JPH085567Y2 - Photo sensor element - Google Patents

Photo sensor element

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JPH085567Y2
JPH085567Y2 JP1988090100U JP9010088U JPH085567Y2 JP H085567 Y2 JPH085567 Y2 JP H085567Y2 JP 1988090100 U JP1988090100 U JP 1988090100U JP 9010088 U JP9010088 U JP 9010088U JP H085567 Y2 JPH085567 Y2 JP H085567Y2
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light
sensor
transparent
photosensor element
window
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只志 大林
寿則 水口
竹治 山脇
誠志郎 水上
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Kaneka Corp
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Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、フォトセンサ素子に関するものであり、更
に詳しくは、非晶質シリコン系半導体を利用してなるフ
ォトセンサ素子に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial field of application] The present invention relates to a photosensor device, and more particularly to a photosensor device using an amorphous silicon semiconductor.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

ガラスや硬質合成樹脂等でなる透光性絶縁基板上に透
明電極、半導体層、金属電極を積層し、前記半導体層の
発生する電流を利用して被検出物の検出を行うフォトセ
ンサ素子は従来より存在する。
Conventionally, a photo sensor element for detecting an object to be detected by stacking a transparent electrode, a semiconductor layer, and a metal electrode on a translucent insulating substrate made of glass or a hard synthetic resin and utilizing the electric current generated by the semiconductor layer has been conventionally used. Exists more.

しかし、このようなフォトセンサ素子にあっては、半
導体層として、単結晶シリコン、多結晶シリコンその他
結晶系の半導体層を利用しているために、用途に応じた
任意の形状の素子を得ることが困難であり、コストも高
くなるという問題を内包していた。
However, in such a photo sensor element, since a single crystal silicon, polycrystalline silicon or other crystalline semiconductor layer is used as a semiconductor layer, an element having an arbitrary shape according to the application can be obtained. It was difficult and costly.

例えば、被検出物の表面の状態を検出する場合には、
被検出物の表面にセルフォックレンズ等を用いて発光ダ
イオードの光を照射し、その反射光をフォトセンサ素子
によって受光する。
For example, when detecting the surface condition of the object to be detected,
The surface of the object to be detected is irradiated with light from a light emitting diode using a SELFOC lens or the like, and the reflected light is received by a photo sensor element.

この時、被検出物表面の白い部分では光の反射は多
く、黒い部分では光が吸収されるので、白い部分に対応
するセンサ部では発生する電流は大きく、黒い部分に対
応するセンサ部では発生する電流が小さくなる為、この
電流を測定することによって、被検出物表面の状態を知
ることができるものである。
At this time, the white part of the surface of the object to be detected reflects a large amount of light, and the black part absorbs the light.Therefore, the current generated in the sensor part corresponding to the white part is large and that generated in the sensor part corresponding to the black part. Since the applied current becomes small, the state of the surface of the object to be detected can be known by measuring this current.

〔考案が解決しようとする課題〕[Problems to be solved by the device]

このようなフォトセンサ素子にあっては、センサ素子
の横方向斜めの位置から発光ダイオードを照射する必要
があるので、絶縁基板上に形成したフォトセンサ素子に
均一に光を照射することが困難であり、高い検出精度を
望むことができなかった。
In such a photo sensor element, since it is necessary to irradiate the light emitting diode from a position oblique to the lateral direction of the sensor element, it is difficult to uniformly irradiate the photo sensor element formed on the insulating substrate with light. Yes, high detection accuracy could not be expected.

特に、フォトセンサ素子を分割して、複数個のセンサ
部を形成した時には、各センサ部が受光する光量にばら
つきが生じて、検出誤差が大きくなり、更に各センサ部
に対応して発光ダイオードを複数個用いる場合には、各
発光ダイオードの光量を一定にすることは困難であるた
め、精度のよい検出は望めなかった。
In particular, when the photosensor element is divided to form a plurality of sensor parts, the amount of light received by each sensor part varies, resulting in a large detection error. When a plurality of light emitting diodes are used, it is difficult to keep the light amount of each light emitting diode constant, and therefore accurate detection cannot be expected.

