JPH08332348A - 縦型脱硝装置 - Google Patents
縦型脱硝装置Info
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- JPH08332348A JPH08332348A JP7139760A JP13976095A JPH08332348A JP H08332348 A JPH08332348 A JP H08332348A JP 7139760 A JP7139760 A JP 7139760A JP 13976095 A JP13976095 A JP 13976095A JP H08332348 A JPH08332348 A JP H08332348A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 設置面積を縮小するとともに、排気ガスに対
する還元剤の均一な噴霧を可能として脱硝効果を高めた
脱硝装置を提供することを目的とする。 【構成】 反応槽１の内部を隔壁１０によって第１室１
１ａと第２室１１ｂに隔成して、各室の内部にハニカム
状に構成された多数個の触媒で成る脱硝剤２を積層配置
し、上記両室１１ａ，１１ｂの下方に排気ガスが折り返
して流れるように両室を連通するガス通路１２を設け、
排気ガスが導入される第１室１１ａ側のガス導入部近傍
に、先端部に還元剤の噴霧ノズル８が固定された流通管
７を挿通し、第２室１１ｂの端部に排出管１５を固定し
た縦型脱硝装置を提供する。上記ガス通路１２の略中心
部には乱流状態のガスを整流するための整流板１３を配
置してあり、前記ノズルとして還元剤の流通管に圧縮空
気の流通管を連結した２流体タイプのものを用いる。
する還元剤の均一な噴霧を可能として脱硝効果を高めた
脱硝装置を提供することを目的とする。 【構成】 反応槽１の内部を隔壁１０によって第１室１
１ａと第２室１１ｂに隔成して、各室の内部にハニカム
状に構成された多数個の触媒で成る脱硝剤２を積層配置
し、上記両室１１ａ，１１ｂの下方に排気ガスが折り返
して流れるように両室を連通するガス通路１２を設け、
排気ガスが導入される第１室１１ａ側のガス導入部近傍
に、先端部に還元剤の噴霧ノズル８が固定された流通管
７を挿通し、第２室１１ｂの端部に排出管１５を固定し
た縦型脱硝装置を提供する。上記ガス通路１２の略中心
部には乱流状態のガスを整流するための整流板１３を配
置してあり、前記ノズルとして還元剤の流通管に圧縮空
気の流通管を連結した２流体タイプのものを用いる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は内燃機関等の排気ガス中
に含まれている窒素酸化物（ＮＯX）を除去するための
脱硝装置に関するものである。
に含まれている窒素酸化物（ＮＯX）を除去するための
脱硝装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来からＮＯX処理技術は種々の分野で
必要とされてきており、例えばディーゼル機関等の排気
ガス中に存在するＮＯXは人体に有害であり、大気中に
放散されると酸性雨の発生原因ともなるので、これら排
気ガス中のＮＯXを効果的に処理する技術が望まれてい
る。
必要とされてきており、例えばディーゼル機関等の排気
ガス中に存在するＮＯXは人体に有害であり、大気中に
放散されると酸性雨の発生原因ともなるので、これら排
気ガス中のＮＯXを効果的に処理する技術が望まれてい
る。
【０００３】一般に上記ＮＯXの処理方法は排煙脱硝技
術として実用化されている。この排煙脱硝技術は乾式法
