JPH085814A - カラーフィルターの製造方法 - Google Patents
カラーフィルターの製造方法Info
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- JPH085814A JPH085814A JP13430894A JP13430894A JPH085814A JP H085814 A JPH085814 A JP H085814A JP 13430894 A JP13430894 A JP 13430894A JP 13430894 A JP13430894 A JP 13430894A JP H085814 A JPH085814 A JP H085814A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】カラー液晶表示装置に内装されるカラーフィル
ターの製造方法において、遮光パターン層形成に可染性
透明樹脂および透明フォトレジストを使用し、その可染
性透明樹脂のブラック染色の際の膨潤性を用いて段差を
埋めることにより、可染性透明樹脂と透明フォトレジス
トの表面にて、表面平滑な遮光パターン層を形成させる
ことを特徴とするカラーフィルターの製造方法。 【効果】本発明により得られたカラーフィルターは、遮
光パターン層が表面平滑となっている。表面平滑な遮光
パターン層の、上または下に、ＲＧＢ画素層の単独の形
成が可能なため、従来工法で発生していた、遮光パター
ン層とＲＧＢ画素層の重なり部での遮光パターン層の厚
みによる、ＲＧＢ画素の突起を防止出来る。そのため、
パネル化の際の、ＲＧＢ画素のセルギャップのバラツキ
が無くなり、カラー液晶表示の品位を向上出来る。
ターの製造方法において、遮光パターン層形成に可染性
透明樹脂および透明フォトレジストを使用し、その可染
性透明樹脂のブラック染色の際の膨潤性を用いて段差を
埋めることにより、可染性透明樹脂と透明フォトレジス
トの表面にて、表面平滑な遮光パターン層を形成させる
ことを特徴とするカラーフィルターの製造方法。 【効果】本発明により得られたカラーフィルターは、遮
光パターン層が表面平滑となっている。表面平滑な遮光
パターン層の、上または下に、ＲＧＢ画素層の単独の形
成が可能なため、従来工法で発生していた、遮光パター
ン層とＲＧＢ画素層の重なり部での遮光パターン層の厚
みによる、ＲＧＢ画素の突起を防止出来る。そのため、
パネル化の際の、ＲＧＢ画素のセルギャップのバラツキ
が無くなり、カラー液晶表示の品位を向上出来る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、カラー液晶表示装置に
内装されるカラーフィルターの製造方法に係わる。特
に、表面性の良い平滑な遮光（以下、ブラックマトリッ
クスと記す）パターン層を得ることにより突起の無い、
平滑性のあるカラーフィルターの製造方法に関する。
内装されるカラーフィルターの製造方法に係わる。特
に、表面性の良い平滑な遮光（以下、ブラックマトリッ
クスと記す）パターン層を得ることにより突起の無い、
平滑性のあるカラーフィルターの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、カラーフィルターの製造には、以
下に示すような、製造方法が知られている。まず、図１
（ａ）に示すように、透明基板１上に黒色顔料を分散し
た感光性樹脂２を塗布する。
下に示すような、製造方法が知られている。まず、図１
（ａ）に示すように、透明基板１上に黒色顔料を分散し
た感光性樹脂２を塗布する。
【０００３】次いで、図１（ｂ）に示すように、マスク
３を用い、露光を行う。次いで、図１（ｃ）に示すよう
に現像、定着、ベーキングを行いブラックマトリックス
層４を得る。次いで、図１（ｄ）に示すように、透明基
板１上に、公知の方法、例えば、染色法、顔料分散法、
印刷法にてＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のＲＧＢ画素
層５を形成する。ここで、ＲＧＢ画素層とは、Ｒ
（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）よりなるカラーフィルター
画素の層を示す。
３を用い、露光を行う。次いで、図１（ｃ）に示すよう
