JPH0850798A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

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JPH0850798A
JPH0850798A JP6187016A JP18701694A JPH0850798A JP H0850798 A JPH0850798 A JP H0850798A JP 6187016 A JP6187016 A JP 6187016A JP 18701694 A JP18701694 A JP 18701694A JP H0850798 A JPH0850798 A JP H0850798A
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JP
Japan
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memory
circuit
signals
switching
memory arrays
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Withdrawn
Application number
JP6187016A
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Japanese (ja)
Inventor
Satoshi Shinagawa
敏 品川
Yoichi Sato
陽一 佐藤
Kan Shimono
完 下野
Masami Hasegawa
政己 長谷川
Yoshio Iioka
義雄 飯岡
Hisaaki Kobayashi
久昭 小林
Masayoshi Nunokawa
正義 布川
Masao Mizukami
雅雄 水上
Kozaburo Kurita
公三郎 栗田
Masatoshi Kawashima
正敏 川島
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Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
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Publication date
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Priority to KR1019950023930A priority patent/KR960008857A/en
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/70Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring
    • G11C29/78Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring using programmable devices
    • G11C29/80Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring using programmable devices with improved layout
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    • G11C29/70Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring
    • G11C29/78Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring using programmable devices
    • G11C29/83Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring using programmable devices with reduced power consumption

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  • Dram (AREA)
  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a semiconductor integrated circuit device having redundancy function in which high capacity, low power consumption, low price and high reliability are realized by providing a redundancy fuse circuit, a switching signal generation circuit, and a selection circuit. CONSTITUTION:A redundancy fuse circuit FUS (not shown) designates a memory array having a defect among memory arrays 1-01 each holding defect information and including a data line and a word line. A switching signal generation circuit GEN delivers a switching signal based on defect information received from the redundancy fuse circuit FUS through terminals RSL, BL1-3. Selection circuits SEL111-118, 121-128 are provided while corresponding to two adjacent memory arrays among the memory arrays 1-01 and connected electrically with one of them depending on the switching signal. The defect information comprises a plurality of pieces of binary information and the number of switching signals is higher than that of the binary information. This constitution decreases the area being occupied by the elements constituting means for holding the defect information thus realizing a high capacity device.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は半導体回路装置に関
し、例えば、多ビット構成、大容量とされかつ時分割デ
ィジタル交換機に用いられるスピーチパスメモリ又はコ
ントロールメモリが形成されたディジタルスイッチ集積
回路に利用してとくに有効な技術に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor circuit device, and for example, it is used in a digital switch integrated circuit having a multi-bit structure, a large capacity and a speech path memory or a control memory used in a time division digital exchange. And particularly effective technology.

【0002】[0002]

【従来の技術】ISDN(Integrated Service Digital
Network:総合ディジタル通信網)等の時分割ディジタ
ル交換機の時間スイッチを構成するディジタルスイッチ
集積回路がある。これらのディジタルスイッチ集積回路
は、一個の半導体基板上に形成されてたスピーチパスメ
モリやそのコントロールメモリを含む。
2. Description of the Related Art ISDN (Integrated Service Digital)
There is a digital switch integrated circuit that constitutes a time switch of a time-division digital exchange such as Network: integrated digital communication network. These digital switch integrated circuits include a speech path memory formed on a single semiconductor substrate and its control memory.

【0003】特開平3−119284は、スピーチパス
メモリおよびコントロールメモリを開示している。
Japanese Patent Laid-Open No. 3-119284 discloses a speech path memory and a control memory.

【0004】1987年2月2付け『アイエスエスシー
シー(ISSCC)ダイジェストオブ テクニカル ペ
ーパーズ(Digest Of Technical Papars)』第290頁
〜第291頁ならびに第431頁は、スタティック型メ
モリを内臓するディジタルスイッチ集積回路を開示して
いる。
February 1987, "Digest Of Technical Papars," ISSCC Digest Of Technical Papars, pages 290 to 291 and 431, are digital switch integrated circuits incorporating a static memory. A circuit is disclosed.

【0005】また、メモリの冗長救済方式については例
えば特開平2ー89299公報に記載されている。
A memory redundancy repair system is described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-89299.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ISDNの大規模化に
伴い、ディジタルスイッチ集積回路に内蔵されるスピー
チパスメモリやそのコントロールメモリの大容量化、高
速化が必須となり、これらのメモリを1つの半導体チッ
プ上にに搭載する場合に冗長救済が不可欠となる。メモ
リの冗長救済方式を採用するにあたり次のような問題に
直面した。すなわち、複数のワード、データ線とメモリ
セルで構成されたメモリアレイの入出力をシフトして欠
陥メモリアレイを救済する冗長救済方式において、冗長
メモリアレイに対するメモリアレイの比率が大きくなっ
た場合、言い替えると入出力データの本数が大きくなっ
た場合、冗長救済時の切り替え回路が複雑になるととも
に冗長メモリアレイの情報を保持する冗長フューズの本
数が増大してしまうという事が発明者によって明らかに
された。このため、チップ面積の増大および冗長ヒュー
ズを切断する手間が増えるという問題点が生じることが
明らかとなった。
With the increase in the scale of ISDN, it is necessary to increase the capacity and speed of the speech path memory and its control memory built into the digital switch integrated circuit, and these memories are integrated into one semiconductor. When mounted on a chip, redundant relief is indispensable. The following problems were encountered in adopting the memory redundancy repair method. In other words, in the redundancy repair method of repairing a defective memory array by shifting the input / output of a memory array composed of a plurality of words, data lines and memory cells, when the ratio of the memory array to the redundant memory array becomes large, it is rephrased. When the number of input / output data becomes large, the inventor has clarified that the switching circuit at the time of redundancy repair becomes complicated and the number of redundant fuses holding information in the redundant memory array increases. . As a result, it has become clear that there is a problem that the chip area increases and the labor for disconnecting the redundant fuse increases.

【0007】この発明の第一の目的はメモリアレイに対
する入出力をシフトして欠陥メモリアレイを救済する場
合、欠陥情報を保持するための冗長ヒューズ本数を減ら
し、冗長ヒューズによるチップ面積増大を抑えることで
ある。
A first object of the present invention is to reduce the number of redundant fuses for retaining defect information when shifting the input / output to / from the memory array to repair the defective memory array, and suppress the increase of the chip area due to the redundant fuses. Is.

【0008】この発明の第2の目的は、消費電力の増大
を抑えた半導体集積回路装置を提供することである。
A second object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit device which suppresses an increase in power consumption.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】この発明のうち代表的な
ものの概要を簡単に説明すれば次のとおりである。すな
わち、データ線とワード線とメモリセルを含むメモリア
レイと、メモリアレイのうちで欠陥を有するメモリアレ
イを指示するための欠陥情報を保持するための手段と、
欠陥情報に基づいて切り換え信号を出力するための切り
換え信号発生回路と、メモリアレイのうちの隣合う2つ
のメモリアレイに対応してそれぞれ設けられ切り換え信
号に従って隣合う2つのメモリアレイのうちの一方に電
気的に結合される選択回路によって半導体記憶回路装置
を構成する。欠陥情報は複数の2値情報とされ、切り換
え信号の数は2値情報の数より大きいものとされる。
The outline of a typical one of the present invention will be briefly described as follows. That is, a memory array including a data line, a word line, and a memory cell, a means for holding defect information for indicating a defective memory array in the memory array,
A switching signal generating circuit for outputting a switching signal based on the defect information, and one of two memory arrays adjacent to each other according to the switching signal are provided respectively corresponding to two adjacent memory arrays of the memory arrays. A semiconductor memory circuit device is constituted by a selection circuit electrically coupled. The defect information is a plurality of binary information, and the number of switching signals is larger than the number of binary information.

【0010】更に、使用しないメモリアレイ又は使用し
ないメモリアレイに対応して設けられたセンスアンプに
対する第1或いは第2電源電圧の供給を停止する。
Further, the supply of the first or second power supply voltage to the unused memory array or the sense amplifier provided corresponding to the unused memory array is stopped.

【0011】更に、欠陥情報を保持するための手段は、
レーザ光線を照射する事等により、物理的に加工するこ
とによって特定の情報を保持するヒューズ素子を含み、
切り換え信号発生回路は、ROM(Read Only Memory)
を含む。
Further, the means for holding the defect information is as follows:
Includes a fuse element that holds specific information by physically processing it by irradiating it with a laser beam,
The switching signal generation circuit is a ROM (Read Only Memory)
including.

【0012】[0012]

【作用】フューズ素子の本数を減らすことが可能とされ
る。これにより、切り換え信号発生回路とヒューズ素子
の占有面積の総和を低減することが可能とされる。更
に、使用しないメモリアレイおよびセンスアンプの低消
費電力化を図ることが可能とされる。これらの結果、冗
長機能を有する半導体集積回路装置(例えばディジタル
スイッチ集積回路)の面積の増大を防ぎ低消費電力化が
実現できると共に、これらの半導体記憶回路装置を搭載
した装置(例えば時分割ディジタル交換機)の大容量
化、低消費電力化、低価格化および高信頼度化を推進で
きる。
It is possible to reduce the number of fuse elements. This makes it possible to reduce the total area occupied by the switching signal generating circuit and the fuse element. Further, it is possible to reduce the power consumption of the unused memory array and sense amplifier. As a result, it is possible to prevent an increase in the area of a semiconductor integrated circuit device having a redundant function (for example, a digital switch integrated circuit) and realize low power consumption, and at the same time, a device equipped with these semiconductor memory circuit devices (for example, a time division digital exchange) ) Large capacity, low power consumption, low price and high reliability.

【0013】[0013]

【実施例】図1には、この発明が適用されたディジタル
スイッチ集積回路の一実施例のチップ概略ブロック図が
示されている。この実施例の半導体集積回路装置は、カ
スタム論理LSI(Large Scale Integrrated Circui
t)及び専用ゲートアレイ等として一個の半導体基板上
に形成される。以下の回路図において、そのチャネル
(バックゲート部)に矢印が付されるMOSFET(金
属酸化物半導体型電界効果トランジスタ)は、Pチャネ
ル型であって、矢印が付加されないNチャネルMOSF
ETと区別して示される。尚、この明細書では、MOS
FETをして絶縁ゲート型電界効果トランジスタの総称
とする。
FIG. 1 is a schematic block diagram of a chip of an embodiment of a digital switch integrated circuit to which the present invention is applied. The semiconductor integrated circuit device of this embodiment is a custom logic LSI (Large Scale Integrated Circui).
t) and a dedicated gate array etc. are formed on one semiconductor substrate. In the following circuit diagrams, a MOSFET (metal oxide semiconductor field effect transistor) whose channel (back gate portion) has an arrow is a P-channel type and an N-channel MOSF to which an arrow is not added.
Shown separately from ET. In this specification, MOS
FET is a generic term for an insulated gate field effect transistor.

【0014】同図に示される各ブロックは半導体集積回
路装置が形成される実際の半導体基板上における幾何学
的な配置にあわせて描かれている。この実施例の半導体
集積回路装置はチップCHP1の周辺部にボンディング
パッドPADが並べて配置される。これらのボンディン
グパッドの内側には入出力バッファI/O BUFが並
べて配置される。上記入出力バッファに囲まれた内部に
は内部論理領域LOGとオンチップメモリとされる2つ
のメモリマクロRAM1、RAM2が形成される。メモ
リマクロRAM1、RAM2は、例えばそれぞれスピー
チパスメモリ及びコントロールメモリとされる。内部論
理領域は、ゲートアレイによって構成され、メモリマク
ロRAM1、RAM2に対する各種信号及びデータに関
する論理回路が形成される。上記論理回路は、例えば、
CPU、MPU、キャッシュコントローラおよびバスコ
ントローラ等である。メモリマクロRAM1およびRA
M2は、SRAM(Static Random Access Memory)回
路、またはDRAM(DynamicRandom Access Memory)回
路とされる。更に、半導体集積回路装置は、冗長ヒュー
ズ回路FUSを有している。冗長ヒューズ回路の構成及
びその機能については、後述する。
Each block shown in the drawing is drawn according to the geometrical arrangement on the actual semiconductor substrate on which the semiconductor integrated circuit device is formed. In the semiconductor integrated circuit device of this embodiment, bonding pads PAD are arranged side by side on the periphery of the chip CHP1. Input / output buffer I / O BUFs are arranged side by side inside these bonding pads. An internal logic area LOG and two memory macros RAM1 and RAM2 which are on-chip memories are formed inside the input / output buffer. The memory macros RAM1 and RAM2 are, for example, a speech path memory and a control memory, respectively. The internal logic area is constituted by a gate array, and logic circuits for various signals and data for the memory macro RAM1 and RAM2 are formed. The logic circuit is, for example,
A CPU, MPU, cache controller, bus controller, and the like. Memory macro RAM1 and RA
M2 is an SRAM (Static Random Access Memory) circuit or a DRAM (Dynamic Random Access Memory) circuit. Further, the semiconductor integrated circuit device has a redundant fuse circuit FUS. The configuration and function of the redundant fuse circuit will be described later.

【0015】図2には、この発明が適用されたディジタ
ルスイッチ集積回路の別の実施例のチップ概略ブロック
図である。図1との相違点は、ディジタルスイッチ集積
回路が8つのメモリマクロRAM1ないしRAM7を有
していることである。メモリマクロRAM1及びRAM
2は、実質的に同一のメモリ容量とされる。メモリマク
ロRAM3ないしRAM5は、メモリマクロRAM1の
メモリ容量と異なるメモリ容量とされ、それぞれ実質的
に同一のメモリ容量とされる。メモリマクロRAM7及
びRAM8は、メモリマクロRAM1及びRAM5のメ
モリ容量と異なるメモリ容量とされ、それぞれ実質的に
同一のメモリ容量とされる。
FIG. 2 is a chip schematic block diagram of another embodiment of a digital switch integrated circuit to which the present invention is applied. The difference from FIG. 1 is that the digital switch integrated circuit has eight memory macros RAM1 to RAM7. Memory macro RAM1 and RAM
2 has substantially the same memory capacity. The memory macro RAMs 3 to 5 have a memory capacity different from that of the memory macro RAM 1 and have substantially the same memory capacity. The memory macro RAMs 7 and 8 have different memory capacities from the memory macro RAMs 1 and 5 and have substantially the same memory capacity.