と湿式法に大別されるが、現在では乾式法の一つである
選択接触還元法が技術的に先行しており、有力な脱硝方
法として注目されている。
術として実用化されている。この排煙脱硝技術は乾式法
と湿式法に大別されるが、現在では乾式法の一つである
選択接触還元法が技術的に先行しており、有力な脱硝方
法として注目されている。
【０００４】上記選択接触還元法の主反応は以下の通り
である。
である。
【０００５】 ４ＮＯ＋４ＮＨ3＋Ｏ2 → ４Ｎ2＋６Ｈ2Ｏ・・・・・・・・・・・・・（１） この反応は還元剤としてアンモニア，炭化水素，一酸化
炭素が使用され、特にアンモニアは酸素が共存しても選
択的にＮＯXを除去するため、ディーゼル機関等の排気
ガス中に含まれているＮＯXの除去に用いて有効であ
る。
炭素が使用され、特にアンモニアは酸素が共存しても選
択的にＮＯXを除去するため、ディーゼル機関等の排気
ガス中に含まれているＮＯXの除去に用いて有効であ
る。
【０００６】上記脱硝装置の一例として、図３に示した
ように密閉型反応槽１の内部にハニカム状に構成された
多数個の触媒で成る脱硝剤２，２が積層配置され、各脱
硝剤２，２の間には、断熱性と耐衝撃性を持たせるため
のスペーサ３，３が挿入された構成が知られている。
ように密閉型反応槽１の内部にハニカム状に構成された
多数個の触媒で成る脱硝剤２，２が積層配置され、各脱
硝剤２，２の間には、断熱性と耐衝撃性を持たせるため
のスペーサ３，３が挿入された構成が知られている。
【０００７】４は図外の内燃機関の発生する排気ガスが
流通する配管であり、この配管４が上記反応槽１のガス
導入部５に連結されている。６は整流用の内部フィンで
ある。尚、ガス導入部５近傍に乱流状態の排気ガスＧを
整流して均一な流れに変える整流器を配置した例も知ら
れている。
流通する配管であり、この配管４が上記反応槽１のガス
導入部５に連結されている。６は整流用の内部フィンで
ある。尚、ガス導入部５近傍に乱流状態の排気ガスＧを
整流して均一な流れに変える整流器を配置した例も知ら
れている。
【０００８】上記配管４内の適当な位置には、外方から
配管４を貫通して還元剤の流通管７が挿通されており、
この流通管７の先端部に還元剤の噴霧ノズル８が固定さ
れている。
配管４を貫通して還元剤の流通管７が挿通されており、
この流通管７の先端部に還元剤の噴霧ノズル８が固定さ
れている。
【０００９】かかる脱硝装置によれば、内燃機関から発
生する排気ガスＧが配管４内に送り込まれた際に、還元
剤の流通管７を介して噴霧ノズル８から還元剤がａ方向
に噴霧され、この還元剤が排気ガスＧと混合されてから
反応槽１の導入部５及び内部フィン６を経由してハニカ
ム状の脱硝剤２，２に導かれ、この脱硝剤２，２内を通
過する。そして選択接触還元法の主反応（前記の１式を
参照）に基づいて、排気ガスＧ中に含まれている窒素酸
化物（ＮＯX）が除去され、排出部９から外方に放出さ
れる。
生する排気ガスＧが配管４内に送り込まれた際に、還元
剤の流通管７を介して噴霧ノズル８から還元剤がａ方向
に噴霧され、この還元剤が排気ガスＧと混合されてから
反応槽１の導入部５及び内部フィン６を経由してハニカ
ム状の脱硝剤２，２に導かれ、この脱硝剤２，２内を通
過する。そして選択接触還元法の主反応（前記の１式を
参照）に基づいて、排気ガスＧ中に含まれている窒素酸
化物（ＮＯX）が除去され、排出部９から外方に放出さ
れる。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】しかしながらこのよう
