JPH0854220A - Appearance inspection method for object - Google Patents

Appearance inspection method for object

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JPH0854220A
JPH0854220A JP21195594A JP21195594A JPH0854220A JP H0854220 A JPH0854220 A JP H0854220A JP 21195594 A JP21195594 A JP 21195594A JP 21195594 A JP21195594 A JP 21195594A JP H0854220 A JPH0854220 A JP H0854220A
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JP
Japan
Prior art keywords
pattern
image
appearance inspection
processing
inspection method
Prior art date
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Application number
JP21195594A
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Japanese (ja)
Inventor
Nobuhiro Tachibana
宣浩 立花
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Publication of JPH0854220A publication Critical patent/JPH0854220A/en
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Abstract

PURPOSE:To obtain an appearance inspection method for an object in which defect, e.g. a flaw or a foreign matter, on the surface can be detected easily and accurately and the presence of abnormality can be judged based on predetermined criteria. CONSTITUTION:In the appearance inspection of an object having a periodic pattern in the image recognition, color image of the object is taken in at least from the pattern region thereof (Step S1). The color image is then subjected to normalization of gray level (Step S2), monochromic processing through linear gray level conversion (Step S3), gray image processing (Step S4), masking (Step S5) and binarization (Step S6). Subsequently, it is subjected to inversion (Step S7), at need, and a pattern congruent with a reference pattern is removed from the processed image information (Step S8). Finally, presence of abnormality is judged based on the presence of a residual pattern (Steps S9-S11).

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、物体の外観検査方法に
関し、特に画像認識上周期性を有するパターンを持つメ
モリセルやCCD(Charge Coupled Device) 撮像セル等
の如き物体の外観検査に適用して好適な検査方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for inspecting the appearance of an object, and is particularly applied to the appearance inspection of an object such as a memory cell having a pattern having a periodicity in image recognition or a CCD (Charge Coupled Device) imaging cell. And a suitable inspection method.

【0002】[0002]

【従来の技術】画像認識上周期性を有するパターンを持
つ物体、例えばメモリセルやCCD撮像セルなどの半導
体装置において、特にメモリセルは、ICの種類にもよ
るが、1スライスに200個程度あり、6×4.5mm
角程度の大きさである。このメモリセルにおいて、傷や
異物等の欠陥(異常)の有無を検査する場合、人間の目
視によって顕微鏡を用いて40倍程度の倍率でメモリセ
ル上の傷や異物を探していた。このため、40倍程度の
倍率では、かなりの面積を検査しなければならない。こ
の外観検査は、前工程のペレットチェック工程において
行われている。
2. Description of the Related Art In an object having a pattern having periodicity in image recognition, for example, in a semiconductor device such as a memory cell or a CCD image pickup cell, there are about 200 memory cells per slice, depending on the type of IC. , 6 x 4.5 mm
It is about the size of a corner. When inspecting the presence or absence of a defect (abnormality) such as a scratch or a foreign substance in this memory cell, a human being visually looks for a scratch or a foreign substance on the memory cell with a microscope at a magnification of about 40 times. Therefore, it is necessary to inspect a considerable area at a magnification of about 40 times. This visual inspection is performed in the pellet check process of the previous process.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】このように、従来のメ
モリセルの外観検査では、人間の目視での顕微鏡作業に
よる官能検査であったため、メモリセル上の傷や異物等
の欠陥を検出するための作業者の苦痛は、限度を越えて
いるのが現状である。また、人間による目視作業のた
め、欠陥を見逃してしまうという事態が起こり易く、し
かも判定能力に個人差が生じるという問題もあった。
As described above, since the conventional visual inspection of the memory cell is a sensory inspection by a microscopic operation by human eyes, a defect such as a scratch or a foreign substance on the memory cell is detected. The current situation is that the workers' pains are over the limit. In addition, there is a problem that a defect is likely to be overlooked due to human visual work, and there is a difference in judgment ability among individuals.