【0016】図3には、冗長フューズ回路の一実施例が
示されている。冗長ヒューズ回路FUS1は、QN1〜
QN4はNMOSトランジスタ(N-channel Metal Oxid
e Semiconductor transistor)、F1〜F4はヒューズ
部(ヒューズ素子)、INV1〜INV4はインバータ
回路である。各ヒューズ部の一方は、第1電源電圧Vc
cを受けるように結合されている。各NMOSトランジ
スタのソースドレイン経路のうちの一方は、対応するヒ
ューズ部の他方に結合され、各NMOSのソースドレイ
ン経路のうちの他方は、第1電源電圧よりも小さい第2
電源電圧GNDを受けるように結合されている。各イン
バータ回路は、対応するヒューズ部の他方と、RSL端
子、BSL1端子ないしBSL3端子のうちの対応する
一つとの間に結合される。冗長ヒューズ回路は、ヒュー
ズ部F1、インバータINV1及びNMOSトランジス
タQN1により構成され冗長救済を行うか否かを示す2
値情報を保持する為の第1フューズ回路と、後述する各
メモリマクロRAM1及びRAM2に含まれるメモリブ
ロック内のメモリアレイのうちどのメモリアレイを使用
するか或いは使用しないかを示すところの2値情報を保
持するための第2ヒューズ回路、言い替えれば、メモリ
アレイのうちのどのメモリアレイが欠陥を有しているか
を示す2値情報を保持するための第2ヒューズ回路とを
含む。第2ヒューズ回路は、ヒューズ部F2ないしF
4、インバータINV2ないしINV4及びNMOSト
ランジスタQN2ないしQN4を含む。第1および第2
ヒューズ回路の各フューズ部が切断されない場合は、Q
N1〜QN4のドレインノードの電位は”HIGH”レ
ベルとなり、QN1〜QN4のドレインノードを入力と
するインバータINV1〜INV4の出力は”LOW”
レベルとなる。すなわち、RSL端子、BSL1端子〜
BSL3端子の電位はLOWレベルとされる。またフュ
ーズ部が切断される場合は、QN1〜QN4のドレイン
ノードの電位はLOWレベルとなり、QN1〜QN4の
ドレインノードを入力とするインバータINV1〜IN
V4の出力はHIGHレベルとなり、QN1〜QN4は
オン状態となりINV1〜INV4の出力はHIGHレ
ベルに保持される。すなわち、RSL端子、BSL1端
子〜BSL3端子の電位は、HIGHレベルとされる。
FIG. 3 shows an embodiment of the redundant fuse circuit. The redundant fuse circuit FUS1 has QN1 to
QN4 is an NMOS transistor (N-channel Metal Oxid)
e Semiconductor transistor), F1 to F4 are fuse parts (fuse elements), and INV1 to INV4 are inverter circuits. One of the fuses has a first power supply voltage Vc.
bound to receive c. One of the source / drain paths of each NMOS transistor is coupled to the other of the corresponding fuse part, and the other of the source / drain paths of each NMOS is connected to a second power supply voltage lower than the first power supply voltage.
It is coupled to receive the power supply voltage GND. Each inverter circuit is coupled between the other of the corresponding fuse parts and a corresponding one of the RSL terminal, the BSL1 terminal to the BSL3 terminal. The redundant fuse circuit is composed of a fuse part F1, an inverter INV1 and an NMOS transistor QN1 and indicates whether or not redundant relief is performed.
First fuse circuit for holding value information, and binary information indicating which memory array is used or not used among memory arrays in memory blocks included in each memory macro RAM1 and RAM2 described later. And a second fuse circuit for holding binary information indicating which one of the memory arrays has a defect. The second fuse circuit includes fuse parts F2 to F2.
4, including inverters INV2 to INV4 and NMOS transistors QN2 to QN4. First and second
If each fuse part of the fuse circuit is not cut, Q
The potentials of the drain nodes of N1 to QN4 are at "HIGH" level, and the outputs of the inverters INV1 to INV4 that receive the drain nodes of QN1 to QN4 are "LOW".
It becomes a level. That is, RSL terminal, BSL1 terminal ~
The potential of the BSL3 terminal is set to LOW level. When the fuse portion is cut off, the potentials of the drain nodes of QN1 to QN4 become LOW level, and the inverters INV1 to INV1 whose inputs are the drain nodes of QN1 to QN4.
The output of V4 becomes HIGH level, QN1 to QN4 are turned on, and the outputs of INV1 to INV4 are held at HIGH level. That is, the potentials of the RSL terminal and the BSL1 to BSL3 terminals are set to the HIGH level.

【0017】各メモリブロックが、8つのメモリアレイ
と、1つの冗長メモリアレイを含み8ビットのデータの
入出力を行なう場合、RSL端子のレベルが”L”の
時、冗長メモリアレイを使用せず冗長救済が行われず、
RSL端子のレベルが”H”の時、冗長メモリアレイを
使用し冗長救済が行われる。また、BSL1〜BSL3
端子のレベルの組合せにより、8つのメモリアレイのう
ちのどのメモリアレイを使用しないかが指示される。
尚、ヒューズ部は、特に制限されないがアルミニウムA
lおよびクロムCr等の金属類或いはポリシリコンによ
りチップ表面近くに形成される。ヒューズ部は、レーザ
ー光線等の高エネルギーを与えることによって、物理的
に切断することが可能とされる。
When each memory block includes eight memory arrays and one redundant memory array to input / output 8-bit data, when the level of the RSL terminal is "L", the redundant memory array is not used. Redundant relief is not done,
When the level of the RSL terminal is "H", the redundant memory array is used to perform redundant relief. Also, BSL1 to BSL3
The combination of terminal levels dictates which of the eight memory arrays is unused.
The fuse part is not particularly limited, but is made of aluminum A
It is formed in the vicinity of the chip surface by metal such as 1 and chromium Cr or polysilicon. The fuse portion can be physically cut by applying high energy such as a laser beam.

【0018】図4には、図1の半導体集積回路装置に含
まれるメモリマクロRAM1の詳細な構成図が示されて
いる。メモリマクロRAM1は、8つのメモリブロック
BLK1〜BLK8を含む。各メモリブロックは、最大
8ビットのデータが同時に入力され、且つ最大8ビット
のデータを同時に出力する。従って、メモリマクロは、
最大64ビットのデータの入力或いは出力が同時に行な
われる。すなわち、メモリマクロは、×64ビット構成
とする事が可能である。Di1〜Di64は、各メモリ
ブロックBLK1〜BLK8に対する書き込みデータで
あり、同一チップ上の論理領域LOGに形成された論理
回路から、或いは、チップ外部から入力される。Do1
〜Do64は、各メモリブロックBLK1〜BLK8か
らの読みだしデータであり、同一チップ上の論理領域L
OGに形成された論理回路へ、或いは、チップ外部へ出
力される。
FIG. 4 is a detailed block diagram of the memory macro RAM 1 included in the semiconductor integrated circuit device of FIG. The memory macro RAM1 includes eight memory blocks BLK1 to BLK8. Up to 8-bit data is simultaneously input to each memory block, and up to 8-bit data is simultaneously output. Therefore, the memory macro is
A maximum of 64 bits of data is input or output simultaneously. That is, the memory macro can have a structure of x64 bits. Di1 to Di64 are write data for the memory blocks BLK1 to BLK8, and are input from a logic circuit formed in the logic area LOG on the same chip or from the outside of the chip. Do1
To Do64 are read data from each of the memory blocks BLK1 to BLK8, and are logical areas L on the same chip.
It is output to the logic circuit formed in the OG or to the outside of the chip.

【0019】図5には、図1の半導体集積回路装置に含
まれるメモリマクロRAM1及び図4のメモリブロック
の詳細な構成図である。メモリマクロRAM1は、メモ
リブロックBLK1〜BLK8の他、制御回路CON
T、デコーダ回路及び切り換え信号発生回路GENを含
む。制御回路は、同一チップ上の論理領域LOGに形成
された論理回路から、或いは、チップの外部からアドレ
ス信号ADDR、クロック信号CLK及びリードライト
信号R/Wを受け、デコーダ回路DEC等の動作を制御
する。デコーダ回路は、制御回路からのデコードアドレ
ス信号を受け、デコードアドレス信号に基づいてデコー
ドされたデコード信号decを各メモリブロックBLK
1〜BLK8に出力する。切り換え信号発生回路GEN
は、同一チップ上に形成された冗長ヒューズ回路FUS
のRSL端子、BSL1端子ないしBSL3端子に結合
され、RSL信号、BSL1信号ないしBSL3信号を
受ける。また、切り換え信号発生回路GENは、RSL
信号、BSL1信号ないしBSL3信号に基づいた所定
の切り換え信号S1〜S8を出力する。メモリブロック
1は、入力データDi1〜Di8をそれぞれ受ける第1
選択回路SEL111〜118、メモリアレイMEMO
RY−ARRAY1〜8、MEMORY−ARRAY0
1、センスアンプ11〜19及び第2選択回路SEL1
21〜128を有する。メモリブロック8は、入力デー
タDi56〜Di64をそれぞれ受ける第1選択回路S
EL811〜818、メモリアレイMEMORY−AR
RAY56〜64、MEMORY−ARRAY08、セ
ンスアンプ81〜89及び第2選択回路SEL821〜
828を有する。第1選択回路は、メモリアレイのうち
の対応する隣合う2つのメモリアレイに結合され、切り
換え制御信号のうちの少なくとも一つに従って、結合さ
れた2つのメモリアレイのうちの一方に入力データを伝
送する。デコード信号decに従って、各メモリアレイ
1〜64及びMEMORY−ARRAY01〜08に含
まれる少なくとも一つのメモリセルがそれぞれ選択され
る。センスアンプは、対応するメモリアレイからの読み
だし信号(読みだしデータ)を受け、読みだし信号に基
づいた信号(データ)を出力する。第2選択回路は、セ
ンスアンプのうちの対応する隣合う2つのセンスアンプ
に結合され、切り換え制御信号のうちの少なくとも一つ
に従って、隣合うメモリアレイからの読みだし信号に基
づいたデータのうちの一方を受け、出力データとして出
力する。
FIG. 5 is a detailed configuration diagram of the memory macro RAM 1 included in the semiconductor integrated circuit device of FIG. 1 and the memory block of FIG. The memory macro RAM 1 includes a control circuit CON in addition to the memory blocks BLK1 to BLK8.
T, a decoder circuit, and a switching signal generation circuit GEN. The control circuit receives the address signal ADDR, the clock signal CLK and the read / write signal R / W from the logic circuit formed in the logic area LOG on the same chip or from the outside of the chip, and controls the operations of the decoder circuit DEC and the like. To do. The decoder circuit receives the decode address signal from the control circuit and outputs the decode signal dec decoded based on the decode address signal to each memory block BLK.
1 to BLK8. Switching signal generation circuit GEN
Is a redundant fuse circuit FUS formed on the same chip.
RSL terminal, BSL1 terminal or BSL3 terminal, and receives RSL signal, BSL1 signal or BSL3 signal. Further, the switching signal generation circuit GEN is
The predetermined switching signals S1 to S8 based on the signal, the BSL1 signal to the BSL3 signal are output. The memory block 1 receives the first input data Di1 to Di8, respectively.
Select circuits SEL111 to 118, memory array MEMO
RY-ARRAY1-8, MEMORY-ARRAY0
1, sense amplifiers 11 to 19 and second selection circuit SEL1
21 to 128. The memory block 8 has a first selection circuit S for receiving the input data Di56 to Di64.
EL811-818, memory array MEMORY-AR
RAY56 to 64, MEMORY-ARRAY08, sense amplifiers 81 to 89, and second selection circuit SEL821 to
828. The first selection circuit is coupled to the corresponding two adjacent memory arrays of the memory arrays, and transmits the input data to one of the two coupled memory arrays according to at least one of the switching control signals. To do. At least one memory cell included in each of the memory arrays 1 to 64 and MEMORY-ARRAY 01 to 08 is selected according to the decode signal dec. The sense amplifier receives a read signal (read data) from the corresponding memory array and outputs a signal (data) based on the read signal. The second selection circuit is coupled to the corresponding two adjacent sense amplifiers of the sense amplifiers, and selects one of the data based on the read signals from the adjacent memory arrays according to at least one of the switching control signals. It receives one and outputs it as output data.

