JPH086007Y2 - Vacuum furnace - Google Patents

Vacuum furnace

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JPH086007Y2
JPH086007Y2 JP8972991U JP8972991U JPH086007Y2 JP H086007 Y2 JPH086007 Y2 JP H086007Y2 JP 8972991 U JP8972991 U JP 8972991U JP 8972991 U JP8972991 U JP 8972991U JP H086007 Y2 JPH086007 Y2 JP H086007Y2
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JP
Japan
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gas
furnace
tight box
box
pressure
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弘文 岡本
一平 山内
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Description

【考案の詳細な説明】[Detailed description of the device]

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本考案は、焼結処理等に利用され
る真空炉に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a vacuum furnace used for sintering processing and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】焼結処理などに利用される従来の真空炉
としては、炉内に単一のタイトボックスを配置して、タ
イトボックスの外部に不活性ガス等の炉内ガスを導入す
る一方、タイトボックスの内部に反応性ガス等の雰囲気
ガスを導入し、処理後の汚れた雰囲気ガスを、タイトボ
ックスを介して外部から内部へ差圧フローさせた炉内ガ
スとともに該タイトボックス内部より炉外へ直接排気す
る構成が一般的である。かかるタイトボックスの役割
は、有害な雰囲気ガスや、処理によって二次的に発生す
るワックスその他の不純物を、ヒータ、断熱材、炉壁等
の炉内構成部品に接触させることなく、炉外に排出する
ことを可能ならしめる点にある。
2. Description of the Related Art As a conventional vacuum furnace used for a sintering process or the like, a single tight box is arranged in the furnace and an in-furnace gas such as an inert gas is introduced to the outside of the tight box. An atmosphere gas such as a reactive gas is introduced into the tight box, and the dirty atmosphere gas after the treatment is subjected to a differential pressure flow from the outside to the inside through the tight box, together with the gas in the furnace. It is common to exhaust directly to the outside. The role of such a tight box is to discharge harmful atmosphere gas and wax and other impurities secondarily generated by processing to the outside of the furnace without contacting the internal components such as the heater, heat insulating material, and furnace wall. The point is that you can do it.

【0003】[0003]

【考案が解決しようとする課題】ところで、雰囲気ガス
は処理物に有効に作用するためにタイトボックスの内部
において所定濃度に保たれている必要がある。しかる
に、上述した一重タイトボックス構造においては、炉内
ガスと雰囲気ガスが異なる種類のガスである場合に、雰
囲気ガスがタイトボックスの内部に流れ込んだ炉内ガス
により希釈され、その濃度が成り行きになってしまうと
いう不都合がある。
By the way, the atmospheric gas must be kept at a predetermined concentration inside the tight box in order to effectively act on the object to be treated. However, in the above-described single tight box structure, when the furnace gas and the atmosphere gas are different types of gas, the atmosphere gas is diluted by the furnace gas flowing into the tight box, and its concentration is inconsistent. There is an inconvenience that it will end up.

【0004】本考案は、このような課題を解決すること
を目的としている。
The present invention aims to solve such problems.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本考案は、かかる目的を
達成するために、次のような構成を採用したものであ
る。
The present invention adopts the following constitution in order to achieve the above object.

【0006】すなわち、本考案に係る真空炉は、図1に
示すように、炉1内に二重に配置される外側タイトボッ
クス2及び内側タイトボックス3と、外側タイトボック
ス2の外部に炉内ガスaを導入するためのガス導入系路
2 と、内側タイトボックス3の内部に雰囲気ガスbを
導入するためのガス導入系路L 3 と、外側タイトボック
ス2と内側タイトボックス3の間の中間室Sを排気する
排気系路L 1 とを具備してなり、中間室Sの圧力P 1
外側タイトボックス2の外部圧P 2 および内側タイトボ
ックス3の内部圧P 3 よりも相対的に低圧に保つことに
よって、前記排気系路L 1 から炉内ガスa及び雰囲気ガ
スbの排気が行われるように構成されることを特徴とす
る。
Namely, a vacuum furnace according to the present invention, as shown in FIG. 1, the outer is placed doubly in the furnace 1 Taitobo'
Box 2 and inner tight box 3 and outer tight box
Gas introduction path for introducing the in-furnace gas a to the outside of the chamber 2
Atmosphere gas b inside L 2 and inside tight box 3
Gas introduction line L 3 for introduction and outer tight box
Exhaust the intermediate chamber S between the space 2 and the inner tight box 3.
The exhaust system passage L 1 is provided, and the pressure P 1 of the intermediate chamber S is
External pressure P 2 and the inner Taitobo outer tight box 2
To keep the pressure lower than the internal pressure P 3
Therefore, the gas a in the furnace and the atmosphere gas are discharged from the exhaust system passage L 1.
It is characterized in that it is configured so that the exhaust of the gas b is performed.
It

