JPH08314505A - 現場設置型制御装置 - Google Patents

現場設置型制御装置

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Publication number
JPH08314505A
JPH08314505A JP7148286A JP14828695A JPH08314505A JP H08314505 A JPH08314505 A JP H08314505A JP 7148286 A JP7148286 A JP 7148286A JP 14828695 A JP14828695 A JP 14828695A JP H08314505 A JPH08314505 A JP H08314505A
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JP
Japan
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control
plant
equipment
control panel
control device
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Application number
JP7148286A
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English (en)
Inventor
Katsuto Shimizu
勝人 清水
Akio Ito
明男 伊藤
Yukiko Mouri
優紀子 毛利
Yoshio Maruyama
良雄 丸山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPH08314505A publication Critical patent/JPH08314505A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 プロセスケーブル敷設量の削減、中央制御機
器室の面積縮小、制御装置の製作、設置コストの低減と
据付け工期の短縮及び制御装置据付け後の試験工程の短
縮に好適な現場設置型制御装置を提供することにある。 【構成】 中央制御機器室10に設置したプラントのプ
ロセス機器1を自動制御する制御装置6からプロセスコ
ントローラとプラントI/F(インターフェイス)部を
分離して、それぞれプロセスコントローラ収納制御盤5
とプラントI/F制御盤4を形成し、前者の制御盤をプ
ロセス機器近傍に設けた分散制御機器室11に、後者の
制御盤をプロセス機器近傍にそれぞれ分散配置し、プロ
セスコントローラ収納制御盤に収納した弱電デジタル電
子機器とプラントI/F制御盤に収納した強電のプロセ
ス入出力を行う強電回路の間を電気的に絶縁する光電変
換手段をプラントI/F制御盤に設置することを特徴と
する。

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野】
【0001】本発明は、プロセス制御装置の設置にあた
って、この制御装置を構成する一部制御機器を現場に設
置する現場設置型制御装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、火力・原子力制御システムにおい
て、中央制御機器室に計算機、各プロセス機器を制御す
るプロセスコントローラなどを有する制御装置を設置
し、制御装置とプラントのプロセス機器を伝送手段を介
して接続し、プロセス機器を自動制御する制御システム
が採用されている。図9に、従来の制御システムを示
す。中央制御機器室10に設置された計算機7、各プロ
セス機器1を制御するプロセスコントローラなどを有す
る制御装置6’がネットワーク8を介して結合され、制
御装置6’からプロセス機器1の操作端3にプロセスケ
ーブル110を介して制御指令を発してプロセス機器1
を制御すると同時に、センサ2からプロセス機器1の状
態をプロセスケーブル110を介して制御装置6’に伝
送する。この制御装置6’は、図10に示すように、プ
ロセスコントローラを形成するCPU部51’、CPU
−I/F(計算機−インターフェース)部のPI/O
(プラントインプツト/アウトプット)部52’及びプ
