌が可能となる。
粒子径が２．５〜５ミクロンの超微粒子の霧状で噴霧さ
れる。このため、殺菌すべき空間内の空気の対流による
拡散現象により、空間内全域で均一な殺菌効果が得ら
れ、少量の殺菌水で完全な殺菌が可能となる。
【００１３】
【実施例】以下、本発明を図面を参照して説明する。図
１は、本発明に係る殺菌方法を実施するためのシステム
の一例を示すもので、図中、符号１は次亜塩素酸含有殺
菌水を水の電気分解により生成するための電解槽であ
り、この電解槽１で生成された次亜塩素酸含有殺菌水は
噴霧装置２に送られ、その噴霧ノズル３から、病室等の
空間４内に噴霧されるようになっている。
１は、本発明に係る殺菌方法を実施するためのシステム
の一例を示すもので、図中、符号１は次亜塩素酸含有殺
菌水を水の電気分解により生成するための電解槽であ
り、この電解槽１で生成された次亜塩素酸含有殺菌水は
噴霧装置２に送られ、その噴霧ノズル３から、病室等の
空間４内に噴霧されるようになっている。
【００１４】図１において、参照数字１は、本発明に使
用される次亜塩素酸殺菌水を製造する電解槽の一例を示
すもので、この電解槽１は、異極性の電極５、６を対向
配置した構成になり、両電極間に直流の電解電圧を印加
するようになっている。電解槽１には、水道水などの原
水に塩化ナトリウム、塩酸などの塩化物を添加した水が
導入され、前記直流電流の印加により、ｐＨ３〜７、好
ましくは、ｐＨ４〜６．５の次亜塩素酸含有殺菌水に生
成されて墳霧装置２に供給されるようになっている。
用される次亜塩素酸殺菌水を製造する電解槽の一例を示
すもので、この電解槽１は、異極性の電極５、６を対向
配置した構成になり、両電極間に直流の電解電圧を印加
するようになっている。電解槽１には、水道水などの原
水に塩化ナトリウム、塩酸などの塩化物を添加した水が
導入され、前記直流電流の印加により、ｐＨ３〜７、好
ましくは、ｐＨ４〜６．５の次亜塩素酸含有殺菌水に生
成されて墳霧装置２に供給されるようになっている。
【００１５】なお、図１は、無隔膜の電解槽を用いて次
亜塩素酸殺菌水を生成する場合を例示しているが、電極
間を電解隔膜で仕切った有隔膜電解槽で生成した上記と
同様の次亜塩素酸殺菌水を使用することももちろん可能
である。
亜塩素酸殺菌水を生成する場合を例示しているが、電極
間を電解隔膜で仕切った有隔膜電解槽で生成した上記と
同様の次亜塩素酸殺菌水を使用することももちろん可能
である。
【００１６】この噴霧装置２は、例えばコンプレッサで
加圧した次亜塩素酸含有殺菌水を、多孔質性の噴霧ノズ
ル３から、粒子径が２．５〜５ミクロンの超微粒子の霧
状にして噴霧するようになっており、超微粒子の霧状で
噴霧することにより、空間４内の空気中に長時間滞留す
るとともに、空間４内の空気対流によって空間４内全域
に均一に拡散し、少量の噴霧で充分な殺菌ができるよう
になっている。なお、この噴霧装置２としては、例えば
株式会社アデカクリーンエイド製の噴霧装置「キャプテ
ン・ＬＶ・フォッガー（商品名）」が用いられる。
加圧した次亜塩素酸含有殺菌水を、多孔質性の噴霧ノズ
ル３から、粒子径が２．５〜５ミクロンの超微粒子の霧
状にして噴霧するようになっており、超微粒子の霧状で
噴霧することにより、空間４内の空気中に長時間滞留す
るとともに、空間４内の空気対流によって空間４内全域
に均一に拡散し、少量の噴霧で充分な殺菌ができるよう
になっている。なお、この噴霧装置２としては、例えば
株式会社アデカクリーンエイド製の噴霧装置「キャプテ
ン・ＬＶ・フォッガー（商品名）」が用いられる。
【００１７】次に、前記システムを用いた本発明の殺菌
方法について説明する。電解槽１に、水道水等の原水を
供するとともに、塩化ナトリウム、塩酸などの塩化物を
添加剤として供給し、電解槽１の電極５、６に電流を印
加することによってして槽内の水をｐＨ３〜７、好まし
くは、ｐＨ４〜６．５の次亜塩素酸殺菌水に生成する。
方法について説明する。電解槽１に、水道水等の原水を
供するとともに、塩化ナトリウム、塩酸などの塩化物を
添加剤として供給し、電解槽１の電極５、６に電流を印
加することによってして槽内の水をｐＨ３〜７、好まし
くは、ｐＨ４〜６．５の次亜塩素酸殺菌水に生成する。
【００１８】このようにして得た次亜塩素酸含有殺菌水
を、噴霧装置２に送り、その噴霧ノズル３から粒子径が
２．５〜５ミクロンの超微粒子の霧状にして空間４内に
噴霧する。
を、噴霧装置２に送り、その噴霧ノズル３から粒子径が
２．５〜５ミクロンの超微粒子の霧状にして空間４内に
噴霧する。
【００１９】ところで、次亜塩素酸水溶液は、図２に示
すように、ｐＨ８以上では次亜塩素酸イオン（ＣｌＯ
￣）の存在比が高くなり、殺菌力が次亜塩素酸（ＨＣｌ
Ｏ）の場合に比較して著しく減少するが、ｐＨ３〜７の
範囲ではＨＣｌＯの形で保たれ、殺菌力が飛躍的に増大
する。したがって、ｐＨ３〜７の次亜塩素酸水は、残留
塩素濃度が３０〜６０ｐｐｍ程度の低濃度であっても、
ｐＨ８で残留塩素濃度が２００ｐｐｍ程度の殺菌水と同