な従来の脱硝装置の場合、反応槽１と配管４とが横方向
に延長した構造、換言すれば横型の脱硝装置であるた
め、脱硝装置自体の設置面積が広くなってしまう上、高
ＳＶ，高流速時には還元剤を均一に噴霧して脱硝効果を
高めることが困難であるという課題があった。
な従来の脱硝装置の場合、反応槽１と配管４とが横方向
に延長した構造、換言すれば横型の脱硝装置であるた
め、脱硝装置自体の設置面積が広くなってしまう上、高
ＳＶ，高流速時には還元剤を均一に噴霧して脱硝効果を
高めることが困難であるという課題があった。
【００１１】例えば図３の装置における配管４内に配置
した噴霧ノズル８と反応槽１の導入部５との間には、装
置のレイアウト上から水平方向の距離ｂと上下方向の距
離ｃを所定長だけ必要とする場合が多く、又、還元剤の
噴霧ノズル８として１流体式ノズルを用いた場合には、
この１流体式ノズルの噴霧範囲が狭いために脱硝剤２か
ら離れた位置で噴霧を行う必要があり、図示例では距離
ｂとして最小限１５００ｍｍを確保することが要求さ
れ、必然的に設置面積が大きくなってしまうことにな
る。
した噴霧ノズル８と反応槽１の導入部５との間には、装
置のレイアウト上から水平方向の距離ｂと上下方向の距
離ｃを所定長だけ必要とする場合が多く、又、還元剤の
噴霧ノズル８として１流体式ノズルを用いた場合には、
この１流体式ノズルの噴霧範囲が狭いために脱硝剤２か
ら離れた位置で噴霧を行う必要があり、図示例では距離
ｂとして最小限１５００ｍｍを確保することが要求さ
れ、必然的に設置面積が大きくなってしまうことにな
る。
【００１２】更に配管４の管径に比して脱硝剤２が積層
配置された反応槽１の内径長が大きいため、この反応槽
１内での脱硝剤２と排気ガスＧとの接触面積が大きくな
り、それに伴って脱硝剤２内に還元剤を均一に浸透反応
させることが困難であり、特に高ＳＶ，高流速時には所
望とする脱硝効果が得られないことがあるという問題が
ある。ちなみに上記のＳＶ値とは排気ガスの空間速度
（Space Velocity），換言すれば単位時間当たりの脱硝
処理能力を表している。
配置された反応槽１の内径長が大きいため、この反応槽
１内での脱硝剤２と排気ガスＧとの接触面積が大きくな
り、それに伴って脱硝剤２内に還元剤を均一に浸透反応
させることが困難であり、特に高ＳＶ，高流速時には所
望とする脱硝効果が得られないことがあるという問題が
ある。ちなみに上記のＳＶ値とは排気ガスの空間速度
（Space Velocity），換言すれば単位時間当たりの脱硝
処理能力を表している。
【００１３】図３に示した装置における噴霧ノズル８を
１流体式とし、配管４内の排気ガスＧの流量を５００
（Ｎｍ3／ｈ）、ＳＶ値を１０００（ｈ-1）、ガス流速
を２（ｍ／ｓ）、還元剤として酢酸：酢酸アンモニウム
＝８：２を用いてＮＯX濃度が１０００ｐｐｍの排気ガ
スＧについて脱硝処理したところ、還元剤流量が０.８
（ｌ／ｈ）でＮＯX濃度が２２０ｐｐｍ、同還元剤流量
が１.０（ｌ／ｈ）で１５０ｐｐｍ、同還元剤濃度が２.
０（ｌ／ｈ）で９０ｐｐｍとなった。この脱硝効果は必
ずしも満足する結果とは言えないものであって、更に脱
硝効果を高めることが要求される。
１流体式とし、配管４内の排気ガスＧの流量を５００
（Ｎｍ3／ｈ）、ＳＶ値を１０００（ｈ-1）、ガス流速
を２（ｍ／ｓ）、還元剤として酢酸：酢酸アンモニウム
＝８：２を用いてＮＯX濃度が１０００ｐｐｍの排気ガ
スＧについて脱硝処理したところ、還元剤流量が０.８
（ｌ／ｈ）でＮＯX濃度が２２０ｐｐｍ、同還元剤流量
が１.０（ｌ／ｈ）で１５０ｐｐｍ、同還元剤濃度が２.