ラントI/F(インターフェース)部として機能するR
y(リレー)・TB(中継端子台)41’を収納し、各
Ry(リレー)・TB(中継端子台)41’をプロセス
ケーブル110を介して各プロセス機器1に接続して構
成される。このような従来の制御システムでは、次の特
徴を有する。即ち、 1.制御システムを構成する制御機器の殆ど全てが中央
制御機器室に集中設置されている。 2.CPU−I/F部(PI/O52’)とプラントI
/F部(Ry(リレー)・TB(中継端子台)41’)
が分離していないため、同一制御盤内にCPU−I/F
部のデジタル弱電回路とプロセス入出力信号等のプラン
トI/F部の強電回路が混在している。 3.CPU−I/F部内のPI/O部内にプロセスI/
F信号と内部デジタル弱電回路を分離し、信号を取り合
うための電気的絶縁回路を持っている。 4.CPUーI/F部内のPI/O部内に信号を取り合
うための電気的絶縁回路を持っていると、PI/Oプリ
ント基板の実装効率が悪くなるため、Ry等を用いて外
部に電気的絶縁回路を形成する。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】前記従来技術おいて
は、次のような課題を有する。即ち、 1.中央制御機器室10に制御装置6’が集中して設置
されているため、プロセスケーブル110をプロセス機
器1から中央制御機器室10までの長距離敷設が必要で
あり、制御システムの高度化による入出力点数の増加も
相まって設置コストが増加する。 2.制御内容の高度化による制御装置の大型化に伴い、
中央制御機器室10も大型化し、設置コストが上昇す
る。 3.デジタル弱電回路であるCPU−I/F部と強電回
路であるプラントI/F部が同一制御盤内に混在するた
めに、制御盤の設置にあたって、耐温度・耐湿度・耐塵
等の耐環境性で最も劣るCPU−I/F部に合わせた設
置環境が必要となり、大がかりな空調設備の有する中央
制御機器室10が必要となり、製作コストが上昇する。 4.CPU−I/F部もプラントI/F部と同一制御盤
内に収容されているため、制御装置の全てが据付け済で
なければ、プロセスケーブル110の引込み、接続工事
の着手ができないので、据付け工期が長引くことにな
る。 5.電気的絶縁機能を持つCPU−I/F部のPI/O
部では、そのプリント基板上の回路モードにおいて、強
電のプロセスI/F信号から十分な縁間距離をとる必要
があり、また、該信号処理に伴う発熱量が大きいので、
プリント基板の実装効率を図る必要があり、製作コスト
が上昇する。 6.強電/弱電の電気的絶縁機能をRy等の回路で実現
しているため、これらとコントローラの入出力及びプロ
セス信号との組合せ試験が制御装置の据付け後に必要と
なり、試験工程短縮上の障害となる。
【0004】本発明の目的は、上記事情に鑑み、プロセ
スケーブル敷設量の削減、中央制御機器室の面積縮小、
制御装置の製作、設置コストの低減と据付け工期の短縮
及び制御装置据付け後の試験工程の短縮に好適な現場設
置型制御装置を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的は、中央制御機
器室に設置したプラントのプロセス機器を自動制御する
制御装置からプロセスコントローラとプラントI/F
(インターフェイス)部を分離して、それぞれプロセス
コントローラ収納制御盤とプラントI/F制御盤を形成
し、これらの制御盤をプロセス機器近傍に分散配置する
ことによって、達成される。この場合、プロセス機器近
傍に分散制御機器室を設け、分散制御機器室にプロセス
コントローラ収納制御盤を収納すること、また、プロセ
スコントローラ収納制御盤にはプロセスコントローラと
共に弱電デジタル電子機器を収納し、プラントI/F制
御盤には強電のプロセス入出力を行う強電回路と共に強
電/弱電間を電気的に絶縁する光電変換手段を収納する
こと、また、プロセスコントローラ収納制御盤とプラン
トI/F制御盤をコネクタケーブルを介して接続し、プ
ラントI/F制御盤とプロセス機器をプロセスケーブル
を介して接続すること、また、プロセスコントローラ収
納制御盤の据付けに先行して、プラントI/F制御盤を
プロセス機器近傍に据付け実施すると共に該プラントI
/F制御盤にプロセスケーブルを引込み、接続する構成
とする。