〔課題を解決する為の手段〕[Means for solving the problem]

本考案は、上記問題点に鑑みて、透光性絶縁基板上
に、該絶縁基板のみで他の不透明部材を積層していない
非積層部を透光窓とし、該透光窓の周囲に透明電極、非
晶質シリコン系半導体層、金属電極を順次積層した複数
個のセンサ部を形成したフォトセンサ素子であって、 前記フォトセンサ素子が正方形状であり、かつ一辺が
当該フォトセンサ素子の一辺の長さの1/2以下の長さで
なる略正方形状の4個のセンサ部を、正方形状の被検出
パターンにおけるコード化領域に対応した位置関係で形
成するとともに、前記フォトセンサ素子の中央に位置し
て円形の透光窓を配設し、当該透光窓の形状を前記金属
電極によって構成したことを特徴とするフォトセンサ素
子を構成するものである。
In view of the above problems, the present invention provides a transparent window on a transparent insulating substrate, which is a non-laminated portion where only the insulating substrate is not laminated with other opaque members and which is transparent around the transparent window. A photosensor element having a plurality of sensor portions in which an electrode, an amorphous silicon semiconductor layer, and a metal electrode are sequentially laminated, wherein the photosensor element has a square shape, and one side is one side of the photosensor element. Of four substantially square-shaped sensor portions each having a length equal to or less than half the length of the photosensor element are formed in a positional relationship corresponding to the coded region in the square-shaped detection pattern, and the center of the photosensor element is formed. A circular light-transmitting window is disposed at the position, and the shape of the light-transmitting window is formed by the metal electrode, which constitutes a photosensor element.

この時、透光窓の周囲に位置するセンサ部の透明電極
を共通としたり、透光窓の周囲に位置するセンサ部の金
属電極を共通にしたりできる さらに、透光性絶縁基板上に、透明電極、非晶質シリ
コン系半導体層、金属電極を順次積層した複数個のセン
サ部を形成したフォトセンサ素子であって、 前記フォトセンサ素子が正方形状に形成され、かつ一
辺が当該フォトセンサ素子の一辺の長さの1/2以下の長
さでなる略正方形状の4個のセンサ部を、正方形状の被
検出パターンにおけるコード化領域に対応した位置関係
で形成するとともに、前記フォトセンサ素子の中央に位
置して円形の透光窓を配設し、当該透光窓内に金属電極
によって構成された平面視十字形状の積層部を形成して
なるフォトセンサ素子を構成するものである。
At this time, the transparent electrodes of the sensor unit located around the transparent window can be shared, and the metal electrodes of the sensor unit located around the transparent window can be shared. A photosensor element having a plurality of sensor portions in which an electrode, an amorphous silicon semiconductor layer, and a metal electrode are sequentially laminated, wherein the photosensor element is formed in a square shape, and one side of the photosensor element is formed. Four substantially square sensor portions each having a length equal to or less than half the length of one side are formed in a positional relationship corresponding to the coded region in the square detection pattern, and A photosensor element is formed by arranging a circular light-transmitting window at the center, and forming a cross-shaped laminated portion formed by metal electrodes in a plan view in the light-transmitting window.

〔作用〕[Action]

本考案に係るフォトセンサ素子は、上述のような構成
でなり、当該フォトセンサ素子を被検出物に位置させ、
透光窓の裏面より発光ダイオード等の光を照射し、被検
出物からの反射光を受光したセンサ素子の発生する電流
を測定することによって、被検出物を検出するものであ
る。
The photo sensor element according to the present invention is configured as described above, and the photo sensor element is positioned on an object to be detected,
The object to be detected is detected by irradiating light from a light emitting diode or the like from the back surface of the light-transmitting window and measuring the current generated by the sensor element that receives the reflected light from the object to be detected.

この時、透明電極と金属電極のどちらか一方が、共通
電極にされており、独立にされた他方の電極の電流を計
測して、被検出物を容易に検出することができるもので
ある。
At this time, one of the transparent electrode and the metal electrode is used as a common electrode, and the current of the other electrode which is made independent can be measured to easily detect the object to be detected.