０（ｌ／ｈ）で９０ｐｐｍとなった。この脱硝効果は必
ずしも満足する結果とは言えないものであって、更に脱
硝効果を高めることが要求される。
【００１４】他方で脱硝効率を高めるために還元剤の散
布流量を上記例よりも多くする手段も考慮されるが、薬
品代が余分にかかってしまい、イニシャルコスト増とな
る問題が生じる。
布流量を上記例よりも多くする手段も考慮されるが、薬
品代が余分にかかってしまい、イニシャルコスト増とな
る問題が生じる。
【００１５】そこで本発明はこのような従来の脱硝装置
が有している課題を解消して、排気ガスに対する還元剤
の均一な噴霧を可能として脱硝効果を高めるとともに、
脱硝装置自体の占める設置面積を縮小することができる
脱硝装置を提供することを目的とするものである。
が有している課題を解消して、排気ガスに対する還元剤
の均一な噴霧を可能として脱硝効果を高めるとともに、
脱硝装置自体の占める設置面積を縮小することができる
脱硝装置を提供することを目的とするものである。
【００１６】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、密閉型の反応槽内部にハニカム状に構成さ
れた触媒で成る脱硝剤を積層し、導入部から該反応槽内
に内燃機関の排気ガスを流入すると同時に該排気ガス内
に還元剤を噴霧して、接触還元法に基づいて排気ガス中
の窒素酸化物を除去し、排出部から放出するようにした
脱硝装置において、上記反応槽の内部を隔壁によって第
１室と第２室に隔成して、各室の内部にハニカム状に構
成された多数個の触媒で成る脱硝剤を積層配置し、上記
両室の下方に、排気ガスが折り返して流れるように両室
を連通するガス通路を設け、排気ガスが導入される第１
室側のガス導入部近傍に、先端部に還元剤の噴霧ノズル
が固定された還元剤の流通管を挿通し、第２室の端部に
排出管を固定した縦型脱硝装置を提供する。
するために、密閉型の反応槽内部にハニカム状に構成さ
れた触媒で成る脱硝剤を積層し、導入部から該反応槽内
に内燃機関の排気ガスを流入すると同時に該排気ガス内
に還元剤を噴霧して、接触還元法に基づいて排気ガス中
の窒素酸化物を除去し、排出部から放出するようにした
脱硝装置において、上記反応槽の内部を隔壁によって第
１室と第２室に隔成して、各室の内部にハニカム状に構
成された多数個の触媒で成る脱硝剤を積層配置し、上記
両室の下方に、排気ガスが折り返して流れるように両室
を連通するガス通路を設け、排気ガスが導入される第１
室側のガス導入部近傍に、先端部に還元剤の噴霧ノズル
が固定された還元剤の流通管を挿通し、第２室の端部に
排出管を固定した縦型脱硝装置を提供する。
【００１７】上記ガス通路のガス流通方向略中心部に、
乱流状態のガスを整流するための整流板を配置してあ
り、脱硝装置の処理条件は、ガス流速は５〜８（ｍ／
ｓ）、還元剤の濃度は７〜１１（ｍｏｌ／ｌ）、ＳＶ値
を２０００〜３０００（ｈ-1）とする。前記ノズルとし
て、還元剤の流通管に圧縮空気の流通管を連結した２流
体タイプのものを用いる。
乱流状態のガスを整流するための整流板を配置してあ
り、脱硝装置の処理条件は、ガス流速は５〜８（ｍ／
ｓ）、還元剤の濃度は７〜１１（ｍｏｌ／ｌ）、ＳＶ値
を２０００〜３０００（ｈ-1）とする。前記ノズルとし
て、還元剤の流通管に圧縮空気の流通管を連結した２流
体タイプのものを用いる。
【００１８】
【作用】かかる縦型脱硝装置によれば、排気ガスが配管
を経由して反応槽の第１室に送り込まれた際に、流通管
を介して噴霧ノズルから還元剤が排気ガスの下流方向に
噴霧され、この還元剤が排気ガスと混合されてからハニ
カム状の脱硝剤内を通過し、更に第１室からガス通路を
経由して折り返し第２室内に送り込まれて再度脱硝剤内
を通過することにより、選択接触還元法の主反応に基づ
いて、窒素酸化物（ＮＯX）が除去される。従って排気
ガスが反応槽の第１室から第２室へ連続的に流れること
により、選択接触還元法の主反応が２回実施されること
になるため、より脱硝効果は高められる。
