JPH08504775A - 新規ビタミンd類似体 - Google Patents

新規ビタミンd類似体

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JPH08504775A JP6514697A JP51469793A JPH08504775A JP H08504775 A JPH08504775 A JP H08504775A JP 6514697 A JP6514697 A JP 6514697A JP 51469793 A JP51469793 A JP 51469793A JP H08504775 A JPH08504775 A JP H08504775A
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Abstract

(57)【要約】 本発明は、式I [式中、Yはイオウ、S(O)またはS(O)2であり;RはC1−C3アルキルである

Description

【発明の詳細な説明】 新規ビタミンD類似体 本発明は、抗炎症作用および免疫調節作用を示し、癌細胞および皮膚細胞を含 むある種の細胞の分化の誘導および望ましくない増殖の抑制において強い活性を 示す未知の種類の化合物、該化合物を含有する薬剤製剤、該製剤の用量単位、並 びにそれらの用途であって、上皮小体機能亢進症(特に、腎不全に伴う続発性の 上皮小体機能亢進症)、多数の病態(例えば真性糖尿病、高血圧症、アクネ、脱 毛症、皮膚の老化、免疫系の平衡失調)、炎症性疾患(例えばリューマチ様関節 炎および喘息)、および異常な細胞分化および/または細胞増殖により特徴付け られる疾病(例えば乾癬および癌)の治療および予防、ステロイド誘導性皮膚萎 縮の予防および/または治療、骨形成の促進、並びにオステオポローシスの処置 におけるそれらの用途に関する。 本発明の化合物は、一般式I [式中、Yはイオウ、S(O)またはS(O)2であり;RはC1−C3アルキル である レン基である。] で示される。 本発明において、ヒドロカルビレン基なる表現は、直鎖、分枝または環状の飽 和または不飽和炭化水素から2個の水素原子を除去した基を意味する。 Rの例は、メチル、トリフルオロメチル、エチル、n−およびイソ−プロピル を包含するが、それらに限定されるものではない。 Qの例は、メチレン、エチレン、トリ−、テトラ−およびペンタ−メチレン、 −CH=CH−、−CH2−CH=CH−、−CH2CH2−CH=CH−、−C H2−C≡C−、−CH2CH2−C≡C−、フェニレン(C64;オルト、メタ、 パラ)、−CH2−(C64)−(オルト、メタ、パラ)、並びに−(C64)− CH2−(オルト、メタ、パラ)を包含するが、それらに限定されるものではな い。 式Iからわかるように、本発明の化合物は、複数の立体異性体の形態(例えば 、C−20におけるRまたはS配置;基Q中に二重結合が存在する場合のEまた はZ配置)を包含する。本発明は、純粋な形態のこれらすべての立体異性体およ びその混合物を包含する。更に、1個またはそれ以上のヒドロキシル基が、イン ビボでヒドロキシル基に再生し得る基としてマスクされている化合物Iのプロド ラッグも、本発明の範囲に含まれる。 1α,25−ジヒドロキシビタミンD3(1,25(OH)23)が、インターロ イキンの作用および/または生成に影響することがわかっているが[ミュラー, ケイ(Muller,K.)ら、イムノロジー・レターズ(Immunol.Lett.)、17、 361−366(1988)]、このことは、この化合物を、免疫系の機能障害 によって特徴付けられる疾患、例えば自己免疫疾患、エイズ、宿主対移植片反応 および移植組織拒絶、またはインターロイキン−1の異常生成によって特徴付け られる他の病態、例えばリューマチ様関節炎のような炎症性疾患および喘息の処 置において使用することの可能性を示唆するものである。 1,25(OH)23は、細胞分化を促進し、過度の細胞増殖を阻止すること ができることも示され[アベ,イー(Abe,E.)ら、プロシーディングズ・オ ブ・ナショナル・アカデミー・オブ・サイエンシーズ(Proc.Natl.Acad.Sci. )、米国、78、4990−4994(1981)]、この化合物は、異常な細 胞増殖および/または細胞分化によって特徴付けられる疾患、例えば白血病、骨 髄線維症および乾癬の処置に有用であり得ると提案されている。 また、1,25(OH)23またはそのプロ-ドラッグ1α−OH−D3を、高 血圧症[リンド,エル(Lind,L.)ら、アクタ・メディカ・スカンジナビカ( Acta Med.Scand.)、222、423−427(1987)]および真性糖尿 病[イノマタ,エス(Inomata,S.)ら、ボーン・ミネラル(Bone Minera1) 、、187−192(1986)]の処置に使用することも提案されている。 遺伝性ビタミンD耐性と脱毛症との間に関連があるという最近の知見により、1 ,25(OH)23の別の用途が提案される:1,25(OH)23による処置は 、毛髪の成育を促進し得る[ランセット(Lancet)、3月4日、478頁(19 89)]。また、1,25(OH)23の局所適用により、雄のシリアンハムス ターの耳の皮脂腺の大きさが縮小されるという事実は、この化合物がアクネの処 置に有用であり得ることを示唆するものである[マロイ,ブイ・エル(Ma11oy, V.L.)ら、ザ・トリコンティネンタル・ミーティング・フォー・インベステ ィゲイティブ・ダーマトロジー(the Tricontinenta1 Meeting for Investig ative Dermatology)、ワシントン、(1989)]。 しかし、1,25(OH)23のそのような処置剤としての使用可能性は、こ のホルモンはカルシウム代謝に強力に作用する(血中濃度が高いと、急速に高カ ルシウム血症を起こす)ことが知られていることから、極度に制限されている。 すなわち、この化合物およびその有効な合成類似体のいくつかは、例えば乾癬、 白血病または免疫疾患のような、薬物を比較的高用量で連続的に投与する必要の あり得る疾患の処置において使用する薬物として充分満足できるものではない。 最近、カルシウム代謝に対する作用に比較して、細胞分化誘導/細胞増殖抑制 活性を優勢とするようにある程度の選択性を示す多くのビタミンD類似体が文献 に記載されている。 最近の研究により、ビタミンD誘導体が、インビボで乳癌細胞増殖を抑制し得 ることが裏付けられている[コルストン,ケイ・ダブリュ(Co1ston,K.W. )ら、バイオケミカル・ファーマコロジー(Biochem.Pharmacol.)、44、6 93−702(1992)]。ビタミンD類似体の有望な免疫学的性質も報告さ れている[ビンデラップ,エル(Binderup,L.)、バイオケミカル・ファーマ コロジー、43、 1885−1892(1992)]。 ビタミンD3の多類のチア−類似体が知られている。23−チア−類似体が報 告されている[クボデラ,エヌ(Kubodera,N.)ら、ケミカル・アンド・ファ ーマシューティカル・ブリティン(Chem.Pharm.Bu11.)、39、3221− 3224(1991)、および欧州特許出願第78704号]。また、一連の2 0−23−チア−類似体が、国際特許出願PCT/DK91/00091(出 願日1991年3月22日、公開番号WO91/15475)に報告されている 。 更に、ビタミンD3の一連の22−オキサ−類似体が報告されている[ムラヤ マ,イー(Murayama,E.)ら、ケミカル・アンド・ファーマシューティカル・ ブリティン、34、4410−4413(1986)、アベ,ジェイ(Abe,J .)ら、フェブス・レターズ(FEBS LETTERS)、226、58−6 2(1987)、欧州特許出願第184112号、ビンデラップ,エルら、バイ オケミカル・ファーマコロジー、42、1569−1575(1991)、およ び国際特許出願PCT/DK90/00036(出願日1990年2月13日、 公開番号90/09991)]。 前記のような従来の化合物間の構造の相異はごくわずかであるにもかかわらず 、それらの生物学的活性は広範である[ビンデラップ,エルら、バイオケミカル ・ファーマコロジー、42、1569−1575(1991)参照]という事実 は、インビトロでの腸のビタミンDレセプターへの結合親和性に比較して、イン ビトロでの細胞分化活性がより高いことに反映されるような好ましい度合の選択 性を示すビタミンD類似体の構造を、現在の知識では予測できないということを 示唆している。更に、おそらく化合物間の薬物動態学的な差が反映していると思 われるが、インビトロのレセプター結合親和性が必ずしもインビボの場合に匹敵 しないという知見によっても、事態が複雑化されている。 本発明の化合物は、ビタミンDの22−チア類似体であり、既知のビタミンD 類似体のいずれとも構造的に異なる。20および20配置を有する類似体の いずれも、本発明の方法によって合成する。本発明の化合物は、活性が高く、好 ましい選択性を示す。すなわち、式Iの化合物は、従来の化合物と比較した場合 に、一つまたはそれ以上の下記利点を示すことが観察される: (a)細胞分化/増殖に対する作用がより強いこと; (b)カルシウム代謝に対する作用よりも、細胞分化/増殖に対する強力な作用を 優勢にする選択性がより高いこと; (c)インターロイキンの生成および活性に対する作用がより強いこと; (d)カルシウム代謝に対する作用よりも、インターロイキンの生成および活性に 対する作用を優勢にする選択性がより高いこと; (e)代謝半減期がより長いこと。 