JPH08316287A - Board handling method and board frame used for it - Google Patents

Board handling method and board frame used for it

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JPH08316287A
JPH08316287A JP14249395A JP14249395A JPH08316287A JP H08316287 A JPH08316287 A JP H08316287A JP 14249395 A JP14249395 A JP 14249395A JP 14249395 A JP14249395 A JP 14249395A JP H08316287 A JPH08316287 A JP H08316287A
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JP
Japan
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substrate
frame
board
recess
handling
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP14249395A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasuhiro Tsuino
康弘 対野
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Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE: To make it possible to handle a board without causing a robot hand etc., to touch the board directly, to suppress the attaching of dirt to the board, and to prevent the breakage of the board at the time of conveying and handling it. CONSTITUTION: A board 1 is conveyed, taken in/out, etc., without being directly touched through the medium of a board frame 2, by a board handling means which sets a board 1 in the recessed parts 3 of the board frame 2 for a board 1 to be set in and causes the frame 2 to hold the board 1, and conveys, takes in/out, etc,. the board 1.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本願発明は、基板(ウエハ)を成
膜室に搬送したり、成膜室から取り出したりする場合の
基板の取扱方法及び該取扱方法において基板を取り扱う
際に用いられる基板フレームに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for handling a substrate when a substrate (wafer) is transferred to a film forming chamber or taken out from the film forming chamber, and a substrate used for handling the substrate in the handling method. Regarding the frame.

【0002】[0002]

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】例え
ば、基板(ウエハ)を一枚ずつ供給してこれに薄膜電極
などを成膜する真空成膜装置を用いる場合における基板
の搬送方法としては、図4に示すような搬送ロボットを
用いて基板を搬送する方法が一般的である。
2. Description of the Related Art For example, as a substrate transfer method in the case of using a vacuum film forming apparatus for supplying a substrate (wafer) one by one and forming a thin film electrode thereon, A method of transporting a substrate using a transport robot as shown in FIG. 4 is general.

【0003】すなわち、この搬送方法は、ロボットハン
ド51,ロボットアーム52などを備えた搬送ロボット
53を用い、そのロボットハンド51の先端の基板載置
部54に、基板55を水平に載置し、ロボットハンド5
1やロボットアーム52などを動作させることにより、
基板55を所定の位置に搬送する方法である。
That is, in this transfer method, a transfer robot 53 having a robot hand 51, a robot arm 52, etc. is used, and a substrate 55 is placed horizontally on a substrate placing section 54 at the tip of the robot hand 51. Robot hand 5
By operating 1 and the robot arm 52,
This is a method of transporting the substrate 55 to a predetermined position.

【0004】しかし、上記従来の搬送方法には、以下の
ような問題点がある。 基板55の下面(裏面)をロボットハンド51により
下から支持するようにしているため、基板55の裏面に
汚れが付着する。また、ロボットハンド51に付属する
真空吸着パッド(図示せず)で基板55の裏面を吸着す
るため、真空吸着パッドからの汚れが基板55の裏面に
付着する。 搬送ロボット53が旋回運動を行うとき、あるいはロ
ボットアーム52が伸縮するときに発生する慣性モーメ
ントにより、ロボットハンド51上に載置された基板5
5の位置ずれが生じ、基板55の取入れ・取出しに支障
をきたしたり、基板55が落下して破損したりする場合
がある。 焦電性を有する基板を搬送する場合には、成膜時に基
板55に作用する成膜エネルギーや基板加熱時の熱エネ
ルギーによって、基板に静電気が発生し、ロボットハン
ド51や成膜室内の基板ホルダー(図示せず)に自ら吸
着され、その結果として、基板に発生する内部応力によ
り基板破壊が起こる場合がある。また、ロボットハンド
51から基板55を離脱させることが困難になり、基板
破損を招いたり、基板の位置決め不良により正確な搬送
が不可能になったりする。 成膜中の基板姿勢は、多くの場合、水平姿勢が採用さ
れるが、これは、ロボットアーム52の構造に起因する
制御可能軸数の制限や、ロボットハンド51の上面に基
板を載置する方法や真空吸着パッドによる基板保持方法
が水平姿勢を要求することなどによる。そのため、成膜
時に発生する汚れが基板上面に付着してコンタミネーシ
ョンの原因となったり、例えば、スパッタリングターゲ
ット上に汚れが落下して、コンタミネーションの原因と
なる異常放電を引き起こしたりする。
However, the above-mentioned conventional transfer method has the following problems. Since the lower surface (back surface) of the substrate 55 is supported by the robot hand 51 from below, dirt adheres to the rear surface of the substrate 55. Further, since the vacuum suction pad (not shown) attached to the robot hand 51 sucks the back surface of the substrate 55, dirt from the vacuum suction pad adheres to the back surface of the substrate 55. The substrate 5 placed on the robot hand 51 is caused by the moment of inertia generated when the transfer robot 53 makes a turning motion or when the robot arm 52 expands and contracts.
There is a case where the position shift of 5 occurs, which hinders the taking-in and taking-out of the substrate 55, or the substrate 55 is dropped and damaged. When transporting a substrate having pyroelectricity, static electricity is generated on the substrate due to the film-forming energy acting on the substrate 55 during film-forming and the thermal energy during substrate heating, and the robot hand 51 or the substrate holder in the film-forming chamber. It may be adsorbed by itself (not shown), and as a result, the internal stress generated in the substrate may cause the substrate to break. Further, it becomes difficult to remove the substrate 55 from the robot hand 51, which may damage the substrate or make it impossible to accurately convey the substrate due to the positioning error of the substrate. In many cases, a horizontal posture is adopted as the substrate posture during film formation. This is because the number of controllable axes due to the structure of the robot arm 52 is limited and the substrate is placed on the upper surface of the robot hand 51. This is because the method and the substrate holding method using the vacuum suction pad require a horizontal posture. As a result, dirt generated during film formation adheres to the upper surface of the substrate and causes contamination, or, for example, dirt drops on the sputtering target and causes abnormal discharge that causes contamination.