【0006】
【作用】本発明は、中央制御機器室の面積が縮小する共
に、プロセス機器から中央制御機器室まで長距離のプロ
セスケーブルを敷設する必要がなくなり、プラント制御
装置の製作、設置コストの低減を図る。また、分散制御
機器室を比較的狭いスペースに形成することができ、空
調等の設備が小型化する。また、プラント制御装置の製
作、設備据付け工事が並行して実施されることになり、
工期の短縮が図れる。また、プロセスコントローラ収納
制御盤は弱電回路のみとなり、プリント基板上のモード
回路の高密度化が可能となり、また、発熱量も低減する
ため、プリント基板の実装効率が向上する。また、プロ
セスコントローラ収納制御盤は、強電/弱電の電気的絶
縁機能用のRy等の回路を持たないため、制御装置の据
付け後のこれらとコントローラの入出力及びプロセス信
号との組合せ試験が不要となり、試験工程の短縮が可能
となり、試験期間が短縮する。また、コネクタケーブル
によって分割されたプロセスコントローラ収納制御盤と
プラントI/F部制御盤間の接続が容易である。
【0007】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を用いて説明す
る。図1は、本発明の一実施例を示す現場設置型制御装
置である。この現場設置型制御装置は、中央制御機器室
10にネットワーク8を介して結合した計算機7、各制
御装置6を設置し、中央制御機器室10から分散した分
散制御機器室11をプラント機器1近傍に設け、この分
散制御機器室11にはプロセスコントローラと共にデジ
タル弱電回路を構成する電子機器を収納するプロセスコ
ントローラ収納制御盤5を設置し、分散制御機器室11
の外のプラント機器1近傍に強電のプロセス入出力を行
う強電回路を収納するプラントI/F(インターフェー
ス)制御盤4を設置する。ここで、プロセスコントロー
ラ収納制御盤5には、従来の制御装置6’が有するプロ
セスコントローラを形成するCPU部51’とCPU−
I/F部のPI/O部52’を収納し、プラントI/F
制御盤4には、プラントI/F41’を収納する(図2
に詳述する。)。また、分散制御機器室11は、デジタ
ル弱電回路を収納するプロセスコントローラ収納制御盤
5を設置するため、中央制御機器室10並みの空調を行
う。制御装置6とプロセスコントローラ収納制御盤5は
通信線9を介して接続する。CPU−I/F部のPI/
O部とプラントI/F制御盤4はコネクタケーブル10
0を介して接続する。プラントI/F制御盤4はプロセ
スケーブル110を介してプラント機器1のセンサ2、
操作端3と接続する。ここで、分散制御機器室11’
は、電気的絶縁等の条件が許せば、プロセスコントロー
ラ収納制御盤5とプラントI/F制御盤4を一緒に収納
してよい例を示す。なお、12は、中央制御機器室10
の立体外観図である。
【0008】本実施例において、計算機7から指令が発
せられると、制御装置6はこの計算機7の指令を通信線
9を介してプロセスコントローラ収納制御盤5に伝送す
る。プロセスコントローラ収納制御盤5に収納されてい
るプロセスコントローラは、制御装置6からの指令とコ
ネクタケーブル100を介して送られてくるプラント機
器1の状態を基に制御指令を作成し、この制御指令をコ
ネクタケーブル100を介してプラントI/F制御盤4
に送出し、プロセスケーブル110を介してプラント機
器1の操作端3に伝達し、プラント機器1を制御する。
一方、プラント機器1の状態は、センサ2が検知し、プ
ロセスケーブル110を介してプラントI/F制御盤4
に送出され、コネクタケーブル100を介してプロセス
コントローラ収納制御盤5のプロセスコントローラに伝
送される。さらに、プラント機器1の状態は、必要に応
じて通信線9を介して制御装置6に入力される。また、
計算機7はネットワーク8を介して各制御装置6と情報
の送受を行い、処理に必要な各種演算を実行する。
【0009】このように本実施例では、プロセスコント
ローラ収納制御盤5とプラントI/F制御盤4を制御装
置から分離して、プラント機器1近傍に分散設置するの
で、中央制御機器室10の面積が縮小すると共に、プロ
セス機器1から中央制御機器室10まで長距離のプロセ
スケーブル110を敷設する必要がなくなる。また、デ
ジタル弱電回路によるプロセスコントローラ収納制御盤
