JPH0866379A - Mri用マグネット及びmri用マグネット製造方法 - Google Patents
Mri用マグネット及びmri用マグネット製造方法Info
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- JPH0866379A JPH0866379A JP6203599A JP20359994A JPH0866379A JP H0866379 A JPH0866379 A JP H0866379A JP 6203599 A JP6203599 A JP 6203599A JP 20359994 A JP20359994 A JP 20359994A JP H0866379 A JPH0866379 A JP H0866379A
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Abstract
を行うことが可能なMRI用マグネットを実現し、ま
た、ボディコイルのQの低下を抑えつつ磁気遮蔽を行う
に適したMRI用マグネット製造方法を実現する。 【構成】 静磁場を発生する対向型磁石101,103
と、静磁場内に勾配磁場を印加するために前記対向型磁
石に対して設けられた勾配磁場コイル105,106
と、前記対向型磁石及び勾配磁場コイルを覆うエンクロ
ージャ109,110と、前記対向型磁石に挟まれた空
間に配置され、被検体からの核磁気共鳴信号を検出する
ボディコイル100と、前記エンクロージャと前記勾配
磁場コイルとの間の空間内に配置され、高周波遮蔽を行
うシールド材114,115とを備えたことを特徴とす
るMRI用マグネット。
Description
(MRI)装置に関し、特にシールドに配慮されたMR
I用マグネット及びMRI用マグネット製造方法に関す
る。
て被検体中の所望の検査部位における原子核スピンの密
度分布,緩和時間分布等を計測して、その計測データか
ら被検体の断面を画像表示するものである。
被検体の原子核スピンは、静磁場の強さによって定まる
周波数(ラーモア周波数)で静磁場の方向を軸として歳
差運動を行う。そこで、このラーモア周波数に等しい周
波数の高周波パルスを外部より照射すると、スピンが励
起されて高いエネルギー状態に遷移する。これを核磁気
共鳴現象と言う。この高周波パルスの照射を打ち切る
と、スピンはそれぞれの状態に応じた時定数で元の低い
エネルギー状態に戻り、この時に外部に電磁波を照射す
る。これをその周波数に同調した高周波受信コイル(R
Fコイル)で検出する。このとき、空間内に位置情報を
付加する目的で、三軸の勾配磁場を静磁場空間に印加す
る。この結果、空間内の位置情報を周波数情報として捕
らえることができる。
図5において、マグネットアセンブリ1は内部に被検体
を収容するため空間部分(孔)を有し、この空間部分を
取り巻くようにして、被検体に一定の静磁場を印加する
マグネットと勾配磁場を発生する勾配磁場コイル(勾配
磁場コイルはx,y,zの3軸のコイルを備えてい
る。)と被検体内の原子核のスピンを励起するためのR
Fパルス送信コイルと被検体からのNMR信号を検出す
る受信コイル(ボディコイル等)が配置されている。
イル及び受信コイルは、それぞれ静磁場電源2、勾配磁
場駆動回路3、RF電力増幅器4及び前置増幅器5に接
続されている。
令に従って任意のビューで、ゲート変調回路8を操作
(所定のタイミングでRF発振回路9のRF出力信号を
変調)し、RFパルス信号をRF電力増幅器4からRF
送信コイルに印加する。
パルスシーケンスに基づくシーケンス信号によって勾配
磁場駆動回路3を操作して、x,y,zの3軸にそれぞ
れ勾配磁場を供給する。
参照信号として、前置増幅器5の受信信号出力を位相検
波するものである。この位相検波器10の出力信号はA
D変換器11においてディジタル信号に変換され、計算
機7に入力される。
のマグネットアセンブリ1の断面構成を示す断面図であ
る。この図6において、前述のマグネットアセンブリ1
は内部に被検体を収容するため空間部分(孔)を有し、
この空間部分にボディコイル100を有している。そし
て、このボディコイル100を取り巻くようにして、被
検体に一定の静磁場を印加する対向型のマグネット10
1,103、マグネット101,102からの静磁場を
整える整磁板102,104、勾配磁場を発生する勾配
磁場コイル105,106、磁場補正により静磁場の均
一度を保つために鉄片等で構成されたシム107,10
8が形成,配置されている。そして、これらはエンクロ
ージャ(enclosure)109,110により覆われてい
る。また、ボディコイル100とエンクロージャ10
9,110との間には高周波の遮蔽のための導電性の部
材で構成されたシールド111,112が設けられてい
る。尚、エンクロージャ109,110やマグネット1
01,103は図示しない枠や柱113に固定されてい
る。
て、シールド111,112によりボディコイル100
をシステム側(勾配磁場コイル105,106やその他
の磁性体で構成された部材)から磁気的に遮蔽して切り
離すようにしている。すなわち、このシールド111,
112により、ボディコイル100とシステム側の磁気
的カップリングが防止される。