【0020】図6には、図5のメモリアレイMEMOR
Y−ARRAY1の詳細回路図が示されている。同図に
は、PMOSトランジスタ及びNMOSトランジスタを
有するメモリセルMC1、MC4、ワード線XS1〜X
S256、データ線対D0、/D0〜D16、/D1
6、PMOS(P-channel Metal Oxide Semidoncducotr)
トランジスタP1〜P4、NMOS(N-channel Metal O
xide Semidoncducotr)トランジスタN1〜N4、共通デ
ータ線対CD、/CD及び書き込みアンプWAを含む。
メモリアレイは、256*16=4Kのメモリ容量を有
する。ワード線XS1〜XS256、PMOSトランジ
スタP1〜P4のゲート及びNMOSトランジスタN1
〜N4のゲートには、デコード信号decが供給され、
デコード信号に従った所定の1つのメモリセルが選択さ
れる。そして、第1選択回路SEL111、ライトアン
プWA、共通データ線対CD、/CD、NMOSトラン
ジスタを介して入力データDi1にしたがった所定のデ
ータが選択されたメモリセルに書き込まれる。または、
データ線、PMOSトランジスタ、共通データ線対C
D、/CDを介して、選択されたメモリセルに保持され
たデータにしたがったデータがセンスアンプSA11に
伝送される。
FIG. 6 shows the memory array MEMOR of FIG.
A detailed circuit diagram of Y-ARRAY1 is shown. In the figure, memory cells MC1 and MC4 having PMOS transistors and NMOS transistors and word lines XS1 to XS are provided.
S256, data line pair D0, / D0 to D16, / D1
6. PMOS (P-channel Metal Oxide Semidoncducotr)
Transistors P1 to P4, NMOS (N-channel Metal O
xide semiconductor transistor N1 to N4, common data line pair CD, / CD, and write amplifier WA.
The memory array has a memory capacity of 256 * 16 = 4K. Word lines XS1 to XS256, gates of PMOS transistors P1 to P4 and NMOS transistor N1
The decode signal dec is supplied to the gates of N4 to
One predetermined memory cell is selected according to the decode signal. Then, predetermined data according to the input data Di1 is written to the selected memory cell via the first selection circuit SEL111, the write amplifier WA, the common data line pair CD, / CD, and the NMOS transistor. Or
Data line, PMOS transistor, common data line pair C
The data according to the data held in the selected memory cell is transmitted to the sense amplifier SA11 via D and / CD.

【0021】図7には、図5のメモリブロックBLK1
の入力データ及び出力データの伝送経路を説明するため
のブロック回路図が示されている。同図においては、各
第1選択回路及び第2選択回路は、第1スイッチ素子S
W1及び第2スイッチ素子SW2を含む。
FIG. 7 shows the memory block BLK1 of FIG.
3 is a block circuit diagram for explaining the transmission paths of the input data and the output data of FIG. In the figure, each of the first selection circuit and the second selection circuit is a first switch element S.
W1 and the second switch element SW2 are included.

【0022】図8には、図7のメモリブロックのメモリ
アレイに対する第1の欠陥救済の方式が示されている。
同図において、冗長ヒューズ回路FUSに含まれるヒュ
ーズ部が切られていない通常モード(冗長未使用モー
ド)における、メモリブロックBLK1の入力データ及
び出力データの伝送経路が太線で示されている。図中で
網掛けされたメモリアレイMEMORY ARRAY0
1は使用されないメモリアレイである。通常モードにお
いては、切り換え制御信号の少なくとも一つに従って、
各第1及び第2選択回路に含まれる第1スイッチ素子が
非導通状態とされ、第2スイッチ素子が導通状態とされ
る。これにより、メモリアレイMEMORY−ARRA
Y1〜8が使用される。
FIG. 8 shows a first defect repairing method for the memory array of the memory block of FIG.
In the figure, transmission lines for input data and output data of the memory block BLK1 in the normal mode (redundancy unused mode) in which the fuse part included in the redundant fuse circuit FUS is not blown are shown by thick lines. Memory array MEMORY ARRAY0 shaded in the figure
1 is an unused memory array. In the normal mode, according to at least one of the switching control signals,
The first switch element included in each of the first and second selection circuits is turned off, and the second switch element is turned on. As a result, the memory array MEMORY-ARRA
Y1-8 are used.

【0023】図9には、図7のメモリブロックのメモリ
アレイに対する第1の欠陥救済の方式において冗長ヒュ
ーズ回路FUSに含まれるヒューズ部のうちの少なくと
も一つが切られている欠陥救済モード(冗長使用モー
ド)における、メモリブロックBLK1の入力データ及
び出力データの伝送経路の一例が太線で示されている。
図中で網掛けされたメモリアレイMEMORY ARR
AY4に欠陥があるものとする。この場合、太線で描か
れた経路で入力データ及び出力データが伝送される。欠
陥を含むメモリアレイMEMORY ARRAY4より
も上側のメモリアレイに対応した第1及び第2の選択回
路に含まれる第1スイッチ素子は導通状態とされ、第2
スイッチ素子は、非導通状態とされる。また、欠陥を含
むメモリアレイMEMORY ARRAY4よりも下側
のメモリアレイに対応した第1及び第2の選択回路に含
まれる第1スイッチ素子は非導通状態とされ、第2スイ
ッチ素子は、導通状態とされる。これにより、欠陥を含
むメモリアレイが使用されず、欠陥を含まないメモリア
レイMEMORY−ARRAY1〜3、MEMORY−
ARRAY5〜8およびMEMORY−ARRAY1が
使用される。
FIG. 9 shows a defect relief mode (redundancy use) in which at least one of the fuse parts included in the redundant fuse circuit FUS is cut in the first defect relief method for the memory array of the memory block of FIG. An example of a transmission path of the input data and the output data of the memory block BLK1 in the (mode) is indicated by a thick line.
Memory array MEMORY ARR shaded in the figure
It is assumed that AY4 has a defect. In this case, the input data and the output data are transmitted through the route drawn by the thick line. The first switch elements included in the first and second selection circuits corresponding to the memory arrays above the memory array MEMORY ARRAY4 including a defect are turned on, and the second switch elements are turned on.
The switch element is made non-conductive. Further, the first switch elements included in the first and second selection circuits corresponding to the memory arrays below the memory array MEMORY ARRAY4 including the defect are set to the non-conductive state, and the second switch elements are set to the conductive state. To be done. As a result, the memory array including a defect is not used, and the memory arrays MEMORY-ARRAY1 to 3 and MEMORY- that do not include a defect are used.
ARRAY5-8 and MEMORY-ARRAY1 are used.

【0024】このように第1の欠陥救済方式を用いるこ
とによって、通常モードと欠陥救済モードにおける入力
データ及び出力データの伝送経路中の論理回路段数(第
1及び第2選択回路内のスイッチ素子の段数を含む)が
実質的に等しいものとされる。これにより、欠陥救済モ
ードと通常モードのアクセス速度を等しくするという効
果が得られる。
By using the first defect relieving method in this way, the number of logic circuit stages in the transmission path of the input data and the output data in the normal mode and the defect relieving mode (switch elements in the first and second selection circuits) (Including the number of stages) are substantially equal. This has the effect of making the access speeds in the defect relief mode and the normal mode equal.

【0025】図10には、図7のメモリブロックのメモ
リアレイに対する第2の欠陥救済の方式が示されてい
る。同図において、冗長ヒューズ回路FUSに含まれる
ヒューズ部が切られていない通常モード(冗長未使用モ
ード)における、メモリブロックBLK1の入力データ
及び出力データの伝送経路が太線で示されている。図中
で網掛けされたメモリアレイMEMORY ARRAY
5は使用されないメモリアレイである。切り換え制御信
号の少なくとも一つに従って、中央に配置されたメモリ
アレイMEMORY ARRAY5よりも上側のメモリ
アレイに対応した第1及び第2の選択回路に含まれる第
1スイッチ素子は導通状態とされ、第2スイッチ素子
は、非導通状態とされる。また、メモリアレイMEMO
RY ARRAY5よりも下側のメモリアレイに対応し
た第1及び第2の選択回路に含まれる第1スイッチ素子
は非導通状態とされ、第2スイッチ素子は、導通状態と
される。これにより、MEMORY−ARRAY1〜4
およびMEMORY−ARRAY6〜8が使用される。
FIG. 10 shows a second defect repairing method for the memory array of the memory block shown in FIG. In the figure, transmission lines for input data and output data of the memory block BLK1 in the normal mode (redundancy unused mode) in which the fuse part included in the redundant fuse circuit FUS is not blown are shown by thick lines. Memory array MEMORY ARRAY shaded in the figure
5 is an unused memory array. According to at least one of the switching control signals, the first switch elements included in the first and second selection circuits corresponding to the memory arrays above the memory array MEMORY ARRAY5 arranged in the center are rendered conductive, and the second switch elements are turned on. The switch element is made non-conductive. In addition, the memory array MEMO
The first switch elements included in the first and second selection circuits corresponding to the memory arrays below the RY ARRAY 5 are turned off, and the second switch elements are turned on. By this, MEMORY-ARRAY1-4
And MEMORY-ARRAY 6-8 are used.

【0026】このように第2の欠陥救済方式を用いるこ
とによって、第1の欠陥救済方式の効果の他、以後詳述
する切り換え信号発生回路の構成を簡略化することが可
能とされ、もってチップ面積の削減を図ることが可能と
される。
By using the second defect relieving system as described above, in addition to the effect of the first defect relieving system, it is possible to simplify the configuration of the switching signal generating circuit, which will be described in detail later. It is possible to reduce the area.

【0027】図11は、図5の切り換え信号発生回路G
ENの具体構成図である。切り換え信号発生回路は、デ
ータ記憶回路MEMと、第2デコード回路DEC2と、
リセット回路RSCとを含む。データ記憶回路は、単位
データ記憶回路Unit Memを含む単位記憶回路群
Mem1〜Mem8を含み、単位データ記憶回路のそれ
ぞれは、論理”1”(”HIGH”レベル)或いは論
理”0”(”LOW”レベル)とされる2値のデータを
保持する。各単位記憶回路群のそれぞれは、8つの単位
記憶回路を含む。第2デコード回路は、冗長ヒューズ回
路FUSからのBSL1信号〜BSL信号3を受け、第
2デコード信号dec21〜28を対応する単位記憶回
路群のそれぞれに出力する。BSL1信号〜BSL信号
3にしたがって、第2デコード信号のうちの所定の一つ
が選択レベルとされ、単位記憶回路群のうちの一つが選
択される。選択された単位記憶回路群の単位記憶回路に
保持されたデータは、リセット回路RSCに伝送され
る。リセット回路は、単位記憶回路からの読みだしデー
タを受ける様に結合された第1入力とRSL信号を受け
る様に結合された第2入力を含むアンドゲート回路AN
D1〜AND8を含む。リセット回路は、RSL信号
が”LOW”レベルとされるとき、選択された単位回路
群の単位回路に保持されたデータを切り換え信号s1〜
s8として出力する。RSL信号が”HIGH”レベル
であるとき、”LOW”レベルとされる切り換え信号s
1〜s8を出力する。図中の各単位記憶回路Unit
Memのボックスの中に記載された”0”及び1”は、
その単位記憶回路に論理”0”或いは論理”1”のデー
タが保持されていることを示している。更に具体例をあ
げて説明すれば、BSL1信号、BSL2信号、BSL
3信号及びRSL信号の組合せが”0001”であると
き、第2デコード信号dec21のみが選択レベルとさ
れ、単位記憶回路群Mem1が選択され、”11111
111”の切り換え制御信号s1〜s8が出力される。
BSL1信号、BSL2信号、BSL3信号及びRSL
信号の組合せが”0011”であるとき、第2デコード
信号dec22のみが選択レベルとされ、単位記憶回路
群Mem2が選択され、”01111111”の切り換
え制御信号s1〜s8が出力される。同様にBSL1信
号、BSL2信号、BSL3信号及びRSL信号の組合
せが”1111”であるとき、第2デコード信号dec
28のみが選択レベルとされ、単位記憶回路群Mem8
が選択され、”00000001”の切り換え制御信号
s1〜s8が出力される。尚、図8におけるメモリアレ
イMEMORY−ARRAY1に欠陥がある場合、単位
記憶回路群Mem1が選択され、メモリアレイMEMO
RY−ARRAY8に欠陥を有する場合、単位記憶回路
群Mem8が選択される。すなわち、単位回路群Mem
1〜Mem8は、図8のメモリアレイMEMORY−A
RRAY1〜8が欠陥を有している事を指示するための
情報をそれぞれ保持している。
FIG. 11 shows the switching signal generating circuit G of FIG.
It is a concrete block diagram of EN. The switching signal generation circuit includes a data storage circuit MEM, a second decoding circuit DEC2,
A reset circuit RSC is included. The data storage circuit includes unit storage circuit groups Mem1 to Mem8 including a unit data storage circuit Unit Mem, and each of the unit data storage circuits has a logic “1” (“HIGH” level) or a logic “0” (“LOW”). Holds binary data that is regarded as a (level). Each unit memory circuit group includes eight unit memory circuits. The second decode circuit receives the BSL1 signal to BSL signal 3 from the redundant fuse circuit FUS, and outputs the second decode signals dec21 to 28 to the corresponding unit storage circuit groups. According to the BSL1 signal to the BSL signal 3, a predetermined one of the second decode signals is set to the selection level, and one of the unit memory circuit groups is selected. The data held in the unit storage circuit of the selected unit storage circuit group is transmitted to the reset circuit RSC. The reset circuit includes an AND gate circuit AN including a first input coupled to receive the read data from the unit storage circuit and a second input coupled to receive the RSL signal.
Including D1 to AND8. When the RSL signal is set to the “LOW” level, the reset circuit switches the data held in the unit circuit of the selected unit circuit group from the switching signals s1 to s1.
Output as s8. Switching signal s that is set to "LOW" level when the RSL signal is "HIGH" level
1 to s8 are output. Each unit memory circuit Unit in the figure
"0" and 1 "written in the Mem box are
It indicates that the logical data "0" or the logical "1" is held in the unit memory circuit. To further explain with specific examples, BSL1 signal, BSL2 signal, BSL signal
When the combination of the 3 signal and the RSL signal is “0001”, only the second decode signal dec21 is set to the selection level, the unit memory circuit group Mem1 is selected, and “11111” is selected.
The switching control signals s1 to s8 of 111 ″ are output.
BSL1 signal, BSL2 signal, BSL3 signal and RSL
When the signal combination is "0011", only the second decode signal dec22 is set to the selection level, the unit memory circuit group Mem2 is selected, and the switching control signals s1 to s8 of "01111111" are output. Similarly, when the combination of the BSL1 signal, the BSL2 signal, the BSL3 signal and the RSL signal is “1111”, the second decode signal dec
Only 28 is set to the selection level, and the unit memory circuit group Mem8
Is selected, and the switching control signals s1 to s8 of "00000001" are output. If the memory array MEMORY-ARRAY1 in FIG. 8 is defective, the unit memory circuit group Mem1 is selected and the memory array MEMO is selected.
When the RY-ARRAY8 has a defect, the unit memory circuit group Mem8 is selected. That is, the unit circuit group Mem
1 to Mem8 are the memory array MEMORY-A of FIG.
Each of the RRAYs 1 to 8 holds information for indicating that it has a defect.

