JPH0841244A - 紫外光に対して安定化されたポリマー組成物 - Google Patents
紫外光に対して安定化されたポリマー組成物Info
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- JPH0841244A JPH0841244A JP6324295A JP6324295A JPH0841244A JP H0841244 A JPH0841244 A JP H0841244A JP 6324295 A JP6324295 A JP 6324295A JP 6324295 A JP6324295 A JP 6324295A JP H0841244 A JPH0841244 A JP H0841244A
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L67/00—Compositions of polyesters obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L67/02—Polyesters derived from dicarboxylic acids and dihydroxy compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/315—Compounds containing carbon-to-nitrogen triple bonds
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3412—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having one nitrogen atom in the ring
- C08K5/3432—Six-membered rings
- C08K5/3435—Piperidines
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L69/00—Compositions of polycarbonates; Compositions of derivatives of polycarbonates
Abstract
(57)【要約】
【目的】紫外光に対して予想外に改良された耐性を示す
新規なポリマー組成物。 【構成】ヒンダードーアミン系の光安定剤と紫外線吸収
剤をポリマーマトリックス中に配合すると、紫外光に対
して予想外に優れた耐性を示すポリマー組成物が生成す
る。
新規なポリマー組成物。 【構成】ヒンダードーアミン系の光安定剤と紫外線吸収
剤をポリマーマトリックス中に配合すると、紫外光に対
して予想外に優れた耐性を示すポリマー組成物が生成す
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は新規なポリマー組成物に
係る。特に、本発明のポリマー組成物はヒンダードアミ
ン系光安定剤と紫外光吸収剤を含み、紫外光に対して予
想外に改良された耐性を示す。
係る。特に、本発明のポリマー組成物はヒンダードアミ
ン系光安定剤と紫外光吸収剤を含み、紫外光に対して予
想外に改良された耐性を示す。
【０００２】
【従来の技術】熱可塑性樹脂およびそれを含むブレンド
は、一般に、光学的な透明性、高い延性、高い加熱撓み
温度および寸法安定性を含めた多くの有利な特性によっ
て特徴付けられている。このような特性をもつ結果、こ
れらの樹脂やブレンドは多くの商業用途に使われること
が多い。
は、一般に、光学的な透明性、高い延性、高い加熱撓み
温度および寸法安定性を含めた多くの有利な特性によっ
て特徴付けられている。このような特性をもつ結果、こ
れらの樹脂やブレンドは多くの商業用途に使われること
が多い。
【０００３】上記のように有利な特性をもっているとは
いうものの、熱可塑性樹脂とそのブレンドは、他の多く
の有機ポリマー性材料と同様に、紫外光による光崩壊を
受けやすい。この光崩壊の結果、通常は、黄変やポリマ
ー／ブレンド表面の浸蝕を始めとして好ましくない結果
が生ずる。熱可塑性樹脂およびそれから製造されるブレ
ンドで、光崩壊に対して耐性であるものを製造すること
の必要性・重要性が増大している。従来、このような樹
脂やブレンドを製造するには、通常シアノアクリレー
ト、ベンゾフェノンまたはベンゾトリアゾールの誘導体
のような紫外光吸収剤を含有するコーティング材料でポ
リマー／ブレンドの表面を処理している。
いうものの、熱可塑性樹脂とそのブレンドは、他の多く
の有機ポリマー性材料と同様に、紫外光による光崩壊を
受けやすい。この光崩壊の結果、通常は、黄変やポリマ
ー／ブレンド表面の浸蝕を始めとして好ましくない結果
が生ずる。熱可塑性樹脂およびそれから製造されるブレ
ンドで、光崩壊に対して耐性であるものを製造すること
の必要性・重要性が増大している。従来、このような樹
脂やブレンドを製造するには、通常シアノアクリレー
ト、ベンゾフェノンまたはベンゾトリアゾールの誘導体
のような紫外光吸収剤を含有するコーティング材料でポ
リマー／ブレンドの表面を処理している。
【０００４】しかし、紫外光にさらされたとき、この紫
外光吸収剤自身が分解してしまうのが見られることが多
い。そうなると、元来その吸収剤によって保護しようと