【0004】本発明は、上記課題に鑑みてなされたもの
であり、その目的とするところは、正確かつ容易に外観
上の傷や異物などの欠陥を発見でき、しかも一定の判定
基準をもって異常の有無を判定できる物体の外観検査方
法を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to accurately and easily find defects such as scratches and foreign substances on the appearance, and to detect abnormalities with a certain criterion. An object of the present invention is to provide a method for inspecting the appearance of an object, the presence of which can be determined.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明による物体の外観
検査方法は、画像認識上周期性を有するパターンを持つ
物体の少なくともパターン領域の画像を取り込み、この
取り込んだ画像情報に対して二値化処理を行い、この二
値化処理後の画像情報によって与えられるパターンの中
から、基準パターンと合同のパターンを除去し、この合
同パターンの除去後に残存するパターンの有無によって
異常の有無を判定する。
A method of inspecting an appearance of an object according to the present invention takes in an image of at least a pattern area of an object having a pattern having a periodicity in image recognition, and binarizes the taken-in image information. Processing is performed, patterns that are congruent with the reference pattern are removed from the patterns given by the image information after this binarization processing, and the presence or absence of an abnormality is determined by the presence or absence of patterns that remain after removal of this congruent pattern.

【0006】[0006]

【作用】上記の外観検査方法において、先ず、検査対象
の物体の少なくともパターン領域の画像を取り込む。こ
の取り込んだ画像情報を、判定を行えるデータに変換す
るために、多数の階調を持つデータをあるしきい値をも
って二値化する。これにより、しきい値よりも明るい部
分と暗い部分とに分離される。このとき、取り込んだパ
ターンが周期性を有することから、二値化処理により、
正常な場合には一定サイズ、同形のパターンの集合とな
り、異常がある場合には同形のパターンの他に異形のパ
ターンが存在することになる。そこで、予め用意してあ
る一定サイズの基準パターンを基に、合同のパターンを
除去する。その結果、正常の場合には全てのパターンが
なくなり、異常がある場合には異形のパターンが残る。
この残像したパターンの部分が異常部分となる。
In the above appearance inspection method, first, an image of at least the pattern area of the object to be inspected is captured. In order to convert the captured image information into data that can be used for determination, data having a large number of gradations is binarized with a certain threshold value. As a result, a portion brighter than the threshold value and a portion darker than the threshold value are separated. At this time, since the captured pattern has periodicity, by the binarization processing,
In the normal case, a set of patterns having a certain size and the same shape is formed, and in the case of an abnormality, there is a different-shaped pattern in addition to the same-shaped pattern. Therefore, the congruent pattern is removed based on a reference pattern of a predetermined size prepared in advance. As a result, all patterns disappear when normal, and irregular patterns remain when abnormal.
The part of the pattern where the residual image is formed becomes an abnormal part.

【0007】[0007]

【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
つつ詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to the drawings.

【0008】図2は、本発明による外観検査方法を実現
するための検査装置の概略を示す構成図である。図2に
おいて、検査対象の物体1は、画像認識上周期性を有す
るパターンを持つものである。この物体1は、所定の検
査位置に配置され、例えばその全体画像がCCDカメラ
等の画像取込装置2によって例えばカラー画像として取
り込まれる。画像取込装置2は、取り込んだカラー画像
情報を画像処理回路3に供給する。画像処理回路3で
は、濃度の正規化、線形濃度変換によるモノクロ化、濃
淡処理、二値化処理、一定パターンの除去等の画像処理
が行われる。この画像処理後、判定回路4において、物
体1のパターン部分に傷や異物等の欠陥が存在するか否
かの判定が行われる。
FIG. 2 is a block diagram showing the outline of an inspection apparatus for realizing the appearance inspection method according to the present invention. In FIG. 2, the object 1 to be inspected has a pattern having periodicity in image recognition. The object 1 is placed at a predetermined inspection position, and the entire image thereof is captured as a color image by an image capturing device 2 such as a CCD camera. The image capturing device 2 supplies the captured color image information to the image processing circuit 3. The image processing circuit 3 performs image processing such as density normalization, monochromeization by linear density conversion, gradation processing, binarization processing, and removal of certain patterns. After this image processing, the determination circuit 4 determines whether or not the pattern portion of the object 1 has a defect such as a scratch or a foreign substance.