【0028】図12は、図11の単位記憶回路群Mem
1の詳細回路図である。単位記憶回路群Mem1に含ま
れる単位記憶回路Unit Mem1は、1つのPMO
SトランジスタQP1と一つのNMOSトランジスタQ
N7を含み、単位記憶回路Unit Mem8は、1つ
のPMOSトランジスタQP2と一つのNMOSトラン
ジスタQN8を含む。PMOSトランジスタQP1およ
びQP2のソースドレイン経路のうちの一方は、第1電
源電圧Vccを受けるように結合され、そのゲートはイ
ンバータ回路INV7を介して第2デコード信号dec
21の反転信号を受けるように結合される。NMOSト
ランジスタQN7、QN8のソースドレイン経路のうち
の一方は、第2電源電圧GNDを受けるように結合さ
れ、ゲートは第2デコード信号dec21を受けるよう
に結合される。PMOSトランジスタQP1のソースド
レイン経路のうちの他方は信号配線L1から絶縁され、
例えばフローティング状態とされる。NMOSトランジ
スタQN7のソースドレイン経路のうちの他方は、層間
のコンタクトにより信号配線L1に結合される。信号配
線L1は、ANDゲート回路AND8の一方の入力に結
合される。PMOSトランジスタQP2のソースドレイ
ン経路のうちの他方は層間のコンタクトにより信号配線
L8に結合される。信号配線L8は、ANDゲート回路
AND8の一方の入力に結合される。NMOSトランジ
スタQN8のソースドレイン経路のうちの他方は信号配
線L8から絶縁され、フローティング状態とされる。こ
れにより、単位記憶回路UnitMem1は、第2デコ
ード信号が”HIGH”レベルとされる時、”LOW”
レベルの信号を信号配線L1に出力する。一方単位記憶
回路UnitMem8は、デコード信号が”HIGH”
レベルとされる時、”HIGH”レベルの信号を信号配
線L8に出力する。
FIG. 12 shows the unit memory circuit group Mem of FIG.
2 is a detailed circuit diagram of FIG. The unit memory circuit Unit Mem1 included in the unit memory circuit group Mem1 is one PMO.
S transistor QP1 and one NMOS transistor Q
The unit memory circuit Unit Mem8 including N7 includes one PMOS transistor QP2 and one NMOS transistor QN8. One of the source / drain paths of the PMOS transistors QP1 and QP2 is coupled to receive the first power supply voltage Vcc, and its gate is coupled to the second decode signal dec via the inverter circuit INV7.
21 are coupled to receive the inverted signal. One of source / drain paths of NMOS transistors QN7 and QN8 is coupled to receive second power supply voltage GND, and a gate is coupled to receive second decode signal dec21. The other of the source / drain paths of the PMOS transistor QP1 is insulated from the signal line L1,
For example, it is in a floating state. The other of the source / drain paths of the NMOS transistor QN7 is coupled to the signal line L1 by a contact between layers. The signal line L1 is coupled to one input of the AND gate circuit AND8. The other of the source / drain paths of the PMOS transistor QP2 is coupled to the signal line L8 by a contact between layers. The signal line L8 is coupled to one input of the AND gate circuit AND8. The other of the source / drain paths of the NMOS transistor QN8 is insulated from the signal line L8 and is in a floating state. As a result, the unit memory circuit UnitMem1 is "LOW" when the second decode signal is at "HIGH" level.
The level signal is output to the signal line L1. On the other hand, in the unit memory circuit UnitMem8, the decode signal is "HIGH".
When it is set to the level, it outputs a "HIGH" level signal to the signal line L8.

【0029】上述のように、単位記憶回路はUnit
Memは、一つのPMOSトランジスタと、1つのNM
OSトランジスタで構成される。PMOSトランジスタ
及びNMOSトランジスタは、冗長ヒューズ回路FUS
に含まれるヒューズ部の占める面積に比して非常に小さ
い面積である。従って、冗長ヒューズ回路と切り換え信
号発生回路とを含む冗長情報保持回路部の占有面積を削
減することが可能とされる。この効果は、1つのメモリ
ブロックに含まれるメモリアレイの数が増大すればする
ほど顕著なものとされる。
As described above, the unit memory circuit is Unit
Mem is one PMOS transistor and one NM
It is composed of an OS transistor. The PMOS transistor and the NMOS transistor are redundant fuse circuits FUS.
This is a very small area compared to the area occupied by the fuse portion included in. Therefore, it is possible to reduce the area occupied by the redundant information holding circuit section including the redundant fuse circuit and the switching signal generating circuit. This effect becomes more remarkable as the number of memory arrays included in one memory block increases.

【0030】図13は、図5のメモリブロック1の詳細
回路ブロック図である。同図においては、センスアンプ
SA11〜19に結合されたラッチ回路LATCH11
〜19、第2選択回路SEL121〜SEL128に結
合されたバッファ回路BUF1〜8、センスアンプSA
9に結合されたバッファ回路BUF9及びエクスクルー
シブノアゲート回路ENOR1〜7が追記されている。
第2選択回路SEL121は、PMOSトランジスタQ
P3、QN4、NMOSトランジスタQN9、QN10
及びインバータ回路INV9を含む。第2選択回路SE
L121は、PMOSトランジスタQP3、QN4、N
MOSトランジスタQN9、QN10及びインバータ回
路INV10を含む。第2選択回路SEL122は、P
MOSトランジスタQP5、QN6、NMOSトランジ
スタQN11、QN12及びインバータ回路INV10
を含む。第2選択回路SEL128は、PMOSトラン
ジスタQP7、QN8、NMOSトランジスタQN1
3、QN14及びインバータ回路INV11を含む。
FIG. 13 is a detailed circuit block diagram of the memory block 1 of FIG. In the figure, the latch circuit LATCH11 coupled to the sense amplifiers SA11 to SA19 is shown.
To 19, buffer circuits BUF1 to 8 coupled to the second selection circuits SEL121 to SEL128, and sense amplifier SA
The buffer circuit BUF9 and the exclusive NOR gate circuits ENOR1 to EN7 which are coupled to the buffer 9 are additionally written.
The second selection circuit SEL121 includes a PMOS transistor Q
P3, QN4, NMOS transistors QN9, QN10
And an inverter circuit INV9. Second selection circuit SE
L121 is a PMOS transistor QP3, QN4, N
It includes MOS transistors QN9 and QN10 and an inverter circuit INV10. The second selection circuit SEL122 has P
MOS transistors QP5, QN6, NMOS transistors QN11, QN12 and inverter circuit INV10
including. The second selection circuit SEL128 includes PMOS transistors QP7 and QN8 and an NMOS transistor QN1.
3, QN14 and an inverter circuit INV11.

【0031】トランジスタQP3およびQN9のソース
ドレイン経路はバッファ回路BUF1の入力とラッチ回
路LATCH11との間に結合され、トランジスタQN
9のゲートはインバータ回路INV9の出力に結合さ
れ、トランジスタQP3のゲートは、インバータ回路I
NV9の入力に結合される。インバータ回路INV9の
入力は、切り換え制御信号s1を受けるように結合され
る。トランジスタQP4、QN10のソースドレイン経
路はバッファ回路BUF1の入力とラッチ回路LATC
H12との間に結合され、トランジスタQP4のゲート
はトランジスタQN9のゲートに結合され、トランジス
タQN10のゲートは、トランジスタQP3のゲートに
結合される。
The source / drain paths of the transistors QP3 and QN9 are coupled between the input of the buffer circuit BUF1 and the latch circuit LATCH11, and the transistor QN
The gate of the transistor QP3 is coupled to the output of the inverter circuit INV9, and the gate of the transistor QP3 is coupled to the inverter circuit IV9.
It is coupled to the input of NV9. The input of the inverter circuit INV9 is coupled to receive the switching control signal s1. The source / drain paths of the transistors QP4 and QN10 are the input of the buffer circuit BUF1 and the latch circuit LATC.
The gate of the transistor QP4 is coupled to the gate of the transistor QN9, and the gate of the transistor QN10 is coupled to the gate of the transistor QP3.

【0032】トランジスタQP5、QN11のソースド
レイン経路はバッファ回路BUF2の入力とラッチ回路
LATCH12との間に結合され、トランジスタQN1
1のゲートはインバータ回路INV10の出力に結合さ
れ、トランジスタQP5のゲートは、インバータ回路I
NV10の入力に結合される。インバータ回路INV1
0の入力は、切り換え制御信号s2を受けるように結合
される。トランジスタQP6、QN12のソースドレイ
ン経路はバッファ回路BUF2の入力とラッチ回路LA
TCH13との間に結合され、トランジスタQP6のゲ
ートはトランジスタQN11のゲートに結合され、トラ
ンジスタQN12のゲートは、トランジスタQP5のゲ
ートに結合される。
The source / drain paths of the transistors QP5 and QN11 are coupled between the input of the buffer circuit BUF2 and the latch circuit LATCH12, and the transistor QN1 is connected.
The gate of 1 is coupled to the output of the inverter circuit INV10, and the gate of the transistor QP5 is connected to the inverter circuit IV10.
Coupled to the input of NV10. Inverter circuit INV1
The 0 input is coupled to receive the switching control signal s2. The source / drain paths of the transistors QP6 and QN12 are the input of the buffer circuit BUF2 and the latch circuit LA.
The gate of the transistor QP6 is coupled to the gate of the transistor QN11, and the gate of the transistor QN12 is coupled to the gate of the transistor QP5.

【0033】トランジスタQP7、QN13のソースド
レイン経路はバッファ回路BUF8の入力とラッチ回路
LATCH18との間に結合され、トランジスタQN1
3のゲートはインバータ回路INV11の出力に結合さ
れ、トランジスタQP7のゲートは、インバータ回路I
NV11の入力に結合される。インバータ回路INV1
1の入力は、切り換え制御信号s8を受けるように結合
される。トランジスタQP8、QN14のソースドレイ
ン経路はバッファ回路BUF8の入力とラッチ回路LA
TCH19との間に結合され、トランジスタQP8のゲ
ートはトランジスタQN13のゲートに結合され、トラ
ンジスタQN14のゲートは、トランジスタQP7のゲ
ートに結合される。インバータ回路INV8の入力は切
り換え制御信号s1を受けるように結合され、その出力
はセンスアンプSA1及びメモリアレイMEMORY−
ARRAY1に結合される。エクスクルージブノアゲー
ト回路ENOR1は、切り換え制御信号s1及びs2を
受ける入力とセンスアンプSA12及びメモリアレイM
EMORY−ARRAY2に結合された出力を有する。
エクスクルージブノアゲート回路ENOR2は、切り換
え制御信号s2及びs3を受ける入力とセンスアンプS
A13及びメモリアレイMEMORY−ARRAY3に
結合された出力を有する。エクスクルージブノアゲート
回路ENOR3は、切り換え制御信号s7及びs8を受
ける入力とセンスアンプSA18及びメモリアレイME
MORY−ARRAY8に結合された出力を有する。バ
ッファ回路1〜8は出力データDo1〜Do8を出力す
る。バッファ回路BUF9は、切り換え制御信号s8に
結合された入力とセンスアンプSA19及びメモリアレ
イMEMORY−ARRAY9に結合された出力を有す
る。
The source / drain paths of the transistors QP7 and QN13 are coupled between the input of the buffer circuit BUF8 and the latch circuit LATCH18, and are connected to the transistor QN1.
The gate of the transistor 3 is coupled to the output of the inverter circuit INV11, and the gate of the transistor QP7 is connected to the inverter circuit IV11.
It is coupled to the input of NV11. Inverter circuit INV1
The one input is coupled to receive the switching control signal s8. The source / drain paths of the transistors QP8 and QN14 are the input of the buffer circuit BUF8 and the latch circuit LA.
The gate of the transistor QP8 is coupled to the gate of the transistor QN13, and the gate of the transistor QN14 is coupled to the gate of the transistor QP7. The input of the inverter circuit INV8 is coupled to receive the switching control signal s1, and its output is the sense amplifier SA1 and the memory array MEMORY-.
It is bound to ARRAY1. The exclusive NOR gate circuit ENOR1 has inputs for receiving the switching control signals s1 and s2, the sense amplifier SA12 and the memory array M.
It has an output coupled to EMORY-ARRAY2.
The exclusive NOR gate circuit ENOR2 has an input for receiving the switching control signals s2 and s3 and a sense amplifier S.
A13 and the output coupled to the memory array MEMORY-ARRAY3. The exclusive NOR gate circuit ENOR3 includes an input for receiving the switching control signals s7 and s8, a sense amplifier SA18, and a memory array ME.
It has an output coupled to MORY-ARRAY8. The buffer circuits 1 to 8 output the output data Do1 to Do8. The buffer circuit BUF9 has an input coupled to the switching control signal s8 and an output coupled to the sense amplifier SA19 and the memory array MEMORY-ARRAY9.