【0005】本願発明は、上記問題点を解決するもので
あり、基板をロボットハンドなどに直接接触させること
なく取り扱うことが可能で、基板への汚れの付着を抑制
することが可能であるとともに、基板搬送時や基板ハン
ドリング時の基板の破損を防止することが可能な基板取
扱方法及びそれに用いる基板フレームを提供することを
目的とする。
The present invention solves the above-mentioned problems. It is possible to handle a substrate without directly contacting it with a robot hand or the like, and it is possible to suppress the attachment of dirt to the substrate. An object of the present invention is to provide a substrate handling method capable of preventing damage to the substrate during substrate transportation and substrate handling, and a substrate frame used therefor.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本願発明の基板取扱方法は、基板がはめ込まれる凹
部を備えた基板フレームの、前記凹部に基板をはめ込ん
で保持させ、基板の搬送や取入れ・取出しなどを行う基
板取扱手段により、前記基板と直接に接触することな
く、前記基板フレームを介して基板の搬送や取入れ・取
出しなどを行うようにしたことを特徴としている。
In order to achieve the above object, a substrate handling method according to the present invention is a substrate frame having a recess into which a substrate is fitted. It is characterized in that the substrate handling means for taking in, taking out, taking out, etc. carries, takes in, and takes out the substrate via the substrate frame without directly contacting with the substrate.

【0007】また、本願発明の基板フレームは、基板を
保持するための基板フレームであって、環状で、一方の
面に、基板がはまり込む環状の凹部が形成されたフレー
ム本体と、前記凹部にはまり込んだ基板が脱落しないよ
うに、基板を前記凹部に保持するための基板保持手段と
を具備することを特徴としている。
The substrate frame of the present invention is a substrate frame for holding a substrate, which is annular and has a frame main body having an annular recess formed on one surface into which the substrate fits, and the recess. It is characterized by further comprising substrate holding means for holding the substrate in the recess so that the fitted substrate does not fall off.

【0008】さらに、本願発明の基板フレームは、略円
形で、位置決め用切欠き部を有する基板を保持するため
の基板フレームであって、前記フレーム本体の前記凹部
に、基板の位置決め用切欠き部に対応する張出し部が形
成されていることを特徴としている。
Further, the substrate frame of the present invention is a substrate frame for holding a substrate having a substantially circular shape and a positioning notch, wherein the substrate positioning notch is provided in the recess of the frame body. Is characterized in that an overhanging portion corresponding to is formed.

【0009】また、所定の位置に、基板フレーム自体の
位置決め用、あるいは基板取扱手段などへの係止用のフ
レーム係止穴を設けたことを特徴としている。
Further, it is characterized in that a frame locking hole is provided at a predetermined position for positioning the substrate frame itself or for locking the substrate handling means.

【0010】さらに、ピンセットなどの治具を用いて、
基板を取り出す際に、ピンセットなどの治具の逃げ道と
なるように、前記フレーム本体の前記凹部の外周部を含
む所定の位置に、前記凹部底面から1mm以上の深さを有
する溝、あるいは貫通溝を設けたことを特徴としてい
る。
Furthermore, using a jig such as tweezers,
A groove having a depth of 1 mm or more from the bottom surface of the concave portion or a through groove at a predetermined position including the outer peripheral portion of the concave portion of the frame main body so as to be an escape route for a jig such as tweezers when the substrate is taken out. It is characterized by the provision of.

