JPH084077B2 - Boat loader device - Google Patents
Boat loader deviceInfo
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- JPH084077B2 JPH084077B2 JP62187204A JP18720487A JPH084077B2 JP H084077 B2 JPH084077 B2 JP H084077B2 JP 62187204 A JP62187204 A JP 62187204A JP 18720487 A JP18720487 A JP 18720487A JP H084077 B2 JPH084077 B2 JP H084077B2
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- boat loader
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 半導体製造装置とくに熱処理炉に付随するボート挿入
引出に関わるボートローダー装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor manufacturing apparatus, and more particularly, to a boat loader apparatus relating to boat insertion / withdrawal associated with a heat treatment furnace.
従来の技術 近年、ウェハーの大口径化と製造の効率化のため、拡
散炉では大量の大口径ウェハーがバッチ方式で処理され
ている。ボートに例えば６インチウェハーを50〜100枚
と大量に充填すると、ボートおよびボートを支えるボー
トローダーも強度を増す必要があり、よって大径化し全
体として熱容量も増々大きくなってきている。拡散炉内
で熱処理を終えて引出されてきたウェハーの充填された
ボートは温度が上昇したまま拡散炉外に引出されてくる
ことになる。2. Description of the Related Art In recent years, a large amount of large-diameter wafers are processed in a batch process in a diffusion furnace in order to increase the diameter of wafers and improve manufacturing efficiency. When a boat is filled with a large amount of, for example, 50 to 100 6-inch wafers, it is necessary to increase the strength of the boat and the boat loader that supports the boat. Therefore, the diameter of the boat is increased and the heat capacity is increased as a whole. The wafer-filled boat, which has been drawn out after the heat treatment in the diffusion furnace, will be drawn out of the diffusion furnace while the temperature rises.
第２図は従来の多段構成の拡散炉ボートローダー装置
の断面構成図である。この場合は３段構成ボートローダ
ー装置である。送風機１により外部から取込んだ空気は
フィルター２によって清浄空気となり、送風パンチング
板3A,3B,3Cから水平方向にボート移動路全域から、各段
一斉に一様に常時吹き出している。これは、ボートロー
ダー外部からダストが侵入しウェハーに附着汚染するの
を防止するためである。FIG. 2 is a cross-sectional configuration diagram of a conventional multi-stage diffusion furnace boat loader device. In this case, it is a three-stage boat loader device. The air taken in from the outside by the blower 1 becomes clean air by the filter 2, and is constantly blown from the blower punching plates 3A, 3B, 3C in the horizontal direction all over the boat moving path all at once. This is to prevent dust from entering from the outside of the boat loader and adhering to and contaminating the wafer.
拡散炉とボートローダー装置の間には通常スカベンジ
ャーが設けられており、拡散炉石英チューブ内の熱気お
よびボートが拡散炉から引出されてきたときの熱気を排
除するようになっている。しかし、近年ウェハーの大口
径化とボートの大径化によって熱容量が増々大きくなっ
てきているので、拡散炉内で熱処理を終えて引出されて
きたボートがボートローダー装置の最終引出位置に到達
してもまだ高温状態にあり、周囲温度近傍まで低下する
には長時間放置しなければならなくなってきている。A scavenger is usually provided between the diffusion furnace and the boat loader device to remove the hot air in the quartz tube of the diffusion furnace and the hot air when the boat is pulled out from the diffusion furnace. However, since the heat capacity has been increasing due to the larger diameter of the wafer and the larger diameter of the boat in recent years, the boat that has been drawn out after the heat treatment in the diffusion furnace reaches the final drawing position of the boat loader device. Is still in a high temperature state, and it has become necessary to leave it for a long time in order to drop it to around the ambient temperature.
