JPH0864746A - Lead frame, semiconductor device, and manufacture of semiconductor device - Google Patents
Lead frame, semiconductor device, and manufacture of semiconductor deviceInfo
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- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Die Bonding (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、リードフレーム、半導
体装置及び半導体装置の製造方法に関し、特にLSIパ
ッケージのリフロークラック耐性の向上及びリードフレ
ームの標準化に適用して有効な技術である。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lead frame, a semiconductor device, and a method for manufacturing a semiconductor device, and is a technique particularly effective when applied to the improvement of reflow crack resistance of an LSI package and the standardization of the lead frame.
【0002】[0002]
【従来の技術】ウェハプロセスを完了し、ダイシングに
よって個々に分離された半導体ペレットは外部端子との
接続を行ない封止体に封止されて製品となる。外部端子
との接続には、半導体ペレットを搭載するダイパッド
(タブ)と半導体ペレットと電気的に接続され外部電極
となるリードとをフレームによって一体としたリードフ
レームを用いる方法が一般的である。リードフレームに
は42アロイ,銅等の金属の薄板をスタンピング加工或
いはエッチング加工等によって成形したものが用いら
れ、封止体には、製造が容易でありコストも低いことか
ら、エポキシ樹脂やシリコン樹脂を封止樹脂として用い
た樹脂モールドが多く採用されている。2. Description of the Related Art A semiconductor pellet, which has been completed by a wafer process and separated by dicing, is connected to external terminals and sealed in a sealing body to form a product. For connection with external terminals, a method is generally used in which a die pad (tab) on which a semiconductor pellet is mounted and a lead frame which is electrically connected to the semiconductor pellet and serves as an external electrode are integrated by a frame. The lead frame is made of a thin metal plate of 42 alloy, copper or the like and is formed by stamping or etching. The sealing body is easy to manufacture and low in cost. Therefore, epoxy resin or silicon resin is used. A resin mold using a resin as a sealing resin is often used.
【0003】しかしながら、これらの樹脂はリードフレ
ームに用いる金属との接着が弱く、また前記金属との膨
張係数の差が大きいために、温度の変化によりダイパッ
ドと封止樹脂との間に隙間が生じることがある。However, since these resins have weak adhesion to the metal used for the lead frame and have a large difference in expansion coefficient from the metal, a gap is generated between the die pad and the sealing resin due to temperature change. Sometimes.
【0004】封止樹脂自体に吸水性があるため、封止樹
脂内部に大気中の水分が吸収され、ダイパッドと封止樹
脂との隙間にて結露し吸湿水となり、内部に溜ることが
ある。特に、TSOP(Thin Small Outline Package)
型、TQFP(Thin Quad Flat Package)型等の薄型の
半導体装置では、パッケージの封止樹脂も薄くなってお
り、水分の浸入が起こりやすくなっている。Since the sealing resin itself absorbs water, moisture in the atmosphere is absorbed inside the sealing resin, and dew condensation occurs in the gap between the die pad and the sealing resin to form moisture absorption water, which may accumulate inside. Especially TSOP (Thin Small Outline Package)
Type, TQFP (Thin Quad Flat Package) type, and other thin semiconductor devices, the sealing resin of the package is also thin, and water easily enters.
【0005】水分が侵入し吸湿した半導体装置は、プリ
ント基板等の実装基板に実装するリフロー工程にて半導
体装置を加熱する際に、侵入した吸湿水が気化膨張する
ことによってパッケージの内部圧力が上昇し、封止樹脂
とダイパッドとの介面に剥離が生じる界面剥離、或いは
この剥離が水分の膨張、すなわち水蒸気圧によって拡大
して封止樹脂が割れるパッケージクラック等が発生し半
導体装置を破損することがある。In a semiconductor device in which moisture invades and absorbs moisture, when the semiconductor device is heated in a reflow step of mounting on a mounting board such as a printed circuit board, the invading hygroscopic water vaporizes and expands to increase the internal pressure of the package. However, interface peeling that causes peeling between the sealing resin and the die pad, or this peeling may expand the moisture, that is, package cracks in which the sealing resin cracks due to expansion by water vapor pressure may damage the semiconductor device. is there.
【0006】このような破損を防止するために、ダイパ
ッドと封止樹脂との接着性を改善する等の対策がなされ
ているが、まだ十分な解決策とはなっていない。[0006] In order to prevent such damage, measures such as improving the adhesiveness between the die pad and the sealing resin have been taken, but this is not a sufficient solution yet.
【0007】従来、樹脂とダイパッドの界面の剥離を防
ぐ対策としては、ダイパッドにスリットを設け、このス
リットによって半導体ペレットの裏面を樹脂と密着させ
界面に生じる内部応力を分散させる方法(特開平2‐8
3961号)やダイパッドの裏面にディンプル加工を施
す(特開昭55‐160449号)ことによって、樹脂
とダイパッドの接着力を向上させる方法が知られてい
る。Conventionally, as a measure for preventing the peeling of the interface between the resin and the die pad, a slit is provided in the die pad, and the back surface of the semiconductor pellet is brought into close contact with the resin by the slit to disperse the internal stress generated at the interface (JP-A-2- 8
No. 3961) or a method for improving the adhesive force between the resin and the die pad by performing dimple processing on the back surface of the die pad (JP-A-55-160449).