例えば、フォトセンサ素子を平面視正方形状に形成
し、一辺がフォトセンサ素子の一辺の長さの1/2以下の
長さでなる略正方形状のセンサ部を4個形成した場合に
は、この4つのセンサ部に対応した4つの部分を1組に
したコード情報を読み取る場合に利用されるものであ
る。
For example, in the case where the photo sensor element is formed in a square shape in a plan view and four substantially square sensor portions each having a length equal to or less than half the length of one side of the photo sensor element are formed, This is used when reading code information in which a set of four parts corresponding to four sensor parts is set.

〔実施例〕〔Example〕

本考案の詳細を図示した実施例に基づいて説明する。 The details of the present invention will be described based on illustrated embodiments.

第1図〜第3図は本考案に係るフォトセンサ素子の実
施例の製作工程説明図、第4図は第3図におけるA−A
断面図である。
1 to 3 are explanatory views of a manufacturing process of an embodiment of a photo sensor element according to the present invention, and FIG. 4 is AA in FIG.
FIG.

図中1は、ガラス、硬質合成樹脂等でなる透光性絶縁
基板である。
In the figure, reference numeral 1 is a translucent insulating substrate made of glass, hard synthetic resin or the like.

2は、インジウム−スズ酸化物(以下これをITOと称
す)または二酸化スズ(以下これをSnO2と称す)等から
なる透明電極であり、300Å〜1000Åの厚さに形成され
るものである。
Reference numeral 2 denotes a transparent electrode made of indium-tin oxide (hereinafter referred to as ITO) or tin dioxide (hereinafter referred to as SnO 2 ) or the like, which is formed to a thickness of 300Å to 1000Å.

この透明電極2は、絶縁基板1上に形成されるべき単
または複数個のセンサ部に応じた形状に形成されるもの
で、図例のものは、中央に円形の非積層部である透光窓
3を形成するとともに、4個のセンサ部6に対応するよ
うに分割されており、各センサ部6に対応して電極取り
出し部9が形成されている。
The transparent electrode 2 is formed in a shape corresponding to one or a plurality of sensor portions to be formed on the insulating substrate 1. In the illustrated example, the transparent electrode 2 is a circular non-laminated portion in the center. Along with forming the window 3, the window 3 is divided so as to correspond to the four sensor portions 6, and the electrode lead-out portion 9 is formed corresponding to each sensor portion 6.

4は、グロー放電分解法によって積層される非晶質シ
リコン形半導体層であり、これは例えば、受光面側から
p型アモルファスシリコンカーバイド、i型アモルファ
スシリコン、n型アモルファスシリコンを積層したPIN
へテロ接合型アモルファスシリコン系半導体層等が利用
され、厚さは約1μm程度のもので、やはり4つのセン
サ部6に応じた形状に分割されている。
Reference numeral 4 denotes an amorphous silicon type semiconductor layer laminated by a glow discharge decomposition method. This is, for example, a PIN in which p type amorphous silicon carbide, i type amorphous silicon and n type amorphous silicon are laminated from the light receiving surface side.
A heterojunction type amorphous silicon semiconductor layer or the like is used and has a thickness of about 1 μm, and is also divided into shapes corresponding to the four sensor portions 6.

非晶質シリコン系半導体層4は、pn接合型アモルファ
スシリコン系半導体を利用することも可能であり、この
他にもアモルファスシリコンゲルマニウムを含むもの、
アモルファスシリコン、アモルファスシリコンカーバイ
ド、アモルファスシリコンゲルマニウム等のマイクロク
リスタル化したものを含むもの等を包含するものであ
る。
For the amorphous silicon-based semiconductor layer 4, it is also possible to use a pn junction type amorphous silicon-based semiconductor. In addition to this, one containing amorphous silicon-germanium,
It includes those containing microcrystalline materials such as amorphous silicon, amorphous silicon carbide, and amorphous silicon germanium.