【0034】センスアンプSA11〜19及び第2選択
回路SEL121〜128は、切り換え制御信号s1〜
s8の組合せによりそれぞれ制御される。具体的には、
第2選択回路SEL12(i)(1≦i≦8)は、切り換
え制御信号s(i)が”H”(”HIGH”)レベルの
時、ラッチ回路LATCH1(i+1)とバッファ回路B
UF(i)を電気的に接続するように制御し、切り換え制
御信号s(i)が”L”(LOW”)レベルの時、ラッチ
回路LATCH1(i)とバッファ回路BUF(i)を電
気的に接続するように制御する。センスアンプSA1
(i)(i=1、9)及びメモリアレイMEMORY−
ARRAY(i)(i=1、9)は、切り換え制御信号s
(i)が”H”レベルの時、非動作状態とされる。センス
アンプSA1(i)(2≦i≦8)は、切り換え制御信号
s(i−1)が”H”レベル且つ切り換え制御信号s(i)
が”L”レベル或いは切り換え制御信号s(i−1)が”
L”レベル且つ切り換え制御信号s(i)が”H”レベル
の時、非動作状態とされる。例えば、メモリアレイME
MORY−ARAY4が欠陥である場合、切り換え制御
信号s1〜s8はそれぞれ ”00011111”とさ
れる。これにより欠陥メモリアレイMEMORY−AR
AY4に対する欠陥救済を行なうことが可能とされる。
欠陥を有する等使用しないメモリアレイに対応するセン
スアンプは、インバータ回路INV8、ENOR1〜7
及びバッファ回路BUF9からの出力信号とされるST
C1信号〜STC9信号が”L”レベルとされるとき、
第1電源電圧及び第1電源電圧より小さい第2電源電圧
が供給されなくなる。これにより欠陥を有する等使用し
ないメモリアレイに対応するセンスアンプの動作が停止
する。従って、半導体記憶回路装置の低消費電力化が実
現される。
The sense amplifiers SA11 to 19 and the second selection circuits SEL121 to 128 have switching control signals s1 to s1.
Each is controlled by the combination of s8. In particular,
The second selection circuit SEL12 (i) (1 ≦ i ≦ 8) has a latch circuit LATCH1 (i + 1) and a buffer circuit B when the switching control signal s (i) is at “H” (“HIGH”) level.
UF (i) is controlled to be electrically connected, and when the switching control signal s (i) is at "L" (LOW) level, the latch circuit LATCH1 (i) and the buffer circuit BUF (i) are electrically connected. Control to connect to the sense amplifier SA1.
(I) (i = 1, 9) and memory array MEMORY-
ARRAY (i) (i = 1, 9) is a switching control signal s
When (i) is at "H" level, it is in a non-operating state. In the sense amplifier SA1 (i) (2≤i≤8), the switching control signal s (i-1) is at "H" level and the switching control signal s (i) is
Is "L" level or the switching control signal s (i-1) is "
When it is at L "level and the switching control signal s (i) is at" H "level, it is in a non-operation state. For example, the memory array ME.
When the MORY-ARAY4 is defective, the switching control signals s1 to s8 are set to "00011111". As a result, the defective memory array MEMORY-AR
It is possible to perform defect relief on AY4.
Sense amplifiers corresponding to memory arrays that are defective or otherwise unused are inverter circuits INV8, ENOR1-7.
And ST which is an output signal from the buffer circuit BUF9
When the C1 signal to the STC9 signal are set to "L" level,
The first power supply voltage and the second power supply voltage smaller than the first power supply voltage are not supplied. As a result, the operation of the sense amplifier corresponding to the unused memory array having a defect is stopped. Therefore, low power consumption of the semiconductor memory circuit device is realized.

【0035】図14には、図13のメモリアレイMEM
ORY−ARRAY1の具体回路図の一例である。同図
には、デコード信号decを受けるワード線WL1に結
合された第1入力とSTC1信号を受ける第2入力と、
ワード線WL11に結合された出力を有するアンドゲー
ト回路AND9と、デコード信号decを受けるワード
線WL2に結合された第1入力とSTC1信号を受ける
第2入力と、ワード線WL12に結合された出力を有す
るアンドゲート回路AND12及びワード線WL11と
WL12に結合されたメモリセルを含む。STC1信号
のレベルが”L”レベルであるとき、ワード線WL11
およびWL12のレベルは、デコード信号decのレベ
ルに無関係に非選択レベルとされる”L”レベルに固定
される。これにより、欠陥を有する等の理由で使用しな
いメモリアレイに含まれるメモリセルが選択されること
がない。これにより未使用メモリアレイの消費電力を低
減することが可能とされる。
FIG. 14 shows the memory array MEM of FIG.
It is an example of a specific circuit diagram of ORY-ARRAY1. In the figure, a first input coupled to the word line WL1 for receiving the decode signal dec and a second input for receiving the STC1 signal,
An AND gate circuit AND9 having an output coupled to the word line WL11, a first input coupled to the word line WL2 receiving the decode signal dec and a second input receiving the STC1 signal, and an output coupled to the word line WL12 are provided. It includes an AND gate circuit AND12 and a memory cell coupled to word lines WL11 and WL12. When the level of the STC1 signal is "L" level, the word line WL11
The levels of WL12 and WL12 are fixed to the "L" level which is a non-selection level regardless of the level of the decode signal dec. This prevents the memory cells included in the unused memory array from being selected due to a defect or the like. As a result, the power consumption of the unused memory array can be reduced.

【0036】図15は、図13のメモリアレイMEMO
RY−ARRAY1の具体回路図の一例である。同図と
図14の相違点は、図15には、更にメモリセルと第2
電源電圧GNDとの間に結合されたソースドレイン経路
と、STC1信号を受ける為のゲートを受けるNMOS
トランジスタQN15を含む点である。トランジスタQ
N15は、STC1信号が”L”レベルとされるとき、
オフ状態とされる。このため、メモリセルに対する第2
電源電圧給電は停止される。これにより、未使用メモリ
アレイの消費電力を更に低減することが可能とされる。
FIG. 15 shows the memory array MEMO of FIG.
It is an example of a specific circuit diagram of RY-ARRAY1. The difference between FIG. 14 and FIG. 14 is that in FIG.
A source / drain path coupled to the power supply voltage GND and an NMOS receiving a gate for receiving the STC1 signal.
This is a point including the transistor QN15. Transistor Q
N15 is, when the STC1 signal is set to "L" level,
It is turned off. Therefore, the second memory cell
The power supply voltage supply is stopped. As a result, it is possible to further reduce the power consumption of the unused memory array.

【0037】図16は、図2の詳細回路ブロック図の一
実施例である。本実施例では冗長ヒューズ回路FUS
は、1つのヒューズ部を含む第1ヒューズ回路と、5つ
のヒューズ部を有する第2ヒューズ回路を有する。第1
ヒューズ回路は、RSL端子を有し、第2ヒューズ回路
は、BSL1端子ないしBSL5端子を有する。メモリ
マクロRAM1及びRAM2は、8つのメモリブロック
を含み、各メモリブロックは最大32個のメモリアレイ
と一つの冗長メモリアレイとを有する。冗長ヒューズ回
路FUSは、メモリマクロ1及び2に共通に設けられ、
RSL端子及びBSL1端子ないしBSL5端子は、メ
モリマクロ1及び2に結合されている。メモリマクロR
AM1の中のあるメモリブロック内のメモリアレイに欠
陥がある場合、メモリマクロRAM1の各メモリブロッ
クの対応するメモリアレイ及びメモリマクロRAM2に
含まれ各メモリブロックの対応するメモリメモリアレイ
の計8*2=16のメモリアレイが同時に冗長メモリア
レイに置き換えられる。これにより、メモリマクロ1及
び2のどちらのメモリマクロの中に欠陥メモリアレイが
ある場合でも、欠陥メモリアレイを冗長メモリアレイに
置き換えることが可能とされる。すなわち、メモリマク
ロ単位で冗長ヒューズ回路を独立設ける場合に比べて冗
長ヒューズ回路の占有面積を低減することが可能とされ
る。
FIG. 16 is an embodiment of the detailed circuit block diagram of FIG. In this embodiment, the redundant fuse circuit FUS is used.
Has a first fuse circuit including one fuse portion and a second fuse circuit including five fuse portions. First
The fuse circuit has an RSL terminal, and the second fuse circuit has a BSL1 terminal to a BSL5 terminal. The memory macros RAM1 and RAM2 include eight memory blocks, and each memory block has a maximum of 32 memory arrays and one redundant memory array. The redundant fuse circuit FUS is provided commonly to the memory macros 1 and 2,
The RSL terminal and the BSL1 to BSL5 terminals are coupled to the memory macros 1 and 2. Memory macro R
When there is a defect in the memory array in a certain memory block in AM1, the memory array corresponding to each memory block of the memory macro RAM1 and the memory memory array included in the memory macro RAM2 and corresponding memory memory array of each memory block 8 * 2 in total. = 16 memory arrays are simultaneously replaced by redundant memory arrays. As a result, it is possible to replace the defective memory array with the redundant memory array regardless of which of the memory macros 1 and 2 has the defective memory array. That is, it is possible to reduce the occupied area of the redundant fuse circuit as compared with the case where the redundant fuse circuit is independently provided for each memory macro unit.

【0038】図17は、図2の詳細回路ブロック図の一
実施例である。本実施例では冗長ヒューズ回路FUS
は、3つのヒューズ部を含む第1ヒューズ回路と、5つ
のヒューズ部を有する第2ヒューズ回路を有する。第1
ヒューズ回路は、RSL1端子ないしRSL6端子を有
し、第2ヒューズ回路は、BSL1端子ないしBSL5
端子を有する。メモリマクロ1、2及び6のそれぞれ
は、8つのメモリブロックを含み、各メモリブロックは
それぞれ最大32個のメモリアレイと一つの冗長メモリ
アレイとを有する。第1ヒューズ回路の3つのヒューズ
部は、それぞれメモリマクロRAM1、RAM2及びR
AM6に対応して設けられ、RSL1端子は、メモリマ
クロRAM1に結合され、RSL2端子は、メモリマク
ロRAM2に結合され、RSL6端子は、メモリマクロ
RAM6に結合されている。第2ヒューズ回路は、メモ
リマクロ1、2及び6に共通に設けられBSL1端子な
いしBSL5端子は、メモリマクロRAM1、RAM2
及びRAM6に結合されている。メモリマクロRAM1
に含まれるあるメモリブロックのあるメモリアレイに欠
陥がある場合、メモリマクロRAM1に含まれる8つの
メモリブロックのそれぞれに含まれ対応する8つのメモ
リアレイだけを冗長メモリアレイに置き換えられること
が可能とされる。これにより、冗長救済の自由度が向上
する。
FIG. 17 is an embodiment of the detailed circuit block diagram of FIG. In this embodiment, the redundant fuse circuit FUS is used.
Has a first fuse circuit including three fuse parts and a second fuse circuit including five fuse parts. First
The fuse circuit has RSL1 terminals to RSL6 terminals, and the second fuse circuit has BSL1 terminals to BSL5 terminals.
Has terminals. Each of the memory macros 1, 2 and 6 includes eight memory blocks, each memory block having a maximum of 32 memory arrays and one redundant memory array. The three fuse parts of the first fuse circuit are respectively memory macro RAM1, RAM2 and R.
The RSL1 terminal is connected to the memory macro RAM1, the RSL2 terminal is connected to the memory macro RAM2, and the RSL6 terminal is connected to the memory macro RAM6. The second fuse circuit is provided commonly to the memory macros 1, 2 and 6, and the BSL1 terminal to the BSL5 terminal are connected to the memory macros RAM1 and RAM2.
And RAM6. Memory macro RAM1
When there is a defect in a memory array of a certain memory block included in the memory macro RAM1, it is possible to replace only the corresponding eight memory arrays included in each of the eight memory blocks included in the memory macro RAM1 with the redundant memory array. It As a result, the degree of freedom in redundant relief is improved.

【0039】図18は、図2の詳細回路ブロック図の一
例である。本実施例では冗長ヒューズ回路FUSは、3
つのヒューズ部を含む第1ヒューズ回路と、15のヒュ
ーズ部を有する第2ヒュー回路を有する。第1ヒューズ
回路は、RSL1端子ないしRSL6端子を有し、第2
ヒューズ回路は、BSL1端子ないしBSL15端子を
有する。メモリマクロRAM1、RAM2及びRAM6
のそれぞれは、8つのメモリブロックを含み、各メモリ
ブロックは最大32個のメモリアレイと一つの冗長メモ
リアレイとを有する。第1ヒューズ回路の3つのヒュー
ズ部は、それぞれメモリマクロRAM1,RAM2及び
RAM6に対応して設けられ、RSL1端子は、メモリ
マクロRAM1に結合され、RSL2端子は、メモリマ
クロRAM2に結合され、RSL6端子は、メモリマク
ロRAM6に結合されている。第2ヒューズ回路は、3
つのグループに分割されており、それぞれ5つのヒュー
ズ部を有する。それぞれのグループは、メモリマクロR
AM1、RAM2及びRAM6に対応して設けられ、B
SL1端子ないしBSL5端子はメモリマクロRAM1
に結合され、BSL6端子ないしBSL10端子は、メ
モリマクロRAM2に結合され、BSL11端子ないし
BSL15端子は、メモリマクロRAM6に結合されて
いる。これにより、メモリマクロRAM1、RAM2お
よびRAM6に含まれるメモリアレイのうちメモリマク
ロRAM1に含まれるあるメモリブロックのなかのある
メモリアレイに欠陥がある場合、メモリマクロRAM1
の各メモリブロックの対応する8つのメモリアレイだけ
を冗長メモリアレイに置き換えられることが可能とされ
る。更に、メモリマクロRAM1の任意のメモリブロッ
クに含まれる任意のメモリアレイと、メモリマクロRA
M2の任意のメモリブロックに含まれる任意のメモリア
レイと、メモリマクロRAM6の任意のメモリブロック
に含まれる任意のメモリアレイが同時に欠陥を有する場
合であっても、それらの欠陥メモリアレイを冗長メモリ
アレイに置き換えることが可能とされる。これにより、
冗長救済の自由度が更に向上する。
FIG. 18 is an example of a detailed circuit block diagram of FIG. In this embodiment, the redundant fuse circuit FUS is 3
It has a first fuse circuit including one fuse portion and a second fuse circuit including fifteen fuse portions. The first fuse circuit has RSL1 to RSL6 terminals, and a second fuse circuit
The fuse circuit has BSL1 terminals to BSL15 terminals. Memory macro RAM1, RAM2 and RAM6
Each of which includes eight memory blocks, each memory block having a maximum of 32 memory arrays and one redundant memory array. The three fuse parts of the first fuse circuit are provided respectively corresponding to the memory macros RAM1, RAM2, and RAM6, the RSL1 terminal is coupled to the memory macro RAM1, the RSL2 terminal is coupled to the memory macro RAM2, and the RSL6 terminal. Are coupled to the memory macro RAM 6. The second fuse circuit is 3
It is divided into one group and each has five fuse parts. Each group has a memory macro R
A corresponding to AM1, RAM2 and RAM6, B
SL1 terminal or BSL5 terminal is memory macro RAM1
, BSL6 terminals to BSL10 terminals are connected to the memory macro RAM 2, and BSL11 terminals to BSL15 terminals are connected to the memory macro RAM 6. As a result, if a memory array included in the memory macro RAM1 among the memory arrays included in the memory macro RAM1, RAM2, and RAM6 is defective, the memory macro RAM1
It is possible to replace only the corresponding eight memory arrays of each memory block with a redundant memory array. Furthermore, an arbitrary memory array included in an arbitrary memory block of the memory macro RAM 1 and a memory macro RA
Even when an arbitrary memory array included in an arbitrary memory block of M2 and an arbitrary memory array included in an arbitrary memory block of the memory macro RAM 6 have a defect at the same time, these defective memory arrays are replaced by redundant memory arrays. Can be replaced with. This allows
The degree of freedom of redundant relief is further improved.