従って、本発明の化合物は、ヒトおよび動物の、異常細胞増殖および/または 細胞分化によって特徴付けられる疾病、例えば乾癬を含むある種の皮膚病および ある種の癌、および/または、免疫系の平衡失調により特徴付けられる疾病、例 えば自己免疫疾患(真性糖尿病を含む)、宿主対移植片反応および移植組織拒絶 の、局所的および全身的な治療および予防のいずれに対しても特に適する。本発 明の化合物は、炎症性疾患、例えばリューマチ様関節炎および喘息の処置にも適 当である。本発明の化合物によって処置し得る他の病態は、アクネ、脱毛症およ び高血圧である。更に、本発明の化合物による局所処置後に皮膚の肥厚が見られ ることから、本発明の化合物は、皮膚の老化(光老化を含む)の治療または予防 に有用であり得る。 本発明の化合物は、連続投与しても高カルシウム血症をもたらす傾向が低いの で、上皮小体機能亢進症(特に腎不全に伴う続発性の上皮小体機能亢進症)の長 期治療、並びに骨形成の促進およびオステオポローシスの処置のために有用であ ると考えられる。 本発明の化合物は、他の薬剤と組み合わせて使用し得る。移植片拒絶および移 植片対宿主反応の防止においては、本発明化合物による処置を、例えばシクロス ポリン(cyclosporin)A処置と組み合わせることが有利であり得る。 化合物Iは、ビタミンD誘導体から、図式1に記載の経路によって、または CD−環誘導体78から、図式2に記載の経路によって、好都合に製造し得る。 以下の標準的な略号を、本発明の開示を通して使用する:Me=メチル;Et= エチル;THP=テトラヒドロ−4H−ピラン−2−イル;TMS=トリメチル シリル;pet.ether=石油エーテル;THF=テトラヒドロフラン;TBAF= テトラ−(n−ブチル)−アンモニウムフロリド三水和物;Tf=トリフルオロ メタンスルホニル;DMF=N,N−ジメチルホルムアミド;“HF”=5%フ ッ化水素/アセトニトリル:水(7:1、v/v);TBDMS=t−ブチルジメ チルシリル;PPTS=ピリジニウムトルエン−4−スルホネート;DPMS= ジフェニルメチルシリル;Ts=4−メチルベンゼンスルホニル;DMSO=ジ メチルスルホキシド。 図式1 化合物Iの合成 QおよびRは前記と同意義であり、Zは注釈において定義する通りである。 20および20異性体のクロマトグラフィーによる分離を、工程d、e、 fまたはg、好ましくはd、eまたはfの後に行い得る。および配置を有するス ルホキシドのクロマトグラフィーによる分離は、工程hの後に行う。 図式1の注釈 a)次亜塩素酸t−ブチル/四塩化炭素/20〜100分間。 b)ジチオ炭酸O−エチルカリウム/アセトン/−30℃/30分間および2 0℃/60分間。 c)水銀灯/ベンゼン/60℃/10〜40分間。 d)エタノールアミン/DMF/10〜60分間。 e)化合物IV(下記)/塩基、例えば炭酸カリウム/DMF/0.1〜10時 間、または水素化カリウム/18−クラウン−6/THF/20〜200分間。 f)水銀灯/三重項増感剤、例えばアントラセン/トリエチルアミン/ジクロ ロメタン/10〜15℃/10〜60分間。 g)例えば“HF”/酢酸エチル/20〜200分間、またはTBAF/TH F/60℃/20〜200分間、またはPPTS/EtOH/50℃/20〜20 0分間による、全アルコール基の脱保護。 h)タングステン酸ナトリウム二水和物/1当量の過酸化水素/炭酸水素ナト リウム/クロロホルム i)タングステン酸ナトリウム二水和物/2当量の過酸化水素/炭酸水素ナト リウム/クロロホルム -=脱離基、例えばBr-、I-、TsO-、TfO- Z=OH、または保護されたアルコール、例えばTMS−O、TBDMS− O、DPMS−OまたはTHP−O 化合物2〜7の合成は、製造例1〜4に記載する。側鎖形成ブロックIVは、国 際特許出願PCT/DK90/00036およびPCT/DK91/00091 に記載の標準的な方法によって合成する。 図式2 化合物Iの合成 Q、RおよびZは、前記と同意義である。 図式2の注釈 a)DPMSCl/イミダゾール/DMF/20時間。 b)1当量の炭酸水素ナトリウム/DMSO/110℃/90分間。 c)次亜塩素酸t−ブチル/四塩化炭素/30〜180分間。 d)ジチオ炭酸O−エチルカリウム/アセトン/−30℃/60分間および2 0℃/60分間。 e)水銀灯/ベンゼン/60℃/10〜40分間。 f)“HF”/酢酸エチル/60分間。 g)1.1当量の塩化オキサリル/2.2当量のDMSO/ジクロロメタン/− 65℃/5分間、次いで、化合物85および86/15分間。 h)エタノールアミン/DMF/60分間。 i)化合物IV(図式1の注釈参照)/塩基、例えば炭酸カリウム/DMF/0 .1〜10時間、または水素化カリウム/18−クラウン−6/THF/20〜 200分間。 j)化合物99(下記)/n−ブチルリチウム/THF/−78℃/20分間 、次いで、化合物V(下記)/THF/−78℃/120分間。 k)例えば“HF”/酢酸エチル/20〜200分間、またはTBAF/TH F/60℃/20〜200分間、またはPPTS/EtOH/50℃/20〜2 00分間による、全アルコール基の脱保護。 化合物79〜90の合成は、製造例58〜67に記載する。 本発明の化合物は、前記のようなヒトおよび動物の疾病の処置に有用な薬剤組 成物中で使用することが意図されている。 式Iで示される化合物(以下、活性成分と称する)の処置効果に必要な量は、 その化合物、投与方法および処置する哺乳動物のいずれによっても当然変化する 。本発明の化合物は、非経口的、関節内、経腸的または局所的に投与することが できる。本発明の化合物は、経腸投与された場合によく吸収され、これは全身的 疾病の処置に好ましい投与経路である。乾癖のような皮膚病または眼疾の処置に おいては、局所または経腸の形態が好ましい。 喘息のような呼吸器疾患の処置においては、エアロゾルが好ましい。 活性成分をそのまま単独で投与することが可能であるが、薬剤製剤として投与 することが好ましい。好ましくは、活性成分含量は、製剤の0.1ppmないし0 .1重量%である。 「用量単位」とは、患者に投与でき、および容易に扱い、包装し得る単位用量 、すなわち単一用量であって、活性物質そのもの、または固体もしくは液体薬剤 希釈剤もしくは担体とのその混合物から成る物理的および化学的に安定な単位用 量を意味する。 動物およびヒトの医療に使用する本発明の製剤は、活性成分と共に、薬学的に 許容し得る担体、および要すれば他の処置成分を含有する。担体は、製剤中の他 の成分と適合し、被投与体に有害でないという意味において「許容し得る」もの でなくてはならない。 製剤には、例えば、経口、直腸、非経口(皮下、筋肉内および静脈内を含む) 、関節内および局所投与に適当な形態の製剤が含まれる。 製剤は、用量単位形態で提供することが好都合であり得、薬学分野でよく知ら れているいずれの方法で調製してもよい。いずれの方法も、活性成分を1種また はそれ以上の補助成分である担体と組み合わせる工程を含んで成る。通例、製剤 は、活性成分を液体担体もしくは微粉固体担体またはその両方と均一によく混合 し、次いで要すれば、生成物を所望の剤形に成形することによって調製する。 経口投与に適当な本発明の製剤は、それぞれ所定量の活性成分を含んで成るカ プセル剤、サシェ剤、錠剤もしくはロゼンジのような個々の単位の形態;粉末も しくは顆粒の形態;水性液体もしくは非水性液体中の溶液もしくは懸濁液の形態 ;または水中油型乳剤もしくは油中水型乳剤の形態であり得る。活性成分を、巨 丸薬、舐剤またはペーストの形態で投与してもよい。 錠剤は、活性成分を、要すれば1種またはそれ以上の補助成分と共に圧縮また は成形することによって製造し得る。圧縮錠剤は、粉末または顆粒のような流動 形態の活性成分を、要すれば結合剤、滑沢剤、不活性希釈剤、表面活性剤または 分散剤と混合して、適当な機械中で圧縮することによって製造し得る。成形錠剤 は、粉末活性成分および適当な担体の混合物を不活性液体希釈剤で湿潤させて、 適当な機械中で成形することによって製造し得る。 直腸投与用製剤は、活性成分および担体(例えばカカオ脂)を組み合わせた坐 剤の形態、または浣腸の形態であってよい。 非経口投与に適当な製剤は、好ましくは活性成分の滅菌油性または水性製剤( 好ましくは、被投与体の血液と等張である)から成る。 関節内投与に適当な製剤は、微結晶の形態であり得る活性成分の滅菌水性製剤 の形態、例えば水性微結晶懸濁液の形態であってよい。活性成分を関節内および 眼のいずれに投与するのにも、リポソーム製剤または生分解性ポリマー系を使用 してもよい。 局所投与に適当な製剤(眼用製剤を含む)は、液体もしくは半液体製剤、例え ばリニメント剤、ローション剤、ゲル剤、アプリカント剤、水中油型もしくは油 中水型乳剤、例えばクリーム、軟膏剤もしくはペースト;または溶液剤もしくは 懸濁剤、例えば滴剤を含む。 喘息の処置には、スプレー缶、ネブライザーまたはアトマイザーから放出する 粉末、セルフ−プロペリングまたは噴霧製剤の吸入を使用し得る。放出時の製剤 の粒子サイズは、10〜100μであることが好ましい。 このような製剤は、粉末吸入装置から肺に投与する細かく粉砕した粉末、また はセルフ−プロペリング・パウダー−ディスペンシング剤の形態であることが最 も好ましい。セルフ−プロペリング溶液および噴霧製剤の場合は、所望の噴霧性 を有する(すなわち、所望の粒子サイズの霧を形成し得る)バルブを選択するか 、 または活性成分の粒子サイズを調節して懸濁粉末として組み合わせることによっ て効果を達成することができる。そのようなセルフ−プロペリング剤は、パウダ ー−ディスペンシング剤、または活性成分を溶液または懸濁液の飛沫として投与 する製剤であってよい。 