を経由して反応槽の第１室に送り込まれた際に、流通管
を介して噴霧ノズルから還元剤が排気ガスの下流方向に
噴霧され、この還元剤が排気ガスと混合されてからハニ
カム状の脱硝剤内を通過し、更に第１室からガス通路を
経由して折り返し第２室内に送り込まれて再度脱硝剤内
を通過することにより、選択接触還元法の主反応に基づ
いて、窒素酸化物（ＮＯX）が除去される。従って排気
ガスが反応槽の第１室から第２室へ連続的に流れること
により、選択接触還元法の主反応が２回実施されること
になるため、より脱硝効果は高められる。
【００１９】排気ガスがガス通路に抜けた際に、整流板
により乱流状態のガスが整流されてから第２室に送り込
まれるため、より均一な脱硝反応に基づいて処理され
る。
により乱流状態のガスが整流されてから第２室に送り込
まれるため、より均一な脱硝反応に基づいて処理され
る。
【００２０】
【実施例】以下図１，図２に基づいて本発明にかかる縦
型脱硝装置の一実施例を、前記従来の構成部分と同一の
構成部分に同一の符号を付して詳述する。図中の１は密
閉型の反応槽であり、この反応槽１の内部は中央部に固
定された隔壁１０によって第１室１１ａと第２室１１ｂ
に隔成されている。そして各室１１ａ，１１ｂの内部に
ハニカム状に構成された多数個の触媒で成る脱硝剤２，
２が積層配置され、各脱硝剤２，２の間には、断熱性と
耐衝撃性を持たせるためのスペーサ３，３が挿入されて
いる。脱硝剤２を構成する触媒としてプラチナ等の貴金
属とかアルミナ，酸化チタン（ＴｉＯ2）等に担持され
た各種金属酸化物が使用される。
型脱硝装置の一実施例を、前記従来の構成部分と同一の
構成部分に同一の符号を付して詳述する。図中の１は密
閉型の反応槽であり、この反応槽１の内部は中央部に固
定された隔壁１０によって第１室１１ａと第２室１１ｂ
に隔成されている。そして各室１１ａ，１１ｂの内部に
ハニカム状に構成された多数個の触媒で成る脱硝剤２，
２が積層配置され、各脱硝剤２，２の間には、断熱性と
耐衝撃性を持たせるためのスペーサ３，３が挿入されて
いる。脱硝剤２を構成する触媒としてプラチナ等の貴金
属とかアルミナ，酸化チタン（ＴｉＯ2）等に担持され
た各種金属酸化物が使用される。
【００２１】上記両室１１ａ，１１ｂの下方には、排気
ガスＧが折り返して流れるように両室を連通するガス通
路１２が設けられている。このガス通路１２のガス流通
方向略中心部には乱流状態のガスを整流するための整流
板１３が配置されている。
ガスＧが折り返して流れるように両室を連通するガス通
路１２が設けられている。このガス通路１２のガス流通
方向略中心部には乱流状態のガスを整流するための整流
板１３が配置されている。
【００２２】４は図外の内燃機関の発生する排気ガスが
流通する配管であり、この配管４が第１室１１ａ側のガ
ス導入部１４に連結されている。このガス導入部１４近
傍の適当な位置に外方から貫通して還元剤の流通管７が
挿通されており、この流通管７の先端部に還元剤の噴霧
ノズル８が固定されている。他方の第２室１１ｂの上方
には排出管１５が固定されている。
流通する配管であり、この配管４が第１室１１ａ側のガ
ス導入部１４に連結されている。このガス導入部１４近
傍の適当な位置に外方から貫通して還元剤の流通管７が
挿通されており、この流通管７の先端部に還元剤の噴霧
ノズル８が固定されている。他方の第２室１１ｂの上方
には排出管１５が固定されている。
【００２３】本実施例では第１室１１ａ内の噴霧ノズル
８と脱硝剤２間の長さｄを３０ｃｍ〜５０ｃｍとし、脱
硝剤２の全長（第２室１１ｂ内の脱硝剤の高さ）を略１
６０ｃｍ、脱硝剤２の全幅（図２寸法ｆ）を略２６ｃｍ
とした。
８と脱硝剤２間の長さｄを３０ｃｍ〜５０ｃｍとし、脱
硝剤２の全長（第２室１１ｂ内の脱硝剤の高さ）を略１
６０ｃｍ、脱硝剤２の全幅（図２寸法ｆ）を略２６ｃｍ
とした。
【００２４】ノズル８として、該ノズル８に連結された
還元剤の流通管７に加えて、圧縮空気の流通管をも連結
した２流体タイプのものを用いることも可能である。