5は金属電極であり、この金属電極5はクロム、ニッ
ケル、チタン、アルミニウム等から選択した金属成分を
EB蒸着法等によって形成するもので、1000Å以上の厚さ
で形成されることが好ましいものである。
5 is a metal electrode, and this metal electrode 5 contains a metal component selected from chromium, nickel, titanium, aluminum, etc.
It is formed by an EB vapor deposition method or the like, and is preferably formed with a thickness of 1000 Å or more.

ここで、金属電極5の形状はフォトエッチング等で形
成され、中央に位置する端縁は透光窓3を形成するもの
であり、図例のものは、この透光窓3の周囲に位置し
て、4個のセンサ部6を形成するものである。
Here, the shape of the metal electrode 5 is formed by photo-etching or the like, and the edge located at the center forms the light-transmitting window 3. In the example shown in FIG. In this way, four sensor units 6 are formed.

尚、金属電極5の上にエポキシ樹脂、フェノール樹脂
等の高分子保護膜を積層することも可能である。
It is also possible to stack a polymer protective film such as an epoxy resin or a phenol resin on the metal electrode 5.

このようにしたフォトセンサ素子は、第5図に説明用
側面図を示すように、透光性、絶縁基板1を被検出物7
に略密着させ、裏面より透光窓3に位置して、発光ダイ
オード8等の光を照射する。
As shown in the side view for explanation in FIG. 5, the photo sensor element thus constructed has a translucent, insulating substrate 1 and an object 7 to be detected.
The light from the light emitting diode 8 and the like is radiated from the rear surface to the light transmitting window 3 from the rear side.

照射された光は、透光窓3を通過し、被検出物7表面
で反射して再び透光性絶縁基板1を通過し、センサ部6
に入射する。
The radiated light passes through the transparent window 3, is reflected by the surface of the object 7 to be detected, passes through the transparent insulating substrate 1 again, and the sensor portion 6
Incident on.

この時、被検出物7表面の白色部分では光の反射が多
く、黒色部分では光が吸収されるので、白色部分に位置
するセンサ部6では発光する電流が大きく、黒色部分に
位置するセンサ部6では発生する電流が小さい。
At this time, a large amount of light is reflected on the white portion of the surface of the object to be detected 7 and the light is absorbed on the black portion. Therefore, the sensor portion 6 located in the white portion produces a large current, and the sensor portion located in the black portion is large. In 6, the generated current is small.

よって、金属電極5を共通電極として1つに結線し、
各センサ部6に対応する透明電極2の電極取り出し部9
の電流を測定すれば、被検出物7表面の状態が各センサ
部6に対応して検出できるものである。
Therefore, the metal electrode 5 is connected to one as a common electrode,
Electrode lead-out portion 9 of transparent electrode 2 corresponding to each sensor portion 6
By measuring the current of, the state of the surface of the detected object 7 can be detected corresponding to each sensor unit 6.

このような本考案に係る実施例で検出するものとし
て、情報をコード化したものが用いられ、例えば、第6
図に示すようなコード信号を検出することに用いること
が可能である。この第6図のものは田の字形の被検出パ
ターンであって、田の字の4つの区画領域、すなわちコ
ード化領域における白黒の塗り分けパターンの違いによ
って情報を表すものである。
As the one to be detected in the embodiment according to the present invention, a coded information is used.
It can be used to detect a code signal as shown. The pattern shown in FIG. 6 is a detection pattern in the shape of a square, and the information is represented by the difference in the black and white coloring patterns in the four divided areas of the square, that is, the coded area.

即ち、このコード化領域の塗り分けパターンとして識
別されるコード信号は、正方形を4分割してできた4つ
のコード化領域を2進数に対応させたものであり、黒く
塗り潰された部分を検出することによって、コード化さ
れた情報を読み取ることができる。
That is, the code signal identified as the color-coded pattern of the coded area corresponds to the binary code of four coded areas formed by dividing a square into four, and the black-painted portion is detected. By this, the coded information can be read.

