JPH0434399Y2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0434399Y2
JPH0434399Y2 JP4284786U JP4284786U JPH0434399Y2 JP H0434399 Y2 JPH0434399 Y2 JP H0434399Y2 JP 4284786 U JP4284786 U JP 4284786U JP 4284786 U JP4284786 U JP 4284786U JP H0434399 Y2 JPH0434399 Y2 JP H0434399Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
inner case
furnace
heating chamber
heat treatment
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP4284786U
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS62154398U (en
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP4284786U priority Critical patent/JPH0434399Y2/ja
Publication of JPS62154398U publication Critical patent/JPS62154398U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPH0434399Y2 publication Critical patent/JPH0434399Y2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Powder Metallurgy (AREA)
  • Furnace Details (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 この考案は、セラミツクス、金属粉末等を焼結
するための焼結炉や脱脂炉等の熱処理炉に関する
ものである。
[Detailed description of the invention] "Industrial Application Field" This invention relates to a heat treatment furnace such as a sintering furnace or a degreasing furnace for sintering ceramics, metal powder, etc.

「従来の技術」 この種の熱処理炉では、焼結、脱脂処理中に被
処理物から発生するワツクス等の不純物のガスを
炉内から充分に除去することが、焼結製品の品質
や炉の保守管理上極めて重要である。すなわち、
それらのガスが充分に除去されないと、それらが
加熱室や炉体の内壁面で冷却されて液化あるいは
固化して付着してしまい、次の処理時に再蒸発し
て被処理物を汚染したり、真空引きに要する時間
が長くなつてしまうという問題を生じる。
``Prior art'' In this type of heat treatment furnace, it is important to sufficiently remove impurity gas such as wax generated from the workpiece during sintering and degreasing from the furnace to improve the quality of the sintered product and the furnace performance. This is extremely important for maintenance management. That is,
If these gases are not sufficiently removed, they will cool down on the inner wall of the heating chamber or furnace body, liquefy or solidify, and adhere to the inner wall of the heating chamber or furnace, and during the next process, they may re-evaporate and contaminate the object to be processed. A problem arises in that the time required for evacuation becomes longer.

このため、従来より第2図に示すような熱処理
炉が提案されている。この熱処理炉は、真空を保
持可能な炉体1の内部に断熱材によつて加熱室2
を設けるとともに、その内部にさらにインナーケ
ース3を設けた構成とされている。そして、イン
ナーケース3の周囲に配設したヒーター4によつ
て、インナーケース3内に装入した被処理物5を
間接的に加熱して、焼結あるいは脱脂等の熱処理
を行うものである。この熱処理炉では、加熱室2
の本体とその蓋6との間、およびインナーケース
3の本体とその蓋7との間に、それぞれ隙間8,
9を確保しており、キヤリアガス導入管10によ
つて炉体1内に吹き込んだキヤリアガスを、図中
の矢印で示すように、それらの隙間8,9を通し
てインナーケース3内に導入するようになつてい
る。そして、そのキヤリアガスとともに、処理中
に発生した不純物のガスを排出管11によつて排
出口12から吸引することにより、ガスをインナ
ーケース3内から直接的に排出するようにしてい
る。
For this reason, a heat treatment furnace as shown in FIG. 2 has been proposed. This heat treatment furnace has a heating chamber 2 inside a furnace body 1 that can maintain a vacuum with a heat insulating material.
The inner case 3 is further provided inside the inner case 3. The workpiece 5 charged into the inner case 3 is indirectly heated by a heater 4 disposed around the inner case 3 to perform heat treatment such as sintering or degreasing. In this heat treatment furnace, heating chamber 2
There are gaps 8 and 8 between the main body of the inner case 3 and its lid 6, and between the main body of the inner case 3 and its lid 7, respectively.
9, and the carrier gas blown into the furnace body 1 through the carrier gas introduction pipe 10 is introduced into the inner case 3 through the gaps 8 and 9, as shown by the arrow in the figure. ing. Along with the carrier gas, impurity gas generated during processing is sucked through the exhaust port 12 through the exhaust pipe 11, so that the gas is directly exhausted from the inner case 3.

なお、上記の加熱室2の蓋6と、インナーケー
ス3の蓋7とは一体とされ、これらは炉体1の炉
蓋13に連結部材14によつて連結されている。
Note that the lid 6 of the heating chamber 2 and the lid 7 of the inner case 3 are integrated, and are connected to the furnace lid 13 of the furnace body 1 by a connecting member 14.