還元剤の流通管７に加えて、圧縮空気の流通管をも連結
した２流体タイプのものを用いることも可能である。
【００２５】かかる本実施例の脱硝装置によれば、内燃
機関から発生する排気ガスＧがガス密度が不均一な乱流
状態として配管４を経由して反応槽１の第１室１１ａに
送り込まれた際に、還元剤の流通管７を介して噴霧ノズ
ル８から還元剤が排気ガスＧの下流方向に噴霧され、こ
の還元剤が排気ガスＧと混合されてからハニカム状の脱
硝剤２，２内を通過する。そして第１室１１ａからガス
通路１２に抜けた際に、整流板１３により上下方向及び
左右方向に乱流状態のガスが整流され、このガス通路１
２から折り返して他方の第２室１１ｂ内に送り込まれて
再度脱硝剤２，２内を通過する。
機関から発生する排気ガスＧがガス密度が不均一な乱流
状態として配管４を経由して反応槽１の第１室１１ａに
送り込まれた際に、還元剤の流通管７を介して噴霧ノズ
ル８から還元剤が排気ガスＧの下流方向に噴霧され、こ
の還元剤が排気ガスＧと混合されてからハニカム状の脱
硝剤２，２内を通過する。そして第１室１１ａからガス
通路１２に抜けた際に、整流板１３により上下方向及び
左右方向に乱流状態のガスが整流され、このガス通路１
２から折り返して他方の第２室１１ｂ内に送り込まれて
再度脱硝剤２，２内を通過する。
【００２６】このようにして排気ガスＧが両室１１ａ，
１１ｂ内を流通する際に選択接触還元法の主反応（前記
の１式を参照）に基づいて、排気ガスＧ中に含まれてい
る窒素酸化物（ＮＯX）が除去され、第２室１１ｂの上
方に開口された排出部１５から外方に放出される。従っ
て本実施例では排気ガスＧが反応槽１の第１室１１ａか
ら第２室１１ｂへ連続的に流れることにより、選択接触
還元法の主反応が２回実施されることになるため、より
脱硝効果は高められる。
１１ｂ内を流通する際に選択接触還元法の主反応（前記
の１式を参照）に基づいて、排気ガスＧ中に含まれてい
る窒素酸化物（ＮＯX）が除去され、第２室１１ｂの上
方に開口された排出部１５から外方に放出される。従っ
て本実施例では排気ガスＧが反応槽１の第１室１１ａか
ら第２室１１ｂへ連続的に流れることにより、選択接触
還元法の主反応が２回実施されることになるため、より
脱硝効果は高められる。
【００２７】本実施例における噴霧ノズル８として２流
体式の広角ノズルを採用し、配管４内の排気ガスＧの流
量を５００（Ｎｍ3／ｈ）、ＳＶ値を２５００
（ｈ-1）、温度を４００℃〜４５０℃、ガス流速を８
（ｍ／ｓ）、還元剤として酢酸：酢酸アンモニウム＝
１：１を用いてＮＯX濃度が１０００ｐｐｍの排気ガス
Ｇについて脱硝処理したところ、還元剤流量が４.０
（ｌ／ｈ）でＮＯX濃度が２００ｐｐｍ、同還元剤流量
が５.０（ｌ／ｈ）で１００ｐｐｍという好結果が得ら
れた。即ち、前記の従来例（図３の例）よりも排気ガス
Ｇと脱硝剤２との接触面積が小さくなったことにより、
ガス流速は２（ｍ／ｓ）から８（ｍ／ｓ）と４倍となっ
たにも関わらず、脱硝効果は高くなっていることが確認
された。
体式の広角ノズルを採用し、配管４内の排気ガスＧの流
量を５００（Ｎｍ3／ｈ）、ＳＶ値を２５００
（ｈ-1）、温度を４００℃〜４５０℃、ガス流速を８
（ｍ／ｓ）、還元剤として酢酸：酢酸アンモニウム＝
１：１を用いてＮＯX濃度が１０００ｐｐｍの排気ガス
Ｇについて脱硝処理したところ、還元剤流量が４.０
（ｌ／ｈ）でＮＯX濃度が２００ｐｐｍ、同還元剤流量
が５.０（ｌ／ｈ）で１００ｐｐｍという好結果が得ら
れた。即ち、前記の従来例（図３の例）よりも排気ガス
Ｇと脱硝剤２との接触面積が小さくなったことにより、
ガス流速は２（ｍ／ｓ）から８（ｍ／ｓ）と４倍となっ
たにも関わらず、脱硝効果は高くなっていることが確認
された。
【００２８】尚、本実施例の最適な処理条件は、ＳＶ値
を２０００〜３０００（ｈ-1）、ガス流速は５〜８（ｍ
／ｓ）、還元剤の濃度は７〜１１（ｍｏｌ／ｌ）とする
のが良い。
を２０００〜３０００（ｈ-1）、ガス流速は５〜８（ｍ
／ｓ）、還元剤の濃度は７〜１１（ｍｏｌ／ｌ）とする