【0011】[0011]

【作用】基板フレームの凹部に基板をはめ込んで保持さ
せ、基板の搬送や取入れ・取出しなどを行う基板取扱手
段(例えば搬送ロボットなど)によって、基板フレーム
を介して基板を所定の方向に搬送したり、所定の位置か
ら取り出したりすることにより、基板取扱手段を基板と
直接に接触させることなく基板を取り扱うことが可能に
なる。したがって、基板と基板取扱手段とが接触するこ
とに起因する基板への汚れの付着を防止することが可能
になるとともに、基板を基板フレームごと基板取扱手段
に係合させて取り扱うことにより、搬送時やハンドリン
グ時の基板の破損を抑制、防止することが可能になる。
Operation: The substrate is fitted and held in the concave portion of the substrate frame, and the substrate is transported in a predetermined direction through the substrate frame by the substrate handling means (for example, a transport robot) that transports, takes in, and takes out the substrate. By taking it out from a predetermined position, it becomes possible to handle the substrate without directly contacting the substrate handling means with the substrate. Therefore, it is possible to prevent the adhesion of dirt to the substrate due to the contact between the substrate and the substrate handling means, and to handle the substrate by engaging the substrate handling means together with the substrate frame during handling. It is possible to suppress and prevent damage to the substrate during handling.

【0012】また、本願発明の基板フレームは、環状
で、一方の面に、基板がはまり込む環状の凹部が形成さ
れたフレーム本体と、凹部にはまり込んだ基板が脱落し
ないように保持するための基板保持手段とを備えている
ため、基板を凹部内に確実に保持することが可能にな
る。したがって、例えば搬送ロボットなどの基板取扱手
段を用い、基板フレームを介して基板を取り扱うことに
より、基板取扱手段と接触することに起因する基板への
汚れの付着を防止することが可能になるとともに、基板
を基板フレームごと基板取扱手段に確実に係合させて取
り扱うことにより、搬送時やハンドリング時の基板の破
損を防止することが可能になる。
Further, the substrate frame of the present invention is annular and has a frame main body in which an annular concave portion into which the substrate is fitted is formed on one surface, and the substrate fitted in the concave portion is held so as not to fall off. Since the substrate holding means is provided, it is possible to reliably hold the substrate in the recess. Therefore, by using a substrate handling means such as a transfer robot and handling the substrate via the substrate frame, it is possible to prevent the attachment of dirt to the substrate due to contact with the substrate handling means, By securely engaging the board with the board handling means together with the board frame, it is possible to prevent the board from being damaged during transportation or handling.

【0013】また、前記フレーム本体の、位置決め用切
欠き部を有する略円形の基板がはめ込まれる凹部に、基
板の位置決め用切欠き部に対応する張出し部を形成した
基板フレームにあっては、基板フレームへの基板の位置
決めを容易かつ確実に行うことが可能になる。
Further, in a substrate frame in which a protrusion corresponding to the positioning notch of the substrate is formed in a concave portion of the frame body into which the substantially circular substrate having the positioning notch is fitted, It becomes possible to easily and surely position the substrate on the frame.

【0014】さらに、所定の位置に、基板フレーム自体
の位置決め用あるいは基板取扱手段などへの係止用のフ
レーム係止穴を設けた基板フレームにあっては、基板に
薄膜電極などを成膜する場合における結晶成長方向に対
応する正しい姿勢に基板フレーム(ひいては基板)を確
実に保持することが可能になるとともに、基板フレーム
を基板取扱手段などに確実に係止させることが可能にな
る。
Further, in the case of a substrate frame in which a frame locking hole for positioning the substrate frame itself or for locking the substrate handling means is provided at a predetermined position, a thin film electrode or the like is formed on the substrate. In this case, the substrate frame (and thus the substrate) can be surely held in the correct posture corresponding to the crystal growth direction, and the substrate frame can be securely locked to the substrate handling means or the like.

【0015】さらに、前記フレーム本体の凹部の外周部
を含む所定の位置に、前記凹部底面から1mm以上の深さ
を有する溝、あるいは貫通溝を設けた基板フレームにあ
っては、基板フレームに保持された基板をピンセットな
どの治具を用いて取り出す際などに、前記凹部底面から
1mm以上の深さを有する溝、あるいは貫通溝が、ピンセ
ットなどの治具の逃げ道となり、容易かつ確実に基板を
取り出すことが可能になるため、全体的な基板の取扱性
をさらに向上させることが可能になる。
Further, in the case of a substrate frame in which a groove having a depth of 1 mm or more from the bottom surface of the recess or a through groove is provided at a predetermined position including the outer peripheral portion of the recess of the frame main body, the frame is held by the substrate frame. When taking out the formed substrate with a jig such as tweezers, the groove having a depth of 1 mm or more from the bottom surface of the recess or the through groove serves as an escape route for the jig such as tweezers, so that the substrate can be easily and surely removed. Since it can be taken out, it is possible to further improve the overall handleability of the substrate.