セルフ−プロペリング・パウダー−ディスペンシング剤は、好ましくは、固体 活性成分の分散粒子、および大気圧における沸点が18℃未満の液体プロペラン トを含んで成る。液体プロペラントは、医薬投与に適することが知られているい ずれのプロペラントであってもよく、1種またはそれ以上のC1−C6−アルキル 炭化水素もしくはハロゲン化C1−C6−アルキル炭化水素またはその混合物、特 に好ましくは塩素化およびフッ素化C1−C6−アルキル炭化水素から成っていて よい。通例、プロペラントは製剤の45〜99.9%w/wを占め、活性成分は製 剤の0.1ppmないし0.1%w/wを占める。 前記成分に加えて、本発明の製剤は、1種またはそれ以上の追加の成分、例え ば賦形剤、緩衝剤、香料、結合剤、表面活性剤、増粘剤、滑沢剤、メチルヒドロ キシベンゾエートのような保存剤(抗酸化剤を含む)、乳化剤などを含有し得る 。本発明の組成物は、前記病態の処置に通例適用される他の処置活性化合物を更 に含有し得る。 本発明は更に、前記病態の1種に罹患している患者を治療する方法にも関し、 該方法は、治療を要する患者に、式Iで示される化合物の1種またはそれ以上の 有効量を、単独で、または前記病態の処置において通例適用される他の処置活性 化合物の1種またはそれ以上と組み合わせて投与することから成る。本発明の化 合物および/または他の処置活性化合物による処置は、同時に、または間隔をお いて行い得る。 全身的疾患の処置において、式Iの化合物を1日当たり0.1〜100μg、 好ましくは0.2〜25μgの用量で投与する。皮膚病の局所処置においては、 式Iの化合物を0.1〜500μg/g、好ましくは0.1〜100μg/g含有す る軟膏、クリームまたはローションを投与する。眼科における局所使用のために は、式Iの化合物を0.1〜500μg/g、好ましくは0.1〜100pg/g含 有する軟膏、 点眼剤またはゲルを投与する。経口組成物は、式Iの化合物を用量単位当たり0 .05〜50μg、好ましくは0.1〜25μg含有する錠剤、カプセル剤または 滴剤として調製することが好ましい。 本発明を以下の一般工程、製造例および実施例によってさらに説明するが、本 発明はそれらに制限されるものではない: 一般工程、製造例および実施例 例示の化合物Iを第1表に挙げる。一般式II、IIIおよびVで示される化合物 は、第2表に挙げる。 1H核磁気共鳴スペクトル(300MHz)では、化学シフト値(δ)は、特 記しない限り、内部テトラメチルシラン(δ=0.00)またはクロロホルム( δ=7.25)に対して、ジュウテリオクロロホルム溶液について示す。特定し (二重線(d)、三重線(t)、四重線(q))、またはしていない(m)多重線の値は、範 囲を示していない場合には、およその中心点で示す(s=一重線、b=ブロード )。 エーテルはジエチルエーテルであり、ナトリウムで乾燥した。THFは、ナト リウム/ベンゾフェノンで乾燥した。石油エーテルは、ペンタンフラクションを さす。反応は、特記しない限り室温で行った。処理方法は、特定の溶媒(または 有機反応溶媒)による希釈、水および次いで塩水による抽出、無水MgSO4に よる乾燥並びに減圧濃縮を行って残渣を得ることを含む。クロマトグラフィーは 、シリカゲル上で行った。 化合物6および7の混合物を導く図式1の合成経路は、中間体2、3、4およ び5のいずれも、厳密に精製することなく行った。それらの化合物の分光データ は、精製したサンプルから得たものである。 製造例11(S),3(R)−ビス−[t−ブチルジメチルシリルオキシ]− 20(S)−クロロカルボニル−9,10−セコプレグナ−5(Z),7(E), 10(19)−トリエン(化合物2) 化合物1(3.54g)[カルヴァリー、エム・シー(Ca1ver1ey,M.C.)、 テトラヘドロン(Tetrahedron)、43、4609−4619(1987)]を 、四塩化炭素(35ml)に溶解し、次亜塩素酸t−ブチル(1.00m1)を周囲温 度で加えた。アルゴン雰囲気中で30分間攪拌後、反応混合物を減圧下に濃縮し て、標記化合物を油状物として得た。 NMR(CCl4):δ=0.10(m,12H)、0.64(s,3H)、0.90(s,9 H)、0.94(s,9H)、1.41(d,3H)、1.30−2.25(m,13H)、2.3 2(bd,1H)、2.53(dd,1H)、2.82(m,1H)、2.94(m,1H)、4.23 (m,1H)、4.50(m,1H)、4.92(m,1H)、4.94(m,1H)、5.81(d, 1H)、6.36(d,1H)。 製造例21(S),3(R)−ビス−[t−ブチルジメチルシリルオキシ]− 20(S)−O−[[エチルオキシ(チオカルボニル)チオ]カルボニル]−9 ,10−セコプレグナ−5(Z),7(E),10(19)−トリエン(化合物3 粗化合物2(4.22g)をアセトン(35ml)に溶解し、アルゴン雰囲気中、 −30℃で攪拌しながら、ジチオ炭酸O−エチルカリウム(1.09g)を加え た。30分間攪拌を続けた。反応混合物を室温にし、60分後、飽和炭酸水素ナ トリウム水溶液で洗い、処理(ジクロロメタン)して、標記化合物を得た。 NMR:δ=0.05(m,12H)、0.54(s,3H)、0.86(s,9H)、0.9 0(s,9H)、1.27(d,3H)、1.47(t,3H)、1.15−2.00(m,12H) 、2.05(bt,1H)、2.28(bd,1H)、2.52(m,1H)、2.55(dd,1H) 、2.87(m,1H)、4.21(m,1H)、4.52(m,1H)、4.67(q,2H)、4 .94(m,1H)、4.98(m,1H)、5.82(d,1H)、6.43(d,1H)。 製造例31(S),3(R)−ビス−[t−ブチルジメチルシリルオキシ]− 20(S)/20(R)−O−エチルキサントゲナト−9,10−セコプレグナ −5(Z),7(E),10(19)−トリエン(化合物4および5) アルゴン雰囲気中、パイレックスフラスコ内で、粗化合物3(4.45g)を 、ベンゼン(15Om1)に溶解した。反応混合物を60℃に加熱し、高圧紫外線 ランプ、タイプTQ760Z2[ハナウ(Hanau)]のUV光を、攪拌下に20分 間照射した。反応混合物を減圧下に濃縮し、クロマトグラフィー(ジクロロメタ ン/石油エーテル:1/3)により精製して、標記化合物を得た。 NMR():δ=0.06(m,12H)、0.64(s,3H)、0.86(s,9H)、 0.89(s,9H)、1.42(t,3H)、1.48(d,3H)、1.20−1.82(m,9 H)、1.85−2.15(m,4H)、2.29(bd,1H)、2.56(dd,1H)、2. 88(dd,1H)、3.76(m,1H)、4.21(m,1H)、4.53(m,1H)、4.6 4(m,2H)、4.94(m,1H)、4.98(m,1H)、5.82(d,1H)、6.4 4(d,1H)。 NMR():δ=0.06(m,12H)、0.58(s,3H)、0.85(s,9H)、 0.89(s,9H)、1.41(d,3H)、1.42(t,3H)、1.15−2.15(m,1 2H)、2.25(bd,1H)、2.29(bd,1H)、2.55(dd,1H)、2.87(m, 1H)、3.65(m,1H)、4.21(m,1H)、4.52(m,1H)、4.63(q,2 H)、4.94(m,1H)、4.98(m,1H)、5.81(d,1H)、6.44(d,1H) 。 製造例4:1(S),3(R)−ビス−[t−ブチルジメチルシリルオキシ]− 20(S)/20(R)−メルカプト−9,10−セコプレグナ−5(Z),7( E),10(19)−トリエン(化合物6および7) 乾燥N,N−ジメチルホルムアミド(6.0m1)中の化合物4および5(550m g)の溶液に、アルゴン雰囲気中で攪拌しながら、アミノエタノール(0.75ml )を加えた。周囲温度で30分間攪拌を続けた。反応混合物を処理(ジエチルエ ーテル)した。残渣をクロマトグラフィー(ジエチルエーテル/石油エーテル: 1/20)により精製して、標記化合物の混合物を得た。 NMR():δ=0.06(m,12H)、0.55(s,3H)、0.85(s,9H)、 0.90(s,9H)、1.41(d,3H)、1.15−2.47(m,15H)、2.55(dd ,1H)、2.86(bd,1H)、2.94(m,1H)、4.21(m,1H)、4.52(m,1 H)、4.93(m,1H)、4.98(m,1H)、5.82(d,1H)、6.44(d,1H) 。 NMR():δ=0.06(m,12H)、0.59(s,3H)、0.86(s,9H)、 0.90(s,9H)、1.51(d,3H)、1.15−2.47(m,15H)、2.55(dd ,1H)、2.80−3.05(m,2H)、4.21(m,1H)、4.52(m,1H)、4. 93(m,1H)、4.98(m,1H)、5.82(d,1H)、6.44(d,1H)。 一般工程1化合物6および/または7のアルキル化による化合物IIの生成 乾燥THF(10ml)中の化合物6および/または7(1.0ミリモル)およ び18−クラウン−6(0.5ミリモル)の溶液に、アルゴン雰囲気中で攪拌し ながら、水素化カリウム(1.5ミリモル、油中20%)、および次いで適当な アルキル化剤IV(2.0ミリモル)を加えた。混合物を周囲温度で45分間攪拌 後、数滴の水で反応を停止した。反応混合物を処理(ジエチルエーテル)し、残 渣をクロマトグラフィーにより精製して、分離した標記化合物を得た。 一般工程2化合物6および/または7のアルキル化による化合物IIの生成 DMF(5m1)中で、化合物6および/または7(1.25ミリモル)の溶液 を、 固体炭酸カリウム(1.6ミリモル)と共に、15分間攪拌した。