発明が解決しようとする問題点 拡散炉の熱処理のなかでも、とくにPH3ガス,PoCl3液
体ソースなどをリン不純物源として、リン不純物を蒸
着，拡散する熱処理においては、ボートが熱処理を終え
て拡散炉外へ引出されてきたときには、ボート，ウェハ
ーともまだ高温状態にあるため、同ボート，ウェハー表
面からはリンミストが大量に発散している。第２図の温
度，リンミスト濃度測定点14では、温度は100℃以上、
リンミストを浮遊微粒子として計測器で測定すると0.17
ミクロン以上の粒径総粒子数が数十万ヶ/ft3以上に達す
る。引き出されてきたときのボート，ウェハー温度が高
ければ高いほどリンミスト発生率は高くなる。このよう
に、従来の拡散炉においては、ボートがスカベンジャー
領域を通過し、最終位置に引き出されてきてもなお、リ
ンミストを大量に発生しているため、従来のスカベンジ
ャーだけではこのリンミストを排除することは不可能
で、第２図のように、フィルター２から送風パンチング
板3A,3B,3Cを通って水平に吹き出している清浄空気の気
流に乗ってリンミストはボートローダー装置全体に飛散
することになり、附近一帯がリンミストで汚染されるこ
とになる。リンミストは吸湿性があるため、装置表面が
ベトつき清浄な雰囲気を著しく害うという欠点があっ
た。またリンはＮ型不純物であるから、他の半導体装置
の製品にリン不純物が附着することになり、半導体装置
の製品性能を著しく害うという問題があった。また、第
２図の場合は三段炉用ボートローダー構成になっている
ので、三段共全てリン蒸着拡散炉であれば、リンミスト
の汚染は、一段炉の場合の三倍で拡大する。あるいは、
三段のうち一段だけがリン蒸着拡散炉で他の二段が他の
目的の炉であっても、拡散炉およびボートローダー装置
が設置されているクリーンルーム内気流は循環している
ので結局、他の炉にもリンの汚染は拡大するという問題
点があった。Problems to be Solved by the Invention Among the heat treatments of the diffusion furnace, particularly in the heat treatment for vaporizing and diffusing phosphorus impurities by using PH 3 gas, PoCl 3 liquid source, etc. as the phosphorus impurity source, the boat finishes the heat treatment before diffusing. Since the boat and the wafer are still in a high temperature state when they are pulled out of the furnace, a large amount of phosphorus mist is emitted from the surface of the boat and the wafer. At the temperature and phosphorus mist concentration measuring point 14 in FIG. 2, the temperature is 100 ° C. or higher,
0.17 when phosphorus mist is measured as a suspended particle with a measuring instrument
The total number of particles with a size of micron or more reaches hundreds of thousands / ft 3 . The higher the boat / wafer temperature when it is pulled out, the higher the phosphorus mist generation rate. Thus, in the conventional diffusion furnace, even if the boat passes through the scavenger area and is pulled out to the final position, a large amount of phosphorus mist is still generated.Therefore, the conventional scavenger alone should eliminate this phosphorus mist. It is impossible, and as shown in Fig. 2, the phosphorus mist is scattered on the entire boat loader device by riding on the stream of clean air that is blown horizontally from the filter 2 through the blower punching plates 3A, 3B, 3C. , The area around the area will be contaminated with phosphorus mist. Since phosphorus mist has a hygroscopic property, it has a drawback that the device surface is sticky and the clean atmosphere is significantly impaired. Further, since phosphorus is an N-type impurity, phosphorus impurities are attached to the products of other semiconductor devices, and there is a problem that the product performance of semiconductor devices is significantly impaired. Further, in the case of FIG. 2, since the boat loader configuration for a three-stage furnace is used, if all three stages are phosphorus vapor deposition diffusion furnaces, the contamination of phosphorus mist is three times as large as in the case of a one-stage furnace. Alternatively,
Even if only one of the three stages is a phosphorus vapor deposition diffusion furnace and the other two stages are for other purposes, the air flow in the clean room where the diffusion furnace and the boat loader device are installed is circulated, so after all, There was a problem that the phosphorus pollution would spread to the furnace.
問題点を解決するための手段 本願発明は上記問題点を解決するために、ウエハーを
熱処理するための拡散炉及びこの拡散炉の前記ウエハー
を出し入れする側に設けられたスカベンジャーに隣接
し、前記拡散炉に熱処理する前に前記ウエハーを送出し
かつ前記熱処理後に前記拡散炉より前記ウエハーを取り
出すためのボートローダー及び同ボートローダーに置か
れた前記ウエハーが２段以上の多段構成になっており、
前記ボートローダー上の前記ウエハーが置かれた上方部
には各別に排気装置が取付けられたボートローダー装置
であって、前記排気装置には排気機能をそれぞれ独立に
制御するための制御手段が各別に備えられており、か
つ、各段のボートローダー装置にはそれぞれ空気送出手
段が備えられた構成になっている。また各段とも熱処理
を終えてボートが引出されてくるとき以外は、清浄空気
送出機能は定常動作し、排気機能は停止する構成になっ
ている。Means for Solving the Problems In order to solve the above problems, the present invention adjoins a diffusion furnace for heat treating a wafer and a scavenger provided on a side of the diffusion furnace for loading and unloading the wafer, A boat loader for delivering the wafer before the heat treatment in the furnace and taking out the wafer from the diffusion furnace after the heat treatment, and the wafer placed in the boat loader have a multi-stage structure of two or more stages,
A boat loader device in which an exhaust device is separately attached to an upper portion of the boat loader on which the wafer is placed, and the exhaust device includes control means for independently controlling an exhaust function. The boat loader device of each stage is provided with air delivery means. Further, in each stage, the clean air delivery function operates steadily and the exhaust function stops except when the boat is pulled out after the heat treatment.