【0008】また、ダイパッドを半導体ペレットサイズ
よりも小さくした小タブ構造とすることにより、半導体
ペレットの裏面と樹脂を密着させる方法(特願平4‐7
1116号)も考えられている。図11に示すのは、小
タブ構造のリードフレームの例であり、図12は樹脂封
止後の状態を示す断面図であり、図11中a‐a線に沿
った位置に相当する。小タブ11は、搭載する半導体ペ
レット12よりも小さく形成されている。小タブ11
は、その4方を吊りリード13によってフレーム14に
固定されている。半導体ペレット12は小タブ11に形
成された接着層15によって固定されている。なお、図
中16は封止樹脂である。[0008] Further, a method of bringing the back surface of the semiconductor pellet into close contact with the resin by forming the die pad with a small tab structure smaller than the size of the semiconductor pellet (Japanese Patent Application No. 4-7).
No. 1116) is also considered. FIG. 11 shows an example of a lead frame having a small tab structure, and FIG. 12 is a sectional view showing a state after resin sealing, which corresponds to a position along line aa in FIG. The small tab 11 is formed smaller than the semiconductor pellet 12 to be mounted. Small tab 11
The four sides are fixed to the frame 14 by suspension leads 13. The semiconductor pellet 12 is fixed by an adhesive layer 15 formed on the small tab 11. In the figure, 16 is a sealing resin.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら近年のL
SIパッケージは、樹脂体中に占める半導体ペレットの
面積割合が増加して、さらに半導体ペレットに対する封
止樹脂の比率が従来よりも低い、即ち極めて薄くなって
いるため、前記のスリットやディンプルを形成する方法
では、パッケージクラックを防止することが困難になり
つつある。However, in recent years, L
In the SI package, since the area ratio of the semiconductor pellets in the resin body increases and the ratio of the sealing resin to the semiconductor pellets is lower than that of the conventional one, that is, it is extremely thin, the above-mentioned slits and dimples are formed. Methods are becoming difficult to prevent package cracks.
【0010】また、前記の小タブ構造においては、パッ
ケージクラックを防止できる有効な方法ではあるが、他
の問題が生じている。Further, although the above-mentioned small tab structure is an effective method for preventing package cracks, other problems have occurred.
【0011】その問題とは、ダイパッド面積小のためペ
レット接着キュア前のペレットとダイパッドとの粘着強
度が低く、ペレット接着後キュア工程までのフレーム搬
送時にペレットずれ、ペレット剥がれが発生する。ま
た、半導体ペレット12の接着部が小タブ11の部分即
ち半導体ペレット12中央部のみのため、吊りリード1
3が長くなり、モールド時に吊りリード13が変形し
て、図13に示すようにタブ浮きが生じやすい。更に、
小タブ構造に限らず、従来のペレット付け工程は、ペー
スト保管・ペースト塗布量・濡れ面積等の管理項目が多
く、品質の安定化が困難であった。The problem is that since the die pad area is small, the adhesive strength between the pellet and the die pad before pellet adhesion curing is low, and the pellet shifts and the pellet peels off during frame transportation after the pellet adhesion and before the curing step. Further, since the adhesive portion of the semiconductor pellet 12 is only the portion of the small tab 11, that is, the central portion of the semiconductor pellet 12, the suspension lead 1
3 becomes long, the suspension leads 13 are deformed during molding, and tab floating tends to occur as shown in FIG. Furthermore,
Not only in the small tab structure, but in the conventional pelletizing process, there are many control items such as paste storage, paste application amount, wetted area, etc., and it is difficult to stabilize the quality.
【0012】本発明の目的は、LSIパッケージのリフ
ロークラック耐性を向上させ、且つ組立工程における不
良の低減及び工程の簡略化を実現できる技術を提供する
ことである。An object of the present invention is to provide a technique capable of improving the reflow crack resistance of an LSI package, reducing defects in the assembly process, and simplifying the process.
【0013】また、近年LSIの製造形態が需要の多様
化により多品種少量生産化しており、品種の増加に応じ
て、リードフレームも多くの種類を用意しなければなら
ず、その管理が煩雑でありコストも増加している。本発
明の他の目的は、種々の異なる半導体装置に適用可能な
リードフレームを実現する、即ちリードフレームの標準
化を実現できる技術を提供することである。Further, in recent years, the manufacturing form of LSI has been diversified in demand and is being produced in small quantities of a wide variety of products. As the variety of products increases, many types of lead frames must be prepared, and the management thereof is complicated. Yes, costs are also increasing. Another object of the present invention is to provide a technique capable of realizing a lead frame applicable to various different semiconductor devices, that is, a standardization of the lead frame.
【0014】[0014]
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
下記の通りである。Of the inventions disclosed in the present application, a representative one will be briefly described below.
It is as follows.
【0015】従来のリードフレームに設けられていたダ
イパッドを廃止して、半導体ペレット搭載位置の中央に
直線状に延在する支持リードを設け、この支持リードの
上面に、予め熱可塑性樹脂で接着層を形成し、この接着
層を介して支持リードに半導体ペレットを固定する。The die pad provided on the conventional lead frame is abolished, and a support lead extending linearly is provided at the center of the semiconductor pellet mounting position, and an adhesive layer made of a thermoplastic resin is previously formed on the upper surface of the support lead. And the semiconductor pellet is fixed to the support lead via this adhesive layer.
【0016】[0016]
【作用】上述した手段によれば、ダイパッドを廃止し支
持リードによって半導体ペレットを固定したことによ
り、従来のスリット構造及び小タブ構造に比べ、半導体
ペレット裏面と封止樹脂との接着面積を拡大することが
可能となり、リフロークラック耐性が向上する。According to the above-mentioned means, the die pad is eliminated and the semiconductor pellet is fixed by the support lead, so that the bonding area between the back surface of the semiconductor pellet and the sealing resin is enlarged as compared with the conventional slit structure and the small tab structure. It is possible to improve reflow crack resistance.