【0007】[0007]

【作用】外側タイトボックス2の外部に導入される炉内
ガスaは差圧により中間室Sに流入し、また、内側タイ
トボックス3の内部に導入される雰囲気ガスbは不純物
等とともに差圧により中間室Sに流出する。これらの圧
力関係下では、中間室Sに流入した炉内ガスaがさらに
内側タイトボックス3の内部に流入するようなことはあ
り得ず、中間室Sに流出した汚れた雰囲気ガスbがさら
に外側タイトボックス2の外部に流出するようなことも
あり得ない。そして、それらは全てこの中間室Sから直
接炉1外に排気される。このため、この炉構造による
と、汚れた雰囲気ガスbにより炉内構成部品が汚染され
ることを防止でき、その上、内側タイトボックス3の内
部処理空間を常にフレッシュな雰囲気ガスbで満たすこ
とができ、さらにその濃度設定も炉内ガスaが流入しな
いために正確に行うことができるものとなる。
The furnace gas a introduced to the outside of the outer tight box 2 flows into the intermediate chamber S due to the differential pressure, and the atmospheric gas b introduced to the inside of the inner tight box 3 due to the differential pressure together with impurities. It flows into the intermediate chamber S. Under these pressure relationships, the in-furnace gas a flowing into the intermediate chamber S cannot flow into the inner tight box 3 further, and the dirty atmospheric gas b flowing out into the intermediate chamber S is further outside. It is unlikely that it will flow out of the tight box 2. Then, all of them are exhausted from the intermediate chamber S directly to the outside of the furnace 1. Therefore, according to this furnace structure, it is possible to prevent the components in the furnace from being contaminated by the dirty atmospheric gas b, and moreover, the internal processing space of the inner tight box 3 can be always filled with the fresh atmospheric gas b. Further, the concentration can be set accurately because the gas a in the furnace does not flow in.

【0008】[0008]

【実施例】以下、本考案の一実施例を、図2を参照して
説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG.

【0009】この炉1は、両側に開閉扉4aを有する円
筒状の炉殻4の内側空間を、両側に開閉部5aをする円
筒状の断熱材5によって区画し、この断熱材5の内面に
ロッドヒータ6を配設している。そして、この断熱材5
のさらに内部に、グラファイト製のタイトボックス2、
3を二重に配置している。内側タイトボックス3は、そ
の内部に形成される処理空間に処理物を内有した容器x
を収納するようにしたものであり、また、内側タイトボ
ックス3を包囲する外側タイトボックス2は、前記内側
タイトボックス3との間に適当な間隔の中間室Sを形成
している。これらのタイトボックス2、3は、その扉2
a、3aの四隅の隙間等に内外の差圧排気を実現するた
めの図示しない通気路を形成している。外側タイトボッ
クス2の両側の端板2aおよび内側タイトボックス3の
一方の端板3aも処理物の挿脱のための開閉扉となって
いる。
In this furnace 1, the inner space of a cylindrical furnace shell 4 having open / close doors 4a on both sides is divided by a cylindrical heat insulating material 5 having open / close portions 5a on both sides, and the inner surface of this heat insulating material 5 is divided. A rod heater 6 is provided. And this heat insulating material 5
Further inside, inside the tight box 2 made of graphite,
3 is arranged in double. The inner tight box 3 is a container x having an object to be processed in a processing space formed therein.
The outer tight box 2 that surrounds the inner tight box 3 forms an intermediate chamber S at an appropriate distance from the inner tight box 3. These tight boxes 2, 3 have their doors 2
Vent passages (not shown) for realizing differential pressure exhaust inside and outside are formed in the gaps at the four corners of a and 3a. The end plates 2a on both sides of the outer tight box 2 and one end plate 3a of the inner tight box 3 are also opening / closing doors for inserting / removing the processed material.