【0016】[0016]

【実施例】以下、本願発明の実施例を図に基づいて説明
する。図1は本願発明の一実施例にかかる基板フレーム
を用いて基板(ウエハ)を取り扱う方法を示す図、図2
は基板フレームの要部を示す断面図、図3は基板フレー
ムに基板を保持させて固定した状態を示す図である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1 is a view showing a method of handling a substrate (wafer) using a substrate frame according to an embodiment of the present invention, FIG.
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a main part of the substrate frame, and FIG. 3 is a view showing a state where the substrate is held and fixed by the substrate frame.

【0017】この実施例において、基板(ウエハ)1を
保持するための基板フレーム2は、図1,図2に示すよ
うに、環状で、一方の面(図1では上面)に、基板1が
はまり込む環状の凹部(段部)3が形成されたフレーム
本体4と、凹部3にはまり込んだ基板1が脱落しないよ
うに、基板1を凹部3に保持するための基板押え板(基
板保持手段)5と、基板押え板5をフレーム本体4に取
り付けるためのボルト6とを備えて構成されている。
In this embodiment, a substrate frame 2 for holding a substrate (wafer) 1 is annular as shown in FIGS. 1 and 2, and the substrate 1 is on one surface (the upper surface in FIG. 1). A frame body 4 in which an annular recess (step portion) 3 that fits is formed, and a substrate holding plate (substrate holding means) for holding the substrate 1 in the recess 3 so that the substrate 1 fitted in the recess 3 does not fall off. ) 5 and a bolt 6 for attaching the substrate pressing plate 5 to the frame main body 4.

【0018】上記凹部3は、その深さが基板1の厚み+
0.1〜0.2mmとなるように形成されている。これ
は、凹部3の深さが基板1の厚み+0.1mm未満になる
と、基板1に厚みのばらつきや反りがある場合に、基板
1を確実に凹部3内に収容することができない場合が生
じ、また、0.2mmを越えると、成膜時に形成される影
部分が大きく、広くなり、飛散粒子の到達・堆積量が減
少して、膜厚分布に悪影響を及ぼすことによる。また、
凹部3の外径は、基板1を容易に挿入することができる
とともに、基板1の位置ずれ(遊び)があまり大きくな
らないように基板1の外径よりも0.2〜0.3mm大き
い寸法とすることが好ましい。
The depth of the recess 3 is equal to the thickness of the substrate 1+
It is formed to have a thickness of 0.1 to 0.2 mm. This is because when the depth of the recess 3 is less than the thickness of the substrate 1 +0.1 mm, the substrate 1 may not be surely accommodated in the recess 3 when the substrate 1 has thickness variation or warpage. On the other hand, when the thickness exceeds 0.2 mm, the shadow portion formed during film formation becomes large and wide, and the arrival / deposition amount of scattered particles decreases, which adversely affects the film thickness distribution. Also,
The outer diameter of the concave portion 3 is 0.2 to 0.3 mm larger than the outer diameter of the substrate 1 so that the substrate 1 can be easily inserted and the positional deviation (play) of the substrate 1 does not become too large. Preferably.

【0019】また、基板押え板5の厚みは0.1〜0.
3mmとすることが好ましいが、これは、基板押え板5の
厚みが0.1mm未満になると基板1を確実に保持、固定
することが困難になり、また、0.3mmを越えると成膜
時に形成される影部分が大きく、広くなり、飛散粒子の
到達・堆積量が減少して、膜厚分布に悪影響を及ぼすこ
とによる。
The thickness of the substrate pressing plate 5 is 0.1 to 0.
The thickness is preferably 3 mm, but it is difficult to securely hold and fix the substrate 1 when the thickness of the substrate pressing plate 5 is less than 0.1 mm, and when the thickness exceeds 0.3 mm, the film is formed during film formation. This is because the shadow portion formed is large and wide, and the amount of scattered particles reaching and accumulating is reduced, which adversely affects the film thickness distribution.

【0020】また、この実施例の基板フレームにおいて
は、フレーム本体4の周辺部4aは、従来のウエハキャ
リアの溝寸法にあわせて、外周側に向って厚みが小さく
なるようなテーパー形状となっており、従来のウエハキ
ャリアをそのまま使用することができるように構成され
ている。
Further, in the substrate frame of this embodiment, the peripheral portion 4a of the frame body 4 is tapered so that the thickness becomes smaller toward the outer peripheral side according to the groove size of the conventional wafer carrier. Thus, the conventional wafer carrier can be used as it is.

【0021】さらに、フレーム本体4の凹部3には、基
板1の位置決め用切欠き部(オリエンテーションフラッ
ト)1aに対応する張出し部7が形成されている。この
張出し部7により、成膜時の飛散粒子の結晶成長方向に
対応する、基板フレーム2への基板1の位置が定まる。
Further, the recess 3 of the frame body 4 is formed with an overhanging portion 7 corresponding to the positioning notch (orientation flat) 1a of the substrate 1. This overhanging portion 7 determines the position of the substrate 1 on the substrate frame 2 corresponding to the crystal growth direction of the scattered particles during film formation.