【0009】ここで、濃度の正規化とは、異なる条件で
取り入れられた画像に対して、その影響を軽減させるた
めに行われる手法の1つであり、画像のヒストグラムが
ある一定の形をとるように濃度を変換する処理を行う。
次に、線形濃度変換について説明する。カメラによって
画像を取り込んだ場合、その濃度は一般的に、許された
濃度範囲全体のごく一部にしか分布してしない。今、図
3(A)のような濃度のヒストグラムが得られたとする
と、これを図3(B)に矢印で示すように濃度分布を広
げることにより、コントラストを強調し、見易くするこ
とができる。この線形濃度変換は、前処理を行うときに
使われる手法の1つである。
Here, the normalization of the density is one of the methods carried out to reduce the influence of the images taken under different conditions, and the histogram of the image takes a certain form. The process of converting the density is performed.
Next, the linear density conversion will be described. When an image is captured by a camera, its density is generally distributed over only a small part of the total allowed density range. Now, assuming that a density histogram as shown in FIG. 3A is obtained, it is possible to enhance the contrast and make it easier to see by expanding the density distribution as shown by the arrow in FIG. 3B. This linear density conversion is one of the methods used when performing preprocessing.

【0010】次に、上記構成の検査装置によって実行さ
れる外観検査方法の処理手順について、検査対象の物体
を例えばメモリセルとした場合を例にとって、図1のフ
ローチャートにしたがって説明する。ここに、メモリセ
ルとは、図4に示すICメモリ41においてデータを格
納する場所であり、画像認識上、周期性を持つパターン
としてセルが配された構成となっている。また、メモリ
セル42の大きさは、1Mbitで6mm×4.5mm
程度である。このメモリセル42の外観検査において
は、従来の目視による外観検査の場合と同様に、40倍
〜60倍程度の倍率で行われる。
Next, the processing procedure of the appearance inspection method executed by the inspection apparatus having the above-mentioned configuration will be described with reference to the flowchart of FIG. 1 by taking the case where an object to be inspected is a memory cell as an example. Here, the memory cell is a place for storing data in the IC memory 41 shown in FIG. 4, and has a configuration in which cells are arranged as a pattern having periodicity in image recognition. The size of the memory cell 42 is 6 mm × 4.5 mm at 1 Mbit.
It is a degree. The appearance inspection of the memory cell 42 is performed at a magnification of about 40 to 60 times, as in the case of the conventional visual appearance inspection.

【0011】図1のフローチャートにおいて、図4に示
すICメモリ41の例えば全体画像をカラー画像として
取り込み(ステップS1)、このカラーの取込み画像に
対してカラー正規化処理を行う(ステップS2)。この
正規化処理により、モノクロ化のための良質な画像が得
られるような画像処理が行われる。次に、R(赤),G
(緑),B(青)の三原色の各色信号における線形濃度
変換を行った後、これらの和をとるモノクロ化処理を行
い(ステップS3)、しかる後濃淡処理を行う(ステッ
プS4)。
In the flowchart of FIG. 1, for example, the entire image in the IC memory 41 shown in FIG. 4 is captured as a color image (step S1), and the color-normalized image is subjected to color normalization processing (step S2). By this normalization processing, image processing is performed so that a good-quality image for monochrome conversion can be obtained. Next, R (red), G
After linear density conversion is performed on each of the color signals of the three primary colors (green) and B (blue), monochrome processing is performed to obtain the sum of these (step S3), and then gradation processing is performed (step S4).