【0040】図19は、図2の詳細回路ブロック図の一
実施例である。本実施例では冗長ヒューズ回路FUS
は、2つのヒューズ部を含む第1ヒューズ回路と、10
個のヒューズ部を有する第2ヒューズ回路を有する。第
1ヒューズ回路は、RSL1端子およびRSL6端子を
有し、第2ヒューズ回路は、BSL1端子ないしBSL
10端子を有する。メモリマクロRAM1、RAM2及
びRAM6のそれぞれは、8つのメモリブロックを含
み、各メモリブロックはそれぞれ最大32個のメモリア
レイと一つの冗長メモリアレイとを有する。第1ヒュー
ズ回路の2つのヒューズ部のうち1つのヒューズ部は、
それぞれメモリマクロRAM1およびRAM2に共通に
設けられ、他の1つのヒューズ部は、メモリマクロRA
M6に対応して設けられている。RSL1端子は、メモ
リマクロRAM1およびRAM2に結合され、RSL6
端子は、メモリマクロRAM6に結合されている。第2
ヒューズ回路は、2つのグループに分割されており、そ
れぞれ5つのヒューズ部を有する。グループのうちの一
つは、メモリマクロRAM1およびRAM2に共通に設
けられ、BSL1端子ないしBSL5端子はメモリマク
ロRAM1及びRAM2に結合される。グループのうち
の他の一つは、メモリマクロRAM6に対応して設けら
れ、BSL6端子ないしBSL10端子は、メモリマク
ロRAM6に結合されている。
FIG. 19 is an embodiment of the detailed circuit block diagram of FIG. In this embodiment, the redundant fuse circuit FUS is used.
Is a first fuse circuit including two fuse parts and 10
It has the 2nd fuse circuit which has individual fuse parts. The first fuse circuit has an RSL1 terminal and an RSL6 terminal, and the second fuse circuit has a BSL1 terminal to a BSL1 terminal.
It has 10 terminals. Each of the memory macros RAM1, RAM2, and RAM6 includes eight memory blocks, and each memory block has a maximum of 32 memory arrays and one redundant memory array. One of the two fuse parts of the first fuse circuit is
Each of the other fuse units is provided in common to the memory macros RAM1 and RAM2, and the other fuse unit is the memory macro RA.
It is provided corresponding to M6. The RSL1 terminal is coupled to the memory macro RAM1 and RAM2, and is connected to the RSL6.
The terminal is coupled to the memory macro RAM 6. Second
The fuse circuit is divided into two groups, each having five fuse parts. One of the groups is commonly provided to the memory macros RAM1 and RAM2, and the BSL1 terminal to the BSL5 terminal are coupled to the memory macros RAM1 and RAM2. The other one of the groups is provided corresponding to the memory macro RAM 6, and the BSL6 terminal to the BSL10 terminal are coupled to the memory macro RAM 6.

【0041】図20は、図2の詳細回路ブロック図の一
実施例である。本実施例では冗長ヒューズ回路FUS
は、2つのヒューズ部を含む第1ヒューズ回路と、5個
のヒューズ部を有する第2ヒューズ回路を有する。第1
ヒューズ回路は、RSL1端子およびRSL2端子を有
し、第2ヒューズ部は、BSL1端子ないしBSL5端
子を有する。メモリマクロRAM1ないしRAM4のそ
れぞれは、8つのメモリブロックを含み、各メモリブロ
ックはそれぞれ最大32個のメモリアレイと一つの冗長
メモリアレイとを有する。第1ヒューズ回路の2つのヒ
ューズ部のうち1つのヒューズ部は、それぞれメモリマ
クロRAM1およびRAM2に共通に設けられ、他の1
つのヒューズ部は、メモリマクロRAM3およびRAM
4に対応して共通に設けられている。RSL1端子は、
メモリマクロRAM1およびRAM2に結合され、RS
L3端子は、メモリマクロRAM3およびRAM4に結
合されている。第2ヒューズ回路は、メモリマクロRA
M1ないしRAM4に共通に設けられ、BSL1端子な
いしBSL5端子はメモリマクロRAM1ないしRAM
4に結合されている。
FIG. 20 is an embodiment of the detailed circuit block diagram of FIG. In this embodiment, the redundant fuse circuit FUS is used.
Has a first fuse circuit including two fuse parts and a second fuse circuit including five fuse parts. First
The fuse circuit has an RSL1 terminal and an RSL2 terminal, and the second fuse section has a BSL1 terminal to a BSL5 terminal. Each of the memory macros RAM1 to RAM4 includes eight memory blocks, and each memory block has a maximum of 32 memory arrays and one redundant memory array. One of the two fuse parts of the first fuse circuit is provided commonly to the memory macros RAM1 and RAM2, and the other fuse part is provided.
One fuse part is a memory macro RAM3 and a RAM
4 are commonly provided. The RSL1 terminal is
RS connected to the memory macros RAM1 and RAM2
The L3 terminal is coupled to the memory macro RAM3 and RAM4. The second fuse circuit is a memory macro RA
The terminals BSL1 to BSL5 are commonly provided for the M1 to RAM4 and the memory macros RAM1 to RAM are used.
Connected to four.

【0042】図21は、メモリマクロを含む半導体記憶
回路装置のチップ概略ブロック図の一実施例である。図
2と本図の相違点は、冗長ヒューズ回路FUSが2か所
に分離して配置され、それぞれ実質的にチップの角部に
形成されていることである。冗長ヒューズ回路は、メモ
リマクロRAM1〜6および内部論理領域LOGと離れ
て配置される。これにより、冗長ヒューズ回路に含まれ
るヒューズ部に対しレーザー構成を照射して配線を電気
的に非接続状態にする際、メモリマクロRAM1〜6お
よび内部論理領域LOGを損傷させることなく確実にそ
の作業を行なうことが可能とされる。また、冗長ヒュー
ズ回路FUSとメモリマクロに含まれる切り換え信号発
生回路と接続するための信号配線の数が少なくて済む。
これにより、信号配線の面積を削減することが可能とさ
れる。
FIG. 21 is an embodiment of a schematic chip block diagram of a semiconductor memory circuit device including a memory macro. The difference between FIG. 2 and this figure is that the redundant fuse circuits FUS are separately arranged at two locations, and each is formed substantially at a corner of the chip. The redundant fuse circuit is arranged apart from the memory macro RAMs 1 to 6 and the internal logic area LOG. Thus, when the fuse portion included in the redundant fuse circuit is irradiated with the laser configuration to electrically disconnect the wiring, the work is reliably performed without damaging the memory macro RAMs 1 to 6 and the internal logic area LOG. Is possible. Further, the number of signal wirings for connecting the redundant fuse circuit FUS and the switching signal generation circuit included in the memory macro can be reduced.
As a result, the area of the signal wiring can be reduced.

【0043】図22は、メモリマクロを含む半導体記憶
回路装置のチップ概略ブロック図の一実施例である。図
2と本図の相違点は、冗長ヒューズ回路が2か所に分離
して配置され、それぞれ実質的に入出力回路よりチップ
中央寄りであり、且つチップの角部に形成されているこ
とである。
FIG. 22 is an embodiment of a schematic chip block diagram of a semiconductor memory circuit device including a memory macro. The difference between FIG. 2 and this figure is that the redundant fuse circuits are separately arranged at two places, and each is substantially closer to the center of the chip than the input / output circuit and is formed at a corner of the chip. is there.

【0044】図23は、図3の第1および第2ヒューズ
回路に含まれる回路の変形例である。同図は、第1電源
電圧Vccにその一端が接続されたヒューズ部(ヒュー
ズ素子)と、ヒューズ部の他端に結合された入力と、R
SL端子(又はBSL端子)に結合された出力とを有す
るインバータ回路INV12と、その一端がインバータ
回路の入力に結合されたソースドレイン経路と、インバ
ータ回路INV12の出力に結合されたゲートとを有す
るNMOSトランジスタQN16と、NMOSトランジ
スタQN16のソースドレイン経路の他端と第2電源電
圧GNDとの間に結合されたソースドレイン経路とスタ
ンバイテスト制御信号SIDSを受けるゲートとを有す
るNMOSトランジスタQN15とによって構成され
る。これにより、スタンバイ電流テスト時にスタンバイ
テスト制御信号SIDSを”L”レベルとすることによ
り、NMOSトランジスタQN15を非導通状態とし、
NMOSトランジスタQN16のソースードレイン経路
と第2電源電圧とを電気的に切断する事が可能とされ
る。これにより、スタンバイテスト時に第1および第2
ヒューズ回路のリーク電流を遮断することができる。
FIG. 23 shows a modification of the circuits included in the first and second fuse circuits of FIG. In the figure, a fuse portion (fuse element) having one end connected to the first power supply voltage Vcc, an input coupled to the other end of the fuse portion, and R
An NMOS having an inverter circuit INV12 having an output coupled to the SL terminal (or BSL terminal), a source drain path having one end coupled to the input of the inverter circuit, and a gate coupled to the output of the inverter circuit INV12. A transistor QN16 and an NMOS transistor QN15 having a source / drain path coupled between the other end of the source / drain path of the NMOS transistor QN16 and the second power supply voltage GND and a gate receiving the standby test control signal SIDS. . As a result, by setting the standby test control signal SIDS to the “L” level during the standby current test, the NMOS transistor QN15 is made non-conductive,
The source-drain path of the NMOS transistor QN16 and the second power supply voltage can be electrically disconnected. This makes it possible to perform the first and second standby tests.
It is possible to cut off the leak current of the fuse circuit.

【0045】図24は、図3の第1及び第2ヒューズ回
路の変形例である。図3との違いは、信号φSIDSを
受けるゲートを有するNMOSトランジスタQN18が
付加されていることである。ヒューズ部F8の切断処理
を実行した後、信号φSIDSの様なパルス信号を印加
する。ヒューズ部F8が完全に切断されている場合、N
MOSトランジスタQN18によって、インバータの入
力はグランド電位とされる。しかしながら、ヒューズ部
F8が完全に切断されていない場合、信号φSIDSの
様なパルス信号を印加した際に、電源電位Vccとグラ
ンド端子GNDとの間にNMOSトランジスタQN18
を介して電流が流れる。この電流を測定することによっ
て、ヒューズ部F8が完全に切断されているか否かを確
認することが出来る。
FIG. 24 shows a modification of the first and second fuse circuits of FIG. The difference from FIG. 3 is that an NMOS transistor QN18 having a gate for receiving the signal φSIDS is added. After cutting the fuse portion F8, a pulse signal such as the signal φSIDS is applied. If the fuse part F8 is completely cut, N
The input of the inverter is set to the ground potential by the MOS transistor QN18. However, when the fuse portion F8 is not completely cut off, when a pulse signal such as the signal φSIDS is applied, the NMOS transistor QN18 is provided between the power supply potential Vcc and the ground terminal GND.
Current flows through. By measuring this current, it is possible to confirm whether or not the fuse portion F8 is completely cut.

【0046】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、個の発明は、上記実
施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない
範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。例え
ば、図1の半導体集積回路装置は、スピーチパスメモリ
およびコントロールメモリを含むとしたがこれに限定さ
れるものではない。図4において、メモリマクロ含まれ
るメモリブロックの数は限定されない。メモリブロック
の入出力データの数は、実施例による制約を受けない。
図6において、メモリセルは、CMOS型のスタティッ
ク型であるが高誘電体負荷型のスタティック型であって
も良い。更に、メモリセルは、ダイナミック型であって
も良いし、FRAM(Ferromagnetc Random Access Mem
ory)およびその他のメモリセル構成であっても良い。
また、図6において、16本のデータ線対が1対のコモ
ンデータ線対に共通に結合される旨記載されているが、
これに限定されず、一対のコモンデータ線に結合される
データ線対の数は、いくつでも良い。図11において、
切り換え信号発生回路の構成は、個の実施例に限定され
ず、例えば、第2デコーダは、BSL1信号、BSL2
信号、BSL3信号およびRSL信号を受け、9つの第
2デコード信号を出力するような構成であっても良い。
また、データ記憶回路に含まれる単位記憶回路の数は限
定されず、単位記憶回路に保持しておくデータのパター
ンも任意である。図13において、ラッチ回路を含まな
くても良い。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say. For example, the semiconductor integrated circuit device of FIG. 1 includes the speech path memory and the control memory, but the invention is not limited to this. In FIG. 4, the number of memory blocks included in the memory macro is not limited. The number of input / output data of the memory block is not limited by the embodiment.
In FIG. 6, the memory cell is a CMOS type static type, but may be a high dielectric load type static type. Furthermore, the memory cell may be of a dynamic type, or may be a FRAM (Ferromagnetc Random Access Mem).
ory) and other memory cell configurations.
Further, although it is described in FIG. 6 that 16 data line pairs are commonly coupled to one common data line pair,
The number of data line pairs coupled to the pair of common data lines is not limited to this and may be any number. In FIG.
The configuration of the switching signal generation circuit is not limited to this embodiment, and for example, the second decoder may include the BSL1 signal and BSL2 signal.
The configuration may be such that it receives the signal, the BSL3 signal, and the RSL signal, and outputs nine second decoded signals.
Further, the number of unit storage circuits included in the data storage circuit is not limited, and the pattern of data held in the unit storage circuit is arbitrary. In FIG. 13, the latch circuit may not be included.