DMF(3m1 )中の適当なアルキル化剤IV(1.5ミリモル)を加え、混合物を3時間攪拌し た。処理(ジエチルエーテル)およびクロマトグラフィーを行って、分離した標 記化合物を得た。 一般工程3化合物IIの異性化による化合物IIIの生成 アルゴン雰囲気中、パイレックスフラスコ内のジクロロメタン(4.0ml)中 の化合物II(0.1ミリモル)、アントラセン(0.2ミリモル)およびトリエ チルアミン(0.05m1)の溶液に、高圧紫外線ランプ、タイプTQ760Z2 (ハナウ)のUV光を、約10℃で攪拌下に20分間照射した。反応混合物を減 圧下に濃縮し、石油エーテル(2×5m1)で処理した。濾過後、濾液を減圧下に 濃縮し、クロマトグラフィー(溶出剤はジクロロメタンおよび石油エーテルの混 合物)により精製して、標記化合物を得た。 一般工程4“HF”で処理することによる、化合物IIIの脱保護による、対 応する化合物Iの生成 酢酸エチル(0.25ml)中の化合物III(0.05ミリモル)の溶液に、アセ トニトリル(1.0ml)、次いでアセトニトリル:水(7:1)中のフッ化水素 酸5%溶液(0.8m1)を、アルゴン雰囲気中で攪拌しながら加えた。周囲温度 で45分間攪拌を続けた。飽和炭素水素ナトリウム水溶液(10ml)を加え、反 応混合物を処理(酢酸エチル)した。残渣をクロマトグラフィー(溶出剤は酢酸 エチル)により精製して、標記化合物を得た。 一般工程5テトラ−n−ブチルアンモニウムフロリドで処理することによる 、化合物IIIの脱保護による、対応する化合物Iの生成 THF(5m1)中の化合物III(0.16ミリモル)の溶液に、アルゴン雰囲 気中、60℃で攪拌しながら、THF(5m1)中のTBAF(300mg)の溶液 を加えた。60℃で1時間攪拌を続け、反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水 溶液で洗い、処理(酢酸エチル)した。残渣をクロマトグラフィー(溶出剤は酢 酸エチル)により精製して、標記化合物を得た。 一般工程6ピリジニウムトルエン−4−スルホネートで処理することによる 化合物IIIの脱保護による、対応する化合物Iの生成 99%エタノール(2m1)中の化合物III(0.16ミリモル)の溶液に、P PTS(2mg)を加え、混合物を、アルゴン雰囲気中、50℃で1時間攪拌した 。混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗い、処理(酢酸エチル)した。粗 生成物をクロマトグラフィー(溶出剤は酢酸エチル)により精製して、標記化合 物を得た。 一般工程722−チア化合物IIの酸化による、対応するスルホキシド異性体 IIの生成 22−チア化合物II(0.15ミリモル)、炭酸水素ナトリウム(10mg)、 タングステン酸ナトリウム二水和物2%(w/v)溶液(10μl)およびメタノー ル(0.5m1)の混合物に、30%過酸化水素(24μl)およびクロロホルム (0.5m1)を加えた。適当な温度で数時間攪拌後、水を加え、混合物を処理( ジクロロメタン)して得た残渣をクロマトグラフィーに付して、純粋な22(R )−および22(S)−スルホキシドを分離した。 一般工程822−チオニル化合物IIの酸化による、対応するスルホニル化合 物IIの生成 22−チオニル化合物II[22(R)および/または22(S)](0.15 ミリモル)、炭酸水素ナトリウム(30mg)、タングステン酸ナトリウム二水和 物2%(w/v)溶液(30μl)およびメタノール(0.6ml)の混合物に、30 %過酸化水素(36μl)を加えた。適当な温度で数時間攪拌後、水を加え、混 合物を処理(ジクロロメタン)して得た残渣をクロマトグラフィーに付して、標 記化合物を得た。 一般工程9化合物89および/または90のアルキル化による化合物Vの生 DMF(5ml)中で、化合物89および/または90(0.75ミリモル)の 溶液を、固体炭酸カリウム(0.76ミリモル)と共に、アルゴン雰囲気中で1 5分間攪拌した。DMF(5ml)中の適当なアルキル化剤IV(1.13ミリモル )を加え、混合物を3時間攪拌した。処理(ジエチルエーテル)およびクロマト グラフィーを行って、標記化合物を得た。 一般工程10化合物Vと、[1Z,3S,5R]−[2−[3,5−ビス−[t −ブ チルジメチルシリルオキシ]−2−メチレンシクロヘキシリデン]エチル]ジフ ェニルホスフィンオキシド(化合物99)とのカップリングによる、化合物III の生成 THF(7ml)中の化合物99(0.60ミリモル)[バジオリーニ,ジー・ エイチ(Baggio1ini,G.H.)ら、ザ・ジャーナル・オブ・オーガニック・ケ ミストリー(J.Org.Chem.)、51、3098−3108(1986)]の溶液 を、アルゴン雰囲気中で攪拌しながら−78℃に冷却した。n−ブチルリチウム (0.60ミリモル;ヘキサン中、1.6M)を数分間にわたって加え、得られ た濃赤色溶液を更に20分間攪拌した。次いで、化合物V(0.50ミリモル; THF3ml中)を、5分間にわたって反応混合物に加えた。混合物を2時間攪拌 後、室温にした。水1滴で反応を停止し、処理(酢酸エチル/石油エーテル:1 /1)した。残渣をクロマトグラフィー(溶出剤はジクロロメタンおよび石油エ ーテルの混合物)により精製して、分離した標記化合物を得た。 製造例5化合物8および9 方法:一般工程1 アルキル化剤:5−ブロモ−3−エチル−3−トリメチルシリルオキシペンタ ン(0.5g) 製造例6化合物10および11 方法:一般工程1 アルキル化剤:6−ブロモ−3−エチル−3−トリメチルシリルオキシヘキサ ン(0.5g) NMR(10):δ=0.05(m,12H)、0.09(s,9H)、0.62(s,3H) 、0.80(t,6H)、0.85(s,9H)、0.90(s,9H)、1.28(d,3H)、1 .45(q,4H)、1.15−2.15(m,17H)、2.30(bd,1H)、2.47(m, 2H)、2.55(dd,1H)、2.66(m,1H)、2.87(m,1H)、4.21(m,1 H)、4.52(m,1H)、4.94(m,1H)、4.98(m,1H)、5.81(d,1H) 、6.45(d,1H)。 NMR(11):δ=0.05(m,12H)、0.09(s,9H)、0.57(s,3H) 、0.81(t,6H)、0.85(s,9H)、0.89(s,9H)、1.38(d,3H)、1 . 46(q,4H)、1.15−2.17(m,17H)、2.29(bd,1H)、2.50(m,2 H)、2.56(dd,1H)、2.65(m,1H)、2.87(m,1H)、4.21(m,1H) 、4.52(m,1H)、4.94(m,1H)、4.98(m,1H)、5.82(d,1H)、6 .44(d,1H)。 製造例7化合物12および13 方法:一般工程1 アルキル化剤:7−ブロモ−3−エチル−3−トリメチルシリルオキシヘプタ ン 製造例8化合物14および15 方法:一般工程2 アルキル化剤:3−(1−エチル−1−ヒドロキシプロピル)ベンジルブロミ ド 製造例9化合物16および17 方法:一般工程1 アルキル化剤:6−ブロモ−3−エチル−3−トリメチルシリルオキシヘキサ −4−エン 製造例10化合物18および19 方法:一般工程1 アルキル化剤:6−ブロモ−3−エチル−3−トリメチルシリルオキシヘキサ −4−イン 製造例11化合物20および21 方法:一般工程1 アルキル化剤:5−ブロモ−2−メチル−2−トリメチルシリルオキシペンタ ン 製造例12化合物22および23 方法:一般工程1 アルキル化剤:6−ブロモ−2−メチル−2−テトラヒドロピラニルオキシヘ キサン 製造例13化合物24および25 方法:一般工程2 アルキル化剤:3−(1−メチル−1−ヒドロキシエチル)ベンジルブロミド 製造例14化合物26および27 方法:一般工程1 アルキル化剤:5−ブロモ−2−メチル−2−トリメチルシリルオキシペンタ −4−エン 製造例15化合物28および29 方法:一般工程1 アルキル化剤:5−ブロモ−2−メチル−2−トリメチルシリルオキシペンタ −4−イン 製造例16化合物30および31 方法:一般工程7 製造例17化合物32および33 方法:一般工程7 製造例18化合物34 方法:一般工程8 製造例19化合物35 方法:一般工程8 製造例20化合物36および37 方法:一般工程7 製造例21化合物38および39 方法:一般工程7 製造例22化合物40 方法:一般工程8 製造例23化合物41 方法:一般工程8 製造例24化合物42 方法:一般工程3 出発物質:化合物8 製造例25化合物43 方法:一般工程3 出発物質:化合物9 製造例26化合物44 方法:一般工程3 出発物質:化合物10 NMR:δ=0.05(m,12H)、0.08(s,9H)、0.60(s,3H)、0.8 1(m,6H)、0.86(s,18H)、1.27(d,3H)、1.45(q,4H)、1.15 −2.15(m,17H)、2.21(dd,1H)、2.37−2.57(m,3H)、2.65 (m,1H)、2.82(m,1H)、4.18(m,1H)、4.36(m,1H)、4.85(m, 1H)、5.17(m,1H)、6.00(d,1H)、6.23(d,1H)。 製造例27化合物45 方法:一般工程3 出発物質:化合物11 NMR:δ=0.05(m,12H)、0.09(s,9H)、0.55(s,3H)、0.8 1(t,6H)、0.86(s,18H)、1.37(d,3H)、1.45(q,4H)、1.15 −2.14(m,17H)、2.21(dd,1H)、2.44(dd,1H)、2.48(m,2H) 、2.64(m,1H)、2.82(m,1H)、4.18(m,1H)、4.36(m,1H)、4 .85(m,1H)、5.17(m,1H)、6.01(d,1H)、6.22(d,1H)。 