この被検出物7表面に記載されるコードの大きさに対
応して、フォトセンサ素子を構成し、当該フォトセンサ
素子の裏面から、透光窓3に位置して発光ダイオード8
の光を照射すれば、4つのセンサ部6のうち、コードの
黒く塗り潰された部分に位置するものは、発光する電流
が小さく、白い部分に位置するセンサ部は発生する電流
が大きいために、この電流を測定すれば、被検出物7の
表面に記載されているコードを簡単に検出することがで
きるものである。
A photo sensor element is formed corresponding to the size of the code written on the surface of the object to be detected 7, and the light emitting diode 8 is located at the light transmitting window 3 from the back surface of the photo sensor element.
Of the four sensor portions 6 located in the black-painted portion of the code has a small current to be emitted, and the sensor portion located in the white portion has a large generated current. If this current is measured, the code written on the surface of the detected object 7 can be easily detected.

この時、透光窓3が、フォトエッチング等で形成され
た金属電極5の端縁によって構成されているために、そ
の形状が誤差±10μm以下の精度で形成することがで
き、精度よく作成することが可能である。
At this time, since the transparent window 3 is formed by the edge of the metal electrode 5 formed by photo-etching or the like, its shape can be formed with an error of ± 10 μm or less, and the light-transmitting window 3 is formed with high accuracy. It is possible.

このことによって、発光ダイオード8の光は各センサ
部6に応じて均一に透光窓を透過し、被検出物7の表面
を均等に照射することが可能となり、各センサ部6の検
出精度を向上させることが可能となるものである。
As a result, the light of the light emitting diode 8 can be evenly transmitted through the light-transmissive window according to each sensor unit 6, and the surface of the object 7 to be detected can be evenly illuminated, and the detection accuracy of each sensor unit 6 can be improved. It is possible to improve.

また、光源としては、1つの発光ダイオード8を利用
して、4つのセンサ部6における検出を行うことができ
るので、それぞれのセンサ部6の受光する光量を一定に
保つことができ、S/N比を向上できるものである。
Further, as the light source, one light emitting diode 8 can be used to perform detection by the four sensor units 6, so that the amount of light received by each sensor unit 6 can be kept constant, and the S / N The ratio can be improved.

センサ素子として、非晶質シリコン系半導体層を利用
しているために、任意の形状のセンサ部を形成すること
が容易であり、実施例のように中央に透光窓3を形成す
ることも容易にできるものである。
Since the amorphous silicon semiconductor layer is used as the sensor element, it is easy to form a sensor portion having an arbitrary shape, and the transparent window 3 may be formed in the center as in the embodiment. It can be done easily.

また、非晶質シリコン系半導体層を用いているために、
結晶系の半導体層に比して、光に対する反応が良好であ
り、特に可視光範囲において良好であるために、検出の
精度の良いフォトセンサ素子を提供することが可能とな
るものである。
Further, since the amorphous silicon semiconductor layer is used,
As compared with a crystalline semiconductor layer, it has a better reaction to light, particularly in the visible light range, so that it is possible to provide a photosensor element with high detection accuracy.

第7図〜第9図は、本考案に係るフォトセンサ素子の
第2実施例の製作工程説明用平面図である。
7 to 9 are plan views for explaining the manufacturing process of the second embodiment of the photosensor element according to the present invention.

即ち、ガラス等でなる透光性絶縁基板1上に、ITOま
たはSnO2等でなる透明電極2、非晶質シリコン系半導体
層4及びクロム、ニッケル、チタン、アルミニウム等で
なる金属電極5を積層させて、4つのセンサ部6を形成
するとともに、中央に絶縁基板1のみで他の不透明部材
を積層していない非積層部を透光窓3としている。
That is, on the transparent insulating substrate 1 made of glass or the like, a transparent electrode 2 made of ITO or SnO 2 or the like, an amorphous silicon-based semiconductor layer 4 and chromium, nickel, titanium, a metal electrode 5 made of aluminum or the like stacked Thus, the four sensor portions 6 are formed, and the non-laminated portion in which the other opaque member is not laminated on the insulating substrate 1 at the center is used as the transparent window 3.