のが良い。
【００２９】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明にか
かる縦型脱硝装置によれば、排気ガス反応槽の第１室に
送り込まれて流通管を介して噴霧ノズルから還元剤が下
流方向に噴霧されて脱硝剤内を通過した後、第１室から
ガス通路を経由して折り返し第２室内に送り込まれて再
度脱硝剤内を通過することになるため、選択接触還元法
の主反応に基づく窒素酸化物（ＮＯX）の除去作用が連
続的に２回実施されることになり、より脱硝効果を高め
ることができる。
かる縦型脱硝装置によれば、排気ガス反応槽の第１室に
送り込まれて流通管を介して噴霧ノズルから還元剤が下
流方向に噴霧されて脱硝剤内を通過した後、第１室から
ガス通路を経由して折り返し第２室内に送り込まれて再
度脱硝剤内を通過することになるため、選択接触還元法
の主反応に基づく窒素酸化物（ＮＯX）の除去作用が連
続的に２回実施されることになり、より脱硝効果を高め
ることができる。
【００３０】特に反応槽内の第１室と第２室とが水平方
向に２分された縦型の脱硝装置であるため、脱硝装置自
体の設置面積は従来例に比して小さくすることができ
る。更にこのように反応槽内を水平方向に２分したこと
により、脱硝剤と排気ガスとの接触面積が実質的に縮小
されて、脱硝剤内に還元剤を均一に浸透反応させること
が可能となり、排気ガスが高ＳＶ，高流速時であっても
還元剤を均一に噴霧して脱硝効果を高めることができ
る。
向に２分された縦型の脱硝装置であるため、脱硝装置自
体の設置面積は従来例に比して小さくすることができ
る。更にこのように反応槽内を水平方向に２分したこと
により、脱硝剤と排気ガスとの接触面積が実質的に縮小
されて、脱硝剤内に還元剤を均一に浸透反応させること
が可能となり、排気ガスが高ＳＶ，高流速時であっても
還元剤を均一に噴霧して脱硝効果を高めることができ
る。
【００３１】請求項２の構成によれば、ガス密度が不均
一な乱流状態として反応槽内に送り込まれた排気ガスで
あってもガス通路に設けた整流板によって乱流状態のガ
スが整流されてから第２室に送り込まれるため、より均
一な脱硝反応に基づいて以下の処理を行うことができ
る。
一な乱流状態として反応槽内に送り込まれた排気ガスで
あってもガス通路に設けた整流板によって乱流状態のガ
スが整流されてから第２室に送り込まれるため、より均
一な脱硝反応に基づいて以下の処理を行うことができ
る。
【００３２】又、脱硝効率の向上に伴ってノズルから噴
霧される還元剤の量は少なくても充分な脱硝効果が得ら
れるので、薬品代が節約できてコストの低廉化に寄与す
ることができる。
霧される還元剤の量は少なくても充分な脱硝効果が得ら
れるので、薬品代が節約できてコストの低廉化に寄与す
ることができる。
【００３３】従って本発明によれば、排気ガスに対する
還元剤の噴霧効果と脱硝効果を高め、しかも脱硝装置自
体の占める設置面積を縮小することができる脱硝装置が
提供される。
還元剤の噴霧効果と脱硝効果を高め、しかも脱硝装置自
体の占める設置面積を縮小することができる脱硝装置が
提供される。
【図１】本発明を適用した縦型脱硝装置の正断面図。
【図２】図１の側断面図。
【図３】従来の脱硝装置の構成を示す概要図。
１…反応槽 ２…脱硝剤 ３…スペーサ ７…流通管 ８…噴霧ノズル １０…隔壁 １１ａ…第１室 １１ｂ…第２室 １２…ガス通路 １３…整流板 １４…ガス導入部 １５…排出管
Claims (4)
- 【請求項１】 密閉型の反応槽内部にハニカム状に構成
された触媒で成る脱硝剤を積層し、導入部から該反応槽
内に内燃機関の排気ガスを流入すると同時に該排気ガス
内に還元剤を噴霧して、接触還元法に基づいて排気ガス
中の窒素酸化物を除去し、排出部から放出するようにし
た脱硝装置において、 上記反応槽の内部を隔壁によって第１室と第２室に隔成
して、各室の内部にハニカム状に構成された多数個の触
媒で成る脱硝剤を積層配置し、上記両室の下方に、排気
ガスが折り返して流れるように両室を連通するガス通路
