JPH0847747A - 銅の連続鋳造方法およびその装置 - Google Patents

銅の連続鋳造方法およびその装置

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JPH0847747A
JPH0847747A JP18618594A JP18618594A JPH0847747A JP H0847747 A JPH0847747 A JP H0847747A JP 18618594 A JP18618594 A JP 18618594A JP 18618594 A JP18618594 A JP 18618594A JP H0847747 A JPH0847747 A JP H0847747A
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正義 青山
Takao Ichikawa
貴朗 市川
Takashi Nemoto
孝 根本
Masahito Watabe
雅人 渡部
Daisuke Ikeda
大亮 池田
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Abstract

(57)【要約】 【目的】低い酸素濃度の場合でも、水素の発生を抑制
し、伸線時の断線を防止する。 【構成】シャフト路1から保持路2を経て出てくる溶銅
を流す鋳造樋3に、真空槽9と真空ポンプ10とからな
る真空引装置Aを設置する。真空ポンプ10は比較的低
真空のロータリーポンプ等でよい。鋳造樋3を流れる鋳
造前の溶銅7を、6.65×103 Pa以下の真空度に
真空引きを行いながら鋳造する。このとき、同時に不活
性ガス供給管11から不活性ガス(N2 、Ar)を鋳造
樋3、タンディッシュ5、ツインベルト6に送って、溶
銅7の表面を不活性ガスでシールする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はブローホールを低減した
銅の連続鋳造方法およびその装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図3は、銅を連続鋳造する従来のコンチ
ロッド鋳造機を示す。電解銅板をシャフト炉1で溶解
し、溶銅7は保持炉2を通り、鋳造樋3を経てノズル4
からタンディッシュ5に注湯される。その後、溶銅7は
ツイルベルト6により連続鋳造(70mm×100mm)さ
れ、熱間圧延を経てφ8mmの銅線となる。
【0003】φ8mmの銅線を製造する場合、酸素量が通
常の200〜450ppm のときには、φ8mm銅線に生じ
る傷は少ないが、200ppm 以下では傷が多い。
【0004】φ0.1mm以下の極細線を製造する場合、
酸素濃度が高いと、一種の欠陥として作用する。例え
ば、600〜700ppm のような高酸素濃度では、伸線
時Cu2 O粒子が多いため、断線し易いという問題があ
る。このため、酸素濃度を低めることが望ましい。しか
し、酸素濃度を200ppm 以下にすると、下記の平衡式
にしたがって、 H2 O←→2H+O 水素によるブローホールが発生し、φ0.1mm銅線に生
じる傷が増大し伸線時断線する。そのため酸素濃度は約
200ppm より下げることができない。
【0005】一方、低酸素銅線を作る技術において、即
ちSCR鋳造機において、ブタンガスを調整して酸素濃
度を50ppm 以下にすると、水素によるブローホールが
発生し、これに起因して伸線時断線に至る。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上述したように従来技
術には次のような問題があった。
【0007】(1)極細線向けに酸素濃度を200ppm
以下にして銅線を製造すると、水素によるブローホール
の傷が形成され、これによって伸線時断線に至る。
【0008】(2)低酸素銅線を作る場合、酸素濃度を
50ppm 以下にすると、水素によるブローホールが発生
し、これに起因して伸線時断線に至る。
【0009】本発明の目的は、前記した従来技術の欠点
を解消し、低い酸素濃度の場合でも、水素の発生を抑制
し、伸線時の断線を防止しようとする銅の連続鋳造方法
およびその装置を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の銅の連続鋳造方
法は、鋳造前の溶銅を6.65×103 Pa以下の真空
度に真空引きを行いながら鋳造するようにして、水素発
生を抑制したものである。この場合、同時に溶銅表面を
不活性ガスでシールするとよい。不活性ガスとしてはN
2 またはArガスなどがある。
【0011】溶銅の真空引の真空度を6.65×103
Pa以下と限定したのは、6.65×103 Pa以下で
水素のブローホール低減効果が高いからである。また、
特に真空引の真空度を6.65×102 Pa以下とする
とブローホール低減効果が著しいので好ましい。
【0012】また、本発明の銅の連続鋳造装置は、溶銅
を鋳造樋からタンディッシュを経て鋳型に供給する銅の
連続鋳造装置において、上記鋳造樋内の溶銅中に開口し
た底部が浸漬する真空槽と、該真空槽中に挿入された真
空引き配管を有し、真空槽中を真空引きする真空引装置
と、上記鋳造樋、タンディッシュ、および上記鋳型の入
口に開口して溶銅表面に不活性ガスを供給する不活性ガ
ス供給管とを備えたものである。
【0013】連続鋳造装置としては、コンチロッド鋳造
機、SCR鋳造機あるいはプロペルチ鋳造機などがあ
る。また、上記真空槽および上記真空引き配管はSiC
で構成することが好ましい。
【0014】
【作用】溶銅中の水素と酸素は、溶銅の接している雰囲
気中の水蒸気と次の平衡式の関係にある。
【0015】 H2 O ←→〓2H+O (1) 平衡定数は K=[H]2 ・[O]/PH2O (2) ここに、[H]:溶銅中の水素濃度 [O]:溶銅中の酸素濃度 PH2O :雰囲気中の水蒸気分圧 Kは温度の関数であり、一定温度ではKも一定であり、
操業時もほぼ一定とみなす。溶銅に対する真空引きによ
りPH2O を下げることができ、K=一定のために
[H]、[O]も低くなる。したがって、[H]が少な