【0017】また、最大半導体ペレットに合わせて、接
着層を形成しておくことにより、種々のサイズの半導体
ペレットに対応可能となり、リードフレームの標準化に
寄与し、ペレット端部までリードフレームと接着させる
ことができ、小タブ構造のものと比較して樹脂封止の際
のペレット浮きがなくなる。Further, by forming an adhesive layer in accordance with the maximum semiconductor pellet, semiconductor pellets of various sizes can be accommodated, which contributes to standardization of the lead frame and adheres the lead frame up to the end of the pellet. As compared with the small tab structure, the floating of pellets during resin sealing is eliminated.
【0018】更に、接着層に熱可塑性樹脂を用いること
によって、熱硬化性樹脂を用いた場合に必要なキュア工
程及びキュア装置が不用となり、工程の短縮及び作業ス
ペースの縮小が可能となり、熱可塑性樹脂がペレット付
け時の溶融高温状態においても粘度が高いため、フレー
ム搬送でのペレットずれ、ペレット剥がれがなくなり、
ペレットずれやペレット剥がれが発生しても、加熱状態
で半導体ペレットの位置を修正できるので不良品の発生
を防止できる。Further, by using a thermoplastic resin for the adhesive layer, the curing process and the curing device required when the thermosetting resin is used are unnecessary, and the process and the work space can be shortened, and the thermoplastic property is improved. Since the resin has a high viscosity even in the high temperature melting state during pelletization, pellet displacement and pellet peeling during frame transfer are eliminated.
Even if the pellet shifts or peels off, the position of the semiconductor pellet can be corrected in the heated state, so that the generation of defective products can be prevented.
【0019】以下、本発明の構成について、実施例とと
もに説明する。The structure of the present invention will be described below together with embodiments.
【0020】なお、実施例を説明するための全図におい
て、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰り
返しの説明は省略する。In all the drawings for explaining the embodiments, parts having the same functions are designated by the same reference numerals, and the repeated description thereof will be omitted.
【0021】[0021]
(実施例1)図1に示すのは本発明の一実施例であるQ
FP(Quad Flat Package)型の半導体装置のフレーム
切断前の状態を一部切り欠いて示す平面図であり、図2
に示すのは、そのa‐a線に沿った縦断面図、図3に示
すのは、そのb‐b線に沿った縦断面図である。(Embodiment 1) FIG. 1 shows an embodiment Q of the present invention.
FIG. 2 is a plan view showing a partially cut-away state of the FP (Quad Flat Package) type semiconductor device before cutting the frame.
3 is a vertical sectional view taken along the line aa, and FIG. 3 is a vertical sectional view taken along the line bb.
【0022】図中、1は半導体ペレット、2は外部端子
となるリード、3は半導体ペレットを固定する支持リー
ド、4は樹脂を用いて封止体とする封止樹脂である。In the figure, 1 is a semiconductor pellet, 2 is a lead to be an external terminal, 3 is a support lead for fixing the semiconductor pellet, and 4 is a sealing resin which is a sealing body using a resin.
【0023】リード2は、半導体ペレット1のボンディ
ングパッドとボンディングワイヤ5によって接続するイ
ンナーリード2aと、半導体装置の実装時に他の装置・
配線と接続するためのアウターリード2bとが一体とな
っている。The leads 2 are the inner leads 2a connected to the bonding pads of the semiconductor pellet 1 by the bonding wires 5, and other devices when mounting the semiconductor device.
The outer lead 2b for connecting to the wiring is integrated.
【0024】支持リード3は半導体ペレット1搭載位置
の中央から互いに直交して4方向に直線状に延在し、封
止樹脂4の4隅を貫通する。The support leads 3 extend linearly in four directions orthogonal to each other from the center of the mounting position of the semiconductor pellet 1, and penetrate the four corners of the sealing resin 4.
【0025】リード2と支持リード3とはフレーム6に
よって一体化したリードフレーム7となっている。リー
ドフレーム7は、金属の薄板を成形し、樹脂モールドに
よって固定される前の各リード2及び支持リード3をフ
レーム6によって一体化している。The lead 2 and the support lead 3 are integrated by a frame 6 to form a lead frame 7. The lead frame 7 is formed by molding a thin metal plate, and each lead 2 and support lead 3 before being fixed by resin molding are integrated by a frame 6.
【0026】他にリードフレーム7には封止樹脂4の側
面近傍で各リード2の間に生じる隙間から樹脂が流出す
るのを防止するダム8が形成されている。In addition, the lead frame 7 is provided with a dam 8 for preventing the resin from flowing out from the gap formed between the leads 2 in the vicinity of the side surface of the sealing resin 4.
【0027】支持リード3の半導体ペレット1搭載部分
には、例えばポリイミド系の熱可塑性樹脂からなる接着
層9が塗布してある。An adhesive layer 9 made of, for example, a polyimide-based thermoplastic resin is applied to the portion of the support lead 3 on which the semiconductor pellet 1 is mounted.