「考案が解決しようとする問題点」 ところが、上記の熱処理炉では、排出口12の
近傍のガスは吸引されるが、排出口12から遠い
ところに拡散したガスは充分に吸引することがで
きず、したがつて、インナーケース3内からのガ
スの排出は必ずしも充分になされないものであつ
た。そして、排出されないガスが、キヤリアガス
の流通路として確保している隙間9,8から加熱
室2内や炉体1内に流出してしまう恐れがあつ
た。
``Problems to be solved by the invention'' However, in the heat treatment furnace described above, although the gas near the outlet 12 is sucked, the gas diffused far from the outlet 12 cannot be sufficiently sucked. Therefore, the gas from inside the inner case 3 is not always sufficiently discharged. There was a fear that the gas that was not discharged would flow into the heating chamber 2 and the furnace body 1 through the gaps 9 and 8, which were provided as carrier gas flow paths.

この考案は上記の事情に鑑みてなされたもの
で、不純物のガスをインナーケース内から確実に
除去できる熱処理炉を提供することを目的とす
る。
This invention was made in view of the above circumstances, and the purpose is to provide a heat treatment furnace that can reliably remove impurity gas from inside the inner case.

「問題点を解決するための手段」 この考案は、真空を保持可能な炉体の内部に加
熱室を配設し、その加熱室の内部にインナーケー
スを配設して、被処理物より発生するガスをその
インナーケース内より直接的に排出するように構
成した熱処理炉において、前記インナーケース
は、所定寸法離間して互いに対向する内部壁体お
よび外部壁体とにより構成されてそれらの間に中
空部が形成されており、前記内部壁体には前記ガ
スを前記中空部に導く多数のガス流通口が設けら
れている一方、その中空部に導かれたガスを前記
炉体の外部に排出するためのガス排出管が、その
先端を前記中空部に臨ませかつ前記加熱室および
前記炉体を貫通する状態で備えられていることを
特徴としている。
``Means for solving the problem'' This idea has a heating chamber inside a furnace body that can maintain a vacuum, and an inner case inside the heating chamber to reduce the amount of heat generated by the material to be processed. In a heat treatment furnace configured to directly discharge gas from inside the inner case, the inner case is composed of an inner wall body and an outer wall body facing each other with a predetermined distance apart, and there is a space between them. A hollow portion is formed, and the inner wall body is provided with a number of gas flow ports that guide the gas to the hollow portion, while the gas guided to the hollow portion is discharged to the outside of the furnace body. The present invention is characterized in that a gas exhaust pipe is provided with its tip facing the hollow portion and passing through the heating chamber and the furnace body.

「作用」 この考案の熱処理炉では、インナーケースの中
空部がガスの流通路となり、処理中に発生した不
純物のガスは、内部壁体に設けられている多数の
流通口を通つてこの中空部に導かれ、その中空部
を通つてガス排出管により炉体外部に排出され
る。
``Function'' In the heat treatment furnace of this invention, the hollow part of the inner case serves as a gas flow path, and impurity gases generated during processing are passed through the hollow part through the numerous flow holes provided in the inner wall. The gas is guided through the hollow part and discharged to the outside of the furnace body through a gas discharge pipe.

「実施例」 以下、この考案の一実施例を第1図を参照して
説明する。なお、この実施例の熱処理炉におい
て、上述した従来の熱処理炉と同様の構成要素に
ついては、第1図に第2図と同一符号を付して、
その詳細な説明は省略する。
"Embodiment" Hereinafter, an embodiment of this invention will be described with reference to FIG. In the heat treatment furnace of this embodiment, the same components as those in the conventional heat treatment furnace described above are designated by the same reference numerals in FIG. 1 as in FIG.
A detailed explanation thereof will be omitted.

この熱処理炉では、従来の熱処理炉と同様に、
炉体1内に加熱室2が配設されており、その内部
にインナーケース20が配設された構成となつて
いる。
This heat treatment furnace, like the conventional heat treatment furnace,
A heating chamber 2 is disposed within a furnace body 1, and an inner case 20 is disposed inside the heating chamber 2.

このインナーケース20は、外部壁体21と、
その外部壁体21の内側に固定部材22……によ
つて固定された内部壁体23とにより構成され、
それらは所定寸法離間して互いに対向し、それら
の間に中空部24が形成されている。すなわちこ
のインナーケース20は二重壁構造とされてい
て、その二重壁の内部の中空部24はガスの流通
路となるものである。それら外部壁体21と内部
壁体23相互の間隔は、ガスの流通量や流通抵抗
を勘案して設定することが望ましい。
This inner case 20 includes an external wall body 21,
It is composed of an inner wall body 23 fixed to the inside of the outer wall body 21 by fixing members 22...
They face each other with a predetermined distance apart, and a hollow portion 24 is formed between them. That is, this inner case 20 has a double wall structure, and a hollow portion 24 inside the double wall serves as a gas flow path. It is desirable that the distance between the outer wall body 21 and the inner wall body 23 be set in consideration of gas flow rate and flow resistance.