製造例28化合物46 方法:一般工程3 出発物質:化合物12 製造例29化合物47 方法:一般工程3 出発物質:化合物13 製造例30化合物48 方法:一般工程3 出発物質:化合物14製造例31化合物49 方法:一般工程3 出発物質:化合物15製造例32化合物50 方法:一般工程3 出発物質:化合物16製造例33化合物51 方法:一般工程3 出発物質:化合物17製造例34化合物52 方法:一般工程3 出発物質:化合物18製造例35化合物53 方法:一般工程3 出発物質:化合物19製造例36化合物54 方法:一般工程3 出発物質:化合物20製造例37化合物55 方法:一般工程3 出発物質:化合物21製造例38化合物56 方法:一般工程3 出発物質:化合物22製造例39化合物57 方法:一般工程3 出発物質:化合物23製造例40化合物58 方法:一般工程3 出発物質:化合物24製造例41化合物59 方法:一般工程3 出発物質:化合物25製造例42化合物60 方法:一般工程3 出発物質:化合物26製造例43化合物61 方法:一般工程3 出発物質:化合物27製造例44化合物62 方法:一般工程3 出発物質:化合物28製造例45化合物63 方法:一般工程3 出発物質:化合物29製造例46化合物64 方法:一般工程3 出発物質:化合物30製造例47化合物65 方法:一般工程3 出発物質:化合物31製造例48化合物66 方法:一般工程3 出発物質:化合物32製造例49化合物67 方法:一般工程3 出発物質:化合物33製造例50化合物68 方法:一般工程3 出発物質:化合物34製造例51化合物69 方法:一般工程3 出発物質:化合物35製造例52化合物70 方法:一般工程3 出発物質:化合物36製造例53化合物71 方法:一般工程3 出発物質:化合物37製造例54化合物72 方法:一般工程3 出発物質:化合物38製造例55化合物73 方法:一般工程3 出発物質:化合物39製造例56化合物74 方法:一般工程3 出発物質:化合物40製造例57化合物75 方法:一般工程3 出発物質:化合物41製造例58化合物76および77 方法:一般工程10 出発物質:化合物91および92 NMR(76):δ=0.05(m,12H)、0.10(s,9H)、0.60(s,3H) 、0.87(s,18H)、1.22(s,6H)、1.28(d,3H)、1.10−2.05( m,15H)、2.20(dd,1H)、2.40−2.60(m,3H)、2.66(m,1H)、 2.82(m,1H)、4.18(m,1H)、4.37(m,1H)、4.85(m,1H)、5. 17(m,1H)、6.00(d,1H)、6.23(d,1H)。 NMR(77):δ=0.05(m,12H)、0.10(s,9H)、0.56(s,3H) 、0.87(s,18H)、1.22(s,6H)、1.37(d,3H)、1.10−2.10( m,15H)、2.20(dd,1H)、2.44(dd,1H)、2.55(m,2H)、2.65( m,1H)、2.82(m,1H)、4.17(m,1H)、4.36(m,1H)、4.85(m, 1H)、5.17(m,1H)、6.01(d,1H)、6.22(d,1H)。 製造例6020(S)−(4−メチルベンゼンスルホニルオキシメチル)− 8(S)−(メチルジフェニルシリルオキシ)−デ−A,B−プレグナン(化合 物79) 化合物78(15.9g)[リトゲー,ビー(Lythgoe,B.)ら、ジャーナ ル・オブ・ザ・ケミカル・ソサエティ,パーキン・トランザクションズ(J.Ch em.Soc.,Perkin Trans.)1、2608−2612(1977)]、およびイ ミダゾール(7.39g)を、DMF(25Oml)に溶解した。ジフェニルメチル クロロシラン(11.9ml)を加え、反応混合物をアルゴン雰囲気中で20時間 攪拌した。反応混合物を、水/氷およびジエチルエーテルに分配した。有機相を 塩酸(1N)で洗い、処理した。残渣をクロマトグラフィー(酢酸エチル/石油 エーテル:1/10)により精製して、標記化合物を得た。 NMR:δ=0.62(s,3H)、0.97(d,3H)、0.99(s,3H)1.05− 2.00(m,13H)、2.45(s,3H)、3.80(dd,1H)、3.96(dd,1H)、 4.13(m,1H)、7.37(m,8H)、7.58(m,4H)、7.79(m,2H)。 製造例6120(S)−ホルミル−8(S)−(メチルジフェニルシリルオ キシ)−デ−A,B−プレグナン(化合物80) 化合物79(5.80g)および乾燥炭酸水素ナトリウム(908mg)を、D MSO(150ml、予め150℃に10分間加熱し、アルゴン雰囲気中で室温に 戻した もの)に溶解し、その溶液を110℃に90分間加熱した。混合物を室温に冷却 し、処理した。残渣をクロマトグラフィー(ジエチルエーテル/石油エーテル: 1/20)に付して、標記化合物を得た。 NMR:δ=0.62(s,3H)、1.06(s,3H)、1.09(d,3H)、1.05 −2.00(m,12H)、2.37(m,1H)、4.16(m,1H)、7.37(m,6H)、 7.57(m,4H)、9.57(d,1H)。 製造例6220(S)−クロロカルボニル−8(S)−(メチルジフェニル シリルオキシ)−デ−A,B−プレグナン(化合物81) 化合物80(2.97g)を、四塩化炭素(40ml)に溶解し、次亜塩素酸t− ブチル(1.30m1)を周囲温度で加えた。アルゴン雰囲気中で90分間攪拌後 、更に次亜塩素酸t−ブチル(0.50ml)を加えた。更に90分後、反応混合物 を減圧下に濃縮して、標記化合物を得た。これを、更に精製することなく、すぐ に使用した。 NMR:δ=0.63(s,3H)、1.06(s,3H)、1.33(d,3H)、1.00 −2.00(m,12H)、2.83(m,1H)、4.16(m,1H)、7.36(m,6H)、 7.57(m,4H)。 製造例6320(S)−[[エトキシ(チオカルボニル)チオ]−カルボニ ル]−8(S)−(メチルジフェニルシリルオキシ)−デ−A,B−プレグナン (化合物82) 粗化合物81をアセトン(40ml)に溶解し、アルゴン雰囲気中、−30℃で 攪拌しながら、ジチオ炭酸O−エチルカリウム(1.19g)をゆっくりと(2 0分間)加えた。温度を1時間保った後、室温にした。全部で3時間後、反応混 合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗い、処理(ジクロロメタン)した。ク ロマトグラフィー(ジクロロメタン/石油エーテル:1/3)により、標記化合 物を得た。 NMR:δ=0.62(s,3H)、1.03(s,3H)、1.24(d,3H)、1.47 (t,3H)、1.12−1.96(m,12H)、2.52(m,1H)、4.15(m,1H)、 4.67(q,2H)、7.36(m,6H)、7.57(m,4H)。 製造例6420(S)/20(R)−[エトキシ(チオカルボニル)チオ] −8(S)−(メチルジフェニルシリルオキシ)−デ−A,B−プレグナン(化 合物83/84) アルゴン雰囲気中、パイレックスフラスコ内で、化合物82(3.23g)を 、ベンゼン(70ml)に溶解した。反応混合物を60℃に加熱し、高圧紫外線ラ ンプ、タイプTQ760Z2(ハナウ)のUV光を、攪拌下に20分間照射した 。反応混合物を減圧下に濃縮し、更に精製を行わずに標記化合物を得た。 NMR(83):δ=0.63(s,3H)、1.14(s,3H)、1.42(t,3H)、 1.47(d,3H)、1.00−2.03(m,12H)、3.79(m,1H)、4.15(m, 1H)、4.65(q,2H)、7.36(m,6H)、7.58(m,4H)。 NMR(84):δ=0.63(s,3H)、1.08(s,3H)、1.39(d,3H)、 1.42(t,3H)、1.00−2.00(m,11H)、2.24(m,1H)、3.68(m, 1H)、4.15(m,1H)、4.65(q,2H)、7.36(m,6H)、7.58(m,4H )。 製造例6520(S)/20(R)−[エトキシ(チオカルボニル)チオ] −デ−A,B−プレグナン−8(S)−オール(化合物85/86) 酢酸エチル(20ml)中の化合物83および84(3.06g)の混合物に、 アセトニトリル(10ml)、次いで、アセトニトリル:水(7:1)中のフッ化 水素酸の5%溶液(30ml)を、アルゴン雰囲気中で攪拌しながら加えた。周囲 温度で1時間攪拌を続けた。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(100m1)を加え 、反応混合物を処理(酢酸エチル)した。残渣をクロマトグラフィー(ジエチル エーテル/石油エーテル:1/3)により精製して、標記化合物の混合物を得た 。 NMR(85):δ=1.03(s,3H)、1.40(t,3H)、1.44(d,3H)、 1.00−2.05(m,13H)、3.75(m,1H)、4.07(m,1H)、4.63(m, 2H)。 NMR(86):δ=0.96(s,3H)、1.37(d,3H)、1.40(t,3H)、 1.00−2.05(m,12H)、2.22(m,1H)、3.63(m,1H)、4.07(m, 1H)、4.63(m,2H)。 製造例6620(S)/20(R)−[エトキシ(チオカルボニル)チオ] −デ−A,B−プレグナン−8−オン(化合物87/88) ジクロロメタン(4.0ml)中の塩化オキサリル(259mg)の溶液に、アル ゴン 雰囲気中、−65℃で攪拌しながら、ジクロロメタン(2.0ml)に溶解したD MSO(319mg)を5分間にわたって加えた。