【0028】この支持リード3の幅は、細く形成するこ
とにより、所要の接着力を維持することができる。つま
り、ペレットと従来のダイパッドとの接着力を増加する
には、コレット荷重(ペレットに加える押圧力)を上げ
る方法が考えられるが、ペレット欠けの原因になるため
に困難である。本願発明では支持リードを細く形成する
ことで、接着面積は減少するが、接着面積の減少によっ
て単位面積あたりの押圧力が増加し、熱可塑性樹脂の接
着力が増すこととなり所要の接着力を維持することがで
きる。By forming the support lead 3 to have a small width, a required adhesive force can be maintained. In other words, in order to increase the adhesive force between the pellet and the conventional die pad, a method of increasing the collet load (pressing force applied to the pellet) can be considered, but this is difficult because it causes pellet breakage. In the present invention, the adhesion area is reduced by forming the support leads to be thin, but the decrease in the adhesion area increases the pressing force per unit area and increases the adhesive strength of the thermoplastic resin, thus maintaining the required adhesive strength. can do.
【0029】封止樹脂4は、エポキシ等を用いた樹脂モ
ールドによって一体に成形し、支持リード3に固定した
半導体ペレット1を収容し、各リード2を固定する。The encapsulating resin 4 is integrally molded by resin molding using epoxy or the like, and the fixed semiconductor pellets 1 are accommodated in the support leads 3 and the leads 2 are fixed.
【0030】図1に示す半導体装置の製造方法につい
て、以下説明する。A method of manufacturing the semiconductor device shown in FIG. 1 will be described below.
【0031】先ず、リードフレーム7を、例えば加熱し
たヒートブロックをリードフレーム7下部より押し当て
ることにより加熱して支持リード3の接着層9である熱
可塑性樹脂を溶融或いは軟化させる。First, the lead frame 7 is heated by pressing a heated heat block from below the lead frame 7 to melt or soften the thermoplastic resin which is the adhesive layer 9 of the support lead 3.
【0032】次に、搭載する半導体ペレット1を支持リ
ード3上の所定位置に搬送し、押圧接着する。その後、
例えば加熱用ヒートブロックをリードフレーム7から離
すことにより、熱可塑性樹脂を冷却固化させる。Next, the semiconductor pellet 1 to be mounted is conveyed to a predetermined position on the support lead 3 and pressure-bonded. afterwards,
For example, by separating the heating heat block from the lead frame 7, the thermoplastic resin is cooled and solidified.
【0033】その後キュア工程を経ずに、ワイヤボンデ
ィングを行ない、インナーリード2aと半導体ペレット
1のボンディングパッドとをボンディングワイヤ5によ
って電気的に接続する。ワイヤボンディングは、ワイヤ
ボンディング時の熱可塑性樹脂の再溶融を防止するた
め、熱可塑性樹脂の融点(約350℃程度)より低い温
度(例えば200℃程度)で行なわれる。After that, wire bonding is performed without passing through the curing step, and the inner lead 2a and the bonding pad of the semiconductor pellet 1 are electrically connected by the bonding wire 5. The wire bonding is performed at a temperature (for example, about 200 ° C.) lower than the melting point of the thermoplastic resin (about 350 ° C.) in order to prevent remelting of the thermoplastic resin during wire bonding.
【0034】ボンディングの終了した半導体装置は、モ
ールディング装置(図示せず)の金型に収容し、溶融し
た樹脂を金型内に注入し半導体ペレット1とインナーリ
ード2aとを樹脂封止する。The semiconductor device after bonding is housed in a mold of a molding device (not shown), and molten resin is injected into the mold to seal the semiconductor pellet 1 and the inner lead 2a with resin.
【0035】樹脂モールドによって封止樹脂4を形成し
た後に、リードフレーム7は、ダム8及びフレーム6を
切断し、支持リード3及び各リード2が各々独立した状
態となり、この後アウターリード2bを所定の形状に加
工する。After the sealing resin 4 is formed by the resin molding, the lead frame 7 cuts the dam 8 and the frame 6 so that the support lead 3 and each lead 2 become independent, and then the outer lead 2b is fixed. Processed into the shape of.
【0036】なお、熱可塑性樹脂の接着層9は、半導体
ペレット1の搭載位置を越えてインナーリード2aの端
部近傍まで形成する。これによってボンディングワイヤ
5が支持リード3に交差接触しても樹脂部分によって短
絡を防止することができる。またインナーリード2aの
先端を切除して更に大きな半導体ペレットを搭載しても
該半導体ペレットを充分に接着固定することができる。The thermoplastic resin adhesive layer 9 is formed beyond the mounting position of the semiconductor pellet 1 and near the end of the inner lead 2a. As a result, even if the bonding wire 5 cross-contacts the support lead 3, the resin portion can prevent a short circuit. Further, even if the tip of the inner lead 2a is cut off and a larger semiconductor pellet is mounted, the semiconductor pellet can be sufficiently adhered and fixed.
【0037】本実施例では、接着層9として熱可塑性樹
脂を用いているので、支持リード3に反りが生じている
場合でも、前述の如く半導体ペレット1を圧着する際に
加えられる単位面積あたりの押圧力の増加によって、そ
の反りが矯正され平坦状態となり、かつ熱可塑性樹脂が
溶融状態でも粘度が高いために平坦状態が維持されるの
で、支持リード3の変形に対する許容度が高くなり、リ
ードフレーム7の生産歩留が向上する。本実施例では支
持リードの幅をスタンピング加工の略限界である0.3
mmとしている。In this embodiment, since the thermoplastic resin is used as the adhesive layer 9, even when the support lead 3 is warped, the unit area per unit area added when the semiconductor pellet 1 is pressure-bonded as described above. The warp is corrected by the increase of the pressing force to be in a flat state, and since the thermoplastic resin has a high viscosity even in a molten state, the flat state is maintained, so that the tolerance of deformation of the support lead 3 is increased and the lead frame is increased. The production yield of No. 7 is improved. In this embodiment, the width of the supporting lead is set to 0.3, which is substantially the limit of stamping.
mm.