したポリマー／ブレンドの有利な特性が劣化することに
なる。したがって本発明は、紫外光に対して予想外に改
良された耐性を示す新規なポリマー組成物に係わってお
り、この新規なポリマー組成物はヒンダードアミン系光
安定剤と紫外光吸収剤を含んでいる。
外光吸収剤自身が分解してしまうのが見られることが多
い。そうなると、元来その吸収剤によって保護しようと
したポリマー／ブレンドの有利な特性が劣化することに
なる。したがって本発明は、紫外光に対して予想外に改
良された耐性を示す新規なポリマー組成物に係わってお
り、この新規なポリマー組成物はヒンダードアミン系光
安定剤と紫外光吸収剤を含んでいる。
【０００５】耐候性の組成物を製造する努力が続けられ
ており、その成果も公表されている。本出願人に譲渡さ
れている米国特許第５，２１４，０８５号では、環式の
ヒンダードアミノエーテル部分を有するヒンダードアミ
ン系化合物をコーティング組成物に配合しており、この
組成物はポリカーボネート基材のトップコートとして用
いることができる。
ており、その成果も公表されている。本出願人に譲渡さ
れている米国特許第５，２１４，０８５号では、環式の
ヒンダードアミノエーテル部分を有するヒンダードアミ
ン系化合物をコーティング組成物に配合しており、この
組成物はポリカーボネート基材のトップコートとして用
いることができる。
【０００６】また、本出願人に譲渡されている米国特許
第４，６３６，４０８号では、ヒンダードアミンとベン
ゾフェノンのような放射線吸収剤とを含む安定化用組成
物をポリフェニレンエーテル樹脂に含浸させている。本
発明と以上の従来技術とを比較すると、特に本発明がヒ
ンダードアミン系光安定剤と紫外光吸収剤とを含み、紫
外光に対して予想外に改良された耐性を示すという点
で、本発明は従来技術と区別できる。
第４，６３６，４０８号では、ヒンダードアミンとベン
ゾフェノンのような放射線吸収剤とを含む安定化用組成
物をポリフェニレンエーテル樹脂に含浸させている。本
発明と以上の従来技術とを比較すると、特に本発明がヒ
ンダードアミン系光安定剤と紫外光吸収剤とを含み、紫
外光に対して予想外に改良された耐性を示すという点
で、本発明は従来技術と区別できる。
【０００７】
【発明の概要】本発明は紫外光に対して予想外に改良さ
れた耐性を示す新規なポリマー組成物に関する。本発明
のポリマー組成物は、（ａ）少なくとも１種のヒンダー
ドアミン、（ｂ）ビス‐アルキレンアミノシアノアクリ
レートエステル、および（ｃ）ポリカーボネート、ポリ
エステル、アクリルポリマー、アクリロニトリル‐ブタ
ジエン‐スチレンコポリマー、アクリロニトリル‐スチ
レンコポリマー、ポリビニルクロライド、ポリスチレ
ン、ブチレートおよびポリエチレンより成る群の中から
選択されるポリマーを含む。
れた耐性を示す新規なポリマー組成物に関する。本発明
のポリマー組成物は、（ａ）少なくとも１種のヒンダー
ドアミン、（ｂ）ビス‐アルキレンアミノシアノアクリ
レートエステル、および（ｃ）ポリカーボネート、ポリ
エステル、アクリルポリマー、アクリロニトリル‐ブタ
ジエン‐スチレンコポリマー、アクリロニトリル‐スチ
レンコポリマー、ポリビニルクロライド、ポリスチレ
ン、ブチレートおよびポリエチレンより成る群の中から
選択されるポリマーを含む。
【０００８】
【発明の詳細な開示】本発明で使用できる適切なヒンダ
ードアミン系光安定剤（ヒンダードピペリジルエステ
ル）は次式Ｉをもっている。
ードアミン系光安定剤（ヒンダードピペリジルエステ
ル）は次式Ｉをもっている。
【０００９】
【化４】
【００１０】ここで、Ｒ1 はＣ4-12のアルキルであり、
Ｒ2 は各々が独立してＣ1-5 の第一級アルキルであり、
Ｒ3 はＣ4-12のアルキレンである。このようなヒンダー
ドアミン系光安定剤は、環式のヒンダードアミノエーテ
ル誘導体として更に特徴づけることができる。式ＩでＲ
1 は、ｎ‐ブチル、ｎ‐ペンチル、ｎ‐ヘキシル、ｎ‐
オクチルおよびｎ‐デシルのような第一級アルキルが好
ましい。Ｒ2 はＣ1-4 の第一級アルキル（すなわち、メ
チル、エチル、ｎ‐プロピルまたはｎ‐ブチル）であ
り、メチルが好ましい。またＲ3 は、たとえばヘキサメ
チレン、オクタメチレンまたはデカメチレンを始めとす
るＣ4-12のアルキレン基であり、オクタメチレンが好ま
しい。Ｒ1 がｎ‐オクチル、各Ｒ2 がメチルで、Ｒ3 が
オクタメチレンの場合式Ｉで表わされる化合物のＩＵＰ
ＡＣ名称はビス（１‐オクチルオキシ‐２，２，６，６
‐テトラメチル‐４‐ピペリジニル）セバケートであ
り、これは市販されている。
Ｒ2 は各々が独立してＣ1-5 の第一級アルキルであり、
Ｒ3 はＣ4-12のアルキレンである。このようなヒンダー
ドアミン系光安定剤は、環式のヒンダードアミノエーテ
ル誘導体として更に特徴づけることができる。式ＩでＲ
1 は、ｎ‐ブチル、ｎ‐ペンチル、ｎ‐ヘキシル、ｎ‐
オクチルおよびｎ‐デシルのような第一級アルキルが好
ましい。Ｒ2 はＣ1-4 の第一級アルキル（すなわち、メ
チル、エチル、ｎ‐プロピルまたはｎ‐ブチル）であ
り、メチルが好ましい。またＲ3 は、たとえばヘキサメ
チレン、オクタメチレンまたはデカメチレンを始めとす
るＣ4-12のアルキレン基であり、オクタメチレンが好ま
しい。Ｒ1 がｎ‐オクチル、各Ｒ2 がメチルで、Ｒ3 が
オクタメチレンの場合式Ｉで表わされる化合物のＩＵＰ