【0012】この正規化処理、モノクロ化処理及び濃淡
処理は、傷や異物等の欠陥を目立たせるための処理であ
る。したがって、予め目立つ欠陥を持つ物体の外観検査
を行うような場合は、上述した処理を省略することも可
能である。また、検査対象物の画像を必ずしもカラー画
像として取り込む必要はなく、欠陥部分を他の部分と容
易に識別できるような物体の外観検査を行うような場合
は、モノクロ画像として取り込むようにしても良い。た
だし、傷などが色を持った欠陥として現れる場合がある
ことから、カラー画像として取り込んだ方が、その欠陥
を確実に認識できることになるため好ましい。
The normalization process, the monochrome process, and the shading process are processes for making defects such as scratches and foreign matters stand out. Therefore, when the appearance inspection of an object having a conspicuous defect is to be performed in advance, the above-described processing can be omitted. Further, it is not always necessary to capture the image of the inspection object as a color image, and in the case where the appearance inspection of the object that can easily distinguish the defective portion from other portions is performed, it may be captured as a monochrome image. . However, since scratches and the like may appear as colored defects, it is preferable to capture them as a color image because the defects can be surely recognized.

【0013】次に、取り込んだ画像全体の中から、外観
検査の対象部分であるメモリセル42の部分のみを切り
出すために、マスキング処理を行う(ステップS5)。
これにより、外観検査に必要な部分、即ちメモリセル4
2の部分のみが切り出されることになる。図5に、マス
キング処理後の画像を示す。図5以降の図において、散
点領域が黒の領域を、城抜き領域が城の領域をそれぞれ
表わすものとする。なお、画像を取り込む際に、メモリ
セル42の部分のみの画像を取り込むようにすれば、マ
スキング処理を省略できる。
Next, a masking process is performed in order to cut out only the portion of the memory cell 42 which is the target portion of the visual inspection from the entire captured image (step S5).
As a result, the portion required for the visual inspection, that is, the memory cell 4
Only part 2 will be cut out. FIG. 5 shows the image after the masking process. In the drawings from FIG. 5 onward, it is assumed that the scattered area represents a black area and the castle area represents a castle area. Note that, when capturing an image, if the image of only the portion of the memory cell 42 is captured, the masking process can be omitted.

【0014】次に、判定を行えるデータに変換するため
に、多数の階調を持つデータをあるしきい値によって二
値化を行い(ステップS6)、しかる後セル部分のパタ
ーンによっては反転処理を行う(ステップS7)。すな
わち、モノクロ化されかつ必要な部分のみが抽出された
画像は、多階調(例えば、256階調)からなり、ある
値(例えば、130)をしきい値としてこれよりも大き
いものを「1」、小さいものを「0」とした二値化を行
う。これにより、しきい値よりも明るい部分が「1」と
なり、暗い部分が「0」となる。図6に二値化処理後の
画像、図7に反転処理後の画像をそれぞれ示す。これら
の図において、矢印で示したA,Bの部分が欠陥部分で
ある。
Next, in order to convert the data into data which can be judged, the data having a large number of gradations is binarized by a certain threshold value (step S6), and thereafter, inversion processing is carried out depending on the pattern of the cell portion. Perform (step S7). That is, an image that has been monochromeized and in which only the necessary portions have been extracted is composed of multiple gradations (for example, 256 gradations), and a value greater than this value with a certain value (for example, 130) as the threshold value is "1. , And the smaller one is set to “0”. As a result, a portion brighter than the threshold becomes "1" and a dark portion becomes "0". FIG. 6 shows the image after the binarization process, and FIG. 7 shows the image after the inversion process. In these figures, portions A and B indicated by arrows are defective portions.