等の殺菌効果が得られる。
すように、ｐＨ８以上では次亜塩素酸イオン（ＣｌＯ
￣）の存在比が高くなり、殺菌力が次亜塩素酸（ＨＣｌ
Ｏ）の場合に比較して著しく減少するが、ｐＨ３〜７の
範囲ではＨＣｌＯの形で保たれ、殺菌力が飛躍的に増大
する。したがって、ｐＨ３〜７の次亜塩素酸水は、残留
塩素濃度が３０〜６０ｐｐｍ程度の低濃度であっても、
ｐＨ８で残留塩素濃度が２００ｐｐｍ程度の殺菌水と同
等の殺菌効果が得られる。
【００２０】特に、ｐＨ４〜６．５の次亜塩素酸水は、
図２に示すように、残留遊離塩素が次亜塩素酸の形で存
在する比率が極めて高いので大きな殺菌力が得られ、ま
た次亜塩素酸濃度が２０〜１００ｐｐｍの次亜塩素酸水
は、病室、手術室、実験動物舎、食品工場、あるいはビ
ニールハウス等、殺菌水の墳霧による多少の湿気が許容
されるところであれば、どのような空間４に対しても適
用でき、充分な殺菌力を有し、且つ、短時間で空間４内
を殺菌することができる。したがって、次亜塩素酸含有
殺菌水は、ｐＨが４〜６．５で次亜塩素酸濃度が２０〜
１００ｐｐｍであることがより好ましい。
図２に示すように、残留遊離塩素が次亜塩素酸の形で存
在する比率が極めて高いので大きな殺菌力が得られ、ま
た次亜塩素酸濃度が２０〜１００ｐｐｍの次亜塩素酸水
は、病室、手術室、実験動物舎、食品工場、あるいはビ
ニールハウス等、殺菌水の墳霧による多少の湿気が許容
されるところであれば、どのような空間４に対しても適
用でき、充分な殺菌力を有し、且つ、短時間で空間４内
を殺菌することができる。したがって、次亜塩素酸含有
殺菌水は、ｐＨが４〜６．５で次亜塩素酸濃度が２０〜
１００ｐｐｍであることがより好ましい。
【００２１】本発明者等は、ｐＨが５．５で次亜塩素酸
濃度が５０ｐｐｍの次亜塩素酸含有殺菌水を用い、この
殺菌水を霧状にして、殺菌すべき空間４内に噴霧する実
験を行なった。その結果、約２時間経過後に菌数が急激
に減少し、空間４内をほぼ無菌状態にすることができる
ことが確認された。
濃度が５０ｐｐｍの次亜塩素酸含有殺菌水を用い、この
殺菌水を霧状にして、殺菌すべき空間４内に噴霧する実
験を行なった。その結果、約２時間経過後に菌数が急激
に減少し、空間４内をほぼ無菌状態にすることができる
ことが確認された。
【００２２】しかして、水の電気分解により生成したｐ
Ｈ３〜７の次亜塩素酸含有殺菌水、より好ましくはｐＨ
が４〜６．５で次亜塩素酸濃度が２０〜１００ｐｐｍの
次亜塩素酸含有殺菌水を、空間４内に噴霧するようにし
ているので、安全性を損なうことなく、空間４内を短時
間で確実に殺菌することができる。また、次亜塩素酸含
有殺菌水は、殺菌後は通常の水に戻るので、残留性が問
題となることは全くない。
Ｈ３〜７の次亜塩素酸含有殺菌水、より好ましくはｐＨ
が４〜６．５で次亜塩素酸濃度が２０〜１００ｐｐｍの
次亜塩素酸含有殺菌水を、空間４内に噴霧するようにし
ているので、安全性を損なうことなく、空間４内を短時
間で確実に殺菌することができる。また、次亜塩素酸含
有殺菌水は、殺菌後は通常の水に戻るので、残留性が問
題となることは全くない。
【００２３】なお、前記実施例においては、電解槽１で
の、電気分解により生成した次亜塩素酸含有殺菌水を、
直接噴霧装置２の供給する場合について説明したが、水
の電気分解により生成した次亜塩素酸含有殺菌水を、予
め容器に溜めておき、この容器から噴霧装置２に供給す
るようにしてもよい。この方法の場合には、短時間で大
量噴霧するような場合でも、電解槽１を大型化する必要
がない等の利点がある。
の、電気分解により生成した次亜塩素酸含有殺菌水を、
直接噴霧装置２の供給する場合について説明したが、水
の電気分解により生成した次亜塩素酸含有殺菌水を、予
め容器に溜めておき、この容器から噴霧装置２に供給す
るようにしてもよい。この方法の場合には、短時間で大
量噴霧するような場合でも、電解槽１を大型化する必要
がない等の利点がある。
【００２４】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、水の電気
分解により生成したｐＨ３〜７の次亜塩素酸含有殺菌水
を、殺菌すべき空間内に噴霧して前記空間内を殺菌する
ようにしているので、殺菌すべき空間内を、短時間でほ
ぼ完全な無菌状態になることができ、しかも安全性や残
留性が問題となることが全くない。
分解により生成したｐＨ３〜７の次亜塩素酸含有殺菌水
を、殺菌すべき空間内に噴霧して前記空間内を殺菌する
ようにしているので、殺菌すべき空間内を、短時間でほ
ぼ完全な無菌状態になることができ、しかも安全性や残
留性が問題となることが全くない。
【００２５】本発明はまた、ｐＨが４〜６．５で次亜塩
素酸濃度が２０〜１００ｐｐｍの次亜塩素酸含有殺菌水
を用いるようにしているので、残留遊離塩素が次亜塩素
酸の形で存在する次亜塩素酸含有殺菌水が得られ、より
大きな殺菌力を得ることができる。
素酸濃度が２０〜１００ｐｐｍの次亜塩素酸含有殺菌水
を用いるようにしているので、残留遊離塩素が次亜塩素