ＡＣ名称はビス（１‐オクチルオキシ‐２，２，６，６
‐テトラメチル‐４‐ピペリジニル）セバケートであ
り、これは市販されている。
【００１１】本発明で使用するヒンダードアミンは、通
常スペクトルの紫外領域または可視領域の放射線を吸収
しないので一般には放射線吸収性化合物と考えられてい
ない。その正確な作用機構は分かっていないがエネルギ
ーケンチングおよび抗酸化作用（過酸化物分解およびア
ルキル基停止）のメカニズムが関与していると思われ
る。
常スペクトルの紫外領域または可視領域の放射線を吸収
しないので一般には放射線吸収性化合物と考えられてい
ない。その正確な作用機構は分かっていないがエネルギ
ーケンチングおよび抗酸化作用（過酸化物分解およびア
ルキル基停止）のメカニズムが関与していると思われ
る。
【００１２】本発明で紫外光吸収剤として使用するビス
‐アルキレンアミノシアノアクリレートエステルは市販
されており、次式IIで表わすことができる。
‐アルキレンアミノシアノアクリレートエステルは市販
されており、次式IIで表わすことができる。
【００１３】
【化５】
【００１４】ここで、Ａは単環式または多環式のアルカ
ン、好ましくはシクロヘキサンであり、Ａ1 は各々が独
立して置換または非置換の芳香族基、好ましくはフェニ
ル基であり、Ｒは各々が独立してＣ1-5 のアルキル基で
あるが、好ましくは水素であり、Ｒ1 は各々が独立して
プロピレンかブチレンであるが、好ましくはメチレンで
ある。
ン、好ましくはシクロヘキサンであり、Ａ1 は各々が独
立して置換または非置換の芳香族基、好ましくはフェニ
ル基であり、Ｒは各々が独立してＣ1-5 のアルキル基で
あるが、好ましくは水素であり、Ｒ1 は各々が独立して
プロピレンかブチレンであるが、好ましくはメチレンで
ある。
【００１５】本発明のポリマー組成物はポリカーボネー
ト、ポリエステル、アクリロニトリル‐ブタジエン‐ス
チレンコポリマーまたはこれらのブレンド（特に、ポリ
カーボネート／ポリエステルブレンド）を含むのが好ま
しいが、本発明で使用できるポリマーに関してはヒンダ
ードアミンおよびビス‐アルキレンアミノシアノアクリ
レートエステルと相溶性であるということ以外何の制限
もない。したがって、たとえば、ポリ（メチルメタクリ
レート）のようなアクリルポリマー、アクリロニトリル
‐スチレンコポリマー、ポリビニルクロライド、ポリス
チレン、ポリスチレンとポリフェニレンエーテルのブレ
ンド、ブチレート、ポリエチレンなどを前記組成物に含
ませることも本発明の範囲内である。
ト、ポリエステル、アクリロニトリル‐ブタジエン‐ス
チレンコポリマーまたはこれらのブレンド（特に、ポリ
カーボネート／ポリエステルブレンド）を含むのが好ま
しいが、本発明で使用できるポリマーに関してはヒンダ
ードアミンおよびビス‐アルキレンアミノシアノアクリ
レートエステルと相溶性であるということ以外何の制限
もない。したがって、たとえば、ポリ（メチルメタクリ
レート）のようなアクリルポリマー、アクリロニトリル
‐スチレンコポリマー、ポリビニルクロライド、ポリス
チレン、ポリスチレンとポリフェニレンエーテルのブレ
ンド、ブチレート、ポリエチレンなどを前記組成物に含
ませることも本発明の範囲内である。
【００１６】本発明で使用するのに好ましいポリカーボ
ネートは次式IIまたはIII の構造単位を含むことができ
る。
ネートは次式IIまたはIII の構造単位を含むことができ
る。
【００１７】
【化６】
【００１８】ここで、式III は式IIの中でも好ましい類
のものであり、Ａ1 は二価の置換または非置換の脂肪族
基、脂環式基または芳香族基、好ましくはＡ2 −Ｙ−Ａ
3 であり、ただしＡ2 とＡ3 は各々が独立して単環式の
二価の芳香族基であり、Ｙは１〜４個の原子がＡ2 とＡ
3 を隔てる橋架け基である。Ａ2 とＡ3 は置換されてな
いフェニレンでもその置換された誘導体でもよく、代表
的な（１個以上の）置換基としてはアルキル、アルケニ
ル、アルコキシなどがある。置換されてないフェニレン
基が好ましい。Ａ2 とＡ3 の両方がｐ‐フェニレンであ
るのが好ましいが、両方がｏ‐フェニレンまたはｍ‐フ
ェニレンでもよいし、一方がｏ‐もしくはｍ‐フェニレ
ンで、もう一方がｐ‐フェニレンであってもよい。
のものであり、Ａ1 は二価の置換または非置換の脂肪族
基、脂環式基または芳香族基、好ましくはＡ2 −Ｙ−Ａ
3 であり、ただしＡ2 とＡ3 は各々が独立して単環式の
二価の芳香族基であり、Ｙは１〜４個の原子がＡ2 とＡ
3 を隔てる橋架け基である。Ａ2 とＡ3 は置換されてな
いフェニレンでもその置換された誘導体でもよく、代表
的な（１個以上の）置換基としてはアルキル、アルケニ
ル、アルコキシなどがある。置換されてないフェニレン
基が好ましい。Ａ2 とＡ3 の両方がｐ‐フェニレンであ
るのが好ましいが、両方がｏ‐フェニレンまたはｍ‐フ
ェニレンでもよいし、一方がｏ‐もしくはｍ‐フェニレ
ンで、もう一方がｐ‐フェニレンであってもよい。
【００１９】橋架け基Ｙは、１個か２個の原子、好まし
くは１個の原子がＡ2 とＡ3 を隔てることになるような
ものである。これは炭化水素基、特に飽和の基、たとえ
ばメチレン、シクロヘキシルメチレン、２‐［２．２．
１］‐ビシクロヘプチルメチレン、エチレン、イソプロ
ピリデン、ネオペンチリデン、シクロヘキシリデン、シ