2が存在していない場合では、ボディコイル100とシ
ステム側とが磁気的にカップリング(磁気結合)し、S
N比が悪化する等の問題を有している。このような問題
を防止するために、シールド111,112をボディコ
イル100の近傍に配置している。
100とエンクロージャ109,110との間には充分
な間隔は存在していないため、シールド111,112
がボディコイル100に近接するように配置されてい
る。
な状態(無限遠まで磁性体が存在しない状態)に比較し
て、1/5〜1/10程度に低下することがある。そし
て、このようにボディコイル100のQが低下すると、
同調周波数における受信信号強度が低下するため、充分
な受信信号を得るための送信パワーを大きくしなければ
ならないといった問題を有している。
で、第1の目的は、ボディコイルのQの低下を抑えつつ
磁気遮蔽を行うことが可能なMRI用マグネットを実現
することである。
低下を抑えつつ磁気遮蔽を行うに適したMRI用マグネ
ット製造方法を実現することである。
1の手段は、静磁場を発生する対向型磁石と、静磁場内
に勾配磁場を印加するために前記対向型磁石に対して設
けられた勾配磁場コイルと、前記対向型磁石及び勾配磁
場コイルを覆うエンクロージャと、前記対向型磁石に挟
まれた空間に配置され、被検体からの核磁気共鳴信号を
検出するボディコイルと、前記エンクロージャと前記勾
配磁場コイルとの間の空間内に配置され、高周波遮蔽を
行うシールド材と、を備えたことを特徴とするMRI用
マグネットである。
場を発生する対向型磁石と、静磁場内に勾配磁場を印加
するために前記対向型磁石に対して設けられた勾配磁場
コイルと、磁場補正により前記対向型磁石からの静磁場
の均一度を保つシム手段と、前記対向型磁石,勾配磁場
コイル及びシム手段を覆うエンクロージャと、前記対向
型磁石に挟まれた空間に配置され、被検体からの核磁気
共鳴信号を検出するボディコイルと、前記勾配磁場コイ
ルと前記シム手段との間に配置され、高周波遮蔽を行う
シールド材と、を備えたことを特徴とするMRI用マグ
ネットである。
場を発生するための対向型磁石を設け、静磁場内に勾配
磁場を印加するために前記対向型磁石に対して勾配磁場
コイルを設け、少なくとも勾配磁場コイルの内側を覆う
ように高周波遮蔽のためのシールド材を設け、磁場補正
により前記対向型磁石からの静磁場の均一度を保つよう
にシム手段を設けることを特徴とするMRI用マグネッ
ト製造方法である。
ネットにおいては、エンクロージャと勾配磁場コイルと
の間の空間内にシールド材が配置されて高周波遮蔽が行
なわれるため、ボディコイルとシールド材との間隔が大
きくなるため、ボディコイルのQの低下が抑えられる。
マグネットにおいては、勾配磁場コイルとシム手段との
間の空間内にシールド材が配置されて高周波遮蔽が行な
われるため、ボディコイルとシールド材との間隔が大き
くなるため、ボディコイルのQの低下が抑えられる。
マグネット製造方法においては、対向型磁石及び勾配磁
場コイルを設けた後に、高周波遮蔽のためのシールド材
を設け、更にその後に、磁場補正により前記対向型磁石
からの静磁場の均一度を保つようにシム手段を設けるよ
うにしているので、ボディコイルのQの低下を抑えつつ
磁気遮蔽を行うに適したMRI用マグネットを製造する
ことができる。
に説明する。図1は本発明の一実施例のMRI用マグネ
ットの主要部の断面構成を示す断面図である。既に説明
を行った図5の構成と同一部分には同一番号を付してあ
る。
では、エンクロージャ内(勾配磁場コイル付近では勾配
磁場コイルとシム手段との間,その他の部分ではエンク
ロージャと整磁板との間)にシールド材114,115
を配置してある。
114,115としては、銅テープ(銅箔)、銅メッシ
ュ、蒸着,スパッタリング,メッキ,導電塗装を施した
フィルム、勾配磁場コイルを構成する基板の裏面に形成
する銅パターン等が考えられる。
を配置した結果、例えば、従来はシールドとボディコイ
ル間が10mmであったものを、30mmに広げること
ができる。また、シールド材の配置場所を変更したもの
の、他の部位の配置,寸法を変更する必要は一切無い。
石が一般的であるが、コイルを用いたものも可能であ
る。図2はボディコイルとシールド材との距離d[m
m]と必要な受信信号を得るために要求されるRFパワ
ーの値との関係の一例を示した特性図である。この図2
に示す例では、距離dを20mmから30mmに広げた
場合、必要なレベルの受信信号を得るためにRFパワー
が半分で済むことが分かる。
ボディコイルの寸法を変更する必要はなく、シールド材
の位置のみを変更することが可能である。従って、ボデ
ィコイルのQの低下を確実に抑えることが可能になり、
RFパワーを有効に利用することができる。
115をエンクロージャ109,110内(シム10
7,108とエンクロージャ109,110との間、ま
たは、勾配磁場コイル105,106とシム107,1
08との間のいずれか)に配置することで、シールド材
114,115をボディコイル100から離すことがで
き、ボディコイル100のQの低下を抑えることが可能
になる。
あって、勾配磁場コイル105,106とシム107,
108との間にシールド材114,115を配置したこ