作用 上記構成にすることによって、熱処理を終えて引き出
されてきたボート，ウェハーから発散しているリンミス
トをボートローダー装置外へ飛散拡大するのを防止する
ことができる。Operation With the above-described configuration, it is possible to prevent the phosphorus mist emitted from the boat or wafer that has been drawn out after the heat treatment from scattering and expanding outside the boat loader device.
実施例 本発明の一実施例を第１図で説明する。Embodiment An embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
拡散炉・ボートローダー装置は三段構成の場合であ
る。送風機1A,1B,1Cが各段独立に各々設置作動する構成
になっている。送風機1A,1B,1Cより外部から取込んだ空
気は、各段各々独立に設置されたフィルター2A,2B,2Cに
より清浄空気となり、ステンレス製送風パンチング板3
A,3B,3Cから水平方向にボート移動路全域に吹き出して
いる。これにより、ボートローダー外部からダストが侵
入しウェハーが附着汚染されるのを防止している。以上
の構成によって各段各々独立に清浄空気の送風，停止を
することができる。The diffusion furnace / boat loader device has a three-stage configuration. The blowers 1A, 1B, and 1C are installed and operated independently at each stage. The air taken in from the outside by the blowers 1A, 1B, 1C becomes clean air by the filters 2A, 2B, 2C independently installed in each stage, and the stainless steel blower punching plate 3
It blows out from A, 3B, 3C horizontally across the boat moving path. This prevents dust from entering from the outside of the boat loader and adhering and contaminating the wafer. With the above configuration, clean air can be blown and stopped independently for each stage.
ウェハーが熱処理を終えてボートローダー装置内へ引
出されてきたとき、熱気およびリンミストはウェハーの
上方向へ、上昇気流となっている。この気流は、ボート
移動路の天井部全領域に各段各々独立に設けられた排気
パンチング板を通って排気装置6A,6B,6Cによってクリー
ンルーム外へ排気除外される。各段の排気装置6A,6B,6C
はダンパー7A,7B,7Cによって各々独立に吸引を停止する
ことができる。When the wafer finishes the heat treatment and is taken out into the boat loader device, the hot air and phosphorus mist form an upward airflow in the upward direction of the wafer. This airflow is exhausted to the outside of the clean room by the exhaust devices 6A, 6B, 6C through exhaust punching plates provided independently in each stage in the entire ceiling area of the boat moving path. Exhaust device for each stage 6A, 6B, 6C
The suction can be stopped independently by the dampers 7A, 7B, 7C.
ウェハーが熱処理を終えてボートローダー装置内へ引
き出されてくるときには、該当段の清浄空気送出だけが
停止し、該当段の排気装置はダンパーの開によって吸引
動作される構成になっている。熱処理を終えてボートが
引出されてくるとき以外は、各段とも清浄空気送出機能
は定常動作し、排気機能は停止する構成にすることがで
きる。When the wafer is taken out of the boat loader device after the heat treatment, only the clean air of the relevant stage is stopped and the exhaust device of the relevant stage is sucked by opening the damper. Except when the boat is pulled out after the heat treatment is completed, the clean air delivery function is constantly operated and the exhaust function is stopped in each stage.
以上説明した構成にすることによって、高温状態で拡
散炉から引出されてきたボート，ウエハーから発散する
熱気，リンミストは、ウエハーの上方部すなわち、各段
のボートローダー装置の天井部に設けられた排気装置に
よって排除されるので、ボートローダー装置から熱気、
リンミストがクリーンルーム内に飛散することがなくな
り、クリーンルームの汚染を防ぐことができる。その結
果、半導体装置の製品の性能を著しく害うことを防止で
きる。With the configuration described above, the boat drawn out from the diffusion furnace at high temperature, the hot air radiated from the wafer, and the phosphorus mist are exhausted from the upper portion of the wafer, that is, the ceiling portion of the boat loader device at each stage. Hot air from the boat loader equipment, as it is eliminated by the equipment,
The phosphorus mist does not scatter in the clean room, and the clean room can be prevented from being contaminated. As a result, it is possible to prevent the performance of the semiconductor device product from being significantly impaired.
以上の実施例は三段構成の場合についてであるが、そ
の他の多段構成でも適用できることは勿論である。また
リン蒸着拡散炉の場合について説明したが、他の用途の
拡散炉、あるいは熱処理炉についても適用できることは
勿論である。Although the above-described embodiment is for the case of the three-stage configuration, it goes without saying that other multi-stage configurations can be applied. Further, the case of the phosphorus vapor deposition diffusion furnace has been described, but it goes without saying that it can be applied to a diffusion furnace for other purposes or a heat treatment furnace.