上記の外部壁体21、内部壁体23には、それ
ぞれ外蓋25、内蓋26が設けられていて、それ
らは互いに連結部材27,27により連結固定さ
れている。そして、連結された外蓋25と内蓋2
6は、前記加熱室2の蓋6に連結されており、こ
れにより、炉体1の炉蓋13を開閉することによ
つて加熱室2の蓋6と、インナーケース20の外
蓋25、内蓋26とを同時に開閉できるようにさ
れている。
The outer wall 21 and the inner wall 23 are provided with an outer cover 25 and an inner cover 26, respectively, and are connected and fixed to each other by connecting members 27, 27. Then, the outer cover 25 and the inner cover 2 are connected.
6 is connected to the lid 6 of the heating chamber 2, so that by opening and closing the furnace lid 13 of the furnace body 1, the lid 6 of the heating chamber 2, the outer lid 25 of the inner case 20, and the inner The lid 26 can be opened and closed at the same time.

また、上記の内部壁体23とその内蓋26に
は、内部壁体23の内側と中空部24とを連通す
る多数のガス流通口28……が、内部壁体23の
各壁面および内蓋26の全体にわたつてほぼ均等
に設けられている。これらのガス流通口28……
は、熱処理中に被処理物5から発生する不純物の
ガスを中空部24へ導くものである。
Further, in the inner wall body 23 and its inner cover 26, a large number of gas flow holes 28 communicating between the inside of the inner wall body 23 and the hollow portion 24 are provided on each wall surface of the inner wall body 23 and the inner cover 26. They are provided almost evenly over the entirety of 26. These gas flow ports 28...
is for guiding impurity gas generated from the object to be processed 5 during heat treatment to the hollow portion 24.

また、インナーケース20の内部壁体23には
キヤリアガス導入口29が設けられ、このキヤリ
アガス導入口29にはキヤリアガス導入管30が
接続されている。さらに、外部壁体21には、ガ
ス排出口31が設けられ、このガス排出口31に
は、その先端が中空部24に臨み、かつ、加熱室
2および炉体1を貫通しているガス排出管32が
接続されている。キヤリアガス導入管30は、図
示しない供給源からキヤリアガスを直接インナー
ケース20内(内部壁体23内)に導入するため
のものであり、またガス排出管32は、図示しな
い真空排出装置によつて、中空部24に導かれた
不純物のガスをキヤリアガスとともに吸引して、
炉体1の外部に排出するためのものである。
Further, a carrier gas inlet 29 is provided in the inner wall 23 of the inner case 20, and a carrier gas inlet pipe 30 is connected to this carrier gas inlet 29. Further, the external wall body 21 is provided with a gas exhaust port 31 , the tip of which faces the hollow portion 24 and which passes through the heating chamber 2 and the furnace body 1 . A tube 32 is connected. The carrier gas introduction pipe 30 is for directly introducing carrier gas into the inner case 20 (inside the inner wall body 23) from a supply source (not shown), and the gas exhaust pipe 32 is for introducing carrier gas directly into the inner case 20 (inside the inner wall body 23), and the gas exhaust pipe 32 is for introducing carrier gas directly into the inner case 20 (inside the inner wall body 23) from a supply source (not shown). The impurity gas guided into the hollow part 24 is sucked together with the carrier gas,
It is for discharging to the outside of the furnace body 1.