とで、シールド材114,115を配置した状態でシミ
ングを実行出来るので、シミング精度を向上させること
も可能になる。
ネットの構成を示す構成図である。前述の実施例の構成
ではエンクロージャ近傍をシールド材114,115で
覆うようにしていたが、この図3に示す実施例では端部
も含めて一体のシールド材116で覆うようにしたこと
を特徴としている。このようにすることで、ボディコイ
ル100とシステム側との磁気的カップリング(磁気結
合)を更に確実に防止でき、SN比の悪化,Qの低下を
抑えることができる。
0に搬入するために、必要に応じてシールド材116の
端部の一部に穴を設ければ良い。以上説明したように、
静磁場を発生する対向型磁石と、静磁場内に勾配磁場を
印加するために前記対向型磁石に対して設けられた勾配
磁場コイルと、前記対向型磁石及び勾配磁場コイルを覆
うエンクロージャと、前記対向型磁石に挟まれた空間に
配置され、被検体からの核磁気共鳴信号を検出するボデ
ィコイルと、前記エンクロージャと前記勾配磁場コイル
との間の空間内に配置され、高周波遮蔽を行うシールド
材とを備えたことを特徴とするMRI用マグネットによ
れば、エンクロージャと勾配磁場コイルとの間の空間内
にシールド材が配置されて高周波遮蔽が行なわれるた
め、ボディコイルとシールド材との間隔が大きくなるた
め、ボディコイルのQの低下が抑えられる。
磁場内に勾配磁場を印加するために前記対向型磁石に対
して設けられた勾配磁場コイルと、磁場補正により前記
対向型磁石からの静磁場の均一度を保つシム手段と、前
記対向型磁石,勾配磁場コイル及びシム手段を覆うエン
クロージャと、前記対向型磁石に挟まれた空間に配置さ
れ、被検体からの核磁気共鳴信号を検出するボディコイ
ルと、前記勾配磁場コイルと前記シム手段との間に配置
され、高周波遮蔽を行うシールド材とを備えたことを特
徴とするMRI用マグネットによれば、勾配磁場コイル
とシム手段との間の空間内にシールド材が配置されて高
周波遮蔽が行なわれるため、ボディコイルとシールド材
との間隔が大きくなるため、ボディコイルのQの低下が
抑えられる。
工程を示すフローチャートである。この図4のフローチ
ャートを図1の構成と共に説明する。従来のMRI用マ
グネットは図6に示した構成であったので、マグネット
部分(マグネット101,103、整磁板102,10
4)及び勾配磁場コイル105,106を形成し、シム
107,108を設けてシミングを行い、更にMRI用
マグネットをエンクロージャ109,110で覆った後
にシールドを形成するようにしていた。
方法では、まずマグネット部分(マグネット101,1
03、整磁板102,104)及び勾配磁場コイル10
5,106を形成する(図4ステップ)。
6の内面側にシールド114,115を設ける(図4ス
テップ)。このシールド114,115の材質として
は、前述したように、銅テープ(銅箔)、銅メッシュ、
蒸着,スパッタリング,無電解メッキ,導電塗装を施し
たフィルム、勾配磁場コイルを構成する基板の裏面に形
成する銅パターン等があり、それぞれの材質に適した手
法で取り付けを行うようにする。
て取り付けを行ったり、従来工法により圧力をかけてネ
ジ止めしたり、メッシュの銅箔を立体的に取り付けた
り、また、型を作ってシールド材を作りはめ込むこと等
が考えられる。また、蒸着や塗装は成形の前であっても
後であっても構わない。尚、図3に示す構成では、この
シールド材でボディコイル100全体を囲むようにす
る。
ミングによって磁場補正を行い(図4ステップ)、最
後にエンクロージャ109,110を形成するようにす
る(図4ステップ)。
を行うことで、シールド材の磁場に対する影響も含めた
環境下でシミングを行えるようになり、シミングの精度
を従来より向上させることが可能になる。
めの対向型磁石を設け、静磁場内に勾配磁場を印加する
ために前記対向型磁石に対して勾配磁場コイルを設け、
少なくとも勾配磁場コイルの内側を覆うように高周波遮
蔽のためのシールド材を設け、磁場補正により前記対向
型磁石からの静磁場の均一度を保つようにシム手段を設
けることを特徴とするMRI用マグネット製造方法によ
れば、対向型磁石及び勾配磁場コイルを設けた後に、高
周波遮蔽のためのシールド材を設け、更にその後に、磁
場補正により前記対向型磁石からの静磁場の均一度を保
つようにシム手段を設けるようにしているので、ボディ
コイルのQの低下を抑えつつ磁気遮蔽を行うに適したM
RI用マグネットを製造することができる。
ジャ内にシールド材を配置したMRI用マグネットにお
いては、エンクロージャと勾配磁場コイルとの間の空間
内にシールド材が配置されて高周波遮蔽が行なわれるた
め、ボディコイルとシールド材との間隔が大きくなり、
ボディコイルのQの低下が抑えられる。
シールド材を配置したMRI用マグネットにおいても、
ボディコイルとシールド材との間隔が大きくなるため、
ボディコイルのQの低下が抑えられる。
設けた後に、高周波遮蔽のためのシールド材を設け、更
にその後に、磁場補正により前記対向型磁石からの静磁
場の均一度を保つようにシム手段を設けるMRI用マグ
ネット製造方法では、シールド材形成後にシミングを行