発明の効果 以上説明した様に本発明は、ボートローダー移動路全
域の天井部に排気装置を設け、高温状態で拡散炉からボ
ートが引出されてくるときのみ、該当段のみ排気装置を
吸引動作させ、該当段のみ清浄空気送出を停止させるこ
とによって、熱気およびリンシストがボートローダー前
面からクリーンルーム内へ飛散するのを防止することが
でき、ボートローダー装置周辺の雰囲気を清浄な状態に
維持管理することができ、附近に置いてある他の半導体
装置の性能劣化を防止することができる。As described above, according to the present invention, the exhaust device is provided in the ceiling part of the entire boat loader moving path, and only when the boat is pulled out from the diffusion furnace in a high temperature state, the exhaust device is sucked only in the relevant stage. , It is possible to prevent hot air and rinsist from scattering from the front of the boat loader into the clean room by stopping the delivery of clean air only to the relevant stage, and maintain the atmosphere around the boat loader equipment in a clean state. Therefore, it is possible to prevent the performance deterioration of other semiconductor devices placed nearby.
第１図は本発明による一実施例の三段構成拡散炉ボート
ローダー装置の概要断面図、第２図は従来の三段構成拡
散炉ボートローダー装置の概要断面図である。 1,1A,1B,1C……送風機、2,2A,2B,2C……フィルター、3
A,3B,3C……送風パンチング板、5A,5B,5C……排気パン
チング板、6A,6B,6C……排気装置、7A,7B,7C……排気ダ
ンパー、10……ウェハー、11……ボート、12……ボート
ローダー、13……ボートローダー軌道、14……温度，リ
ンミスト濃度測定点。FIG. 1 is a schematic sectional view of a three-stage diffusion furnace boat loader apparatus according to the present invention, and FIG. 2 is a schematic sectional view of a conventional three-stage diffusion furnace boat loader apparatus. 1,1A, 1B, 1C …… Blower, 2,2A, 2B, 2C …… Filter, 3
A, 3B, 3C …… Blower punching plate, 5A, 5B, 5C …… Exhaust punching plate, 6A, 6B, 6C …… Exhaust device, 7A, 7B, 7C …… Exhaust damper, 10 …… Wafer, 11 …… Boat, 12 …… boat loader, 13 …… boat loader track, 14 …… temperature, phosphorus mist concentration measurement point.
Claims (2)
炉の前記ウエハーを出し入れする側に設けられ、前記拡
散炉に前記ウエハーを出し入れするためのボートローダ
ー装置を多段構成となし、前記各段のボートローダー装
置に置かれた前記ウエハーの上方部には各別に排気装置
が取付けられており、前記排気装置には排気機能を制御
する制御手段が各別に備えられており、かつ、前記各段
のボートローダー装置にはそれぞれ空気送出手段が備え
られていることを特徴とするボートローダー装置。1. A diffusion furnace for heat-treating a wafer and a boat loader device for loading and unloading the wafer to and from the diffusion furnace, which is provided on the side of loading and unloading the wafer, has a multi-stage structure, and each of the stages has An exhaust device is separately attached to the upper portion of the wafer placed on the boat loader device, and each exhaust device is provided with a control means for controlling the exhaust function, and A boat loader device, characterized in that each of the boat loader devices is provided with air delivery means.
手段が各段独立に作動可能になされた特許請求の範囲第
（１）項記載のボートローダー装置。2. The boat loader device according to claim 1, wherein the control means for controlling the exhaust function and the air delivery means are operable independently of each stage.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62187204A JPH084077B2 (en) | 1987-07-27 | 1987-07-27 | Boat loader device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62187204A JPH084077B2 (en) | 1987-07-27 | 1987-07-27 | Boat loader device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6430214A JPS6430214A (en) | 1989-02-01 |
| JPH084077B2 true JPH084077B2 (en) | 1996-01-17 |
Family
ID=16201913
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62187204A Expired - Fee Related JPH084077B2 (en) | 1987-07-27 | 1987-07-27 | Boat loader device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH084077B2 (en) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56148645A (en) * | 1980-03-26 | 1981-11-18 | Bosch Gmbh Robert | Fuel feed compensator for internal combustion engine |
| JPS6049930A (en) * | 1983-08-30 | 1985-03-19 | Kobe Steel Ltd | Automatic rim exchanger for tire uniformity machine |
| JPS62121112A (en) * | 1985-11-18 | 1987-06-02 | Teru Saamuko Kk | Storage device |
-
1987
- 1987-07-27 JP JP62187204A patent/JPH084077B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56148645A (en) * | 1980-03-26 | 1981-11-18 | Bosch Gmbh Robert | Fuel feed compensator for internal combustion engine |
| JPS6049930A (en) * | 1983-08-30 | 1985-03-19 | Kobe Steel Ltd | Automatic rim exchanger for tire uniformity machine |
| JPS62121112A (en) * | 1985-11-18 | 1987-06-02 | Teru Saamuko Kk | Storage device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6430214A (en) | 1989-02-01 |
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|---|---|---|---|
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