酸の形で存在する次亜塩素酸含有殺菌水が得られ、より
大きな殺菌力を得ることができる。
【００２６】本発明はさらに、次亜塩素酸含有殺菌水
を、粒子径が２．５〜５ミクロンの超微粒子の霧状にし
て噴霧するようにしているので、長時間空気中に滞留さ
せることができるとともに、空間内の空気の対流による
拡散現象により、空間内全域に均一に拡散することがで
き、結果として、より少ない噴霧量でより完全に殺菌す
ることができる。
を、粒子径が２．５〜５ミクロンの超微粒子の霧状にし
て噴霧するようにしているので、長時間空気中に滞留さ
せることができるとともに、空間内の空気の対流による
拡散現象により、空間内全域に均一に拡散することがで
き、結果として、より少ない噴霧量でより完全に殺菌す
ることができる。
【図１】 本発明に係る殺菌方法を実施するためのシス
テムの一例を示す構成図である。
テムの一例を示す構成図である。
【図２】 次亜塩素酸水溶液のｐＨと残留遊離塩素の存
在化との関係を示すグラフである。
在化との関係を示すグラフである。
１…電解槽、 ２…噴霧装置、 ３…噴霧ノズル、 ４
…空間、 ５、６…陰電極、
…空間、 ５、６…陰電極、
Claims (3)
- 【請求項１】 水の電気分解により生成したｐＨ３〜７
の次亜塩素酸含有殺菌水を、殺菌すべき空間内に噴霧し
て前記空間内を殺菌することを特徴とする殺菌方法。 - 【請求項２】 次亜塩素酸含有殺菌水は、ｐＨが４〜
６．５で次亜塩素酸濃度が２０〜１００ｐｐｍであるこ
とを特徴とする請求項１記載の殺菌方法。 - 【請求項３】 次亜塩素酸含有殺菌水は、粒子径が２．
５〜５ミクロンの超微粒子の霧状で噴霧されることを特
徴とする請求項１または２記載の殺菌方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6238438A JPH0871136A (ja) | 1994-09-06 | 1994-09-06 | 殺菌方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6238438A JPH0871136A (ja) | 1994-09-06 | 1994-09-06 | 殺菌方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0871136A true JPH0871136A (ja) | 1996-03-19 |
Family
ID=17030228
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6238438A Pending JPH0871136A (ja) | 1994-09-06 | 1994-09-06 | 殺菌方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0871136A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999033496A1 (fr) * | 1997-12-26 | 1999-07-08 | Morinaga Milk Industry Co., Ltd. | Procede de sterilisation d'articles et procede d'emballage d'articles |
| JP2004141429A (ja) * | 2002-10-24 | 2004-05-20 | N & S:Kk | 殺菌方法及び殺菌水 |
| JP2005272307A (ja) * | 2004-03-23 | 2005-10-06 | Dd Planning Kk | 抗菌・防カビ・消臭剤の噴霧方法及びその噴霧装置 |
| JP2008119450A (ja) * | 2006-10-18 | 2008-05-29 | Omega:Kk | 汚染気体浄化方法及び浄化機構 |
| WO2008152706A1 (ja) * | 2007-06-13 | 2008-12-18 | Harpie Co., Ltd. | 除菌清浄システム |
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| JP2016027849A (ja) * | 2014-07-08 | 2016-02-25 | 株式会社大林組 | 除菌処理方法及び除菌処理装置 |
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-
1994
- 1994-09-06 JP JP6238438A patent/JPH0871136A/ja active Pending
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Legal Events
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