クロペンタデシリデン、シクロドデシリデンまたはアダ
マンチリデン、取り分けｇｅｍ‐アルキレン（アルキリ
デン）基であることが最も多い。しかし、不飽和の基お
よび炭素と水素以外の原子を含有する基、たとえば２，
２‐ジクロロエチリデン、カルボニル、フタリジリデ
ン、オキシ、チオ、スルホキシ、スルホンなども包含さ
れる。入手容易性と特に本発明に適しているという理由
から好ましい式III の単位は２，２‐ビス（４‐フェニ
レン）プロパンカーボネート単位であり、これはビスフ
ェノールＡから誘導され、式III でＹがイソプロピリデ
ンでＡ2 とＡ3 がいずれもｐ‐フェニレンである。
くは１個の原子がＡ2 とＡ3 を隔てることになるような
ものである。これは炭化水素基、特に飽和の基、たとえ
ばメチレン、シクロヘキシルメチレン、２‐［２．２．
１］‐ビシクロヘプチルメチレン、エチレン、イソプロ
ピリデン、ネオペンチリデン、シクロヘキシリデン、シ
クロペンタデシリデン、シクロドデシリデンまたはアダ
マンチリデン、取り分けｇｅｍ‐アルキレン（アルキリ
デン）基であることが最も多い。しかし、不飽和の基お
よび炭素と水素以外の原子を含有する基、たとえば２，
２‐ジクロロエチリデン、カルボニル、フタリジリデ
ン、オキシ、チオ、スルホキシ、スルホンなども包含さ
れる。入手容易性と特に本発明に適しているという理由
から好ましい式III の単位は２，２‐ビス（４‐フェニ
レン）プロパンカーボネート単位であり、これはビスフ
ェノールＡから誘導され、式III でＹがイソプロピリデ
ンでＡ2 とＡ3 がいずれもｐ‐フェニレンである。
【００２０】上記式IIの構造単位の起源は次式IVで表わ
されるものである。 ＨＯ−Ａ1 −ＯＨ IV ただし、Ａ1 はすでに定義した通りである。式IVの非限
定的な代表例としては次のものがある。２，２‐ビス
（４‐ヒドロキシフェニル）プロパン［すなわち、ビス
フェノールＡ］、２，２‐ビス（３，５‐ジブロモ‐４
‐ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２‐ビス（３，
５‐ジメチル‐４‐ヒドロキシフェニル）プロパン、
１，１‐ビス（４‐ヒドロキシフェニル）シクロヘキサ
ン、１，１‐ビス（３，５‐ジメチル‐４‐ヒドロキシ
フェニル）シクロヘキサン、１，１‐ビス（４‐ヒドロ
キシフェニル）デカン、１，４‐ビス（４‐ヒドロキシ
フェニル）プロパン、１，１‐ビス（４‐ヒドロキシフ
ェニル）シクロドデカン、１，１‐ビス（３，５‐ジメ
チル‐４‐ヒドロキシフェニル）シクロドデカン、４，
４‐ジヒドロキシジフェニルエーテル、４，４‐チオジ
フェノール、４，４‐ジヒドロキシ‐３，３‐ジクロロ
ジフェニルエーテル、４，４‐ジヒドロキシ‐３，３‐
ジヒドロキシジフェニルエーテル、１，３‐ベンゼンジ
オール、１，４‐ベンゼンジオール。
されるものである。 ＨＯ−Ａ1 −ＯＨ IV ただし、Ａ1 はすでに定義した通りである。式IVの非限
定的な代表例としては次のものがある。２，２‐ビス
（４‐ヒドロキシフェニル）プロパン［すなわち、ビス
フェノールＡ］、２，２‐ビス（３，５‐ジブロモ‐４
‐ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２‐ビス（３，
５‐ジメチル‐４‐ヒドロキシフェニル）プロパン、
１，１‐ビス（４‐ヒドロキシフェニル）シクロヘキサ
ン、１，１‐ビス（３，５‐ジメチル‐４‐ヒドロキシ
フェニル）シクロヘキサン、１，１‐ビス（４‐ヒドロ
キシフェニル）デカン、１，４‐ビス（４‐ヒドロキシ
フェニル）プロパン、１，１‐ビス（４‐ヒドロキシフ
ェニル）シクロドデカン、１，１‐ビス（３，５‐ジメ
チル‐４‐ヒドロキシフェニル）シクロドデカン、４，
４‐ジヒドロキシジフェニルエーテル、４，４‐チオジ
フェノール、４，４‐ジヒドロキシ‐３，３‐ジクロロ
ジフェニルエーテル、４，４‐ジヒドロキシ‐３，３‐
ジヒドロキシジフェニルエーテル、１，３‐ベンゼンジ
オール、１，４‐ベンゼンジオール。
【００２１】同様に上記ポリカーボネートの製造の際に
使用するのに適した他の有用なジヒドロキシ芳香族化合
物が米国特許第２，９９９，８３５号、同第３，０２
８，３６５号、同第３，３３４，１５４号および同第
４，１３１，５７５号（すべて引用により本明細書に含
まれているものとする）に開示されている。好ましいビ
スフェノールは２，２‐ビス（４‐ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、すなわちビスフェノールＡである。
使用するのに適した他の有用なジヒドロキシ芳香族化合
物が米国特許第２，９９９，８３５号、同第３，０２
８，３６５号、同第３，３３４，１５４号および同第
４，１３１，５７５号（すべて引用により本明細書に含
まれているものとする）に開示されている。好ましいビ
スフェノールは２，２‐ビス（４‐ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、すなわちビスフェノールＡである。
【００２２】本発明で使用するポリカーボネート（ホモ
ポリカーボネートまたはコポリカーボネート）は直鎖も
しくは分枝でもよいし、またはグラフトポリマーでもよ
い。これらを製造するには、たとえば、常用の技術を用