5と強電のプロセス入出力を行うプラントI/F制御盤
4を別の制御盤に分割して設置することによって、耐環
境性の劣るプロセスコントローラ収納制御盤5のみを設
置環境の良い分散制御機器室11内に収納し、プラント
I/F制御盤4をより環境条件の悪いプロセス機器1近
傍の分散制御機器室11外に設置することが可能とな
る。そのため、分散制御機器室11を比較的狭いスペー
スに形成することができ、空調等の設備を小型化でき
る。
【0010】図2は、本実施例によるプロセスコントロ
ーラ収納制御盤5とプラントI/F制御盤4の構成を示
す。プロセス機器1近傍の分散制御機器室11内に設置
したプロセスコントローラ収納制御盤5には、制御装置
6の下位制御装置であるプロセスコントローラを形成す
るCPU部51と、CPU−I/F(計算機−インター
フェース)部のPI/O(プラントインプツト/アウト
プット)部52を収納し、分散制御機器室11の外のプ
ロセス機器1近傍に設置したプラントI/F制御盤4に
は、機能付きTB(中継端子台)41を収納する。ここ
で、機能付TB41は、プラントI/Fとして機能する
従来のRy(リレー)・TB(中継端子台)41’に代
えて設けるものであり、この機能付TB41には、コネ
クタケーブル100とプロセスケーブル110との間つ
まり強電/弱電間の電気的絶縁機能(図4、図5で詳述
する。)を持たせる。プロセスコントローラ収納制御盤
5とプラントI/F制御盤4との間はコネクタケーブル
100で接続し、プロセス機器1のセンサ2、操作端3
からのプロセスケーブル110はプラントI/F制御盤
4に引き込み、接続する。
【0011】図3は、プロセスコントローラ収納制御盤
5とプラントI/F制御盤4の各々の詳細構成を示す。
プロセスコントローラ収納制御盤5に収納するCPU部
51は、CPU511、メモリ512、伝送I/F部5
13、PI/O−I/F部514及びこれらを結ぶ内部
BUS515からなる。PI/O部52は、DI(デジ
タル入力)521、DO(デジタル出力)522、CP
UーI/F部523及びこれらを結ぶ内部PI/O−B
US524からなる。プラントI/F制御盤4に収納す
る機能付TB41は、PI/O部52のDI521、D
O522にコネクタケーブル100を介して接続し、プ
ラント機器1にプロセスケーブル110を介して接続す
る。また、プロセスコントローラを形成するCPU部5
1は、I/F513から通信線9を介して他のプロセス
コントローラ5aや制御装置6に接続し、データの取り
合いを可能とする。プラント機器1の状態は、プロセス
ケーブル110を介して機能付TB41が取り込み、コ
ネクタケーブル100を介してDI521に入力され、
BUS524−I/F523−PI/O−I/F514
−BUS515を介してメモリ512に格納される。C
PU511は必要に応じてメモリ512の情報をI/F
513を介して制御装置6に送る。一方、制御装置6か
らの指令は、I/F513を介してメモリ512に入
る。CPU511は、必要に応じてメモリ512の情報
から制御指令を作成し、BUS515−PI/O−I/
F514−I/F523−BUS524を介してDO5
22に送り、コネクタケーブル100を介して機能付T
B41に出力する。機能付TB41の出力はプロセスケ
ーブル110を介してプラント機器1に与えられ、プラ
ント機器1を制御する。
【0012】このように本実施例では、プロセスコント
ローラ収納制御盤5とプラントI/F制御盤4を分離す
るので、まず、制御設備据付け工事の初期に敷設が必要
なプロセスケーブル110を引込み、このプロセスケー
ブル110に接続するプラントI/F部制御盤4のみを
先に据付ける。続いて、プロセスコントローラ収納制御
盤5を搬入、据付けを実施する。これにより、プロセス
コントローラ収納制御盤5とプラントI/F部制御盤4
の同時搬入、据付け実施による工事の輻輳が避けられる
と共に、このケーブル110の敷設と平行してプロセス
コントローラ収納制御盤5の製作ができる。これは、制
御システムの製作、設備据付け工事が並行して実施され
ることであり、工期の短縮が図れる。
【0013】図4、図5に、機能付TB41の詳細を示
す。図4は、DIの用機能付TB41aである。DI用
の機能付TB41aは、コネクタケーブル100を接続
するためのコネクタ411aとプロセスケーブル110