うことで、シールド材の磁場に対する影響も含めた環境
下でシミングを行えるようになり、シミングの精度を従
来より向上させることが可能であり、ボディコイルのQ
の低下を抑えつつ磁気遮蔽を行うに適したMRI用マグ
ネットを製造することができる。
例を示す断面構成図である。
ールド材との距離の関係によって要求されるRFパワー
の特性を示す特性図である。
成例を示す断面構成図である。
法の概略工程を示すフローチャートである。
る。
構成図である。
Claims (3)
- 【請求項1】 静磁場を発生する対向型磁石と、 静磁場内に勾配磁場を印加するために前記対向型磁石に
対して設けられた勾配磁場コイルと、 前記対向型磁石及び勾配磁場コイルを覆うエンクロージ
ャと、 前記対向型磁石に挟まれた空間に配置され、被検体から
の核磁気共鳴信号を検出するボディコイルと、 前記エンクロージャと前記勾配磁場コイルとの間の空間
内に配置され、高周波遮蔽を行うシールド材と、 を備えたことを特徴とするMRI用マグネット。 - 【請求項2】 静磁場を発生する対向型磁石と、 静磁場内に勾配磁場を印加するために前記対向型磁石に
対して設けられた勾配磁場コイルと、 磁場補正により前記対向型磁石からの静磁場の均一度を
保つシム手段と、 前記対向型磁石,勾配磁場コイル及びシム手段を覆うエ
ンクロージャと、 前記対向型磁石に挟まれた空間に配置され、被検体から
の核磁気共鳴信号を検出するボディコイルと、 前記勾配磁場コイルと前記シム手段との間に配置され、
高周波遮蔽を行うシールド材と、 を備えたことを特徴とするMRI用マグネット。 - 【請求項3】 静磁場を発生するための対向型磁石を設
け、静磁場内に勾配磁場を印加するために前記対向型磁
石に対して勾配磁場コイルを設け、 少なくとも勾配磁場コイルの内側を覆うように高周波遮
蔽のためのシールド材を設け、 磁場補正により前記対向型磁石からの静磁場の均一度を
保つようにシム手段を設けることを特徴とするMRI用
マグネット製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6203599A JPH0866379A (ja) | 1994-08-29 | 1994-08-29 | Mri用マグネット及びmri用マグネット製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6203599A JPH0866379A (ja) | 1994-08-29 | 1994-08-29 | Mri用マグネット及びmri用マグネット製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0866379A true JPH0866379A (ja) | 1996-03-12 |
Family
ID=16476731
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6203599A Pending JPH0866379A (ja) | 1994-08-29 | 1994-08-29 | Mri用マグネット及びmri用マグネット製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0866379A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008026003A (ja) * | 2006-07-18 | 2008-02-07 | Jeol Ltd | Nmrプローブ |
US8108987B2 (en) | 2002-12-23 | 2012-02-07 | General Electric Company | Method of manufacturing a pole face for a permanent magnet MRI system with laminated structure |
JP2013169240A (ja) * | 2012-02-17 | 2013-09-02 | Hitachi Medical Corp | 磁気共鳴イメージング装置 |
-
1994
- 1994-08-29 JP JP6203599A patent/JPH0866379A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8108987B2 (en) | 2002-12-23 | 2012-02-07 | General Electric Company | Method of manufacturing a pole face for a permanent magnet MRI system with laminated structure |
JP2008026003A (ja) * | 2006-07-18 | 2008-02-07 | Jeol Ltd | Nmrプローブ |
JP2013169240A (ja) * | 2012-02-17 | 2013-09-02 | Hitachi Medical Corp | 磁気共鳴イメージング装置 |
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