いてビスフェノールをカーボネート源（たとえばホスゲ
ンやジメチルカーボネート）と反応させればよい。常用
の技術としては、溶融重合、界面重合、ビスクロロホル
メートによる界面変換に追随させた重合がある。フェノ
ールのような連鎖停止剤を使用することもできる。
ポリカーボネートまたはコポリカーボネート）は直鎖も
しくは分枝でもよいし、またはグラフトポリマーでもよ
い。これらを製造するには、たとえば、常用の技術を用
いてビスフェノールをカーボネート源（たとえばホスゲ
ンやジメチルカーボネート）と反応させればよい。常用
の技術としては、溶融重合、界面重合、ビスクロロホル
メートによる界面変換に追随させた重合がある。フェノ
ールのような連鎖停止剤を使用することもできる。
【００２３】本発明で使用するポリエステルはポリ（ア
ルキレンジカルボキシレート）であり、典型的にはポリ
マー性のグリコールテレフタレートまたはグリコールイ
ソフタレートおよびこれらの混合物、たとえばテレフタ
ル酸とイソフタル酸のコポリエステルより成る群のもの
である。本発明で使用するのに好ましいポリエステルは
ポリ（１，４‐ブチレンテレフタレート）である。
ルキレンジカルボキシレート）であり、典型的にはポリ
マー性のグリコールテレフタレートまたはグリコールイ
ソフタレートおよびこれらの混合物、たとえばテレフタ
ル酸とイソフタル酸のコポリエステルより成る群のもの
である。本発明で使用するのに好ましいポリエステルは
ポリ（１，４‐ブチレンテレフタレート）である。
【００２４】これらのポリエステルを製造するには、た
とえば、１，４‐シクロヘキサンジメタノールのシス異
性体またはトランス異性体（またはこれらの混合物）を
イソフタル酸とテレフタル酸の混合物と反応させればよ
い。このような製造法は業界でよく知られており、米国
特許第２，９０１，４６６号および本出願人に譲渡され
ている米国特許第４，１２５，５７１号（これらの開示
内容はここで引用したことにより本明細書に含まれてい
るものとする）に詳細に記載されている。
とえば、１，４‐シクロヘキサンジメタノールのシス異
性体またはトランス異性体（またはこれらの混合物）を
イソフタル酸とテレフタル酸の混合物と反応させればよ
い。このような製造法は業界でよく知られており、米国
特許第２，９０１，４６６号および本出願人に譲渡され
ている米国特許第４，１２５，５７１号（これらの開示
内容はここで引用したことにより本明細書に含まれてい
るものとする）に詳細に記載されている。
【００２５】本発明で使用する、たとえばポリカーボネ
ート／ポリエステルブレンドは、たとえば溶融状態で製
造することができる。溶融混合の際、たとえば純粋なポ
リカーボネートとポリエステルのペレットを温度約２９
０℃の混合容器に入れて混合し、所望のブレンドを得る
ことができる。ポリカーボネートとポリエステルの重量
比は広い範囲で変化させることができる。たとえば、約
９９：１から約１：９９までとすることができるが、通
常は約９０：１０から約１０：９０まで、好ましくは約
７５：２５から約２５：７５までである。
ート／ポリエステルブレンドは、たとえば溶融状態で製
造することができる。溶融混合の際、たとえば純粋なポ
リカーボネートとポリエステルのペレットを温度約２９
０℃の混合容器に入れて混合し、所望のブレンドを得る
ことができる。ポリカーボネートとポリエステルの重量
比は広い範囲で変化させることができる。たとえば、約
９９：１から約１：９９までとすることができるが、通
常は約９０：１０から約１０：９０まで、好ましくは約
７５：２５から約２５：７５までである。
【００２６】本発明で使用できるアクリロニトリル‐ブ
タジエン‐スチレンコポリマー（ＡＢＳ）のような合成
ポリマーは、ラテックス中でゴム質のポリマー骨格にモ
ノマーをグラフトさせることによって製造することがで
きる。ＡＢＳの場合、アクリロニトリルとスチレンをゴ
ム質のポリブタジエンおよび／またはゴム質のスチレン
‐ブタジエンコポリマー上にラテックス中でグラフトさ
せることが多い。通常、グラフト化に先立ってゴム質の
ポリブタジエンの前記ラテックスをこれにグラフトさせ
ようとするモノマーと混合し、その混合物を数時間まで
の期間掻き混ぜてモノマーを乳化させるとともにゴム質
ポリマーがそれらモノマーを吸収できるようにしてから
グラフト化反応を開始するのが普通である。
タジエン‐スチレンコポリマー（ＡＢＳ）のような合成
ポリマーは、ラテックス中でゴム質のポリマー骨格にモ
ノマーをグラフトさせることによって製造することがで
きる。ＡＢＳの場合、アクリロニトリルとスチレンをゴ
ム質のポリブタジエンおよび／またはゴム質のスチレン
‐ブタジエンコポリマー上にラテックス中でグラフトさ
せることが多い。通常、グラフト化に先立ってゴム質の
ポリブタジエンの前記ラテックスをこれにグラフトさせ
ようとするモノマーと混合し、その混合物を数時間まで
の期間掻き混ぜてモノマーを乳化させるとともにゴム質
ポリマーがそれらモノマーを吸収できるようにしてから
グラフト化反応を開始するのが普通である。
【００２７】上記ゴム質の骨格ポリマーは通常、たとえ
ばブタジエンをアルフィンタイプまたはアミルナトリウ
ムタイプの触媒に接触させるプロセスによって製造され
る。特に、ポリブタジエンラテックスは、ブタジエン、
アニオン性乳化剤およびフリーラジカル開始剤からなる