くなるので、凝固時発生するブローホールも少なくな
る。
【0016】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。図
1はツインベルトを用いたコンチロッド鋳造機を示す。
電解銅板をシャフト炉1で溶解し、溶解した溶銅7は保
持炉2を通り、鋳造樋3を経てノズル4からタンディッ
シュ5に注湯される。その後、溶銅7はツインベルト6
により連続鋳造されて銅塊8となり、熱間圧延を経て所
定径の銅線となる。
【0017】本実施例では、鋳造樋3に真空槽9と、真
空ポンプ10とからなる真空引装置Aを設置し、鋳造樋
3を通る溶銅を6.65×103 Pa以下の真空度に真
空引きする。
【0018】また、上記鋳造樋3、タンディッシュ5、
およびツインベルト6の入口の各要所に、不活性ガス供
給管11の開口部を臨ませ、これらの開口部からN2
たはArガスなどの不活性ガス12を供給して、溶銅7
の表面を不活性ガスでシールする。この不活性ガスシー
ルにより真空引き後の溶銅と外気との接触を断つように
する。
【0019】図2は、鋳造樋3に設置した真空引装置A
の具体的構成を示す。真空槽9は、底部が開口してお
り、その開口した底部を鋳造樋3内の溶銅7中に浸漬さ
せ、真空槽9内に入る溶銅7について真空引きできるよ
うになっている。真空ポンプ10は、それから出た真空
引配管13を真空槽9内に挿入して、真空槽内に入る溶
銅7を真空引きするようになっている。
【0020】真空ポンプ10は、上述した真空度の程度
から、ロータリーポンプなどの比較的低真空のポンプで
よく、高い真空度を得る拡散ポンプ等を必要としない。
また、真空槽9および真空引配管13は、緻密で通気性
が低く、溶銅に対してぬれ性のよいSiC等のセラミッ
クスで構成することが好ましい。
【0021】さて、上述したツインベルト方式のコンチ
ロッド鋳造機にて、シャフト炉1で溶解した電気銅を保
持炉2でポーリングし、酸素を調整し、28トン/hr
の速度で連続的にタフピッチ銅を鋳造した。
【0022】真空ポンプ10は、バルブを調整すること
によって、真空引しない場合と、真空引きする場合とに
分けた。真空引きする場合には真空度が約6.65×1
3Paのときと、6.65×102 Pa以下のときと
について検討した。なお、真空引きするときは、不活性
ガス供給管11からN2 ガスを溶銅に吹付けて溶銅をシ
ールした。
【0023】真空度、酸素濃度、鋳造バーのブローホー
ルとの関係の検討結果を表1に示す。
【0024】
【表1】
【0025】表1より、真空度が6.65×103 Pa
〜5.32×103 、および6.65×102 以下で
は、ともに鋳造バー(70mm×100mm)にブローホー
ルが少ないことが判った。また、前者の場合、酸素濃度
は130〜110ppm 以下であり、後者の場合は100
〜120ppm であった。
【0026】また、予測した通り真空引きなしの場合
で、鋳造バー中の酸素濃度が120ppm のものでは鋳造
バーブローホールが多く、酸素濃度が350ppm と多く
なると鋳造バーブローホールが少ないことも判った。
【0027】同表にブローホール率(%)を示した。こ
れは、12MeVのX線にて鋳造バーの透過写真を撮影
し、ネガから焼き付けた写真のブローホール部をサイン
ペンで塗り潰し(ブローホール射影面積)、次式に基づ
いて ブローホール率P(%)=(ブローホール射影面積)/
(鋳造材のX線透過面積) コンピュータで求めた値である。
【0028】■2〜■4サンプルでも同様に検討したと
ころ、ブローホールが少ない傾向が認められた。すなわ
ち、■3、■4サンプルのものは、通常の酸素濃度(3
00〜350ppm O2 )で観察される■2サンプルのブ
ローホールの量とほぼ同程度まで改善されていることが
わかる。
【0029】なお、上記実施例ではコンチロッド鋳造機
を使用した場合について説明したが、他の鋳造機の場合
にも適用できる。例えばSCR鋳造機で低酸素化工程を
経て合金元素を添加する方法はよく行われるが、低酸素
化すると発生する水素のため、SCR鋳造機のように曲
げ、ひずみのかかる製造法では鋳造バー割れを起こす。
この鋳造バー割れは、上記実施例の真空引装置をセット
することにて改善され、合金が割れることなく鋳造可能
となる。
【0030】以上述べたように本実施例によれば、タフ
ピッチ銅において、酸素量が200ppm 以下の場合でも
鋳造バー中のブローホールは少なくなり、製造される銅
線(φ8mm)の欠陥が少なくなり品質向上が図れる。
【0031】また、酸素含有量が少なくブローホールも
少ないので、φ0.1mm以下の極細線製造に有利であ
る。即ち、ボビン取りの重量が増やせ、経済効果があ
る。
【0032】
【発明の効果】本発明方法によれば、鋳造前の溶銅を
6.65×103 Pa以下の比較的低い真空度に真空引
きを行いながら鋳造するという方法によって、酸素量が
200ppm 以下の場合でも、鋳造バー中のブローホール
を低減でき、製品の品質向上が図れる。
【0033】本発明装置によれば、真空槽、真空引ポン
プ、および不活性ガス供給管を設けるという簡単な構成
により、低い酸素濃度の場合でも、水素の発生に起因す
るブローホールを低減できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の銅の連続鋳造装置の実施例を説明する
ためのコンチロッド鋳造機の概略図である。
【図2】本実施例による真空引装置の構成図である。
【図3】従来例のコンチロッド鋳造機の概略図である。
【符号の説明】
1 シャフト炉 2 保持炉 3 鋳造樋 4 ノズル 5 タンディッシュ 6 ツインベルト 7 溶銅 8 銅塊 9 真空槽 10 真空ポンプ 11 不活性ガス供給管 12 不活性ガス(N2 、Ar) 13 真空引配管 A 真空引装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 渡部 雅人 茨城県日立市日高町5丁目1番1号 日立 電線株式会社パワーシステム研究所内 (72)発明者 池田 大亮 茨城県日立市川尻町4丁目10番1号 日立 電線株式会社豊浦工場内