に現像、定着、ベーキングを行いブラックマトリックス
層４を得る。次いで、図１（ｄ）に示すように、透明基
板１上に、公知の方法、例えば、染色法、顔料分散法、
印刷法にてＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のＲＧＢ画素
層５を形成する。ここで、ＲＧＢ画素層とは、Ｒ
（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）よりなるカラーフィルター
画素の層を示す。
【０００４】上記工程中、ブラックマトリックス層４
は、低反射率かつ安価であることが要求されるため、黒
色顔料を分散した感光性樹脂２を用いた方式で作られて
いる。しかし、この黒色顔料を分散した感光性樹脂２を
用いた方式では、ブラックマトリックス層４の十分な遮
光性を得るために、ブラックマトリックス層４の膜厚が
１μｍ以上必要となる。そのため図２に示すように、ブ
ラックマトリックス層４の上に、ＲＧＢ画素層５をオー
バーラップを持って形成した場合、ブラックマトリック
ス層４の厚みのために、ブラックマトリックス層４とＲ
ＧＢ画素層５の重なり部で、ＲＧＢ画素層５が突起状６
となる。そのためパネル化の際、ＲＧＢ画素のセルギャ
ップのバラツキが大きくなり、カラー液晶表示の品位を
大幅に劣化させるという欠点を有している。
は、低反射率かつ安価であることが要求されるため、黒
色顔料を分散した感光性樹脂２を用いた方式で作られて
いる。しかし、この黒色顔料を分散した感光性樹脂２を
用いた方式では、ブラックマトリックス層４の十分な遮
光性を得るために、ブラックマトリックス層４の膜厚が
１μｍ以上必要となる。そのため図２に示すように、ブ
ラックマトリックス層４の上に、ＲＧＢ画素層５をオー
バーラップを持って形成した場合、ブラックマトリック
ス層４の厚みのために、ブラックマトリックス層４とＲ
ＧＢ画素層５の重なり部で、ＲＧＢ画素層５が突起状６
となる。そのためパネル化の際、ＲＧＢ画素のセルギャ
ップのバラツキが大きくなり、カラー液晶表示の品位を
大幅に劣化させるという欠点を有している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な事情に鑑み、カラー液晶表示装置に内装されるカラー
フィルターの製造方法において、表面平滑なブラックマ
トリックス層を形成し、ＲＧＢ画素層形成の際の突起発
生を防止し、上記したような欠点の生じない製造方法を
提供しようとするものである。
な事情に鑑み、カラー液晶表示装置に内装されるカラー
フィルターの製造方法において、表面平滑なブラックマ
トリックス層を形成し、ＲＧＢ画素層形成の際の突起発
生を防止し、上記したような欠点の生じない製造方法を
提供しようとするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、カ
ラー液晶表示装置に内装されるカラーフィルターの製造
方法において、ブラックマトリックス層形成に可染性透
明樹脂および透明フォトレジストを使用し、その可染性
透明樹脂のブラック染色の際の膨潤性を用いて段差を埋
めることにより、可染性透明樹脂と透明フォトレジスト
の表面にて、平滑なブラックマトリックス層を形成させ
ることを特徴とするカラーフィルターの製造方法であ
る。本発明では、表面平滑なブラックマトリックス層形
成後にＲＧＢ画素層を形成する、または、ＲＧＢ画素層
形成後に表面平滑なブラックマトリックス層を形成する
二通りのカラーフィルターの製造方法が可能となる。ま
た、ＲＧＢ画素層形成には、公知の方法、例えば、染色
法、顔料分散法、印刷法などがあげられる。
ラー液晶表示装置に内装されるカラーフィルターの製造
方法において、ブラックマトリックス層形成に可染性透
明樹脂および透明フォトレジストを使用し、その可染性
透明樹脂のブラック染色の際の膨潤性を用いて段差を埋
めることにより、可染性透明樹脂と透明フォトレジスト
の表面にて、平滑なブラックマトリックス層を形成させ
ることを特徴とするカラーフィルターの製造方法であ
る。本発明では、表面平滑なブラックマトリックス層形
成後にＲＧＢ画素層を形成する、または、ＲＧＢ画素層
形成後に表面平滑なブラックマトリックス層を形成する
二通りのカラーフィルターの製造方法が可能となる。ま
た、ＲＧＢ画素層形成には、公知の方法、例えば、染色