水性エマルションを用いる乳化重合技術によって製造す
ることが普通である。
ばブタジエンをアルフィンタイプまたはアミルナトリウ
ムタイプの触媒に接触させるプロセスによって製造され
る。特に、ポリブタジエンラテックスは、ブタジエン、
アニオン性乳化剤およびフリーラジカル開始剤からなる
水性エマルションを用いる乳化重合技術によって製造す
ることが普通である。
【００２８】本発明で使用する紫外光吸収剤とヒンダー
ドアミンは、それぞれ、組成物中のポリマーの総重量の
約２．０重量％未満であるが、約１．０重量％未満が好
ましい。しかし、この紫外光吸収剤とヒンダードアミン
はそれぞれ、組成物中のポリマーの総重量の約０．６重
量％未満であると最も好ましい。また、本発明の組成物
中に、たとえば増粘剤、顔料、染料、安定剤、耐衝撃性
改良剤などを始めとする常用添加剤を含ませることも本
発明の範囲内である。
ドアミンは、それぞれ、組成物中のポリマーの総重量の
約２．０重量％未満であるが、約１．０重量％未満が好
ましい。しかし、この紫外光吸収剤とヒンダードアミン
はそれぞれ、組成物中のポリマーの総重量の約０．６重
量％未満であると最も好ましい。また、本発明の組成物
中に、たとえば増粘剤、顔料、染料、安定剤、耐衝撃性
改良剤などを始めとする常用添加剤を含ませることも本
発明の範囲内である。
【００２９】
【実施例の記載】以下の実施例で本発明の紫外光に対し
て安定化されたポリマー組成物を例示し、その製造を理
解する一助とする。生成物の分子構造は、プロトンと炭
素‐１３の核磁気共鳴スペクトルで確認できる。実施例 ビスフェノールＡポリカーボネート６０．０重量部、ポ
リ（１，４‐ブチレンテレフタレート）２５．０重量
部、メタクリレート‐ブタジエン‐スチレンターポリマ
ー（ＭＢＳ耐衝撃性改良剤）１０．０重量部、オクタデ
シル３‐（３，５‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐ヒドロ
キシフェノール）プロピオネート０．３重量部、二酸化
チタン３．０重量部、セバシン酸ビス（１‐オクチルオ
キシ‐２，２，６，６‐テトラメチル‐４‐ピペリジニ
ル）０．５重量部、およびビス‐メチレンアミノシアノ
アクリレートエステル０．５重量部を２９０℃で混合し
押出すことによって、紫外光に対して安定化されたポリ
マー組成物の顆粒を製造した。次にこの顆粒を３００℃
に加熱し、成形して安定化されたポリマー組成物の４″
×８″×１／８″のプレートを形成した。
て安定化されたポリマー組成物を例示し、その製造を理
解する一助とする。生成物の分子構造は、プロトンと炭
素‐１３の核磁気共鳴スペクトルで確認できる。実施例 ビスフェノールＡポリカーボネート６０．０重量部、ポ
リ（１，４‐ブチレンテレフタレート）２５．０重量
部、メタクリレート‐ブタジエン‐スチレンターポリマ
ー（ＭＢＳ耐衝撃性改良剤）１０．０重量部、オクタデ
シル３‐（３，５‐ジ‐ｔｅｒｔ‐ブチル‐４‐ヒドロ
キシフェノール）プロピオネート０．３重量部、二酸化
チタン３．０重量部、セバシン酸ビス（１‐オクチルオ
キシ‐２，２，６，６‐テトラメチル‐４‐ピペリジニ
ル）０．５重量部、およびビス‐メチレンアミノシアノ
アクリレートエステル０．５重量部を２９０℃で混合し
押出すことによって、紫外光に対して安定化されたポリ
マー組成物の顆粒を製造した。次にこの顆粒を３００℃
に加熱し、成形して安定化されたポリマー組成物の４″
×８″×１／８″のプレートを形成した。
【００３０】次の表にまとめたデータは、本発明の組成
物の新規で予想外の優れた特性を立証している。この新
規で予想外の優れた特性は、本発明の組成物中のヒンダ
ードアミンと紫外光吸収剤の相乗効果の結果である。 表 １００ ３００ ５００ 試料 A ヒンダードアミン 紫外光吸収剤 時間後の全変色B １ なし なし ３．０ ７．９ ８．８ ２ あり なし １．０ ３．８ ４．６ ３ あり あり ０．６７ ２．０ ３．８A 試料はすべて実施例に記載したようにして製造した。
物の新規で予想外の優れた特性を立証している。この新
規で予想外の優れた特性は、本発明の組成物中のヒンダ
ードアミンと紫外光吸収剤の相乗効果の結果である。 表 １００ ３００ ５００ 試料 A ヒンダードアミン 紫外光吸収剤 時間後の全変色B １ なし なし ３．０ ７．９ ８．８ ２ あり なし １．０ ３．８ ４．６ ３ あり あり ０．６７ ２．０ ３．８A 試料はすべて実施例に記載したようにして製造した。
【００３１】B 全変色は、ポリマー組成物のプレートを
ゼノテスト(Xenotest)１２００装置内で１００時間、３
００時間、５００時間紫外光に暴露した後のＣＩＥ Ｌ
ＡＢテスト（ＤＩＮ ６１７４）に基づいている。
ゼノテスト(Xenotest)１２００装置内で１００時間、３
００時間、５００時間紫外光に暴露した後のＣＩＥ Ｌ
ＡＢテスト（ＤＩＮ ６１７４）に基づいている。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｌ 101/00
Claims (21)
- 【請求項１】 （ａ）少なくとも１種のヒンダードアミ
ン、 （ｂ）ビス‐アルキレンアミノシアノアクリレートエス
テル、および （ｃ）ポリカーボネート、ポリエステル、アクリルポリ
マー、アクリロニトリル‐ブタジエン‐スチレンコポリ