【0010】そして、前記外側タイトボックス2の外部
加熱空間にガス導入系路L2 を接続して例えば不活性ガ
スのような安定した炉内ガスaを一定圧でまたは炉内が
一定圧となるように流量調節して導入し、前記内側タイ
トボックス3の内部処理空間にガス導入系路L3 を接続
して雰囲気ガスb(例えばアンモニア分解ガス;N2
NH3 、Ar)が所定濃度となるように調節して導入
し、前記外側タイトボックス2と前記内側タイトボック
ス3の間の中間室Sに排気系路L1 を接続してそれらの
ガスa、bを炉外へ直接排出し図示しないワックストラ
ップへ連行するようにしている。なお、中間室Sの圧力
1 を外側タイトボックス2の外部圧P2および内側タ
イトボックス3の内部圧P3 よりも相対的に低圧に保つ
ように、例えば、P1 <P2 =P3 なる条件を成立させ
るようにしている。また、前記ガス導入系路L3 はこの
実施例では内側タイトボックス3の内部に達した後、ロ
ードヒータ6に沿って引き回した予熱パイプ7内に雰囲
気ガスbを流通させ、しかる後、処理物を収容した容器
x内にそのガスbを導入するようにしている。さらに、
図において8は炉内温度を検出するための熱電対であ
り、9はヒータ6に通電するための電極棒であり、10
は断熱材5と炉殻4の間に介在する防熱材であり、11
はクーラー、12はファンである。
Then, a gas introduction system path L 2 is connected to the external heating space of the outer tight box 2 so that a stable in-furnace gas a such as an inert gas is kept at a constant pressure or the inside of the furnace is kept at a constant pressure. flow rate adjusted by introducing the inner tight box 3 of the internal processing space atmosphere by connecting a gas introduction system path L 3 gas b (for example, ammonia decomposition gas as; N 2,
(NH 3 , Ar) is introduced so as to have a predetermined concentration, and the exhaust system passage L 1 is connected to the intermediate chamber S between the outer tight box 2 and the inner tight box 3 so that the gas a, b is directly discharged to the outside of the furnace and is carried to a wax trap (not shown). In order to keep the pressure P 1 of the intermediate chamber S relatively lower than the external pressure P 2 of the outer tight box 2 and the internal pressure P 3 of the inner tight box 3, for example, P 1 <P 2 = P 3 I try to satisfy the condition. Further, in this embodiment, the gas introduction path L 3 reaches the inside of the inner tight box 3, and then the atmosphere gas b is circulated in the preheating pipe 7 routed along the load heater 6, and thereafter, the processed material is processed. The gas b is introduced into the container x containing the gas. further,
In the figure, 8 is a thermocouple for detecting the temperature in the furnace, 9 is an electrode rod for energizing the heater 6, and 10 is an electrode rod.
Is a heat insulating material interposed between the heat insulating material 5 and the furnace shell 4, and 11
Is a cooler and 12 is a fan.

【0011】以上のような炉構造であると、外側タイト
ボックス2の外部にガス導入系路L2 を通じて導入され
る炉内ガスaは差圧により中間室Sに流入し、また、内
側タイトボックス3の内部にガス導入系路L3 を通じて
導入される雰囲気ガスbは不純物等とともに差圧により
中間室Sに流出する。これらの圧力関係下では、中間室
Sに流入した炉内ガスaがさらに内側タイトボックス3
の内部に流入するようなことはあり得ず、中間室Sに流
出した汚れた雰囲気ガスbがさらに外側タイトボックス
2の外部に流出するようなこともあり得ない。そして、
それらのガスa、bは全てこの中間室Sから排気系路L
1 を通じて直接炉1外に排気される。このため、この炉
構造によると、汚れた雰囲気ガスbを炉内構成部品に接
触させることなく炉外に排出することができ、その上
に、容器x内を常にフレッシュな雰囲気ガスbで満たし
て、そのガスbの濃度設定を炉内ガスaの影響を受けず
に正確に行うことができることになり、それらの結果、
炉内構成部品の汚染に悪影響を与えるようなガス(腐食
性ガス等)を雰囲気ガスとして不都合なく使用できた
り、雰囲気ガスを最適濃度に調節して効率の高い処理を
行うこと等が可能になる。
With the furnace structure as described above, the in-furnace gas a introduced to the outside of the outer tight box 2 through the gas introduction passage L 2 flows into the intermediate chamber S due to the pressure difference, and the inner tight box The atmospheric gas b introduced into the inside of 3 through the gas introduction system passage L 3 flows out to the intermediate chamber S due to the differential pressure together with impurities and the like. Under these pressure relationships, the in-furnace gas a that has flowed into the intermediate chamber S is further moved to the inner tight box 3
It is impossible that the dirty atmospheric gas b that has flowed into the intermediate chamber S further flows out of the outer tight box 2. And
The gases a and b are all discharged from the intermediate chamber S to the exhaust system passage L.
It is directly exhausted to the outside of the furnace 1 through 1. Therefore, according to this furnace structure, the dirty atmosphere gas b can be discharged to the outside of the furnace without contacting the components inside the furnace, and the container x is constantly filled with the fresh atmosphere gas b. , The concentration of the gas b can be set accurately without being affected by the gas a in the furnace, and as a result,
It is possible to use a gas (corrosive gas, etc.) that adversely affects the pollution of components inside the furnace as an atmospheric gas without inconvenience, or to adjust the atmospheric gas to an optimum concentration for highly efficient processing. .