反応混合物を5分間攪拌し、ジ クロロメタン(2.0ml)中の化合物85および86の溶液を5分間にわたって 加えた。更に15分間攪拌を続けた。トリエチルアミン(1.25ml)を加えた 。反応混合物を15分間攪拌後、室温に昇温させた。塩酸(1N、15ml)を加 え、反応混合物を処理(ジクロロメタン)して、標記化合物の混合物を得た。 NMR(87):δ=0.75(s,3H)、1.42(t,3H)、1.51(d,3H)、 1.35−2.56(m,12H)、3.79(m,1H)、4.65(q,2H)。 NMR(88):δ=0.69(s,3H)、1.41(d,3H)、1.43(t,3H)、 1.35−2.56(m,12H)、3.67(m,1H)、4.65(q,2H)。 製造例6720(S)/20(R)−メルカプト−デ−A,B−プレグナン −8−オン(化合物89/90) 乾燥DMF(15ml)中の化合物87および88(512mg)の溶液に、アル ゴン雰囲気中で攪拌しながら、アミノエタノール(1.50ml)を加えた。周囲 温度で1時間後、反応混合物を処理(ジエチルエーテル)した。残渣をクロマト グラフィー(ジエチルエーテル/石油エーテル:1/2)により精製して、標記 化合物の混合物を得た。 NMR(89):δ=0.66(s,3H)、1.44(d,3H)、1.30−2.62(m ,13H)、2.93(m,1H)。 NMR(90):δ=0.70(s,3H)、1.37(d,3H)、1.30−2.62(m ,13H)、2.86(m,1H)。 製造例68化合物91および92 方法:一般工程9 アルキル化剤:4−ブロモ−2−メチル−2−トリメチルシリルオキシブタン (0.30g) NMR(91):δ=0.09(s,9H)、0.70(s,3H)、1.21(s,6H)、 1.28(d,3H)、1.00−2.75(m,17H)。 NMR(92):δ=0.09(s,9H)、0.66(s,3H)、1.21(s,6H)、 1.39(d,3H)、1.00−2.75(m,17H)。 製造例69化合物93および94 方法:一般工程9 アルキル化剤:6−ブロモ−2−メチル−2−トリメチルシリルオキシヘキサ ン(0.26g) NMR(93):δ=0.08(s,9H)、0.70(s,3H)、1.18(s,6H)、 1.28(d,3H)、1.15−2.25(m,21H)。 NMR(94):δ=0.08(s,9H)、0.66(s,3H)、1.18(s,6H)、 1.38(d,3H)、1.15−2.25(m,21H)。 製造例70化合物95および96 方法:一般工程9 アルキル化剤:3−(1−メチル−1−[トリメチルシリルオキシ]エチル) ベンジルブロミド(0.27g) NMR(95):δ=0.09(s,9H)、0.44(s,3H)、1.31(d,3H)、 1.55(s,6H)、1.20−2.65(m,13H)、3.71(m,2H)、7.15(m, 1H)、7.23(t,1H)、7.30(m,1H)、7.39(m,1H)。 NMR(96):δ=0.08(s,9H)、0.54(s,3H)、1.40(d,3H)、 1.55(s,6H)、1.20−2.65(m,13H)、3.73(m,2H)、7.15(m, 1H)、7.23(t,1H)、7.30(m,1H)、7.39(m,1H)。 製造例71化合物56および57 方法:一般工程10 出発物質:化合物93および94 NMR(56):δ=0.05(m,12H)、0.09(s,9H)、0.60(s,3H) 、0.86(s,18H)、1.19(s,6H)、1.27(d,3H)、1.10−2.12( m,19H)、2.20(dd,1H)、2.43(m,1H)、2.48(m,2H)、2.63(m ,1H)、2.82(m,1H)、4.18(m,1H)、4.36(m,1H)、4.85(m,1 H)、5.17(m,1H)、6.00(d,1H)、6.22(d,1H)。 NMR(57):δ=0.05(m,12H)、0.09(s,9H)、0.55(s,3H) 、 0.86(s,18H)、1.19(s,6H)、1.36(d,3H)、1.10−2.12(m, 19H)、2.20(dd,1H)、2.43(m,1H)、2.48(m,2H)、2.63(m, 1H)、2.82(m,1H)、4.18(m,1H)、4.36(m,1H)、4.85(m,1 H)、5.17(m,1H)、6.00(d,1H)、6.22(d,1H)。 製造例72化合物58および59 方法:一般工程10 出発物質:化合物95および96 NMR(58):δ=0.05(m,12H)、0.08(s,9H)、0.39(s,3H) 、0.86(s,9H)、0.87(s,9H)、1.29(d,3H)、1.56(s,6H)、1 .15−2.10(m,13H)、2.20(dd,1H)、2.44(m,1H)、2.52(m, 1H)、2.80(m,1H)、3.71(s,2H)、4.18(m,1H)、4.35(m,1H )、4.84(m,1H)、5.16(m,1H)、5.98(d,1H)、6.21(d,1H)、 7.12−7.34(m,3H)、7.40(m,1H)。 NMR(59):δ=0.05(m,12H)、0.08(s,9H)、0.45(s,3H) 、0.86(s,9H)、0.87(s,9H)、1.38(d,3H)、1.56(s,6H)、1 .15−2.10(m,13H)、2.20(dd,1H)、2.44(m,1H)、2.52(m, 1H)、2.80(m,1H)、3.73(s,2H)、4.18(m,1H)、4.35(m,1H )、4.84(m,1H)、5.16(m,1H)、5.98(d,1H)、6.21(d,1H)、 7.12−7.34(m,3H)、7.40(m,1H)。 実施例11(S),3(R)−ジヒドロキシ−20(R)−(3−エチル− 3−ヒドロキシ−1−ペンチルチオ)−9,10−セコプレグナ−5(Z),7( E),10(19)−トリエン(化合物101) 方法:一般工程4 出発物質:化合物42 実施例21(S),3(R)−ジヒドロキシ−20(S)−(3−エチル− 3−ヒドロキシ−1−ペンチルチオ)−9,10−セコプレグナ−5(Z),7( E),10(19)−トリエン(化合物102) 方法:一般工程4 出発物質:化合物43 実施例31(S),3(R)−ジヒドロキシ−20(R)−(4−エチル− 4−ヒドロキシ−1−ヘキシルチオ)−9,10−セコプレグナ−5(Z),7( E),10(19)−トリエン(化合物103) 方法:一般工程4 出発物質:化合物44 NMR:δ=0.62(s,3H)、0.86(t,6H)、1.28(d,3H)、1.46 (q,4H)、1.15−2.10(m,20H)、2.32(dd,1H)、2.52(m,2H) 、2.60(dd,1H)、2.66(m,1H)、2.83(m,1H)、4.23(m,1H)、 4.43(m,1H)、5.00(m,1H)、5.33(m,1H)、6.01(d,1H)、6. 38(d,1H)。 実施例41(S),3(R)−ジヒドロキシ−20(S)−(4−エチル− 4−ヒドロキシ−1−ヘキシルチオ)−9,10−セコプレグナ−5(Z),7( E),10(19)−トリエン(化合物104) 方法:一般工程4 出発物質:化合物45 NMR:δ=0.58(s,3H)、0.86(t,6H)、1.38(d,3H)、1.47 (q,4H)、1.20−2.15(m,20H)、2.31(dd,1H)、2.53(m,2H) 、2.60(dd,1H)、2.65(m,1H)、2.83(dd,1H)、4.23(m,1H)、 4.43(m,1H)、5.00(m,1H)、5.33(m,1H)、6.02(d,1H)、6. 37(d,1H)。 実施例51(S),3(R)−ジヒドロキシ−20(R)−(5−エチル− 5−ヒドロキシ−1−ヘプチルチオ)−9,10−セコプレグナ−5(Z),7( E),10(19)−トリエン(化合物105) 方法:一般工程4 出発物質:化合物46 実施例61(S),3(R)−ジヒドロキシ−20(S)−(5−エチル− 5−ヒドロキシ−1−ヘプチルチオ)−9,10−セコプレグナ−5(Z),7( E),10(1 9)−トリエン(化合物106) 方法:一般工程4 出発物質:化合物47 実施例71(S),3(R)−ジヒドロキシ−20(R)−[3−(1−エ チル−1−ヒドロキシプロピル)ベンジルチオ]−9,10−セコプレグナ−5( Z),7(E),10(19)−トリエン(化合物107) 方法:一般工程4 出発物質:化合物48 実施例81(S),3(R)−ジヒドロキシ−20(S)−[3−(1−エ チル−1−ヒドロキシプロピル)ベンジルチオ]−9,10−セコプレグナ−5 (Z),7(E),10(19)−トリエン(化合物108) 方法:一般工程4 出発物質:化合物49 実施例91(S),3(R)−ジヒドロキシ−20(R)−[4−エチル− 4−ヒドロキシ−ヘキサ−2−エン−1−イルチオ]−9,10−セコプレグナ −5(Z),7(E),10(19)−トリエン(化合物109) 方法:一般工程4 出発物質:化合物50 実施例101(S),3(R)−ジヒドロキシ−20(S)−[4−エチル −4−ヒドロキシ−ヘキサ−2−エン−1−イルチオ]−9,10−セコプレグ ナ−5(Z),7(E),10(19)−トリエン(化合物110) 方法:一般工程4 出発物質:化合物51 実施例111(S),3(R)−ジヒドロキシ−20(R)−[4−エチル −4−ヒドロキシ−ヘキサ−2−イン−1−イルチオ]−9,10−セコプレグ ナ−5(Z),7(E),10(19)−トリエン(化合物111) 方法:一般工程4 出発物質:化合物52 実施例121(S),3(R)−ジヒドロキシ−20(S)−[4−エチル −4−ヒドロキシ−ヘキサ−2−イン−1−イルチオ]−9,10−セコプレグ ナ−5(Z),7(E),10(19)−トリエン(化合物112) 方法:一般工程4 出発物質:化合物53 実施例131(S),3(R)−ジヒドロキシ−20(R)−[4−メチル −4−ヒドロキシ−ペンタ−1−イルチオ]−9,10−セコプレグナ−5(Z ),7(E),10(19)−トリエン(化合物113) 方法:一般工程4 出発物質:化合物54 実施例141(S),3(R)−ジヒドロキシ−20(S)−[4−メチル −4−ヒドロキシ−ペンタ−1−イルチオ]−9,10−セコプレグナ−5(Z ),7(E),10(19)−トリエン(化合物114) 方法:一般工程4 出発物質:化合物55 実施例151(S),3(R)−ジヒドロキシ−20(R)−[5−メチル −5−ヒドロキシ−ヘキサ−1−イルチオ]−9,10−セコプレグナ−5(Z ),7(E),10(19)−トリエン(化合物115) 方法:一般工程4 出発物質:化合物56 NMR:δ=0.62(s,3H)、1.21(s,6H)、1.28(d,3H)、1.15 −2.15(m,22H)、2.31(dd,1H)、2.43−2.70(m,4H)、2.83 (m,1H)、4.23(m,1H)、4.43(m,1H)、5.00(m,1H)、5.33(m, 1H)、6.00(d,1H)、6.38(d,1H)。 