【0022】また、フレーム本体4には、上記基板押え
板5を固定するボルト6が係合する3つのねじ穴8が形
成されているとともに、上記張出し部7の中心線を対称
軸とする位置に2つのフレーム係止穴9が形成されてい
る。このフレーム係止穴9は、基板1が保持された基板
フレーム2を成膜室内の基板ホルダー(図示せず)に位
置決めするとともに基板フレーム2を基板ホルダーに係
止させる機能を果す。なお、基板ホルダーは、真空成膜
装置において、蒸着源あるいはターゲットと対向して設
置される基板(この実施例では基板フレーム)を取り付
ける機構部であり、駆動手段により自転あるいは自公転
するように構成されている。
Further, the frame body 4 is formed with three screw holes 8 into which bolts 6 for fixing the substrate pressing plate 5 are engaged, and a position with the center line of the overhanging portion 7 as an axis of symmetry. Two frame locking holes 9 are formed in the. The frame locking hole 9 functions to position the substrate frame 2 holding the substrate 1 on a substrate holder (not shown) in the film forming chamber and to lock the substrate frame 2 on the substrate holder. The substrate holder is a mechanism portion for mounting a substrate (a substrate frame in this embodiment) which is installed facing the vapor deposition source or the target in the vacuum film forming apparatus, and is configured to rotate or revolve around the axis by the driving means. Has been done.

【0023】さらに、フレーム本体4には、ピンセット
などの治具を用いて、基板1を取り出す際に、ピンセッ
トなどの治具の逃げ道となるように、フレーム本体4の
凹部3の外周部の一部を含む所定の位置(この実施例で
は、上記フレーム係止穴9と同様に、張出し部7の中心
線を対称軸とする位置)に、2つのU字状の貫通溝(切
欠き)10が形成されている。なお、この貫通溝10の
代りに深さ1〜2mm程度の溝を設けてもよい。
Further, a jig such as tweezers is used for the frame body 4, and when the substrate 1 is taken out, one of the outer peripheral portions of the concave portion 3 of the frame body 4 serves as an escape route for the jig such as tweezers. Two U-shaped through-grooves (cutouts) 10 are formed at predetermined positions (in this embodiment, positions where the center line of the overhanging portion 7 is the axis of symmetry, like the frame locking hole 9 in this embodiment). Are formed. Instead of the through groove 10, a groove having a depth of about 1 to 2 mm may be provided.

【0024】上記のように構成された基板フレーム2の
凹部3に、図3に示すように、基板1をはめ込み、基板
押え板5により、基板1を凹部3に保持、固定すること
により、例えば搬送ロボットなどの基板取扱手段によっ
て、基板フレーム2を介して基板1を所定の方向に搬送
したり、所定の位置から取り出したりする場合に、基板
取扱手段を基板と直接に接触させることなく基板を取り
扱うことが可能になる。
As shown in FIG. 3, the substrate 1 is fitted into the recess 3 of the substrate frame 2 constructed as described above, and the substrate holding plate 5 holds and fixes the substrate 1 in the recess 3. When the substrate handling unit such as a transport robot transports the substrate 1 through the substrate frame 2 in a predetermined direction or takes it out of a predetermined position, the substrate handling unit can move the substrate without directly contacting the substrate. It becomes possible to handle.

【0025】したがって、基板取扱手段と接触すること
に起因する基板への汚れの付着を防止することが可能に
なるとともに、基板を基板フレームごと基板取扱手段に
確実に係合させて取り扱うことが可能になり、搬送時や
ハンドリング時の基板の破損を確実に防止することがで
きる。
Therefore, it is possible to prevent dirt from adhering to the substrate due to contact with the substrate handling means, and to handle the substrate together with the substrate frame securely by the substrate handling means. Therefore, it is possible to reliably prevent damage to the substrate during transportation or handling.

【0026】また、上記実施例の基板フレーム2は、基
板1の位置決め用切欠き部(オリエンテーションフラッ
ト)1aに対応する張出し部7を備えているため、基板
フレーム2への基板1の位置決めを容易かつ確実に行う
ことができる。
Further, since the substrate frame 2 of the above embodiment is provided with the projecting portion 7 corresponding to the positioning notch (orientation flat) 1a of the substrate 1, it is easy to position the substrate 1 on the substrate frame 2. And it can be done reliably.