【0047】以上の説明では、主として本発明によって
なされた発明を疎の背景となった利用文やである時分割
ディジタルスイッチ集積回路に内蔵されるスピーチパス
メモリ等として用いられるスタティック型RAMに適用
した場合について説明したが、それに限定されるもので
はなく、例えば、スタティックRAMとして単体で形成
されるものやゲートアレイ集積回路装置として形成され
るものにも適用できる。
In the above description, the invention made mainly by the present invention is applied to a static RAM used as a speech path memory or the like incorporated in a time-division digital switch integrated circuit, which is a usage statement which is a background of sparseness. Although the case has been described, the present invention is not limited thereto, and the present invention can be applied to, for example, a static RAM alone or a gate array integrated circuit device.

【0048】[0048]

【発明の効果】データ線とワード線とメモリセルを含む
メモリアレイと、メモリアレイのうちで欠陥を有するメ
モリアレイを指示するための欠陥情報を保持するための
手段と、欠陥情報に基づいて切り換え信号を出力するた
めの切り換え信号発生回路と、メモリアレイのうちの隣
合う2つのメモリアレイに対応してそれぞれ設けられ切
り換え信号に従って隣合う2つのメモリアレイのうちの
一方に電気的に結合される選択回路によって半導体記憶
回路装置を構成する。欠陥情報は複数の2値情報とさ
れ、切り換え信号の数は2値情報の数より大きいものと
される。使用しないメモリアレイ又は使用しないメモリ
アレイに対応して設けられたセンスアンプに対する第1
或いは第2電源電圧の供給が停止される。欠陥情報を保
持するための手段は、レーザ光線を照射する事等によ
り、物理的に加工することによって特定の情報を保持す
るヒューズ素子を含み、切り換え信号発生回路は、RO
M(ReadOnly Memory)を含む。これにより、フューズ
素子の本数を減らすことが可能とされるとともに、切り
換え信号発生回路とヒューズ素子の占有面積の総和を低
減することが可能とされる。更に、使用しないメモリア
レイおよびセンスアンプの低消費電力化を図ることが可
能とされる。これらの結果、冗長機能を有する半導体集
積回路装置の面積の増大を防ぎ低消費電力化が実現でき
ると共に、これらの半導体記憶回路装置を搭載した装置
(例えば時分割ディジタル交換機)の大容量化、低消費
電力化、低価格化および高信頼度化を推進できる。
According to the present invention, a memory array including data lines, word lines and memory cells, means for holding defect information for indicating a defective memory array among the memory arrays, and switching based on the defect information. A switching signal generating circuit for outputting a signal, and a switching signal generating circuit provided corresponding to two adjacent memory arrays of the memory arrays and electrically coupled to one of the two adjacent memory arrays according to the switching signal. A semiconductor memory circuit device is configured by the selection circuit. The defect information is a plurality of binary information, and the number of switching signals is larger than the number of binary information. First to sense amplifier provided corresponding to unused memory array or unused memory array
Alternatively, the supply of the second power supply voltage is stopped. The means for holding the defect information includes a fuse element for holding specific information by physically processing it by irradiating a laser beam or the like, and the switching signal generating circuit is a RO
Includes M (Read Only Memory). As a result, the number of fuse elements can be reduced, and the total area occupied by the switching signal generation circuit and the fuse elements can be reduced. Further, it is possible to reduce the power consumption of the unused memory array and sense amplifier. As a result, it is possible to prevent an increase in the area of a semiconductor integrated circuit device having a redundant function and to realize low power consumption, and also to increase the capacity and the capacity of a device (for example, a time division digital exchange) equipped with these semiconductor memory circuit devices. It is possible to promote power consumption, price reduction, and high reliability.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1は、この発明が適用されたディジタルスイ
ッチ集積回路の一実施例のチップ概略ブロック図であ
る。
FIG. 1 is a schematic block diagram of a chip of an embodiment of a digital switch integrated circuit to which the present invention is applied.

【図2】図2には、この発明が適用されたディジタルス
イッチ集積回路の別の実施例のチップ概略ブロック図で
ある。
FIG. 2 is a chip schematic block diagram of another embodiment of a digital switch integrated circuit to which the present invention is applied.

【図3】図3は、冗長フューズ回路の一実施例である。FIG. 3 is an example of a redundant fuse circuit.

【図4】図4は、図1の半導体集積回路装置に含まれる
メモリマクロRAM1の詳細な構成図である。
FIG. 4 is a detailed configuration diagram of a memory macro RAM1 included in the semiconductor integrated circuit device of FIG.

【図5】図5は、図1の半導体集積回路装置に含まれる
メモリマクロRAM1及び図4のメモリブロックの詳細
な構成図である。
5 is a detailed configuration diagram of a memory macro RAM 1 included in the semiconductor integrated circuit device of FIG. 1 and a memory block of FIG. 4;

【図6】図6は、図5のメモリアレイMEMORY−A
RRAY1の詳細回路図である。
FIG. 6 is a diagram of the memory array MEMORY-A of FIG. 5;
It is a detailed circuit diagram of RRAY1.

【図7】図7は、図5のメモリブロックBLK1の入力
データ及び出力データの伝送経路を説明するためのブロ
ック回路図である。
7 is a block circuit diagram for explaining a transmission path of input data and output data of the memory block BLK1 of FIG.

【図8】図8は、図7のメモリブロックのメモリアレイ
に対する欠陥救済の方式の説明図である。
8 is an explanatory diagram of a defect relief system for the memory array of the memory block of FIG. 7;

【図9】図9は、図7のメモリブロックのメモリアレイ
に対する欠陥救済の方式の説明図である。
9 is an explanatory diagram of a defect relief system for the memory array of the memory block of FIG. 7;

【図10】図10は、図7のメモリブロックのメモリア
レイに対する欠陥救済の方式の説明図である。
10 is an explanatory diagram of a defect relief system for the memory array of the memory block of FIG. 7;

【図11】図11は、図5の切り換え信号発生回路GE
Nの具体構成図である。
11 is a switching signal generation circuit GE of FIG.
It is a concrete block diagram of N.

【図12】図12は、図11の単位記憶回路群Mem1
の詳細回路図である。
12 is a unit memory circuit group Mem1 of FIG.
3 is a detailed circuit diagram of FIG.

【図13】図13は、図5のメモリブロック1の詳細回
路ブロック図である。
FIG. 13 is a detailed circuit block diagram of the memory block 1 of FIG.

【図14】図14は、図13のメモリアレイMEMOR
Y−ARRAY1の具体回路図の一例である。
FIG. 14 is a diagram of the memory array MEMOR of FIG. 13;
It is an example of a specific circuit diagram of Y-ARRAY1.

【図15】図15は、図13のメモリアレイMEMOR
Y−ARRAY1の具体回路図の一例である。
FIG. 15 is a diagram of the memory array MEMOR of FIG. 13;
It is an example of a specific circuit diagram of Y-ARRAY1.

【図16】図16は、図2の詳細回路ブロック図の一実
施例である。
16 is an example of a detailed circuit block diagram of FIG. 2;

【図17】図17は、図2の詳細回路ブロック図の一実
施例である。
17 is an example of a detailed circuit block diagram of FIG. 2. FIG.

【図18】図18は、図2の詳細回路ブロック図の一例
である。
FIG. 18 is an example of a detailed circuit block diagram of FIG. 2.

【図19】図19は、図2の詳細回路ブロック図の一実
施例である。
19 is an example of a detailed circuit block diagram of FIG. 2;

【図20】図20は、図2の詳細回路ブロック図の一実
施例である。
20 is an example of a detailed circuit block diagram of FIG. 2. FIG.

【図21】図21は、メモリマクロを含む半導体記憶回
路装置のチップ概略ブロック図の一実施例である。
FIG. 21 is an embodiment of a schematic block diagram of a chip of a semiconductor memory circuit device including a memory macro.

【図22】図22は、メモリマクロを含む半導体記憶回
路装置のチップ概略ブロック図の一実施例である。
FIG. 22 is an example of a schematic chip block diagram of a semiconductor memory circuit device including a memory macro.

【図23】図23は、図3の第1および第2ヒューズ回
路に含まれる回路の変形例である。
FIG. 23 is a modification example of a circuit included in the first and second fuse circuits of FIG. 3.

【図24】図24は、図3の第1及び第2ヒューズ回路
に含まれる回路の変形例である。
FIG. 24 is a modification example of the circuit included in the first and second fuse circuits of FIG. 3.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

I/O BUS:入出力バッファ CHP1:チップ PAD:ボンディングパッド LOG:内部論理領域 FUS:冗長ヒューズ回路 RAM1〜8:メモリマクロ F1〜F4:ヒューズ部(ヒューズ素子) INV1〜INV4,7〜12:インバータ回路 N1〜N4,QN1〜QN4,QN7〜QN16:NM
OSトランジスタ P1〜P4,QP1〜QP8:PMOSトランジスタ BLK1〜BLK8:メモリブロック GEN:切り換え信号発生回路 CONT:制御回路 DEC:デコーダ回路 DEC2:第2デコーダ回路 SEL111〜SEL828:選択回路 SA11〜89:センスアンプ WA:ライトアンプ MC,MC1〜MC4:メモリセル SW1,SW2:スイッチ素子 MEM:データ記憶回路 Mem1〜Mem8:単位記憶回路群 RSC:リセット回路 AND1〜AND8:アンドゲート回路 Unit Mem:単位データ記憶回路 LATCH11〜19:ラッチ回路 BUF1〜9:バッファ回路 ENOR1〜7:エクスクルーシブノアゲート回路
I / O BUS: Input / output buffer CHP1: Chip PAD: Bonding pad LOG: Internal logic area FUS: Redundant fuse circuit RAM1-8: Memory macro F1-F4: Fuse part (fuse element) INV1-INV4, 7-12: Inverter Circuit N1 to N4, QN1 to QN4, QN7 to QN16: NM
OS transistors P1 to P4, QP1 to QP8: PMOS transistors BLK1 to BLK8: Memory block GEN: Switching signal generation circuit CONT: Control circuit DEC: Decoder circuit DEC2: Second decoder circuit SEL111 to SEL828: Selection circuit SA11 to 89: Sense amplifier WA: Write amplifier MC, MC1 to MC4: Memory cells SW1 and SW2: Switch element MEM: Data storage circuit Mem1 to Mem8: Unit storage circuit group RSC: Reset circuit AND1 to AND8: AND gate circuit Unit Mem: Unit data storage circuit LATCH11 -19: Latch circuit BUF1-9: Buffer circuit ENOR1-7: Exclusive NOR gate circuit