【0015】この二値化処理により、画像データは、検
査対象部分に傷や異物などの欠陥がない正常な場合には
一定サイズ、同形のパターン(図形)の集合となり、欠
陥がある異常な場合には同形のパターンの他に異形のパ
ターンが存在する。そこで、予め用意してある一定サイ
ズの基準パターンを基に、この基準パターンと合同のパ
ターンを除去する処理を行う(ステップS8)。具体的
には、一定数のドットを含むパターン(図形)を除去す
る。
By this binarization process, the image data becomes a set of patterns (figures) of a certain size and the same shape when the inspection target part is normal and has no defects such as scratches and foreign matters, and when there is a defect, it is abnormal. In addition to the patterns of the same shape, there are patterns of different shapes. Therefore, a process of removing a pattern congruent with the reference pattern based on a reference pattern of a predetermined size prepared in advance is performed (step S8). Specifically, a pattern (graphic) including a fixed number of dots is removed.

【0016】これにより、正常の場合は、全てのパター
ンがなくなり(データが全て「0」となる)、異常があ
る場合には、図8に示すように、異形のパターンが残る
(データの中に「1」が含まれる)。すなわち、図8か
ら明らかなように、欠陥部分A,Bを含むパターンは、
基準パターンと合同とはならないことから、当該パター
ンのみが残存することになる。
As a result, in the normal case, all the patterns disappear (the data are all "0"), and in the case of the abnormality, as shown in FIG. Includes "1"). That is, as is clear from FIG. 8, the pattern including the defective portions A and B is
Since it is not congruent with the reference pattern, only that pattern remains.

【0017】そこで、合同パターンの除去後の画像中
に、残存するパターン(図形)があるか否かを判断し
(ステップS9)、存在しない場合には異常なし、即ち
検査対象部分に傷や異物などの欠陥がないものとして処
理し(ステップS10)、存在する場合には異常有り、
検査対象部分に傷や異物などの欠陥があるものとして処
理する(ステップS11)。
Therefore, it is judged whether or not there is a remaining pattern (figure) in the image after the removal of the congruent pattern (step S9). Process as if there is no defect (step S10), and if there is an abnormality,
Processing is performed assuming that the inspection target portion has a defect such as a scratch or a foreign substance (step S11).

【0018】このようにして、メモリセル42の部分
に、傷や異物などの欠陥があるか否かを、一定の判定基
準をもって検査することができる。これにより、人間に
よる目視作業の場合のように、欠陥を見逃してしまった
り、判定に個人差が生じるというような問題を解消でき
る。また、異常有りと判定した場合には、「1」のデー
タの座標位置から欠陥のエリアを算出することにより、
異常がある位置をも判定し、その位置データを自動的に
出力することもできる。
In this way, it is possible to inspect whether or not the portion of the memory cell 42 has a defect such as a scratch or a foreign substance with a certain criterion. As a result, it is possible to solve a problem that a defect is overlooked or a judgment is different among individuals as in the case of a human visual work. If it is determined that there is an abnormality, the defect area is calculated from the coordinate position of the data of "1",
It is also possible to determine a position having an abnormality and automatically output the position data.

【0019】なお、上記実施例では、検査対象の物体を
例えばメモリセルとした場合を例にとって説明したが、
周期性を持つパターンとしてセルが配された構成のCC
D撮像セルなどであっても良い。また。本発明は、メモ
リセルやCCD撮像セルなどの半導体装置の外観検査へ
の適用に限られるものではなく、画像認識上周期性を有
するパターンを持つ物体全般の外観検査に適用し得るも
のである。
In the above embodiment, the case where the object to be inspected is a memory cell has been described as an example.
CC having a configuration in which cells are arranged as a pattern having periodicity
It may be a D imaging cell or the like. Also. INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is not limited to the application to the appearance inspection of semiconductor devices such as memory cells and CCD image pickup cells, but can be applied to the appearance inspection of all objects having a pattern having periodicity in image recognition.