以上でこの熱処理炉の構成を説明したが、次に
その使用方法を説明する。まず、被処理物5をイ
ンナーケース20内に装入して、炉体1の炉蓋1
3、加熱室2の蓋6、インナーケース20の外蓋
25、内蓋26を閉じ、内部を真空とする。そし
て、ヒーター4によつて被処理物5を加熱する。
被処理物5を400〜500℃程度に加熱すると、その
被処理物5よりワツクス(不純物)が蒸発してそ
のガスがインナーケース20内に放散されるの
で、その時点でキヤリアガスガス導入管30によ
つてキヤリアガスをインナーケース20内に導入
するとともに、真空排気装置(図示略)に駆動す
る。これにより、ガスはキヤリアガスとともに、
図中の矢印で示すようにガス流通口28……から
中空部24に吸引されて流出し、その中空部24
内をガス排出口31に向かつて流れ、排出管32
によつて炉体1外に排出される。
The configuration of this heat treatment furnace has been explained above, and now how to use it will be explained. First, the workpiece 5 is charged into the inner case 20, and the furnace lid 1 of the furnace body 1 is
3. Close the lid 6 of the heating chamber 2, the outer lid 25, and the inner lid 26 of the inner case 20, and make the inside vacuum. Then, the object to be processed 5 is heated by the heater 4 .
When the workpiece 5 is heated to about 400 to 500°C, the wax (impurities) evaporates from the workpiece 5 and the gas is dissipated into the inner case 20. At that point, the carrier gas is introduced into the gas introduction pipe 30. Therefore, the carrier gas is introduced into the inner case 20 and is driven to a vacuum evacuation device (not shown). This allows the gas, along with the carrier gas, to
As shown by the arrows in the figure, the gas is sucked into the hollow part 24 from the gas distribution port 28 and flows out.
The gas flows inside toward the gas discharge port 31, and the discharge pipe 32
is discharged outside the furnace body 1.

以上で述べたように、この熱処理炉によれば、
被処理物5から発生する不純物のガスを内部壁体
23の全体にわたつて設けられている流通口28
……から吸引するので、インナーケース20の内
部各位置から均等にガスを排出でき、インナーケ
ース20内全体に拡散したガスを完全に排出する
ことができる。
As mentioned above, according to this heat treatment furnace,
A flow port 28 provided throughout the inner wall body 23 allows impurity gas generated from the object 5 to be processed to flow through the flow port 28
Since the gas is sucked from ..., the gas can be discharged evenly from each position inside the inner case 20, and the gas diffused throughout the inner case 20 can be completely discharged.

また、この熱処理炉では、内部壁体23とその
内蓋26との間の隙間からガスが流出したとして
も、そのガスは中空部24に入つてそこから吸引
されて排出されるから、外部壁体21の外まで、
すなわち加熱室2や炉体1には流出することがな
い。
Furthermore, in this heat treatment furnace, even if gas flows out from the gap between the inner wall body 23 and its inner cover 26, the gas enters the hollow part 24 and is sucked and discharged from there. To the outside of the body 21,
That is, it does not flow into the heating chamber 2 or the furnace body 1.

また、この熱処理炉では、充分に均一な排気を
行うことができるため、必ずしもキヤリアガスを
用いることはない。したがつて、キヤリアガスを
導入することなく、高真空度を確保したままで充
分な排気を行うことが可能である。
Further, in this heat treatment furnace, a carrier gas is not necessarily used because exhaust gas can be sufficiently uniformly exhausted. Therefore, it is possible to perform sufficient evacuation while maintaining a high degree of vacuum without introducing carrier gas.

なお、各ガス流通口28……の設置位置やそれ
らの大きさは、ガスの流通抵抗等を勘案して適宜
変更して良く、たとえば、ガス排出口31から遠
い位置ほど設置個数を多くしたり、あるいはガス
排出口31の近傍に設けるガス流通口28の径を
遠い位置に設けるものに比して小さくするように
すれば、より均等な排出を行うことが可能とな
る。
The installation position and size of each gas flow port 28 may be changed as appropriate by taking into consideration gas flow resistance, etc. For example, the number of gas flow ports 28 may be increased as the position is farther from the gas discharge port 31. Alternatively, if the diameter of the gas flow port 28 provided near the gas discharge port 31 is made smaller than that of the gas flow port 28 provided at a farther position, more uniform discharge can be achieved.

また、この考案の熱処理炉では、キヤリアガス
を用いなくても充分にガスを排出できることか
ら、キヤリアガスを導入するための導入管30は
省略しても良い。
Furthermore, in the heat treatment furnace of this invention, the gas can be sufficiently discharged without using carrier gas, so the introduction pipe 30 for introducing carrier gas may be omitted.