【0038】なお、前述した実施例では、接着層9を支
持リード3の半導体ペレット搭載領域全域に形成した
が、図4又は図5に示すように、接着層9を支持リード
3の半導体ペレット搭載領域に部分的に形成してもよ
い。半導体ペレット1への力の加わり方によって、効果
的に接着層9を形成することによって、接着剤を有効に
利用することができる。In the above-described embodiment, the adhesive layer 9 is formed on the entire area of the support lead 3 for mounting the semiconductor pellet, but as shown in FIG. 4 or 5, the adhesive layer 9 is mounted on the support lead 3 for mounting the semiconductor pellet. It may be partially formed in the region. The adhesive can be effectively used by effectively forming the adhesive layer 9 depending on how the force is applied to the semiconductor pellet 1.
【0039】一般に半導体装置のリードフレームの選定
では、搭載する半導体ペレットの大きさとリードの数が
主な条件となるが、本発明のリードフレーム7では、図
6に示すように、小型の半導体ペレット1にも用いるこ
とが可能であり、搭載する半導体ペレット1の自由度が
高いので、単一のリードフレーム7によって多くの種類
の半導体装置に対応することが可能となる。この場合
に、接着層9は、図6のように搭載する半導体ペレット
1に合わせて形成領域を小さくしても図1と同様に広く
形成してもよい。Generally, in selecting a lead frame for a semiconductor device, the main conditions are the size of the semiconductor pellet to be mounted and the number of leads, but in the lead frame 7 of the present invention, as shown in FIG. Since the semiconductor pellet 1 to be mounted has a high degree of freedom, the single lead frame 7 can be applied to many kinds of semiconductor devices. In this case, the adhesive layer 9 may be formed in a small formation area according to the mounted semiconductor pellet 1 as shown in FIG. 6 or may be formed in a wide area as in FIG.
【0040】また、支持リード3は、図7に示すように
2方向に延在するものでもよい。Further, the support leads 3 may extend in two directions as shown in FIG.
【0041】(実施例2)図8に示すのは本発明の他の
実施例であるSOP(Small Outline Package)型或い
はSOJ(Small Outline J-lead)型の半導体装置のリ
ードフレームを示す平面図である。(Embodiment 2) FIG. 8 is a plan view showing a lead frame of an SOP (Small Outline Package) type or SOJ (Small Outline J-lead) type semiconductor device according to another embodiment of the present invention. Is.
【0042】図中、2は外部端子となるリード、3は支
持リード、4は封止樹脂である。支持リード3は半導体
ペレット1搭載位置の中央を横切って直線状に4方向に
延在し、封止樹脂4の対向する辺を貫通する。In the figure, 2 is a lead serving as an external terminal, 3 is a support lead, and 4 is a sealing resin. The support leads 3 extend linearly in four directions across the center of the mounting position of the semiconductor pellet 1 and penetrate the opposite sides of the sealing resin 4.
【0043】リード2と支持リード3とはフレーム6に
よって一体化したリードフレーム7となっている。The lead 2 and the support lead 3 are integrated by a frame 6 to form a lead frame 7.
【0044】支持リード3の半導体ペレット1搭載部分
には、例えばポリイミド系の熱可塑性樹脂からなる接着
層9が塗布してある。An adhesive layer 9 made of, for example, a polyimide-based thermoplastic resin is applied to the portion of the support lead 3 on which the semiconductor pellet 1 is mounted.
【0045】また、本実施例の支持リード3の配置を、
例えば、図9に示すように、封止体4の対向する辺の中
央を貫通して2方向のみに支持リード3を半導体ペレッ
ト1の長辺方向に延在させて形成してもよい。2方向に
形成することによって不用となる短辺方向の支持リード
のスペースを利用してリード2の数を増加することがで
きる。Further, the arrangement of the support leads 3 of this embodiment is
For example, as shown in FIG. 9, the support leads 3 may be formed by penetrating through the centers of the opposite sides of the sealing body 4 and extending in the long side direction of the semiconductor pellet 1 in only two directions. It is possible to increase the number of leads 2 by utilizing the space of the supporting lead in the short side direction, which becomes unnecessary by forming the leads 2 in two directions.
【0046】更に、本実施例の支持リード3の配置を、
例えば、図10に示すように、封止体4の対向する辺の
中央を貫通して2方向のみに支持リード3を半導体ペレ
ット1の長辺方向に延在させ、短辺方向の支持リード3
を半導体ペレット1搭載領域と同等に形成することもで
きる。Furthermore, the arrangement of the support leads 3 of this embodiment is
For example, as shown in FIG. 10, the support leads 3 extend in the long side direction of the semiconductor pellet 1 in only two directions, penetrating through the centers of the opposite sides of the sealing body 4, and the support leads 3 in the short side direction.
Can be formed in the same manner as the semiconductor pellet 1 mounting region.
【0047】(実施例3)図14に示すのは本発明の他
の実施例であるQFP型の半導体装置のリードフレーム
を示す平面図であり、図15に示すのはそのa‐b線に
沿った位置に相当する完成状態での縦断面図である。(Embodiment 3) FIG. 14 is a plan view showing a lead frame of a QFP type semiconductor device according to another embodiment of the present invention, and FIG. 15 shows its ab line. It is a longitudinal cross-sectional view in the completed state corresponding to the position along.