の信号を電気的に絶縁するフォトカプラ(光電変換手
段)412とプロセスケーブル110の接続用TB41
3からなる。コネクタ411bはコネクタケーブル10
0に装着し、コネクタ411aと接続する。DI用の機
能付TB41aは、プロセス機器1の信号をプロセスケ
ーブル110を介して接続用TB413に入力し、フォ
トカプラ412を作動し、コネクタ411a、411b
からコネクタケーブル100を介してPI/O部52の
DI521に出力する。図5は、DO用の機能付TB4
1bである。DO用の機能付TB41bは、コネクタケ
ーブル100を接続するためのコネクタ411aとプロ
セスケーブル110の信号を電気的に絶縁するフォトカ
プラ(光電変換手段)412とプロセスケーブル110
の接続用TB413よりなる。コネクタ411bはコネ
クタケーブル100に装着し、コネクタ411aと接続
する。DO用の機能付TB41bは、PI/O部52の
DO522の信号をコネクタケーブル100を介してコ
ネクタ411b、411aに入力し、フォトカプラ41
2を作動し、接続用TB413からプロセスケーブル1
10を介してプロセス機器1に出力する。
【0014】このように本実施例では、強電回路に接続
されるプロセスケーブル110と弱電回路に接続される
コネクタケーブル100間の電気的絶縁機能を機能付T
B41に持たせ、かつ、機能付TB41をプラントI/
F制御盤4に設けることによって、プロセスコントロー
ラ収納制御盤5に収納するCPUーI/F部のPI/O
部52に電気的絶縁回路を持つ必要がなくなる。このた
め、PI/O部52は弱電回路のみとなり、プリント基
板上のモード回路の高密度化が実施でき、また、発熱量
も低減するため、プリント基板の実装効率が向上する。
また、CPU−I/F部のPI/O部52は、強電/弱
電の電気的絶縁機能用のRy等の回路を持たないため、
制御装置の据付け後のこれらとコントローラの入出力及
びプロセス信号との組合せ試験が不要となり、試験工程
の短縮が可能となり、試験期間が短縮する。また、コネ
クタケーブル100によってプロセスコントローラ収納
制御盤5とプラントI/F部制御盤4を接続するので、
この分割された制御盤間の接続を容易にする。
【0015】以上本実施例では、プロセスコントローラ
51は制御装置6の下位にあると位置付けして説明した
が、本発明の他の実施例として、図6に示すように、プ
ロセスコントローラ51を直接上位ネットワーク8に接
続してもよい。即ち、図6において、プロセスコントロ
ーラ51は、上位ネットワーク8に計算機7、制御装置
6と共に直接接続する。これにより、上位の制御装置6
を省略することができる。きた、本実施例では、プロセ
スコントローラ収納制御盤5がプロセス機器1近傍の分
散制御機器室11内に設置される例を示したが、プロセ
スコントローラ収納制御盤5の収納装置の耐環境性が許
せば、つまり、プロセスコントローラ収納制御盤5の設
置にあたって、耐温度・耐湿度・耐塵等の耐環境性が良
好であれば、本発明の他の実施例として、図7に示すよ
うに、プロセスコントローラ収納制御盤5を収納する分
散制御機器室11の設置なしに、プロセスコントローラ
収納制御盤5をプラントI/F制御盤4と共にプロセス
機器1近傍に直に設置してもよい。これにより、分散制
御機器室11を省略することができる。また、本発明の
他の実施例として、図8に示すように、プロセス機器1
近傍のプロセスコントローラ収納制御盤5を相互に通信
線9を介してネットワークで接続し、これにより制御デ
ータの取り合いを行うことも可能である。これにより、
分散設置されたプロセスコントローラ51間は相互にデ
ータの取り合いが行えるので、プロセスコントローラ5
1を中央に集約して設置する必要がなくなる。
【0016】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
プロセスコントローラ収納制御盤とプラントI/F制御
盤を制御装置から分離して、プラント機器近傍に分散設
置するので、中央制御機器室の面積を縮小できる共に、
プロセス機器から中央制御機器室まで長距離のプロセス
ケーブルを敷設する必要がなくなり、プラント制御装置
の製作、設置コストの低減を図ることができる。また、
デジタル弱電回路によるプロセスコントローラ収納制御