「考案の効果」 以上詳細に説明したように、この考案によれば
インナーケースを外部壁体と内部壁体により構成
し、それらの間に中空部を設けてその中空部から
ガスを排出するように構成したので、熱処理に伴
つて発生する不純物のガスをインナーケース内の
各位置から均等に排出することが可能であり、イ
ンナーケースの外部にガスを流出させることな
く、完全に排出することができるという効果を奏
する。
"Effect of the invention" As explained in detail above, according to this invention, the inner case is composed of an outer wall and an inner wall, and a hollow part is provided between them, and gas is discharged from the hollow part. Because of this structure, the impurity gas generated during heat treatment can be discharged evenly from each position within the inner case, and the gas can be completely discharged without leaking to the outside of the inner case. It has the effect of being able to do it.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はこの実施例の熱処理炉の概略構成を示
す側断面図、第2図は従来の熱処理炉の概略構成
を示す側断面図である。 1……炉体、2……加熱室、5……被処理物、
20……インナーケース、21……外部壁体、2
3……内部壁体、24……中空部、28……ガス
流通口、32……ガス排出管。
FIG. 1 is a side sectional view showing a schematic configuration of a heat treatment furnace of this embodiment, and FIG. 2 is a side sectional view showing a schematic configuration of a conventional heat treatment furnace. 1...furnace body, 2...heating chamber, 5...workpiece,
20... Inner case, 21... External wall, 2
3...Inner wall body, 24...Hollow part, 28...Gas distribution port, 32...Gas exhaust pipe.

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 真空を保持可能な炉体の内部に加熱室を配設
し、その加熱室の内部にインナーケースを配設し
て、被処理物より発生するガスをそのインナーケ
ース内より直接的に排出するように構成した熱処
理炉において、前記インナーケースは、所定寸法
離間して互いに対向する内部壁体および外部壁体
とにより構成されてそれらの間に中空部が形成さ
れており、前記内部壁体には前記ガスを前記中空
部に導く多数のガス流通口が設けられている一
方、その中空部に導かれたガスを前記炉体の外部
に排出するためのガス排出管が、その先端を前記
中空部に臨ませかつ前記加熱室および前記炉体を
貫通する状態で備えられていることを特徴とする
熱処理炉。
A heating chamber is provided inside a furnace body that can maintain a vacuum, and an inner case is provided inside the heating chamber, so that the gas generated from the object to be processed is directly discharged from inside the inner case. In the heat treatment furnace configured as shown in FIG. A large number of gas flow ports are provided to guide the gas into the hollow part, and a gas exhaust pipe for discharging the gas led into the hollow part to the outside of the furnace body has its tip connected to the hollow part. A heat treatment furnace, characterized in that it is provided in such a way that it faces the heating chamber and passes through the heating chamber and the furnace body.
JP4284786U 1986-03-24 1986-03-24 Expired JPH0434399Y2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4284786U JPH0434399Y2 (en) 1986-03-24 1986-03-24

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4284786U JPH0434399Y2 (en) 1986-03-24 1986-03-24

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62154398U JPS62154398U (en) 1987-09-30
JPH0434399Y2 true JPH0434399Y2 (en) 1992-08-17

Family

ID=30859152

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4284786U Expired JPH0434399Y2 (en) 1986-03-24 1986-03-24

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0434399Y2 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03204586A (en) * 1989-12-30 1991-09-06 Shimadzu Corp Sintering furnace
JP2504345B2 (en) * 1991-06-04 1996-06-05 株式会社島津製作所 Vacuum sintering furnace

Also Published As

Publication number Publication date
JPS62154398U (en) 1987-09-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5360336A (en) Forced cooling apparatus for heat treatment apparatus
US5221354A (en) Apparatus and method for gas phase coating of hollow articles
KR0154588B1 (en) Scrap conveyor having improved scrap pre-heating construction
JP3073886B2 (en) Substrate heat treatment equipment
JPH0434399Y2 (en)
JPS5666044A (en) Semiconductor device
EP0614216A4 (en) Apparatus for forming oxide film, heat treatment apparatus, semiconductor device, manufacturing method therefor.
JPS59217641A (en) Furnace for drawing device for optical fiber
JP2001234346A (en) Vacuum treating equipment utilizing reactive gas
JPH04358005A (en) Vacuum sintering furnace
JPH0345117Y2 (en)
JPH0465146B2 (en)
JPS6175514A (en) Treater
CN106229264B (en) Peripheral layer air flow method in laser processing system
JPH06249578A (en) Heat treatment furnace
JPH03184327A (en) Vapor growth device
JPH0264391A (en) Vacuum heat treatment furnace
JPS61190929A (en) Treatment device
JPH0541359Y2 (en)
JPS63243682A (en) Vacuum sintering furnace
JPH01101623A (en) Cvd crystal growth device
JPS6084811A (en) Processing apparatus
JPS62182199A (en) Diffusion furnace
JP2523938Y2 (en) Diffusion furnace exhaust system
JPS63243683A (en) Vacuum sintering furnace