第1実施例では金属電極5を共通電極としていたのに
対して、この第2実施例では透明電極2を共通電極とし
ており、透明電極2の隣合うセンサ部6の間に位置する
部分を電極取り出し部9とし、これを共通電極として1
つに結線するものである。
While the metal electrode 5 is used as the common electrode in the first embodiment, the transparent electrode 2 is used as the common electrode in the second embodiment, and the portion located between the adjacent sensor portions 6 of the transparent electrode 2 is the electrode. The take-out portion 9 is used as the common electrode 1
It is what is connected to one.

また、金属電極5には、各センサ部6に対応して、電
極取り出し部10が形成されている。
Further, an electrode lead-out portion 10 is formed on the metal electrode 5 so as to correspond to each sensor portion 6.

このようにした本考案に係るフォトセンサ素子の第2
実施例にあっては、透明電極2が共通とされているため
に、独立した金属電極5の電極取り出し部10の電流を測
定することによって、被検出物7表面の状態が各センサ
部6に対応して検出できるものである。
The second embodiment of the photo sensor device according to the present invention as described above
In the embodiment, since the transparent electrode 2 is common, the state of the surface of the object 7 to be detected is detected by each sensor unit 6 by measuring the current of the electrode lead-out unit 10 of the independent metal electrode 5. It can be detected correspondingly.

この第2実施例においても、第6図に示したコードに
対応させることが可能である。
Also in the second embodiment, it is possible to correspond to the code shown in FIG.

第10図は、本考案に係るフォトセンサ素子の第3実施
例の説明用平面図である。
FIG. 10 is a plan view for explaining the third embodiment of the photo sensor element according to the present invention.

即ち、ガラス等でなる透光性絶縁基板1に、透明電極
2、非晶質シリコン系半導体層4及び金属電極5を順次
積層して、平面視正方形状のフォトセンサ素子を形成
し、一辺がフォトセンサ素子の一辺の長さの1/2以下の
長さでなる略正方形状のセンサ部6を4個形成し、前記
フォトセンサ素子の中央に位置して、円形の透光窓3を
形成するようにセンサ部6を切欠するとともに、前記透
光窓3内に金属電極5によって平面視十字形状の積層部
11を形成している。
That is, the transparent electrode 2, the amorphous silicon semiconductor layer 4 and the metal electrode 5 are sequentially laminated on the translucent insulating substrate 1 made of glass or the like to form a photosensor element having a square shape in plan view, and one side is Four substantially square sensor portions 6 each having a length equal to or less than half the length of one side of the photo sensor element are formed, and a circular light transmitting window 3 is formed at the center of the photo sensor element. So that the sensor portion 6 is cut out and the metal electrode 5 is provided inside the light-transmissive window 3 so as to have a cross shape in plan view.
11 are formed.

積層部11は、金属電極5を形成する際に同時に形成す
ることが可能であり、中央の円形部12と該円形部12から
四方に延設された仕切り部13とよりなるものである。
The laminated portion 11 can be formed at the same time when the metal electrode 5 is formed, and includes a central circular portion 12 and partition portions 13 extending from the circular portion 12 in all directions.

この積層部11は、図示した形状に限定されるものでは
なく、透光窓3をセンサ6に応じて等分するものであれ
ばよい。
The laminated portion 11 is not limited to the illustrated shape, and may be any portion that divides the light-transmitting window 3 into equal parts according to the sensor 6.

このようにした本考案の第3実施例では、透光窓3
が、金属電極5の積層部11によって、センサ部6に対応
した形状に区切られており、センサ部6の境界近傍にお
ける透過光をカットできる為、隣合うセンサ部6同士の
検出誤差を少なくすることができ、よってS/N比を向上
することができるものである。従って、第6図に示すコ
ード信号を精度良く検出することができる。
In the third embodiment of the present invention thus configured, the translucent window 3
However, since it is divided into a shape corresponding to the sensor portion 6 by the laminated portion 11 of the metal electrode 5 and the transmitted light near the boundary of the sensor portion 6 can be cut, the detection error between the adjacent sensor portions 6 is reduced. Therefore, the S / N ratio can be improved. Therefore, the code signal shown in FIG. 6 can be accurately detected.