【0048】図中、1は半導体ペレット、2は外部端子
となるリード、3は半導体ペレットを固定する支持リー
ドである。本実施例では長方形の半導体ペレット1を支
持リード3に接着している。In the figure, 1 is a semiconductor pellet, 2 is a lead to be an external terminal, and 3 is a support lead for fixing the semiconductor pellet. In this embodiment, the rectangular semiconductor pellet 1 is bonded to the support lead 3.
【0049】支持リード3は半導体ペレット1搭載位置
の中央から互いに交差して4方向に直線状に延在する。The support leads 3 cross each other from the center of the mounting position of the semiconductor pellet 1 and extend linearly in four directions.
【0050】リード2と支持リード3とはフレーム6に
よって一体化したリードフレーム7となっている。リー
ドフレーム7は、金属の薄板を成形し、樹脂モールドに
よって固定される前の各リード2及び支持リード3をフ
レーム6によって一体化している。The lead 2 and the support lead 3 are integrated by a frame 6 to form a lead frame 7. The lead frame 7 is formed by molding a thin metal plate, and each lead 2 and support lead 3 before being fixed by resin molding are integrated by a frame 6.
【0051】支持リード3の半導体ペレット1搭載部分
には、例えばポリイミド系の熱可塑性樹脂からなる接着
層9が塗布してある。なお、熱可塑性樹脂の接着層9
は、半導体ペレット1の搭載位置を越えてインナーリー
ド2aの端部近傍まで形成する。An adhesive layer 9 made of, for example, a polyimide-based thermoplastic resin is applied to the portion of the support lead 3 on which the semiconductor pellet 1 is mounted. The adhesive layer 9 of thermoplastic resin
Is formed beyond the mounting position of the semiconductor pellet 1 to near the end of the inner lead 2a.
【0052】この支持リード3の幅は、細く形成するこ
とにより、所要の接着力を維持することができる。つま
り、ペレットと従来のダイパッドとの接着力を増加する
には、コレット荷重(ペレットに加える押圧力)を上げ
る方法が考えられるが、ペレット欠けの原因になるため
に困難である。本願発明では支持リードを細く形成する
ことで、接着面積は減少するが、接着面積の減少によっ
て単位面積あたりの押圧力が増加し、熱可塑性樹脂の接
着力が増すこととなり所要の接着力を維持することがで
きる。By forming the support lead 3 to have a small width, a required adhesive force can be maintained. In other words, in order to increase the adhesive force between the pellet and the conventional die pad, a method of increasing the collet load (pressing force applied to the pellet) can be considered, but this is difficult because it causes pellet breakage. In the present invention, the adhesion area is reduced by forming the support leads to be thin, but the decrease in the adhesion area increases the pressing force per unit area and increases the adhesive strength of the thermoplastic resin, thus maintaining the required adhesive strength. can do.
【0053】本実施例では、半導体ペレット1が長方形
であるために、半導体ペレット1上のボンディングパッ
ドとインナーリード2aとを接続するボンディングワイ
ヤ5の一部は支持リード3を横切るように延在している
が、図15に示すようにボンディングワイヤ5が支持リ
ード3と交差接触しても、接着層9の樹脂部分によって
支持リード3が覆われているので支持リード3とボンデ
ィングワイヤ5との短絡を防止することができる。In this embodiment, since the semiconductor pellet 1 has a rectangular shape, part of the bonding wire 5 connecting the bonding pad on the semiconductor pellet 1 and the inner lead 2a extends so as to cross the support lead 3. However, even if the bonding wire 5 cross-contacts with the support lead 3 as shown in FIG. 15, the support lead 3 is covered with the resin portion of the adhesive layer 9, so that the support lead 3 and the bonding wire 5 are short-circuited. Can be prevented.
【0054】以上、本発明者によってなされた発明を、
前記実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は、前
記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱し
ない範囲において種々変更可能であることは勿論であ
る。As described above, the inventions made by the present inventor are
Although the present invention has been specifically described based on the above-mentioned embodiments, the present invention is not limited to the above-mentioned embodiments, and it goes without saying that various modifications can be made without departing from the scope of the invention.
【0055】[0055]
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。The effects obtained by the typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.
【0056】(1)本発明によれば、ダイパッドを廃止
し支持リードによって半導体ペレットを固定したことに
より従来のスリット構造及び小タブ構造に比べ、半導体
ペレット裏面と封止樹脂との接着面積を拡大することが
可能となり、リフロークラック耐性が向上するという効
果がある。(1) According to the present invention, the die pad is eliminated and the semiconductor pellets are fixed by the support leads, so that the bonding area between the back surface of the semiconductor pellet and the sealing resin is enlarged as compared with the conventional slit structure and the small tab structure. Therefore, there is an effect that the reflow crack resistance is improved.
【0057】(2)本発明によれば、最大半導体ペレッ
トに合わせて、接着層を形成しておくことにより、種々
のサイズの半導体ペレットに対応可能となり、リードフ
レームの標準化に寄与するという効果がある。(2) According to the present invention, by forming an adhesive layer in accordance with the maximum semiconductor pellet, semiconductor pellets of various sizes can be dealt with, which contributes to standardization of the lead frame. is there.
【0058】(3)本発明によれば、熱可塑性樹脂の接
着層を最大半導体ペレットに合わせて形成することによ
り、ペレット端部までリードフレームと接着させること
ができ、小タブ構造のものと比較して樹脂封止時のペレ
ット浮きがなくなるという効果がある。(3) According to the present invention, by forming the adhesive layer of the thermoplastic resin in accordance with the largest semiconductor pellet, it is possible to adhere to the lead frame up to the end of the pellet. As a result, there is an effect that pellet floating during resin sealing is eliminated.