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】鋳造前の溶銅を6.65×103 Pa以下
    の真空度に真空引きを行いながら鋳造する銅の連続鋳造
    方法。
  2. 【請求項2】鋳造前の溶銅を6.65×103 Pa以下
    の真空度に真空引きと同時に、溶銅表面を不活性ガスで
    シールしながら鋳造する銅の連続鋳造方法。
  3. 【請求項3】請求項1または2に記載の銅の連続鋳造方
    法において、真空引の真空度を6.65×102 Pa以
    下とした銅の連続鋳造方法。
  4. 【請求項4】溶銅を鋳造樋からタンディッシュを経て鋳
    型に供給する銅の連続鋳造装置において、上記鋳造樋内
    の溶銅中に開口した底部が浸漬する真空槽と、該真空槽
    中に挿入された真空引配管を有し、真空槽中を真空引き
    する真空引装置と、上記鋳造樋、タンディッシュ、およ
    び上記鋳型の入口に開口して溶銅表面に不活性ガスを供
    給する不活性ガス供給管とを備えた銅の連続鋳造装置。
  5. 【請求項5】請求項4に記載の銅の連続鋳造装置におい
    て、上記真空槽および上記真空引き配管ををSiCで構
    成した銅の連続鋳造装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005072891A1 (ja) * 2004-01-30 2005-08-11 Sumitomo Metal Industries, Ltd. 銅合金の連続鋳造方法
US7524356B2 (en) 2000-02-24 2009-04-28 Mitsubishi Materials Corporation Method for manufacturing low-oxygen copper
JP2009090310A (ja) * 2007-10-05 2009-04-30 Mitsubishi Materials Corp 銅材連続製造方法

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