法、顔料分散法、印刷法などがあげられる。
【０００７】
【実施例】本発明の製造方法の実施例を以下に示す。 ＜実施例１＞図３（ａ）に示すように、透明基板１上に
可染性で透明な樹脂（ゼラチン、低分子量ゼラチン、ポ
リビニルアルコール、カゼイン、水溶性アクリル樹脂
等）を、膜厚１〜２μｍで塗布し、光もしくは熱による
硬化処理を行い、可染性樹脂層７とする。
可染性で透明な樹脂（ゼラチン、低分子量ゼラチン、ポ
リビニルアルコール、カゼイン、水溶性アクリル樹脂
等）を、膜厚１〜２μｍで塗布し、光もしくは熱による
硬化処理を行い、可染性樹脂層７とする。
【０００８】次いで、図３（ｂ）に示すように、可染性
樹脂層７の上に、アクリル系樹脂、フェノールノボラッ
ク系エポキシ樹脂等のネガ型透明フォトレジスト８を、
膜厚０．２〜１．０μｍで塗布する。この膜厚は、図３
（ｄ）でのブラック染色の際の可染性樹脂層７の膨潤量
を考慮し決定する。次いで、ブラックマトリックス部が
遮光部となっているマスク３を用い、露光を行う。
樹脂層７の上に、アクリル系樹脂、フェノールノボラッ
ク系エポキシ樹脂等のネガ型透明フォトレジスト８を、
膜厚０．２〜１．０μｍで塗布する。この膜厚は、図３
（ｄ）でのブラック染色の際の可染性樹脂層７の膨潤量
を考慮し決定する。次いで、ブラックマトリックス部が
遮光部となっているマスク３を用い、露光を行う。
【０００９】次いで、図３（ｃ）に示すように、現像を
行うことにより、ブラックマトリックスパターンの部位
の透明フォトレジスト（未硬化部）を除去する。
行うことにより、ブラックマトリックスパターンの部位
の透明フォトレジスト（未硬化部）を除去する。
【００１０】次いで、三菱化成工業（株）製商品名「ダ
イアシッド ミーリング ブラックＧＬ」１重量％、酢
酸０．５重量％の液組成よりなるブラック染料液に、液
温５０〜７０℃にて３〜５分間、浸漬を行いブラックパ
ターンの染色をおこなう。この際、染料液により可染性
樹脂層７の膨潤がおこり、ネガ型透明フォトレジスト８
との段差が埋まる。次いで、タンニン酸０．５重量％と
吐酒石０．５重量％の水溶液に、液温７０℃で１分間浸
漬し、ブラックパターン中の染料の定着、固着を行う。
次いで、２００℃にて１時間ベーキングを行い、最終的
に図３（ｄ）に示すようなブラックマトリックスパター
ン１０を得る。
イアシッド ミーリング ブラックＧＬ」１重量％、酢
酸０．５重量％の液組成よりなるブラック染料液に、液
温５０〜７０℃にて３〜５分間、浸漬を行いブラックパ
ターンの染色をおこなう。この際、染料液により可染性
樹脂層７の膨潤がおこり、ネガ型透明フォトレジスト８
との段差が埋まる。次いで、タンニン酸０．５重量％と
吐酒石０．５重量％の水溶液に、液温７０℃で１分間浸
漬し、ブラックパターン中の染料の定着、固着を行う。
次いで、２００℃にて１時間ベーキングを行い、最終的
に図３（ｄ）に示すようなブラックマトリックスパター
ン１０を得る。
【００１１】次いで、図４に示すように、公知の方法に
より、染色法、顔料分散法、印刷法にてＲ（赤）、Ｇ
（緑）、Ｂ（青）のＲＧＢ画素層５を形成しカラーフィ
ルターを得る。なお、図中９は、公知の方法、例えば、
スパッタリングなどでカラーフィルター上に、膜付けさ
れた、酸化インジウムと酸化スズからなる透明電極であ
る。
より、染色法、顔料分散法、印刷法にてＲ（赤）、Ｇ
（緑）、Ｂ（青）のＲＧＢ画素層５を形成しカラーフィ
ルターを得る。なお、図中９は、公知の方法、例えば、
スパッタリングなどでカラーフィルター上に、膜付けさ
れた、酸化インジウムと酸化スズからなる透明電極であ
る。
【００１２】＜実施例２＞図５（ａ）に示すように、透
明基板１上に、公知の方法により、染色法、顔料分散
法、印刷法にてＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のＲＧＢ
画素層５を形成する。
明基板１上に、公知の方法により、染色法、顔料分散
法、印刷法にてＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のＲＧＢ
画素層５を形成する。
【００１３】次いで、図５（ｂ）に示すように、ＲＧＢ
画素層５の上に、可染性で透明な樹脂（ゼラチン、低分
子量ゼラチン、ポリビニルアルコール、カゼイン、水溶
性アクリル樹脂等）を、膜厚１〜２μｍで塗布し、光も