マー、アクリロニトリル‐スチレンコポリマー、ポリビ
ニルクロライド、ポリスチレン、ブチレートおよびポリ
エチレンより成る群の中から選択されるポリマー を含む、紫外光に対して耐性のポリマー組成物。 - 【請求項２】 前記ヒンダードアミンが、式 【化１】 ［式中、Ｒ1 はＣ4-12のアルキルであり、Ｒ2 は各々が
独立してＣ1-5 の第一級アルキルであり、Ｒ3 はＣ4-12
のアルキレンである］を有する、請求項１記載のポリマ
ー組成物。 - 【請求項３】 前記ヒンダードアミンがビス（１‐オク
チルオキシ‐２，２，６，６‐テトラメチル‐４‐ピペ
リジニル）セバケートである、請求項２記載のポリマー
組成物。 - 【請求項４】 前記ビス‐アルキレンアミノシアノアク
リレートエステルが、式 【化２】 ［式中、Ａは単環式または多環式のアルカンであり、Ａ
1 は各々が独立して置換または非置換の芳香族基であ
り、Ｒは各々が独立してＣ1-5 のアルキル基であり、Ｒ
1 は各々が独立してプロピレンまたはブチレンである］
を有する、請求項１記載のポリマー組成物。 - 【請求項５】 Ａがシクロヘキサンであり、Ａ1 がフェ
ニル基であり、Ｒが水素であり、Ｒ1 がメチレンであ
る、請求項４記載のポリマー組成物。 - 【請求項６】 前記ポリカーボネートがホモポリカーボ
ネートである、請求項１記載のポリマー組成物。 - 【請求項７】 前記ポリカーボネートがコポリカーボネ
ートである、請求項１記載のポリマー組成物。 - 【請求項８】 前記ポリカーボネートが、式 【化３】 ［式中、Ａ1 は二価の置換または非置換の脂肪族基、脂
環式基または芳香族基である］の構造単位からなる、請
求項１記載のポリマー組成物。 - 【請求項９】 Ａ1 がＡ2 −Ｙ−Ａ3 であり、Ａ2 およ
びＡ3 は各々が独立してマクロ環式の二価の芳香族基で
あり、Ｙは橋架け基である、請求項８記載のポリマー組
成物。 - 【請求項１０】 前記ポリカーボネートがビスフェノー
ルＡポリカーボネートである、請求項９記載のポリマー
組成物。 - 【請求項１１】 前記ポリエステルがポリ（アルキレン
ジカルボキシレート）である、請求項１記載のポリマー
組成物。 - 【請求項１２】 前記ポリエステルがポリ（１，４‐ブ
チレンテレフタレート）である、請求項１１記載のポリ
マー組成物。 - 【請求項１３】 前記ブレンドがポリカーボネートおよ
びポリエステルからなる、請求項１記載のポリマー組成
物。 - 【請求項１４】 前記ブレンドが、約９９：１〜約１：
９９の重量比のビスフェノールＡポリカーボネートとポ
リ（１，４‐ブチレンテレフタレート）からなる、請求
項１３記載のポリマー組成物。 - 【請求項１５】 前記ブレンドが、約９０：１０〜約１
０：９０の重量比のビスフェノールＡポリカーボネート
とポリ（１，４‐ブチレンテレフタレート）からなる、
請求項１３記載のポリマー組成物。 - 【請求項１６】 前記ブレンドが、約７５：２５〜約２
５：７５の重量比のビスフェノールＡポリカーボネート
とポリ（１，４‐ブチレンテレフタレート）からなる、
請求項１３記載のポリマー組成物。 - 【請求項１７】 前記ヒンダードアミンが前記組成物中
のポリマーの総重量を基準にして約２．０重量％未満で
ある、請求項１記載のポリマー組成物。 - 【請求項１８】 前記ヒンダードアミンが前記組成物中
のポリマーの総重量を基準にして約０．６重量％未満で
ある、請求項１７記載のポリマー組成物。 - 【請求項１９】 前記ビス‐アルキレンアミノシアノア
クリレートエステルが前記組成物中のポリマーの総重量
を基準にして約２．０重量％未満である、請求項１記載
のポリマー組成物。 - 【請求項２０】 前記ビス‐アルキレンアミノシアノア
クリレートエステルが前記組成物中のポリマーの総重量
を基準にして約０．６重量％未満である、請求項１９記
載のポリマー組成物。 - 【請求項２１】 前記アクリルポリマーがポリ（メチル
メタクリレート）である、請求項１記載のポリマー組成
物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US21931594A | 1994-03-29 | 1994-03-29 | |
| US219315 | 1994-03-29 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0841244A true JPH0841244A (ja) | 1996-02-13 |
Family
ID=22818785
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6324295A Withdrawn JPH0841244A (ja) | 1994-03-29 | 1995-03-23 | 紫外光に対して安定化されたポリマー組成物 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0675159A1 (ja) |