【0059】(4)本発明によれば、接着層に熱可塑性
樹脂を用いることによって、熱硬化性樹脂を用いた場合
に必要なキュア工程及びキュア装置が不用となり、工程
の短縮及び作業スペースの縮小が可能となるという効果
がある。(4) According to the present invention, by using the thermoplastic resin for the adhesive layer, the curing process and the curing device required when the thermosetting resin is used are unnecessary, which shortens the process and reduces the working space. There is an effect that reduction is possible.
【0060】(5)本発明によれば、接着層に熱可塑性
樹脂を用いることによって、熱可塑性樹脂がペレット付
け時の溶融高温状態においても粘度が高いため、フレー
ム搬送でのペレットずれ、ペレット剥がれがなくなると
いう効果がある。(5) According to the present invention, since the thermoplastic resin is used for the adhesive layer, the viscosity of the thermoplastic resin is high even in the high temperature molten state during pelletizing, so that the pellet shifts and the pellet peels off during frame transportation. There is an effect of disappearing.
【0061】(6)本発明によれば、接着層に熱可塑性
樹脂を用いることによって、ペレットずれやペレット剥
がれが発生しても、加熱状態で半導体ペレットの位置を
修正できるので不良品の発生を防止できるという効果が
ある。(6) According to the present invention, by using a thermoplastic resin for the adhesive layer, the position of the semiconductor pellets can be corrected in the heated state even if pellet misalignment or pellet peeling occurs. The effect is that it can be prevented.
【図1】本発明の一実施例である半導体装置を示す平面
図である。FIG. 1 is a plan view showing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
【図2】本発明の一実施例である半導体装置を示す縦断
面図である。FIG. 2 is a vertical sectional view showing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
【図3】本発明の一実施例である半導体装置を示す縦断
面図である。FIG. 3 is a vertical sectional view showing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
【図4】本発明の一実施例の変更例であるリードフレー
ムを示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing a lead frame which is a modification of the embodiment of the present invention.
【図5】本発明の一実施例の変更例であるリードフレー
ムを示す平面図である。FIG. 5 is a plan view showing a lead frame which is a modification of the embodiment of the present invention.
【図6】本発明の一実施例の変更例であるリードフレー
ムを示す平面図である。FIG. 6 is a plan view showing a lead frame which is a modification of the embodiment of the present invention.
【図7】本発明の一実施例の変更例であるリードフレー
ムを示す平面図である。FIG. 7 is a plan view showing a lead frame which is a modification of the embodiment of the present invention.
【図8】本発明の他の実施例であるリードフレームを示
す平面図である。FIG. 8 is a plan view showing a lead frame which is another embodiment of the present invention.
【図9】本発明の他の実施例の変更例であるリードフレ
ームを示す平面図である。FIG. 9 is a plan view showing a lead frame which is a modified example of another embodiment of the present invention.
【図10】本発明の他の実施例の変更例であるリードフ
レームを示す平面図である。FIG. 10 is a plan view showing a lead frame which is a modified example of another embodiment of the present invention.
【図11】従来の小タブ構造のリードフレームを示す平
面図である。FIG. 11 is a plan view showing a conventional lead frame having a small tab structure.
【図12】従来の小タブ構造の半導体装置を示す縦断面
図である。FIG. 12 is a vertical cross-sectional view showing a conventional semiconductor device having a small tab structure.
【図13】従来の小タブ構造の半導体装置を示す縦断面
図である。FIG. 13 is a vertical cross-sectional view showing a conventional semiconductor device having a small tab structure.
【図14】本発明の他の実施例であるリードフレームを
示す平面図である。FIG. 14 is a plan view showing a lead frame which is another embodiment of the present invention.
【図15】本発明の他の実施例である半導体装置を示す
縦断面図である。FIG. 15 is a vertical sectional view showing a semiconductor device according to another embodiment of the present invention.
1,12…半導体ペレット、2…リード、2a…インナ
ーリード、2b…アウターリード、3…支持リード、
4,15…封止樹脂(封止体)、5…ボンディングワイ
ヤ、6,14…フレーム、7…リードフレーム、8…ダ
ム、9…接着層、11…小タブ、13…吊りリード。1, 12 ... Semiconductor pellet, 2 ... Lead, 2a ... Inner lead, 2b ... Outer lead, 3 ... Support lead,
4, 15 ... Sealing resin (sealing body), 5 ... Bonding wire, 6, 14 ... Frame, 7 ... Lead frame, 8 ... Dam, 9 ... Adhesive layer, 11 ... Small tab, 13 ... Suspension lead.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 坪崎 邦宏 東京都小平市上水本町5丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体事業部内 (72)発明者 大野 浩 東京都小平市上水本町5丁目22番1号 株 式会社日立マイコンシステム内 (72)発明者 松澤 朝夫 東京都小平市上水本町5丁目22番1号 株 式会社日立マイコンシステム内 (72)発明者 西田 隆文 東京都小平市上水本町5丁目22番1号 株 式会社日立マイコンシステム内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Kunihiro Tsubozaki 5-20-1, Josuihoncho, Kodaira-shi, Tokyo Inside the Semiconductor Division, Hitachi, Ltd. (72) Inventor Hiroshi Ono Kamisuimoto-cho, Kodaira-shi, Tokyo 5-22-1 Hitachi Microcomputer System Co., Ltd. (72) Inventor Asao Matsuzawa 5-22-1 Kamisuihoncho, Kodaira-shi, Tokyo In-house Hitachi Microcomputer System (72) Takafumi Nishida Kodaira, Tokyo 5-22-1, Josuihoncho, Ichi-shi Hitachi Microcomputer System Co., Ltd.