しくは熱により硬化処理を行って、可染性樹脂層７を形
成する。
画素層５の上に、可染性で透明な樹脂（ゼラチン、低分
子量ゼラチン、ポリビニルアルコール、カゼイン、水溶
性アクリル樹脂等）を、膜厚１〜２μｍで塗布し、光も
しくは熱により硬化処理を行って、可染性樹脂層７を形
成する。
【００１４】次いで、図５（ｃ）に示すように、可染性
樹脂層７の上に、アクリル系樹脂、フェノールノボラッ
ク系エポキシ樹脂等のネガ型透明フォトレジスト８を、
膜厚０．２〜１．０μｍで塗布する。この膜厚は、図５
（ｅ）でのブラック染色の際の可染性樹脂層の膨潤量を
考慮し決定する。次いで、ブラックマトリックス部が遮
光部となっているマスク３を用い、露光を行う。
樹脂層７の上に、アクリル系樹脂、フェノールノボラッ
ク系エポキシ樹脂等のネガ型透明フォトレジスト８を、
膜厚０．２〜１．０μｍで塗布する。この膜厚は、図５
（ｅ）でのブラック染色の際の可染性樹脂層の膨潤量を
考慮し決定する。次いで、ブラックマトリックス部が遮
光部となっているマスク３を用い、露光を行う。
【００１５】次いで、図５（ｄ）に示すように、現像を
行うことにより、ブラックマトリックスパターンの部位
の透明レジスト（未硬化部）を除去する。
行うことにより、ブラックマトリックスパターンの部位
の透明レジスト（未硬化部）を除去する。
【００１６】次いで、三菱化成工業（株）製商品名「ダ
イアシッド ミーリング ブラックＧＬ」１重量％、酢
酸０．５重量％の液組成よりなるブラック染料液にて、
液温５０〜７０℃にて３〜５分間、ブラックパターンの
染色をおこなう。この際、染料液により可染性樹脂層７
の膨潤がおこり、ネガ型透明フォトレジスト８との段差
が埋まる。次いで、タンニン酸と吐酒石の水溶液にて定
着を行う。次いで、２００℃にて１時間ベーキングを行
い、最終的に図５（ｅ）に示すようなブラックマトリッ
クスパターン１０を得る。次いで、図６に示すように、
公知の方法、例えば、スパッタリングなどでＲ（赤）、
Ｇ（緑）、Ｂ（青）のカラーフィルター上に、酸化イン
ジウムと酸化スズからなる透明電極９を膜付けする。
イアシッド ミーリング ブラックＧＬ」１重量％、酢
酸０．５重量％の液組成よりなるブラック染料液にて、
液温５０〜７０℃にて３〜５分間、ブラックパターンの
染色をおこなう。この際、染料液により可染性樹脂層７
の膨潤がおこり、ネガ型透明フォトレジスト８との段差
が埋まる。次いで、タンニン酸と吐酒石の水溶液にて定
着を行う。次いで、２００℃にて１時間ベーキングを行
い、最終的に図５（ｅ）に示すようなブラックマトリッ
クスパターン１０を得る。次いで、図６に示すように、
公知の方法、例えば、スパッタリングなどでＲ（赤）、
Ｇ（緑）、Ｂ（青）のカラーフィルター上に、酸化イン
ジウムと酸化スズからなる透明電極９を膜付けする。
【００１７】以上の、製造方法により得られるカラーフ
ィルターは可染性樹脂層７への染色の際、可染性樹脂層
７が膨潤をおこしブラックマトリックスパターン１０と
なるため、透明フォトレジストとの段差を埋め、かつ透
明フォトレジスト８を残すことによりブラックマトリッ
クスパターン層が平滑となったものが得られる。
ィルターは可染性樹脂層７への染色の際、可染性樹脂層
７が膨潤をおこしブラックマトリックスパターン１０と
なるため、透明フォトレジストとの段差を埋め、かつ透
明フォトレジスト８を残すことによりブラックマトリッ
クスパターン層が平滑となったものが得られる。
【００１８】
【発明の効果】以上のように、本発明により得られたカ
ラーフィルターは、ブラックマトリックス層が平滑とな
っている。平滑なブラックマトリックス層の、上または
下に、ＲＧＢ画素層の単独の形成が可能なため、従来工
法で発生していた、ブラックマトリックス層とＲＧＢ画
素層の重なり部でのブラックマトリックス層の厚みによ
る、ＲＧＢ画素層の突起を防止出来る。そのため、パネ
ル化の際の、ＲＧＢ画素のセルギャップのバラツキが無
くなり、カラー液晶表示の品位を向上出来るという点
で、実用上優れている。
ラーフィルターは、ブラックマトリックス層が平滑とな
っている。平滑なブラックマトリックス層の、上または
下に、ＲＧＢ画素層の単独の形成が可能なため、従来工
法で発生していた、ブラックマトリックス層とＲＧＢ画
素層の重なり部でのブラックマトリックス層の厚みによ
る、ＲＧＢ画素層の突起を防止出来る。そのため、パネ