実施例161(S),3(R)−ジヒドロキシ−20(S)−[5−メチル −5−ヒドロキシ−ヘキサ−1−イルチオ]−9,10−セコプレグナ−5(Z ),7(E),10(19)−トリエン(化合物116) 方法:一般工程6 出発物質:化合物57 NMR:δ=0.58(s,3H)、1.22(s,6H)、1.38(d,3H)、1.15 −2.15(m,22H)、2.31(dd,1H)、2.50−2.70(m,4H)、2.83 (m,1H)、4.23(m,1H)、4.44(m,1H)、5.00(m,1H)、5.33(m, 1H)、6.02(d,1H)、6.37(d,1H)。 実施例171(S),3(R)−ジヒドロキシ−20(R)−[3−(1− メチル−1−ヒドロキシエチル)ベンジルチオ]−9,10−セコプレグナ−5 (Z),7(E),10(19)−トリエン(化合物117) 方法:一般工程4 出発物質:化合物58 NMR:δ=0.41(s,3H)、1.30(d,3H)、1.57(s,6H)、1.15 −2.10(m,16H)、2.30(dd,1H)、2.40−2.65(m,2H)、2.81 (m,1H)、3.73(m,2H)、4.22(m,1H)、4.42(m,1H)、4.97(m, 1H)、5.31(m,1H)、5.97(d,1H)、6.35(d,1H)、7.15−7. 38(m,3H)、7.48(m,1H)。 実施例181(S),3(R)−ジヒドロキシ−20(S)−[3−(1− メチル−1−ヒドロキシエチル)ベンジルチオ]−9,10−セコプレグナ−5( Z),7(E),10(19)−トリエン(化合物118) 方法:一般工程4 出発物質:化合物59 NMR:δ=0.49(s,3H)、1.40(d,3H)、1.58(s,6H)、1.1 5−2.10(m,16H)、2.30(dd,1H)、2.56(m,1H)、2.58(dd,1 H)、2.81(m,1H)、3.75(m,2H)、4.22(m,1H)、4.42(m,1H) 、4.98(m,1H)、5.32(m,1H)、5.99(d,1H)、6.35(d,1H)、7 .15−7.38(m,3H)、7.46(m,1H)。 実施例191(S),3(R)−ジヒドロキシ−20(R)−[4−メチル −4−ヒドロキシ−ペンタ−2−エン−1−イルチオ]−9,10−セコプレグ ナ−5(Z),7(E),10(19)−トリエン(化合物119) 方法:一般工程4 出発物質:化合物60 実施例201(S),3(R)−ジヒドロキシ−20(S)−[4−メチル −4−ヒドロキシ−ペンタ−2−エン−1−イルチオ]−9,10−セコプレグ ナ−5(Z),7(E),10(19)−トリエン(化合物120) 方法:一般工程4 出発物質:化合物61 実施例211(S),3(R)−ジヒドロキシ−20(R)−[4−メチル −4−ヒドロキシ−ペンタ−2−イン−1−イルチオ]−9,10−セコプレグ ナ−5(Z),7(E),10(19)−トリエン(化合物121) 方法:一般工程4 出発物質:化合物62 実施例221(S),3(R)−ジヒドロキシ−20(S)−[4−メチル −4−ヒドロキシ−ペンタ−2−イン−1−イルチオ]−9,10−セコプレグ ナ−5(Z),7(E),10(19)−トリエン(化合物122) 方法:一般工程4 出発物質:化合物63 実施例231(S),3(R)−ジヒドロキシ−20(R)−(5−エチル −5−ヒドロキシ−1−ヘプチル−(R)−スルフィニル)−9,10−セコプ レグナ−5(Z),7(E),10(19)−トリエン(化合物123) 方法:一般工程4 出発物質:化合物64 実施例241(S),3(R)−ジヒドロキシ−20(R)−(5−エチル −5−ヒドロキシ−1−ヘプチル−(S)−スルフィニル)−9,10−セコプ レグナ−5(Z),7(E),10(19)−トリエン(化合物124) 方法:一般工程4 出発物質:化合物65 実施例251(S),3(R)−ジヒドロキシ−20(S)−(5−エチル −5−ヒ ドロキシ−1−ヘプチル−(R)−スルフィニル)−9,10−セコプレグナ− 5(Z),7(E),10(19)−トリエン(化合物125) 方法:一般工程4 出発物質:化合物66 実施例261(S),3(R)−ジヒドロキシ−20(S)−(5−エチル −5−ヒドロキシ−1−ヘプチルー(S)−スルフィニル)−9,10−セコプレ グナ−5(Z),7(E),10(19)−トリエン(化合物126) 方法:一般工程4 出発物質:化合物67 実施例271(S),3(R)−ジヒドロキシ−20(R)−(5−エチル −5−ヒドロキシ−1−ヘプチルスルホニル)−9,10−セコプレグナ−5( Z),7(E),10(19)−トリエン(化合物127) 方法:一般工程5 出発物質:化合物68 実施例281(S),3(R)−ジヒドロキシ−20(S)−(5−エチル −5−ヒドロキシ−1−ヘプチルスルホニル)−9,10−セコプレグナ−5( Z),7(E),10(19)−トリエン(化合物128) 方法:一般工程5 出発物質:化合物69 実施例291(S),3(R)−ジヒドロキシ−20(R)−[3−(1− メチル−1−ヒドロキシエチル)ベンジル−(R)−スルフィニル]−9,10 −セコプレグナ−5(Z),7(E),10(19)−トリエン(化合物129) 方法:一般工程4 出発物質:化合物70 実施例301(S),3(R)−ジヒドロキシ−20(R)−[3−(1− メチル−1−ヒドロキシエチル)ベンジル−(S)−スルフィニル]−9,10 −セコプレグナ−5(Z),7(E),10(19)−トリエン(化合物130) 方法:一般工程4 出発物質:化合物71 実施例311(S),3(R)−ジヒドロキシ−20(S)−[3−(1− メチル−1−ヒドロキシエチル)ベンジル−(R)−スルフィニル]−9,10 −セコプレグナ−5(Z),7(E),10(19)−トリエン(化合物131) 方法:一般工程4 出発物質:化合物72 実施例321(S),3(R)−ジヒドロキシ−20(S)−[3−(1− メチル−1−ヒドロキシエチル)ベンジル−(S)−スルフィニル]−9,10 −セコプレグナ−5(Z),7(E),10(19)−トリエン(化合物132) 方法:一般工程4 出発物質:化合物73 実施例331(S),3(R)−ジヒドロキシ−20(R)−[3−(1− メチル−1−ヒドロキシエチル)ベンジルスルホニル]−9,10−セコプレグ ナ−5(Z),7(E),10(19)−トリエン(化合物133) 方法:一般工程5 出発物質:化合物74 実施例341(S),3(R)−ジヒドロキシ−20(S)−[3−(1− メチル−1−ヒドロキシエチル)ベンジルスルホニル]−9,10−セコプレグ ナ−5(Z),7(E),10(19)−トリエン(化合物134) 方法:一般工程5 出発物質:化合物75 実施例351(S),3(R)−ジヒドロキシ−20(R)−(3−メチル −3−ヒドロキシ−1−ブチルチオ)−9,10−セコプレグナ−5(Z),7( E),10(19)−トリエン(化合物135) 方法:一般工程5 出発物質:化合物76 NMR:δ=0.62(s,3H)、1.24(s,6H)、1.30(d,3H)、1.10 −2.10(m,18H)、2.31(dd,1H)、2.45(m,1H)、2.61(m,2H) 、 2.70(m,1H)、2.82(m,1H)、4.23(m,1H)、4.43(m,1H)、5. 00(m,1H)、5.33(m,1H)、6.01(d,1H)、6.38(d,1H)。 実施例361(S),3(R)−ジヒドロキシ−20(S)−(3−メチル −3−ヒドロキシ−1−ブチルチオ)−9,10−セコプレグナ−5(Z),7( E),10(19)−トリエン(化合物136) 方法:一般工程5 出発物質:化合物77 NMR:δ=0.58(s,3H)、1.25(s,6H)、1.39(d,3H)、1.20 −2.10(m,18H)、2.31(dd,1H)、2.59(m,1H)、2.63(m,2H) 、2.69(m,1H)、2.83(m,1H)、4.23(m,1H)、4.44(m,1H)、4 .99(m,1H)、5.33(m,1H)、6.02(d,1H)、6.36(d,1H)。 実施例37化合物103を含有するカプセル 化合物103をピーナツ油に溶解して、最終濃度1μg/ml油とした。