【0027】さらに、フレーム本体4の所定の位置に、
基板フレーム2自体の位置決め用及び基板取扱手段など
への係止用のフレーム係止穴9を設けているので、基板
1に薄膜電極などを成膜する場合における結晶成長方向
に対応する正しい姿勢に基板フレーム2(ひいては基板
1)を確実に保持することができるとともに、基板フレ
ーム2を基板取扱手段などに確実に係止させることがで
きる。
Further, at a predetermined position of the frame body 4,
Since the frame locking hole 9 for positioning the substrate frame 2 itself and for locking to the substrate handling means etc. is provided, a proper posture corresponding to the crystal growth direction when depositing a thin film electrode or the like on the substrate 1 is provided. The board frame 2 (and thus the board 1) can be securely held, and the board frame 2 can be reliably locked to the board handling means or the like.

【0028】さらに、フレーム本体4の凹部3の外周部
を含む所定の位置に、2つのU字状の貫通溝(切欠き)
10を形成しているので、基板フレーム2に保持された
基板1をピンセットなどの治具を用いて取り出す際など
に、この貫通溝10が治具の逃げ道となり、容易かつ確
実に基板を取り出すことが可能になるため、基板の取扱
性をさらに向上させることが可能になる。
Further, two U-shaped through-grooves (notches) are provided at predetermined positions including the outer peripheral portion of the recess 3 of the frame body 4.
Since the substrate 10 is formed, when the substrate 1 held by the substrate frame 2 is taken out by using a jig such as tweezers, the through groove 10 serves as an escape route for the jig, and the substrate can be taken out easily and surely. Therefore, it becomes possible to further improve the handleability of the substrate.

【0029】なお、基板フレームとして、例えば、外径
が5インチで、その中央に、外径が2〜4インチの基板
を保持することが可能な凹部を形成した基板フレーム
と、外径が10インチで、その中央に、外径が5〜8イ
ンチの基板を保持することが可能な凹部を形成した基板
フレームを用意することにより、使用するウエハキャリ
アの統一、ロボットハンドや基板ホルダーの標準化など
が可能になる。したがって、真空成膜装置などで取り扱
う基板サイズが多種類(例えば外径が2,4,5,6,
7,8インチの6種類)となっても、少ない種類(この
場合は2種類)の基板フレームで対応することが可能に
なる。
As the substrate frame, for example, a substrate frame having an outer diameter of 5 inches and a recess formed in the center thereof for holding a substrate having an outer diameter of 2 to 4 inches and an outer diameter of 10 are provided. By providing a substrate frame that has a recess in the center that can hold a substrate with an outer diameter of 5 to 8 inches, unify the wafer carriers to be used, standardize robot hands and substrate holders, etc. Will be possible. Therefore, there are many kinds of substrate sizes (for example, outer diameters of 2, 4, 5, 6, etc.) handled by a vacuum film forming apparatus.
Even if there are 6 types of 7 and 8 inches), it is possible to handle with a small number (two types in this case) of substrate frames.

【0030】なお、本願発明は上記実施例に限定される
ものではなく、基板がはめ込まれる凹部を備えたフレー
ム本体の具体的な形状や、凹部に基板を固定するための
基板保持手段の構成、基板の搬送や取入れ・取出しなど
を行う基板取扱手段の種類、基板の位置決め用切欠き部
に対応する張出し部の形状、フレーム係止穴の位置や配
設数、ピンセットなどの治具を用いて基板を取り出す際
に、治具の逃げ道となる溝の具体的な形状や配設位置あ
るいは配設数などに関し、発明の要旨の範囲内におい
て、種々の応用、変形を加えることが可能である。
The invention of the present application is not limited to the above-mentioned embodiment, and the concrete shape of the frame main body having the concave portion into which the substrate is fitted, the structure of the substrate holding means for fixing the substrate in the concave portion, The type of board handling means that carries, takes in, and takes out the board, the shape of the overhang corresponding to the board positioning notch, the position and number of the frame locking holes, the number of jigs such as tweezers, etc. When the substrate is taken out, various applications and modifications can be made within the scope of the invention with respect to the specific shape of the groove serving as an escape route for the jig, the arrangement position, the number of arrangement, and the like.

【0031】[0031]

【発明の効果】上述のように、本願発明の基板取扱方法
は、基板フレームの凹部に基板をはめ込んで保持させ、
基板取扱手段により、基板フレームを介して基板を取り
扱うようにしているので、基板を基板取扱手段と直接に
接触させることなく取り扱うことが可能になる。
As described above, according to the substrate handling method of the present invention, the substrate is fitted and held in the concave portion of the substrate frame,
Since the substrate handling means handles the substrate via the substrate frame, the substrate can be handled without directly contacting the substrate handling means.

【0032】したがって、基板取扱手段と接触すること
に起因する基板への汚れの付着を防止することが可能に
なるとともに、基板を基板フレームごと基板取扱手段に
係合させて取り扱うことが可能になるため、搬送時やハ
ンドリング時の基板の破損を確実に防止することができ
る。
Therefore, it is possible to prevent the attachment of dirt to the substrate due to the contact with the substrate handling means, and to handle the substrate together with the substrate frame by engaging the substrate handling means. Therefore, it is possible to reliably prevent damage to the substrate during transportation or handling.