ル化の際の、ＲＧＢ画素のセルギャップのバラツキが無
くなり、カラー液晶表示の品位を向上出来るという点
で、実用上優れている。
【００１９】
【図１】（ａ）〜（ｄ）は、従来工法によるカラーフィ
ルターの製造方法を工程順に示す説明図。
ルターの製造方法を工程順に示す説明図。
【図２】従来の、カラーフィルターで発生した、ブラッ
クマトリックス層とＲＧＢ画素層の重なりにより出来る
突起を示す説明図。
クマトリックス層とＲＧＢ画素層の重なりにより出来る
突起を示す説明図。
【図３】（ａ）〜（ｄ）は、本発明によるカラーフィル
ターの製造方法の一実施例を工程順に示す説明図。
ターの製造方法の一実施例を工程順に示す説明図。
【図４】本発明により得られた、カラーフィルターの一
実施例を示す説明図。
実施例を示す説明図。
【図５】（ａ）〜（ｅ）は、本発明によるカラーフィル
ターの製造方法の他の実施例を工程順に示す説明図。
ターの製造方法の他の実施例を工程順に示す説明図。
【図６】本発明により得られた、カラーフィルターの一
実施例を示す説明図。
実施例を示す説明図。
１ 透明基板 ２ 黒色顔料を分散した感光性樹脂 ３ マスク ４ ブラックマトリックス層 ５ ＲＧＢ画素層 ６ 突起状 ７ 可染性樹脂層 ８ ネガ型透明フォトレジスト ９ 透明電極 １０ ブラックマトリックスパターン
Claims (3)
- 【請求項１】カラー液晶表示装置に内装されるカラーフ
ィルターの製造方法において、遮光パターン層形成に可
染性透明樹脂および透明フォトレジストを使用し、その
可染性透明樹脂のブラック染色の際の膨潤性を用いて段
差を埋めることにより、可染性透明樹脂と透明フォトレ
ジストの表面にて、表面平滑な遮光パターン層を形成さ
せることを特徴とするカラーフィルターの製造方法。 - 【請求項２】遮光パターン層の上にカラーフィルター層
がある請求項１記載のカラーフィルターの製造方法。 - 【請求項３】カラーフィルター層の上に遮光パターン層
がある請求項１記載のカラーフィルターの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13430894A JPH085814A (ja) | 1994-06-16 | 1994-06-16 | カラーフィルターの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13430894A JPH085814A (ja) | 1994-06-16 | 1994-06-16 | カラーフィルターの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH085814A true JPH085814A (ja) | 1996-01-12 |
Family
ID=15125264
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13430894A Pending JPH085814A (ja) | 1994-06-16 | 1994-06-16 | カラーフィルターの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH085814A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004246094A (ja) * | 2003-02-14 | 2004-09-02 | Dainippon Printing Co Ltd | 樹脂ブラックマトリックスの製造方法及びそれに用いるフォトマスク、樹脂ブラックマトリックス、カラーフィルタ及び液晶表示素子 |
-
1994
- 1994-06-16 JP JP13430894A patent/JPH085814A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004246094A (ja) * | 2003-02-14 | 2004-09-02 | Dainippon Printing Co Ltd | 樹脂ブラックマトリックスの製造方法及びそれに用いるフォトマスク、樹脂ブラックマトリックス、カラーフィルタ及び液晶表示素子 |
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