| JP (1) | JPH0841244A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100880314B1 (ko) | 2001-08-20 | 2009-01-28 | 사빅 이노베이티브 플라스틱스 아이피 비.브이. | 시아노아크릴 에스테르를 함유하며, 개선된 내후성을 갖는난연성 폴리카보네이트 조성물 |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5990208A (en) * | 1997-12-15 | 1999-11-23 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Stabilization of polycarbonate/ABS blends with mixtures of hindered amines and UV absorbers |
| TW557313B (en) * | 1998-02-02 | 2003-10-11 | Ciba Sc Holding Ag | Oxopiperazinyl derivatives and light stabilized compositions |
| US7482397B2 (en) | 2003-01-13 | 2009-01-27 | Eastman Chemical Company | Polycarbonate compositions |
| US20040143041A1 (en) | 2003-01-13 | 2004-07-22 | Pearson Jason Clay | Polyester compositions |
| US7297735B2 (en) | 2003-03-05 | 2007-11-20 | Eastman Chemical Company | Polycarbonate compositions |
| US7338992B2 (en) | 2003-03-05 | 2008-03-04 | Eastman Chemical Company | Polyolefin compositions |
| BRPI0407952A (pt) | 2003-03-05 | 2006-03-07 | Eastman Chem Co | composição polimérica |
| ATE390460T1 (de) | 2003-03-05 | 2008-04-15 | Eastman Chem Co | Polymerblends |
| WO2004078837A1 (en) * | 2003-03-05 | 2004-09-16 | Eastman Chemical Company | Process for the preparation of a hindered amine light stabilizer salt |
| US7582690B2 (en) | 2004-11-19 | 2009-09-01 | Eastman Chemical Company | Stabilized aliphatic polyester compositions |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU573647B2 (en) * | 1984-01-30 | 1988-06-16 | General Electric Company | Uv-stabilised polymer compositions |
| US5254608A (en) * | 1989-10-19 | 1993-10-19 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Ultraviolet screener blends |
| US5149723A (en) * | 1991-03-22 | 1992-09-22 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Stabilized polyacetal compositions containing a mixture of hals having tertiary functionality |
| US5214085A (en) * | 1992-02-03 | 1993-05-25 | General Electric Company | Abrasion-resistant coating compositions with improved weatherability |
-
1994
- 1994-08-26 EP EP94113349A patent/EP0675159A1/en not_active Withdrawn
-
1995
- 1995-03-23 JP JP6324295A patent/JPH0841244A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100880314B1 (ko) | 2001-08-20 | 2009-01-28 | 사빅 이노베이티브 플라스틱스 아이피 비.브이. | 시아노아크릴 에스테르를 함유하며, 개선된 내후성을 갖는난연성 폴리카보네이트 조성물 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0675159A1 (en) | 1995-10-04 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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