【0033】また、本願発明の基板フレームは、環状
で、一方の面に、基板がはまり込む環状の凹部が形成さ
れたフレーム本体と、凹部にはまり込んだ基板が脱落し
ないように保持するための基板保持手段とを備えて構成
されているため、例えば搬送ロボットなどの基板取扱手
段を用い、基板フレームを介して基板を取り扱うことに
より、基板取扱手段と接触することに起因する基板への
汚れの付着を確実に防止することが可能になるととも
に、基板を基板フレームごと基板取扱手段に確実に係合
させて取り扱うことにより、搬送時やハンドリング時の
基板の破損を防止することが可能になる。
Further, the substrate frame of the present invention is annular and has a frame main body in which an annular concave portion into which the substrate is fitted is formed on one surface, and the substrate fitted in the concave portion is held so as not to fall off. Since the substrate holding means is provided, the substrate handling means, such as a transfer robot, is used to handle the substrate via the substrate frame, so that contamination of the substrate caused by contact with the substrate handling means is prevented. Adhesion can be reliably prevented, and by securely engaging the substrate together with the substrate handling means together with the substrate frame, it is possible to prevent damage to the substrate during transportation and handling.

【0034】また、フレーム本体の、位置決め用切欠き
部を有する略円形の基板がはめ込まれる凹部に、基板の
位置決め用切欠き部に対応する張出し部を形成した基板
フレームにあっては、基板フレームへの基板の位置決め
を容易かつ確実に行うことが可能になり、基板取扱の信
頼性をより向上させることができる。
Further, in a board frame in which a protrusion corresponding to the positioning notch of the board is formed in the recess of the frame body into which the substantially circular board having the positioning notch is fitted, The substrate can be positioned easily and surely, and the reliability of handling the substrate can be further improved.

【0035】さらに、所定の位置に、基板フレーム自体
の位置決め用あるいは基板取扱手段などへの係止用のフ
レーム係止穴を設けた基板フレームにあっては、基板に
薄膜電極などを成膜する場合における結晶成長方向に対
応する正しい姿勢に基板フレーム(ひいては基板)を確
実に保持することが可能になるとともに、基板フレーム
を基板取扱手段などに確実に係止させることが可能にな
り、本願発明をより実効あらしめることができる。
Further, in a substrate frame having a frame locking hole for positioning the substrate frame itself or for locking the substrate handling means or the like at a predetermined position, a thin film electrode or the like is formed on the substrate. In this case, the substrate frame (and thus the substrate) can be securely held in the correct posture corresponding to the crystal growth direction, and the substrate frame can be reliably locked to the substrate handling means. Can be more effective.

【0036】さらに、フレーム本体の凹部の外周部を含
む所定の位置に、前記凹部底面から1mm以上の深さを有
する溝、あるいは貫通溝を設けた基板フレームにあって
は、基板フレームに保持された基板をピンセットなどの
治具を用いて取り出す際などに、前記凹部底面から1mm
以上の深さを有する溝、あるいは貫通溝が、ピンセット
などの治具の逃げ道となり、容易かつ確実に基板を取り
出すことが可能になるため、全体的な基板の取扱性をさ
らに向上させることが可能になる。
Further, in the case of a substrate frame in which a groove having a depth of 1 mm or more from the bottom surface of the concave portion or a through groove is provided at a predetermined position including the outer peripheral portion of the concave portion of the frame main body, it is held by the substrate frame. 1mm from the bottom of the recess when taking out the substrate with a jig such as tweezers.
The groove with the above depth or the through groove serves as an escape route for jigs such as tweezers, and it is possible to take out the board easily and reliably, which can further improve the overall handleability of the board. become.

【0037】また、本願発明によれば、基板姿勢の自由
度が向上するため、基板を縦に保持して成膜すること
(縦型成膜)が可能になり、成膜時などに発生する汚れ
(プロセスパーティクル)が基板あるいはターゲットに
付着することをを防止して、コンタミネーションの発生
を防止することができる。更に、例えばスパッタターゲ
ットなども縦型配置とすることができるため、プロセス
パーティクルがターゲット上に落下することによる異常
放電も防止することができる。
Further, according to the present invention, since the degree of freedom of the posture of the substrate is improved, it is possible to hold the substrate vertically to form a film (vertical film formation), which occurs during film formation. It is possible to prevent dirt (process particles) from adhering to the substrate or the target and prevent the occurrence of contamination. Further, for example, a sputter target and the like can also be arranged vertically, so that it is possible to prevent abnormal discharge due to process particles falling on the target.