また、発光ダイオードの中央部分において、光量が強
い為に、光のばらつきを生じるが、金属電極5の積層部
11の中央に位置して十字の交差部に相当する円形部12を
形成しているために、この発光ダイオードの中央部分の
光をカットし、透光窓3における照射光を均一にするこ
とが可能となるものである。
Further, since the light amount is strong in the central portion of the light emitting diode, the light varies, but the laminated portion of the metal electrode 5
Since the circular portion 12 corresponding to the cross portion of the cross is formed at the center of 11, the light in the central portion of the light emitting diode can be cut and the irradiation light in the transparent window 3 can be made uniform. It is possible.

〔考案の効果〕[Effect of device]

本考案に係るフォトセンサ素子は、上述のような構成
でなり、非晶質シリコン系半導体層を用いてセンサ素子
を形成しているために、任意の形状のセンサ部を構成す
ることが可能となり、例えば、正方形状に形成したフォ
トセンサ素子を4分割してセンサ部を4つ形成するとと
もに、中央に位置して透光窓を形成して、裏面より発光
ダイオードの光を照射するようなセンサを構成して、こ
れに対応するコード情報を読み取ることに利用すること
が可能となるものである。
The photosensor element according to the present invention has the above-described configuration, and since the sensor element is formed by using the amorphous silicon semiconductor layer, it is possible to configure the sensor section of any shape. For example, a sensor in which a photosensor element formed in a square shape is divided into four to form four sensor portions and a light-transmitting window is formed at the center so that light from a light-emitting diode is emitted from the back surface. Can be used to read the code information corresponding to the above.

また、半導体層の裏面に設けられる金属電極はフォト
エッチングによって形成される為、得られる形状は精度
が高く、各センサ部に対応する透光窓を均一に形成する
ことができるものである。
Further, since the metal electrode provided on the back surface of the semiconductor layer is formed by photo-etching, the obtained shape has high accuracy, and the translucent window corresponding to each sensor section can be formed uniformly.

このことによって、透光窓を透過する光は、各センサ
部に応じて均一に保つことができ、センサ部の検出誤差
を少なくして、S/N比を向上させるものである。
As a result, the light transmitted through the light-transmissive window can be kept uniform according to each sensor unit, the detection error of the sensor unit can be reduced, and the S / N ratio can be improved.

さらに透光窓内に前記保護膜によって構成された平面
視十字形状の積層部を形成することにより、センサ部の
境界近傍における透過光がカットでき、隣合うセンサ部
同士の検出誤差が少なくなってS/N比を向上することが
可能となる。また十字の交差部に相当する部分によって
発光ダイオードの中央部分の光をカットするので、透光
窓における照射光を均一にすることが可能となる。従っ
て、高精度のフォトセンサ素子が実現できる。
Further, by forming a laminated portion having a cross shape in plan view formed by the protective film in the light-transmitting window, it is possible to cut the transmitted light in the vicinity of the boundary between the sensor portions, and reduce the detection error between adjacent sensor portions. It is possible to improve the S / N ratio. Further, since the light corresponding to the intersection of the crosses cuts off the light in the central portion of the light emitting diode, it is possible to make the irradiation light in the light transmitting window uniform. Therefore, a highly accurate photo sensor element can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図〜第3図は本考案に係るフォトセンサ素子の第1
実施例の製作工程説明用平面図、第4図は本考案の第1
実施例の説明用断面図、第5図は本考案の第1実施例の
説明用側面図、第6図は本考案に係るフォトセンサ素子
によって検出するコードの一例を示す説明図、第7図〜
第9図は本考案のフォトセンサ素子の第2実施例の製作
工程説明用平面図、第10図は本考案に係るフォトセンサ
素子の第3実施例の説明用平面図である。 1:透光性絶縁基板、2:透明電極、3:透光窓、4:半導体
層、5:金属電極、6:センサ部、7:被検出物、8:発光ダイ
オード、9:電極取り出し部、10:電極取り出し部、11:積
層部、12:円形部、13:仕切り部。
1 to 3 show a first embodiment of a photo sensor device according to the present invention.
A plan view for explaining a manufacturing process of an embodiment, FIG. 4 is a first view of the present invention.
FIG. 5 is a sectional view for explaining an embodiment, FIG. 5 is a side view for explaining the first embodiment of the present invention, and FIG. 6 is an explanatory view showing an example of a code detected by a photosensor element according to the present invention. ~
FIG. 9 is a plan view for explaining the manufacturing process of the second embodiment of the photosensor element of the present invention, and FIG. 10 is a plan view for explaining the third embodiment of the photosensor element of the present invention. 1: translucent insulating substrate, 2: transparent electrode, 3: translucent window, 4: semiconductor layer, 5: metal electrode, 6: sensor part, 7: object to be detected, 8: light emitting diode, 9: electrode extraction part , 10: electrode extraction part, 11: laminated part, 12: circular part, 13: partition part.