Claims (16)
され外部端子となるリードをフレームによって一体化し
たリードフレームにおいて、 半導体ペレット搭載位置の中央に直線状に延在する支持
リードを設け、接着層を介してこの支持リード上に半導
体ペレットを固定することを特徴とするリードフレー
ム。1. A lead frame in which a lead, which is electrically connected to a mounted semiconductor pellet and serves as an external terminal, is integrated by a frame, a support lead extending linearly is provided in the center of a semiconductor pellet mounting position, and an adhesive layer is provided. A lead frame, characterized in that the semiconductor pellets are fixed on the supporting leads via.
用いたことを特徴とする請求項1に記載のリードフレー
ム。2. The lead frame according to claim 1, wherein a thermoplastic resin adhesive is used for the adhesive layer.
範囲を、リードフレームに搭載可能な最大の半導体ペレ
ットサイズと同等以上としたことを特徴とする請求項1
又は請求項2の何れか一項に記載のリードフレーム。3. The support lead is provided with an adhesive layer, and the formation area thereof is equal to or larger than the maximum semiconductor pellet size mountable on the lead frame.
Alternatively, the lead frame according to claim 2.
に部分的にかつ複数個所に形成することを特徴とする請
求項1乃至請求項3に記載のリードフレーム。4. The lead frame according to claim 1, wherein the adhesive layer is formed partially and at a plurality of locations within the semiconductor pellet mounting range.
中央から、互いに直交して直線状に4方向に延在するこ
とを特徴とする請求項1乃至請求項4の何れか一項に記
載のリードフレーム。5. The lead according to claim 1, wherein the supporting lead extends linearly in four directions orthogonal to each other from the center of the semiconductor pellet mounting position. flame.
中央を横切って直線状に延在することを特徴とする請求
項1乃至請求項5の何れか一項に記載のリードフレー
ム。6. The lead frame according to claim 1, wherein the support lead extends linearly across the center of the semiconductor pellet mounting position.
フレームであることを特徴とする請求項1乃至請求項6
の何れか一項に記載のリードフレーム。7. The lead frame used in a resin-sealed semiconductor device, according to claim 1.
The lead frame according to any one of 1.
とを電気的に接続し、封止体に封止する半導体装置にお
いて、 直線状に延在する支持リードを、接着層を介して半導体
ペレットの中央下面に固定することを特徴とする半導体
装置。8. A semiconductor device in which a semiconductor pellet and a lead serving as an external terminal are electrically connected to each other and sealed in a sealing body. In a semiconductor device, a linearly extending support lead is provided on the semiconductor pellet through an adhesive layer. A semiconductor device characterized by being fixed to a central lower surface.
あることを特徴とする請求項8に記載の半導体装置。9. The semiconductor device according to claim 8, wherein the adhesive layer is a thermoplastic resin adhesive.
イズと同等以上の範囲に前記接着層を形成することを特
徴とする請求項8又は請求項9に記載の半導体装置。10. The semiconductor device according to claim 8, wherein the adhesive layer is formed on the support lead in a range equal to or larger than the size of the semiconductor pellet.
形成することを特徴とする請求項8乃至請求項10の何
れか一項に記載の半導体装置。11. The semiconductor device according to claim 8, wherein the adhesive layer is formed partially and at a plurality of locations.
中央から互いに直交して直線状に4方向に延在すること
を特徴とする請求項8乃至請求項11の何れか一項に記
載の半導体装置。12. The semiconductor device according to claim 8, wherein the support lead extends linearly in four directions orthogonal to each other from the center of the semiconductor pellet. ..
中央を横切って直線状に延在することを特徴とする請求
項8乃至請求項12の何れか一項に記載のに記載の半導
体装置。13. The semiconductor device according to claim 8, wherein the support lead extends linearly across the center of the semiconductor pellet.
とする請求項8乃至請求項13の何れか一項に記載の半
導体装置。14. The semiconductor device according to claim 8, wherein a resin is used for the sealing body.
着固定し、半導体ペレットとリードのインナーリードと
を電気的に接続し、封止体によって封止する半導体装置
の製造方法において、 半導体ペレット搭載位置の中央に直線状に延在する支持
リードを設け、熱可塑性樹脂の接着層を介してこの支持
リードに半導体ペレットを固定するリードフレームを用
い、加熱雰囲気下で、前記熱可塑性樹脂を軟化させる工
程と、軟化させた熱可塑性樹脂に半導体ペレットを押圧
し、この支持リードに半導体ペレットを固定する工程と
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。15. A method of manufacturing a semiconductor device, in which a semiconductor pellet is adhered and fixed to a lead frame, the semiconductor pellet and an inner lead of the lead are electrically connected, and sealed by a sealing body, in the center of the semiconductor pellet mounting position. Provided with a linearly extending support lead, using a lead frame for fixing the semiconductor pellets to this support lead via an adhesive layer of a thermoplastic resin, under a heating atmosphere, a step of softening the thermoplastic resin, And a step of pressing the semiconductor pellets to the softened thermoplastic resin and fixing the semiconductor pellets to the support leads.
って行なうことを特徴とする請求項15に記載の半導体
装置の製造方法。16. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 15, wherein the sealing body is formed by resin molding.
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JP19447794A JP3419898B2 (en) | 1994-08-19 | 1994-08-19 | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2010238979A (en) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Renesas Electronics Corp | Semiconductor device, and method of manufacturing the same |
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- 1994-08-19 JP JP19447794A patent/JP3419898B2/en not_active Expired - Fee Related
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