【0012】[0012]

【考案の効果】本考案に係る真空炉は、以上説明したよ
うに、炉内に二重にタイトボックスを配置して、外側タ
イトボックスの外部に炉内ガスを導入し、内側タイトボ
ックスの内部に雰囲気ガスを導入し、それらのガスを外
側タイトボックスと内側タイトボックスの間の中間室か
ら排気するものである。このため、炉内構成部品の汚染
に悪影響を与えるようなガス(腐食性ガス等)を雰囲気
ガスとして不都合なく使用でき、雰囲気ガスを最適濃度
に調節して効率の高い処理を行うことも可能になる。
As described above, in the vacuum furnace according to the present invention, the tight boxes are doubly arranged in the furnace, the gas in the furnace is introduced to the outside of the outer tight box, and the inside of the inner tight box is introduced. Atmosphere gas is introduced into the chamber, and those gases are exhausted from the intermediate chamber between the outer tight box and the inner tight box. Therefore, a gas (corrosive gas, etc.) that adversely affects the contamination of the components inside the furnace can be used as an atmospheric gas without any inconvenience, and it is possible to adjust the atmospheric gas to an optimum concentration for highly efficient processing. Become.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本考案を説明するための構成説明図。FIG. 1 is a structural explanatory view for explaining the present invention.

【図2】本考案の一実施例を示す全体縦断面図。FIG. 2 is an overall vertical sectional view showing an embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2…外側タイトボックス 3…内側タイトボックス a…炉内ガス b…雰囲気ガス 1 …排気系路 2 、L 3 …ガス導入系路 1 …中間室圧力 2 …外部圧 3 …内部圧 S…中間室 2 ... Outside tight box 3 ... Inside tight box a ... Furnace gas b ... Atmosphere gas L 1 ... Exhaust system passages L 2 , L 3 ... Gas introduction passage P 1 ... Intermediate chamber pressure P 2 ... External pressure P 3 ... Inside Pressure S ... Intermediate chamber

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 【請求項1】炉内に二重に配置される外側タイトボック
ス及び内側タイトボックスと、外側タイトボックスの外
部に炉内ガスを導入するためのガス導入系路と、内側タ
イトボックスの内部に雰囲気ガスを導入するためのガス
導入系路と、外側タイトボックスと内側タイトボックス
の間の中間室を排気する排気系路とを具備してなり、中
間室の圧力を外側タイトボックスの外部圧および内側タ
イトボックスの内部圧よりも相対的に低圧に保つことに
よって、前記排気系路から炉内ガス及び雰囲気ガスの排
気が行われるように構成されることを特徴とする真空
炉。
1. An outer tight box which is doubly arranged in a furnace.
Outer and inner tight boxes and outer tight box
Gas introduction system path for introducing the furnace gas to the
Gas for introducing atmospheric gas into the it box
Introductory route, outer tight box and inner tight box
And an exhaust system passage for exhausting the intermediate chamber between
The pressure in the interchamber is
To keep the pressure lower than the internal pressure of the itbox
Therefore, the exhaust of the furnace gas and atmospheric gas from the exhaust system passage
A vacuum furnace characterized in that it is configured to operate.
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