【0038】また、基板フレームを使用しているので、
基板と基板ホルダーとの接触面積が減少し、成膜時の成
膜エネルギーあるいは基板加熱の熱エネルギーにより、
焦電性を有する基板であっても静電気発生による吸着力
の影響が少なくなり基板脱着時の破損を防止することが
できる。
Since the board frame is used,
The contact area between the substrate and the substrate holder is reduced, and due to the film formation energy during film formation or the heat energy for heating the substrate,
Even with a substrate having pyroelectricity, the influence of the attraction force due to the generation of static electricity is reduced, and damage when the substrate is attached and detached can be prevented.

【0039】また、基板サイズが変化しても同一サイズ
の基板フレームで対応することができるため、ロボット
ハンドあるいはウエハキャリアの交換が不要になるとと
もに、基板ホルダーの共用が可能になるため、設備コス
トを低減することが可能になるとともに、段取り時間を
短縮することが可能になる。
Further, even if the substrate size changes, the same size substrate frame can be used, so that it is not necessary to replace the robot hand or the wafer carrier, and the substrate holder can be shared. And the setup time can be shortened.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本願発明の一実施例にかかる基板フレームを用
いて基板を取り扱う方法を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a method of handling a substrate using a substrate frame according to an embodiment of the present invention.

【図2】本願発明の一実施例にかかる基板フレームの要
部を示す断面図である。
FIG. 2 is a sectional view showing a main part of a substrate frame according to an embodiment of the present invention.

【図3】本願発明の一実施例にかかる基板フレームに基
板を保持させて固定した状態を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a state in which a substrate is held and fixed on a substrate frame according to an embodiment of the present invention.

【図4】従来の基板取扱方法を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a conventional substrate handling method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 1a 位置決め用切欠き部(オリエンテーシ
ョンフラット) 2 基板フレーム 3 凹部(段部) 4 フレーム本体 4a フレーム本体の周辺部 5 基板押え板(基板保持手段) 6 ボルト 7 張出し部 8 ねじ穴 9 フレーム係止穴 10 貫通溝(切欠き)
1 board 1a positioning notch (orientation flat) 2 board frame 3 recess (step) 4 frame body 4a frame body peripheral area 5 board holding plate (board holding means) 6 bolt 7 overhanging portion 8 screw hole 9 frame engagement Stop hole 10 Through groove (notch)

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板がはめ込まれる凹部を備えた基板フ
レームの、前記凹部に基板をはめ込んで保持させ、 基板の搬送や取入れ・取出しなどを行う基板取扱手段に
より、前記基板と直接に接触することなく、前記基板フ
レームを介して基板の搬送や取入れ・取出しなどを行う
ようにしたことを特徴とする基板取扱方法。
1. A substrate frame having a concave portion into which a substrate is fitted, in which the substrate is fitted and held in the concave portion, and is brought into direct contact with the substrate by a substrate handling means that carries, takes in, and takes out the substrate. Instead, the substrate handling method is characterized in that the substrate is transported, taken in and taken out through the substrate frame.
【請求項2】 基板を保持するための基板フレームであ
って、 環状で、一方の面に、基板がはまり込む環状の凹部が形
成されたフレーム本体と、 前記凹部にはまり込んだ基板が脱落しないように、基板
を前記凹部に保持するための基板保持手段とを具備する
ことを特徴とする基板フレーム。
2. A substrate frame for holding a substrate, the frame body being annular and having an annular recess on one surface into which the substrate fits; and a substrate fitted in the recess not falling off. And a substrate holding unit for holding the substrate in the recess.
【請求項3】 略円形で、位置決め用切欠き部を有する
基板を保持するための基板フレームであって、前記フレ
ーム本体の前記凹部に、基板の位置決め用切欠き部に対
応する張出し部が形成されていることを特徴とする請求
項2記載の基板フレーム。
3. A substrate frame for holding a substrate which is substantially circular and has a positioning notch, wherein an overhanging portion corresponding to the positioning notch of the substrate is formed in the recess of the frame body. The board frame according to claim 2, wherein the board frame is formed.
【請求項4】 所定の位置に、基板フレーム自体の位置
決め用、あるいは基板取扱手段などへの係止用のフレー
ム係止穴を設けたことを特徴とする請求項2または3記
載の基板フレーム。
4. The board frame according to claim 2, wherein a frame locking hole for positioning the board frame itself or for locking the board handling means is provided at a predetermined position.
【請求項5】 ピンセットなどの治具を用いて、基板を
取り出す際に、ピンセットなどの治具の逃げ道となるよ
うに、前記フレーム本体の前記凹部の外周部を含む所定
の位置に、前記凹部底面から1mm以上の深さを有する
溝、あるいは貫通溝を設けたことを特徴とする請求項
2,3又は4記載の基板フレーム。
5. The recessed portion is provided at a predetermined position including the outer peripheral portion of the recessed portion of the frame main body so as to serve as an escape route for the jig such as tweezers when the substrate is taken out using a jig such as tweezers. The substrate frame according to claim 2, 3 or 4, wherein a groove having a depth of 1 mm or more from the bottom surface or a through groove is provided.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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