ゼラチ ン10重量部、グリセリン5重量部、ソルビン酸カリウム0.08重量部および 蒸留水14重量部を加熱しながら混合し、軟ゼラチンカプセルを形成した。これ に、化合物103の油溶液を100μlずつ充填した。 実施例38化合物103を含有する皮膚用クリーム アーモンド油(1g)に、化合物103(0.05mg)を溶解した。この溶液 に、鉱油(40g)および自己乳化性蜜蝋(20g)を加えた。混合物を加熱して 液化した。熱水(40ml)を加えた後、混合物をよく混合した。得られるクリー ムは、クリーム1g当たり化合物103を約0.5μg含有する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI A61K 31/59 ADP 9454−4C ADS 9454−4C (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FR,GB,GR,IE,IT,LU,M C,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF,CG ,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE,SN, TD,TG),AU,BB,BG,BR,BY,CA, CZ,FI,HU,JP,KP,KR,KZ,LK,L V,MG,MN,MW,NO,NZ,PL,RO,RU ,SD,SK,UA,US,UZ,VN (72)発明者 オットーセン、エリック・リッター デンマーク国デェ・カー‐2100コペンハー ゲン・エー、ガメル・カルクブレネリヴァ イ29番、フィアーデサル・サル、チル・ベ ンストレ

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.式I [式中、Yはイオウ、S(O)またはS(O)2であり;RはC1−C3アルキル レン基である。] で示される化合物、および1個またはそれ以上のヒドロキシル基が、インビボで ヒドロキシル基に再生し得る基としてマスクされた化合物Iのプロドラッグ。 2.Yがイオウであり、QがC2−C4アルキレンである請求項1記載の式Iで 示される化合物。 3.純粋な形態の請求項1または2記載の化合物の立体異性体;またはそのよ うな立体異性体の混合物。 4.C−20において−配置の飽和側鎖を有する請求項3記載の化合物の立 体異性体。 5.a)1(S),3(R)−ジヒドロキシ−20(R)−(4−エチル−4 −ヒドロキシ−1−ヘキシルチオ)−9,10−セコプレグナ−5(Z),7(E ),10(19)−トリエン b)1(S),3(R)−ジヒドロキシ−20(R)−[5−メチル−5−ヒ ドロキシ−1−ヘキシルチオ]−9,10−セコプレグナ−5(Z),7(E), 10(19)−ト リエン c)1(S),3(R)−ジヒドロキシ−20(R)−[3−(1−メチル− 1−ヒドロキシエチル)ベンジルチオ]−9,10−セコプレグナ−5(Z),7 (E),10(19)−トリエン、または d)1(S),3(R)−ジヒドロキシ−20(R)−(3−メチル−3−ヒ ドロキシ−1−ブチルチオ)−9,10−セコプレグナ−5(Z),7(E),10 (19)−トリエン である請求項1記載の化合物。 6.請求項1記載の式Iで示される化合物の製法であって、下記工程を含んで 成る方法: a)1(S),3(R)−ビス−(ヒドロキシ−保護)−20(S)−ホルミ ル−9,10−セコプレグナ−5(Z),7(E),10(19)−トリエンと、 次亜塩素酸t−ブチルとの反応により、式2: [式中、 O−Pは保護されたヒドロキシル基(例えばシリル基)である。] で示される生成物を得; b)化合物2を、ジチオ炭酸O−エチルカリウムによる置換反応に付して、式 3: [式中、Nは前記と同意義である。] で示される生成物を得; c)化合物3を、不活性媒体(例えばベンゼン)中で光化学反応に付して(こ の反応において、最初に生成したアシル基を適当な温度で脱カルボニル化してア ルキル基を形成すると、このアルキル基は、O−エチルジチオカーボネート基と 優先的に結合する)、式4および5: [式中、Nは前記と同意義である。] で示される2種のC−20異性体を生成し; d)化合物4もしくは5またはそれらの混合物をアミノエタノールで処理して 、式6もしくは7: [式中、Nは前記と同意義である。] で示されるチオールまたはそれらの混合物に変換し; e)化合物6もしくは7またはそれらの混合物を、溶媒(例えばDMF)中の 塩基(例えば炭酸カリウム)および式IV: 形成し得;QはC1−C8ヒドロカルビレン基であり;Zは保護基(例えばシリル )またはヒドロキシル基であり;Tは適当な脱離基(例えばブロミド)である。 ]で示される適当なアルキル化剤と反応させて、式II: [式中、N,Y,Q,ZおよびRは、前記と同意義である。] で示される生成物を、2種のC−20異性体の混合物として、または純粋なエナ ンチオマーの形態で得; f)化合物IIを、三重項増感剤(例えばアントラセン)の存在下のUV光によ る異性化、および保護基の除去(例えばフッ化水素酸またはテトラ−n−ブチル アンモニウムフロリドによるシリル基の除去)に任意の順序で付して、請求項1 記載の式Iで示される所望の化合物を、純粋なエナンチオマーの形態で、または 立体異性体混合物として生成する。 7.請求項1記載の式Iで示される化合物の製法であって、下記工程を含んで 成る方法: 20(S)−ホルミル−8(S)−(ヒドロキシ−保護)−デ−A,B−プレ グナンを、 a)次亜塩素酸t−ブチルとの反応により、酸クロリドとし、 b)その化合物を、ジチオ炭酸O−エチルカリウムによる置換反応に付して、 式82: [式中、O−Pは保護されたヒドロキシル基(例えばシリル基)である。] で示される化合物を得; c)化合物82を、不活性媒体(例えばベンゼン)中で光化学反応に付して( この反応において、最初に生成したアシル基を適当な温度で脱カルボニル化して アルキル基を形成すると、このアルキル基は、O−エチルジチオカーボネート基 と優先的に結合する)、式83および84: [式中、O−Pは前記と同意義である。] で示される2種のC−20異性体を生成し; d)化合物83もしくは84またはそれらの混合物を脱保護(例えばフッ化水 素酸またはテトラ−n−ブチルアンモニウムフロリドによるシリル基の除去)に 付して、対応するヒドロキシ化合物を生成し、次いで e)酸化(例えばジメチルスルホキシド含有試薬)により、ケトンを得、 f)その化合物をアミノエタノールで処理して、式89もしくは90: で示されるチオールまたはそれらの混合物に変換し; g)化合物89もしくは90またはそれらの混合物を、溶媒(例えばDMF) 中の塩基(例えば炭酸カリウム)および請求項6記載の式IVで示される適当なア ルキル化剤と反応させて、式V: [式中、Y,Q,ZおよびRは、請求項6のものと同意義である。] で示される生成物を、異性体の混合物として、または純粋なエナンチオマーの形 態で得; h)化合物Vまたはその混合物を、[1Z,3S,5R]−[2−[3,5−ビス −[t−ブチルジメチルシリルオキシ]−2−メチレンシクロヘキシリデン]エ チル]−ジフェニルホスフィンオキシドのアニオンと、ホルナー−ヴィッティッ ヒ反応によりカップリングして、式III: [式中、Y,Q,ZおよびRは前記と同意義である。] で示される生成物を、立体異性体混合物として、または純粋なエナンチオマーの 形態で得; i)化合物IIIまたはその混合物を脱保護(例えばテトラ−n−ブチルアンモ ニウムフロリドまたはフッ化水素酸による)に付して、請求項1記載の式Iで示 される所望の化合物を、純粋なエナンチオマーの形態で、または立体異性体混合 物として生成する。 8.請求項1〜5のいずれかに記載の化合物1種またはそれ以上の有効量を、 薬学的に許容し得る無毒性担体および/または助剤と共に含有する薬剤組成物。 9.式Iで示される化合物を0.1ppmないし0.1重量%含有する用量単位 の形態である請求項8記載の薬剤組成物。 10.上皮小体機能亢進症および自己免疫疾患(真性糖尿病を含む)、高血圧 症、アクネ、脱毛症、皮膚の老化(光老化を含む)、免疫系の平衡失調、炎症性 疾患、例えばリューマチ様関節炎および喘息、異常な細胞分化および/または細 胞増殖により特徴付けられる疾病、例えば乾癬、ステロイド誘導性皮膚萎縮を包 含する多くの病態を治療および予防するため、並びに骨形成を促進するため、お よびオステオポローシスを処置するための方法であって、請求項8記載の薬剤組 成物の有効量を患者に投与することを含んで成る方法。 11.上皮小体機能亢進症および自己免疫疾患(真性糖尿病を含む)、高血圧 症、アクネ、脱毛症、皮膚の老化(光老化を含む)、免疫系の平衡失調、炎症性 疾患、例えばリューマチ様関節炎および喘息、異常な細胞分化および/または細 胞増殖により特徴付けられる疾病、例えば乾癬、ステロイド誘導性皮膚萎縮を包 含する多くの病態を治療および予防するため、並びに骨形成を促進するため、お よびオステオポローシスを処置するための薬剤の製造における、請求項1〜5の いずれかに記載の化合物の用途。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2010524973A (ja) * 2007-04-18 2010-07-22 ジョンズ ホプキンス ユニバーシティ カルシトリオールの低カルシウム血性、高抗増殖性類似体
JP4803939B2 (ja) * 2000-04-19 2011-10-26 中外製薬株式会社 ビタミンd誘導体

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