Claims (4)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 【請求項1】透光性絶縁基板上に、該絶縁基板のみで他
の不透明部材を積層していない非積層部を透光窓とし、
該透光窓の周囲に透明電極、非晶質シリコン系半導体
層、金属電極を順次積層した複数個のセンサ部を形成し
たフォトセンサ素子であって、 前記フォトセンサ素子が正方形状であり、かつ一辺が当
該フォトセンサ素子の一辺の長さの1/2以下の長さでな
る略正方形状の4個のセンサ部を、正方形状の被検出パ
ターンにおけるコード化領域に対応した位置関係で形成
するとともに、前記フォトセンサ素子の中央に位置して
円形の透光窓を配設し、当該透光窓の形状を前記金属電
極によって構成したことを特徴とするフォトセンサ素
子。
1. A non-laminated portion, which is formed only on the transparent insulating substrate and on which no other opaque member is laminated, as a transparent window on the transparent insulating substrate.
A photosensor element having a plurality of sensor portions in which a transparent electrode, an amorphous silicon semiconductor layer, and a metal electrode are sequentially laminated around the transparent window, wherein the photosensor element has a square shape, and Four sensor portions each having a substantially square shape whose one side has a length equal to or less than half the length of one side of the photosensor element are formed in a positional relationship corresponding to a coded region in the square pattern to be detected. At the same time, a circular light-transmitting window is provided at the center of the photosensor element, and the shape of the light-transmitting window is formed by the metal electrode.
【請求項2】透光窓の周囲に位置するセンサ部の透明電
極が共通にされてなる実用新案登録請求の範囲第1項記
載のフォトセンサ素子。
2. A photosensor element according to claim 1, wherein the transparent electrodes of the sensor portion located around the transparent window are commonly used.
【請求項3】透光窓の周囲に位置するセンサ部の金属電
極が共通にされてなる実用新案登録請求の範囲第1項記
載のフォトセンサ素子。
3. The photosensor element according to claim 1, wherein the metal electrodes of the sensor portion located around the light-transmitting window are commonly used.
【請求項4】透光性絶縁基板上に、透明電極、非晶質シ
リコン系半導体層、金属電極を順次積層した複数個のセ
ンサ部を形成したフォトセンサ素子であって、 前記フォトセンサ素子が正方形状に形成され、かつ一辺
が当該フォトセンサ素子の一辺の長さの1/2以下の長さ
でなる略正方形状の4個のセンサ部を、正方形状の被検
出パターンにおけるコード化領域に対応した位置関係で
形成するとともに、前記フォトセンサ素子の中央に位置
して円形の透光窓を配設し、当該透光窓内に金属電極に
よって構成された平面視十字形状の積層部を形成してな
るフォトセンサ素子。
4. A photosensor element comprising a transparent insulating substrate, and a plurality of sensor portions in which a transparent electrode, an amorphous silicon semiconductor layer, and a metal electrode are sequentially laminated on the translucent insulating substrate. Four substantially square sensor portions each having a square shape and one side having a length equal to or less than half the length of one side of the photosensor element are provided in a coded area in the square detection pattern. In addition to being formed in a corresponding positional relationship, a circular light-transmitting window is disposed at the center of the photosensor element, and a laminated portion having a cross shape in plan view formed of metal electrodes is formed in the light-transmitting window. A photo sensor element formed by.
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