を設け、排気ガスが導入される第１室側のガス導入部近
傍に、先端部に還元剤の噴霧ノズルが固定された還元剤
の流通管を挿通し、第２室の端部に排出管を固定したこ
とを特徴とする縦型脱硝装置。 - 【請求項２】 前記ガス通路のガス流通方向略中心部
に、乱流状態のガスを整流するための整流板を配置した
請求項１記載の縦型脱硝装置。 - 【請求項３】 前記脱硝装置の処理条件は、ガス流速は
５〜８（ｍ／ｓ）、還元剤の濃度は７〜１１（ｍｏｌ／
ｌ）、ＳＶ値を２０００〜３０００（ｈ-1）とした請求
項１，２記載の縦型脱硝装置。 - 【請求項４】 前記ノズルとして、還元剤の流通管に圧
縮空気の流通管を連結した２流体タイプのものを用いた
請求項１，２，３記載の縦型脱硝装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7139760A JPH08332348A (ja) | 1995-06-07 | 1995-06-07 | 縦型脱硝装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7139760A JPH08332348A (ja) | 1995-06-07 | 1995-06-07 | 縦型脱硝装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08332348A true JPH08332348A (ja) | 1996-12-17 |
Family
ID=15252755
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7139760A Pending JPH08332348A (ja) | 1995-06-07 | 1995-06-07 | 縦型脱硝装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08332348A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013180288A (ja) * | 2012-03-05 | 2013-09-12 | Nippon Steel & Sumitomo Metal Corp | 高速排ガス処理用フィルタおよび高速排ガス除塵装置 |
| JP2014079750A (ja) * | 2012-09-28 | 2014-05-08 | Ube Ind Ltd | ガスの処理装置、ガスの処理カートリッジ及びガスの処理方法 |
| CN110732243A (zh) * | 2019-11-26 | 2020-01-31 | 中冶南方都市环保工程技术股份有限公司 | 一种多仓scr反应器烟气分仓均流装置 |
-
1995
- 1995-06-07 JP JP7139760A patent/JPH08332348A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013180288A (ja) * | 2012-03-05 | 2013-09-12 | Nippon Steel & Sumitomo Metal Corp | 高速排ガス処理用フィルタおよび高速排ガス除塵装置 |
| JP2014079750A (ja) * | 2012-09-28 | 2014-05-08 | Ube Ind Ltd | ガスの処理装置、ガスの処理カートリッジ及びガスの処理方法 |
| JP2017185489A (ja) * | 2012-09-28 | 2017-10-12 | 宇部興産株式会社 | ガスの処理装置、ガスの処理カートリッジ及びガスの処理方法 |
| CN110732243A (zh) * | 2019-11-26 | 2020-01-31 | 中冶南方都市环保工程技术股份有限公司 | 一种多仓scr反应器烟气分仓均流装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040106 |