【0020】[0020]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
画像認識上周期性を有するパターンを持つ物体の外観検
査において、その物体の少なくともパターン領域の画像
を取り込み、この取り込んだ画像情報に対して二値化処
理を行い、この二値化処理後の画像情報によって与えら
れるパターン中から、基準パターンと合同のパターンを
除去し、この合同パターンの除去後に残存するパターン
の有無によって異常の有無を判定するようにしたので、
正確かつ容易に外観上の傷や異物などの欠陥を発見で
き、しかも一定の判定基準をもって異常の有無を判定で
きることになる。
As described above, according to the present invention,
In the visual inspection of an object having a pattern having a periodicity in image recognition, at least an image of the pattern area of the object is captured, binarization processing is performed on the captured image information, and the image after the binarization processing is performed. From the pattern given by the information, the pattern congruent with the reference pattern is removed, and the presence or absence of an abnormality is determined by the presence or absence of the pattern remaining after the removal of the congruent pattern.
It is possible to accurately and easily find a defect such as a scratch or a foreign substance on the external appearance, and further, it is possible to determine the presence or absence of an abnormality based on a certain criterion.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明による外観検査方法の処理手順を示すフ
ローチャートである。
FIG. 1 is a flowchart showing a processing procedure of a visual inspection method according to the present invention.

【図2】本発明による外観検査方法を実現するための検
査装置の概略を示す構成図である。
FIG. 2 is a configuration diagram showing an outline of an inspection apparatus for realizing an appearance inspection method according to the present invention.

【図3】線形濃度変換の原理を説明するための図であ
る。
FIG. 3 is a diagram for explaining the principle of linear density conversion.

【図4】メモリセルの外観図である。FIG. 4 is an external view of a memory cell.

【図5】マスキング処理後の画像を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing an image after a masking process.

【図6】二値化処理後の画像を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing an image after binarization processing.

【図7】反転処理後の画像を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing an image after inversion processing.

【図8】一定サイズ/パターン除去後の画像を示す図で
ある。
FIG. 8 is a diagram showing an image after removing a certain size / pattern.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 検査対象の物体 2 画像取込装置 3 画像処理回路 4 判定回路 41 ICメモリ 42 メモリセル 1 Object to be inspected 2 Image capture device 3 Image processing circuit 4 Judgment circuit 41 IC memory 42 Memory cell

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 画像認識上周期性を有するパターンを持
つ物体の外観検査方法であって、 前記物体の少なくともパターン領域の画像を取り込み、 この取り込んだ画像情報に対して二値化処理を行い、 この二値化処理後の画像情報によって与えられるパター
ンの中から、基準パターンと合同のパターンを除去し、 この合同パターンの除去後に残存するパターンの有無に
よって異常の有無を判定することを特徴とする物体の外
観検査方法。
1. A method for inspecting the appearance of an object having a pattern having a periodicity in image recognition, comprising capturing an image of at least a pattern region of the object, performing binarization processing on the captured image information, It is characterized in that a pattern congruent with the reference pattern is removed from the pattern given by the image information after the binarization processing, and the presence or absence of an abnormality is determined by the presence or absence of the pattern remaining after the removal of the congruent pattern. Appearance inspection method for objects.
【請求項2】 前記物体の少なくともパターン領域の画
像をカラー画像として取り込み、濃度の正規化を行った
後モノクロ化しかつ濃度処理を行い、しかる後前記二値
化処理に移行することを特徴とする請求項1記載の物体
の外観検査方法。
2. An image of at least a pattern area of the object is captured as a color image, and after normalizing the density, it is converted into a monochrome image and the density process is performed, and then the binarization process is performed. The appearance inspection method for an object according to claim 1.
【請求項3】 前記合同パターンの除去後に残存するパ
ターンの座標位置に基づいて異常がある位置をも判定す
ることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の物体の
外観検査方法。
3. The appearance inspection method for an object according to claim 1, wherein the abnormal position is also determined based on the coordinate position of the pattern remaining after the removal of the congruent pattern.
JP21195594A 1994-08-12 1994-08-12 Appearance inspection method for object Pending JPH0854220A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010206013A (en) * 2009-03-04 2010-09-16 Toshiba Corp Method and device of inspecting semiconductor substrate

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