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐藤 陽一 東京都小平市上水本町5丁目20番1号 日 立超エル・エス・アイ・エンジニアリング 株式会社内 (72)発明者 下野 完 東京都小平市上水本町5丁目20番1号 日 立超エル・エス・アイ・エンジニアリング 株式会社内 (72)発明者 長谷川 政己 東京都小平市上水本町5丁目20番1号 日 立超エル・エス・アイ・エンジニアリング 株式会社内 (72)発明者 飯岡 義雄 東京都小平市上水本町5丁目20番1号 日 立超エル・エス・アイ・エンジニアリング 株式会社内 (72)発明者 小林 久昭 東京都小平市上水本町5丁目20番1号 日 立超エル・エス・アイ・エンジニアリング 株式会社内 (72)発明者 布川 正義 東京都小平市上水本町5丁目20番1号 日 立超エル・エス・アイ・エンジニアリング 株式会社内 (72)発明者 水上 雅雄 東京都青梅市今井2326番地 株式会社日立 製作所デバイス開発センタ内 (72)発明者 栗田 公三郎 東京都青梅市今井2326番地 株式会社日立 製作所デバイス開発センタ内 (72)発明者 川島 正敏 東京都青梅市今井2326番地 株式会社日立 製作所デバイス開発センタ内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Yoichi Sato 5-20-1 Kamimizuhoncho, Kodaira-shi, Tokyo Inside Hiritsu Cho-LS Engineering Co., Ltd. (72) Inventor Kan Shimono, Kodaira, Tokyo 5-20-1 Jitsumizu Honcho, Ichi, Japan, within Hitate Super L.S.I. Engineering Co., Ltd. (72) Inventor Masami Hasegawa 5-20-1, Kamimizuhoncho, Kodaira, Tokyo Metropolitan Government I Engineering Co., Ltd. (72) Inventor Yoshio Iioka 5-201-1, Kamimizuhonmachi, Kodaira-shi, Tokyo Hirate Super LSI Engineering Co., Ltd. (72) Inventor Hisashi Kobayashi Kodaira, Tokyo 5-20-1 Jousuihonmachi Hitate Cho El SII Engineering Co., Ltd. (72) Inventor Nunokawa Right 5-20-1 Kamimizuhonmachi, Kodaira-shi, Tokyo Within Hitate Cho-LS Engineering Co., Ltd. (72) Inventor Masao Mizukami 2326 Imai, Ome-shi, Tokyo Hitachi Device Development Center ( 72) Inventor Kozaburo Kurita 2326 Imai, Hitachi, Ltd., Ome, Tokyo Metropolitan area Device development center, Hitachi, Ltd. (72) Masatoshi Kawashima 2326, Imai, Ome city, Tokyo, Hitachi Ltd. Device development center, Hitachi, Ltd.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】一つのデータ線と、複数のワード線と、そ
のそれぞれが上記1つのデータ線と上記複数のワード線
のうちの対応する一つに結合された複数のメモリセルと
をそれぞれ含む複数のメモリアレイと、 上記複数のメモリアレイのうちで欠陥を有するメモリア
レイを指示するための欠陥情報を保持するための手段
と、 上記欠陥情報を受け、上記欠陥情報に基づいて複数の切
り換え信号を出力するための切り換え信号発生回路と、 上記複数のメモリアレイのうちの隣合う2つのメモリア
レイに対応してそれぞれ設けられ、上記複数の切り換え
信号のうちの少なくとも一つに従って対応する隣合う2
つのメモリアレイのうちの一方に電気的に結合される複
数の選択回路とを有する1つの半導体基板上に形成され
た半導体記憶回路装置であって、 上記欠陥情報は複数の2値情報とされ、 上記複数の切り換え信号の数は、上記複数の2値情報の
数より大きいことを特徴とする半導体記憶回路装置。
1. A data line, a plurality of word lines, and a plurality of memory cells, each of which is coupled to the one data line and a corresponding one of the plurality of word lines. A plurality of memory arrays, a means for holding defect information for designating a memory array having a defect among the plurality of memory arrays, a plurality of switching signals receiving the defect information, and based on the defect information And a switching signal generating circuit for outputting the two adjacent memory arrays of the plurality of memory arrays, and adjacent two corresponding memory cells according to at least one of the plurality of switching signals.
A semiconductor memory circuit device formed on one semiconductor substrate having a plurality of selection circuits electrically coupled to one of two memory arrays, wherein the defect information is a plurality of binary information. A semiconductor memory circuit device, wherein the number of the plurality of switching signals is larger than the number of the plurality of binary information.
【請求項2】特許請求範囲第1項において、上記複数の
メモリアレイに含まれる上記複数のメモリセルはスタテ
ィック型であり、第1電源電圧と上記第1電源電圧より
小さい第2電源電圧が供給され、 上記複数のメモリアレイのうちの少なくとも一つに含ま
れる上記複数のメモリセルは、上記複数の切り換え信号
のうちの少なくとも一つに従って上記第1電源電圧と上
記第2電源電圧のうちの少なくとも一つから切り離され
る事を特徴とする半導体記憶回路装置。
2. The memory cells according to claim 1, wherein the plurality of memory cells included in the plurality of memory arrays are of a static type, and supplied with a first power supply voltage and a second power supply voltage smaller than the first power supply voltage. The plurality of memory cells included in at least one of the plurality of memory arrays include at least one of the first power supply voltage and the second power supply voltage according to at least one of the plurality of switching signals. A semiconductor memory circuit device characterized by being separated from one.
【請求項3】特許請求の範囲第1項において、上記切り
換え信号発生回路は、上記欠陥情報を受け複数のデコー
ド信号を出力するためのデコード回路と、上記複数のデ
コード信号を受け上記複数の切り換え信号を出力するた
めのデータ記憶回路とを含み、 上記データ記憶回路は、上記複数のデコード信号のそれ
ぞれに対応して設けられた複数のデータ記憶群を含み、 上記データ記憶群のそれぞれは、上記複数のデコード信
号のうちの対応する一つに従って、そのそれぞれに記憶
されたデータを出力するための複数の単位データ記憶回
路と、上記複数の切り換え信号を伝送するための複数の
切り換え信号線を含み、上記単位データ記憶回路のそれ
ぞれは、第1電圧と上記複数の切り換え信号線のうちの
対応する1つの間に結合されたソースドレイン経路と上
記複数のデコード信号のうちの対応する一つに基づいた
信号を受けるためのゲートとを有するPチャネルMOS
FETと上記第1電圧よりも小さい第2電圧と上記複数
の切り換え信号線のうちの対応する一つの間に結合され
たソースドレイン経路と上記複数のデコード信号のうち
の対応する一つに基づいた信号を受けるためのゲートと
を有するNチャネルMOSFETとを含む事を特徴とす
る半導体記憶回路装置。
3. The switching signal generating circuit according to claim 1, wherein the switching signal generating circuit receives the defect information and outputs a plurality of decoding signals, and the switching circuits receive the plurality of decoding signals. A data storage circuit for outputting a signal, wherein the data storage circuit includes a plurality of data storage groups provided corresponding to the plurality of decoded signals, and each of the data storage groups is A plurality of unit data storage circuits for outputting the data stored in each of the plurality of decode signals, and a plurality of switching signal lines for transmitting the plurality of switching signals. , Each of the unit data storage circuits has a source voltage coupled between a first voltage and a corresponding one of the plurality of switching signal lines. P-channel MOS having a gate for receiving a signal based on the corresponding one of the in-path and the plurality of decoded signals
A source drain path coupled between the FET, a second voltage less than the first voltage and a corresponding one of the plurality of switching signal lines, and a corresponding one of the plurality of decoded signals. A semiconductor memory circuit device comprising: an N-channel MOSFET having a gate for receiving a signal.
【請求項4】一つのデータ線と、複数のワード線と、そ
のそれぞれが上記1つのデータ線と上記複数のワード線
のうちの対応する一つに結合された複数のメモリセルと
をそれぞれ含む複数のメモリアレイと、 上記複数のメモリアレイのうちで欠陥を有するメモリア
レイを指示するための欠陥情報を保持するための手段
と、 上記欠陥情報を受け、上記欠陥情報に基づいて複数の切
り換え信号を出力するための切り換え信号発生回路と、 上記複数のメモリアレイのうちの隣合う2つのメモリア
レイに対応してそれぞれ設けられ、上記複数のメモリア
レイのうちの隣合う2つのメモリアレイからの読み出し
信号をそれぞれ受ける為の2つの入力端子と、上記複数
の切り換え信号のうちの少なくとも一つに従って上記2
つの入力端子に入力された上記読み出し信号のうちの一
方に基づいた信号を出力するための出力端子とを有する
複数の選択回路とを有する1つの半導体基板上に形成さ
れた半導体記憶回路装置であって、 上記欠陥情報は複数の2値情報とされ、 上記複数の切り換え信号の数は、上記複数の2値情報の
数より大きいことを特徴とする半導体記憶回路装置。
4. A data line, a plurality of word lines, and a plurality of memory cells, each of which is coupled to the one data line and a corresponding one of the plurality of word lines. A plurality of memory arrays, a means for holding defect information for designating a memory array having a defect among the plurality of memory arrays, a plurality of switching signals receiving the defect information, and based on the defect information And a switching signal generation circuit for outputting the two, and read from two adjacent memory arrays of the plurality of memory arrays, which are respectively provided corresponding to the two adjacent memory arrays of the plurality of memory arrays. Two input terminals for receiving signals, respectively, and the above two according to at least one of the plurality of switching signals.
A semiconductor memory circuit device formed on one semiconductor substrate having a plurality of selection circuits each having an output terminal for outputting a signal based on one of the read signals input to one input terminal. The defect information is a plurality of binary information, and the number of the plurality of switching signals is larger than the number of the plurality of binary information.
【請求項5】一つのデータ線と、複数のワード線と、そ
のそれぞれが上記1つのデータ線と上記複数のワード線
のうちの対応する一つに結合された複数のメモリセルと
を含む複数のメモリアレイと、 上記複数のメモリアレイに対応してそれぞれ設けられ、
対応するメモリアレイに含まれる上記複数のメモリセル
のうちの一つから読み出された信号に基づいた信号を出
力するための出力端子を含む複数のセンスアンプと、 上記複数のメモリアレイのうちで欠陥を有するメモリア
レイを指示するための欠陥情報を保持するための手段
と、 上記欠陥情報を受け、上記欠陥情報に基づいて複数の切
り換え信号を出力するための切り換え信号発生回路と、 上記複数のセンスアンプのうちの隣合う2つのセンスア
ンプに対応してそれぞれ設けられ、上記複数のセンスア
ンプのうちの隣合う2つのセンスアンプの出力端子にそ
れぞれ結合された2つの入力端子と、上記複数の切り換
え信号のうちの少なくとも一つに従って上記2つの入力
端子に入力された信号のうちの一方に基づいた信号を出
力するための出力端子とを有する複数の選択回路とを有
する1つの半導体基板上に形成された半導体記憶回路装
置であって、 上記欠陥情報は複数の2値情報とされ、 上記複数の切り換え信号の数は、上記複数の2値情報の
数より大きいことを特徴とする半導体記憶回路装置。
5. A plurality of data lines, a plurality of word lines, and a plurality of memory cells, each of which is coupled to the one data line and a corresponding one of the plurality of word lines. And a memory array of, respectively provided corresponding to the plurality of memory arrays,
A plurality of sense amplifiers including an output terminal for outputting a signal based on a signal read from one of the plurality of memory cells included in the corresponding memory array; Means for holding defect information for indicating a defective memory array; a switching signal generation circuit for receiving the defect information and outputting a plurality of switching signals based on the defect information; Two input terminals that are respectively provided corresponding to two adjacent sense amplifiers of the sense amplifiers and that are respectively coupled to output terminals of two adjacent sense amplifiers of the plurality of sense amplifiers; An output for outputting a signal based on one of the signals input to the two input terminals according to at least one of the switching signals. A semiconductor memory circuit device formed on one semiconductor substrate having a plurality of selection circuits having terminals, wherein the defect information is a plurality of binary information, and the number of the plurality of switching signals is A semiconductor memory circuit device characterized by being larger than the number of a plurality of binary information.
【請求項6】特許請求の範囲第3項において、上記複数
のセンスアンプは、第1電源電圧と上記第1電源電圧よ
り小さい第2電源電圧が供給されるように結合され、 上記複数のセンスアンプのうちの少なくとも一つは、上
記複数の切り換え信号のうちの少なくとも一つに従っ
て、上記第1電源電圧と上記第2電源電圧のうちの少な
くとも一つから切り離される事を特徴とする半導体記憶
回路装置。
6. The plurality of sense amplifiers according to claim 3, wherein the plurality of sense amplifiers are coupled so that a first power supply voltage and a second power supply voltage smaller than the first power supply voltage are supplied. At least one of the amplifiers is disconnected from at least one of the first power supply voltage and the second power supply voltage according to at least one of the plurality of switching signals. apparatus.
【請求項7】一つのデータ線と、複数のワード線と、そ
のそれぞれが上記1つのデータ線と上記複数のワード線
のうちの対応する一つに結合された複数のメモリセルと
をそれぞれ含む複数のメモリアレイと、 上記複数のメモリアレイのうちで欠陥を有するメモリア
レイを指示するための欠陥情報を保持するための手段
と、 上記欠陥情報を受け、上記欠陥情報に基づいて、複数の
切り換え信号を出力するための切り換え信号発生回路
と、 上記複数のメモリアレイのうちの隣合う2つのメモリア
レイに対応してそれぞれ設けられ、上記複数のメモリア
レイのうちの隣合う2つのメモリアレイからの読み出し
信号をそれぞれ受ける為の2つの入力端子と、上記複数
の切り換え信号のうちの少なくとも一つに従って上記2
つの入力端子に入力された上記読み出し信号のうちの一
方に基づいた信号を出力するための出力端子とを有する
複数の第1選択回路と、 上記複数のメモリアレイのうちの隣合う2つのメモリア
レイに対応してそれぞれ設けられ、複数の書き込み信号
のうちの一つをそれぞれ受ける為の入力端子と、上記複
数の切り換え信号のうちの少なくとも一つに従って、上
記入力端子に入力された上記書き込み信号に基づいた信
号を対応する2つのメモリアレイのうちの一方に出力す
るための出力端子とを有する複数の第2選択回路とを有
する1つの半導体基板上に形成された半導体記憶回路装
置であって、 上記欠陥情報は複数の2値情報とされ、 上記複数の切り換え信号の数は、上記複数の2値情報の
数より大きいことを特徴とする半導体記憶回路装置。
7. A data line, a plurality of word lines, and a plurality of memory cells, each of which is coupled to the one data line and a corresponding one of the plurality of word lines. A plurality of memory arrays; a means for holding defect information for indicating a defective memory array among the plurality of memory arrays; and a plurality of switching units that receive the defect information and, based on the defect information, A switching signal generating circuit for outputting a signal, and a switching signal generating circuit provided respectively corresponding to two adjacent memory arrays of the plurality of memory arrays. Two input terminals for receiving read signals respectively, and two input terminals according to at least one of the plurality of switching signals.
A plurality of first selection circuits each having an output terminal for outputting a signal based on one of the read signals input to one input terminal, and two adjacent memory arrays of the plurality of memory arrays In accordance with at least one of the plurality of switching signals and an input terminal for receiving one of the plurality of write signals, respectively, in response to the write signal input to the input terminal. A semiconductor memory circuit device formed on one semiconductor substrate having a plurality of second selection circuits each having an output terminal for outputting a signal based on the one of two corresponding memory arrays, The defect information is a plurality of binary information, and the number of the plurality of switching signals is larger than the number of the plurality of binary information. .
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6219286B1 (en) 1999-06-04 2001-04-17 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Semiconductor memory having reduced time for writing defective information
KR100347354B1 (en) * 1996-04-11 2002-10-25 오끼 덴끼 고오교 가부시끼가이샤 Terminal Mapping Devices and Memory Modules
JP2007287223A (en) * 2006-04-14 2007-11-01 Phison Electronics Corp Flash memory and its usage

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