盤5のみを分散制御機器室内に収納するようにしたの
で、分散制御機器室を比較的狭いスペースに形成するこ
とができ、空調等の設備を小型化できる。また、プロセ
スコントローラ収納制御盤とプラントI/F制御盤を分
離するので、プロセスコントローラ収納制御盤とプラン
トI/F部制御盤の同時搬入、据付け実施による工事の
輻輳が避けられると共に、プラントI/F制御盤の据付
け後に据付け実施するプロセスコントローラ収納制御盤
をプロセスケーブルの敷設と平行して製作することがで
きるので、プラント制御装置の製作、設備据付け工事が
並行して実施されることになり、工期の短縮が図れる。
また、強電/弱電間の電気的絶縁機能を持つ機能付TB
を設け、この機能付TBを強電回路のプラントI/F制
御盤に設置するので、プロセスコントローラ収納制御盤
は弱電回路のみとなり、プリント基板上のモード回路の
高密度化が可能となり、また、発熱量も低減するため、
プリント基板の実装効率を向上できる。また、プロセス
コントローラ収納制御盤は、強電/弱電の電気的絶縁機
能用のRy等の回路を持たないため、制御装置の据付け
後のこれらとコントローラの入出力及びプロセス信号と
の組合せ試験が不要となり、試験工程の短縮が可能とな
り、試験期間を短縮することができる。また、コネクタ
ケーブルによってプロセスコントローラ収納制御盤とプ
ラントI/F部制御盤を接続するので、この分割された
制御盤間の接続を容易に実施することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示す現場設置型制御装置の
構成図
【図2】本実施例によるプロセスコントローラ収納制御
盤とプラントI/F制御盤の構成図
【図3】本実施例によるプロセスコントローラ収納制御
盤とプラントI/F制御盤の各々の詳細構成図
【図4】本実施例の機能付TBの詳細図
【図5】本実施例の機能付TBの詳細図
【図6】本発明の他の実施例
【図7】本発明の他の実施例
【図8】本発明の他の実施例
【図9】従来の従来の制御システムの構成図
【図10】従来の制御装置の構成図
【符号の説明】
1 プラント機器 2 センサ 3 操作端 4 プラントI/F(インターフェース)制御盤 41 機能付TB(中継端子台) 5 プロセスコントローラ収納制御盤 51 CPU部 52 CPU−I/F部のPI/O部 6 制御装置 7 計算機 8 ネットワーク 9 通信線 10 中央制御機器室 11 分散制御機器室 100 コネクタケーブル 110 プロセスケーブル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 丸山 良雄 茨城県日立市大みか町五丁目2番1号 株 式会社日立製作所大みか工場内

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 中央制御機器室にネットワークを介して
    結合する計算機と各プロセス機器を制御する制御装置を
    設置し、前記制御装置とプラントのプロセス機器を伝送
    手段を介して接続し、前記プロセス機器を自動制御する
    制御システムにおいて、前記制御装置からプロセスコン
    トローラとプラントI/F(インターフェイス)部を分
    離して、それぞれプロセスコントローラ収納制御盤とプ
    ラントI/F制御盤を形成し、これらの制御盤を前記プ
    ロセス機器近傍に分散配置することを特徴とする現場設
    置型制御装置。
  2. 【請求項2】 中央制御機器室にネットワークを介して
    結合する計算機と各プロセス機器を制御する制御装置を
    設置し、前記制御装置とプラントのプロセス機器を伝送
    手段を介して接続し、前記プロセス機器を自動制御する
    制御システムにおいて、プロセスコントローラを有する
    プロセスコントローラ収納制御盤とプラントI/F制御
    盤を形成し、前記プロセスコントローラ収納制御盤を前
    記ネットワークに直接結合すると共に、これらの制御盤
    を前記プロセス機器近傍に分散配置することを特徴とす
    る現場設置型制御装置。
  3. 【請求項3】 中央制御機器室にネットワークを介して
    結合する計算機と各プロセス機器を制御する制御装置を
    設置し、前記制御装置とプラントのプロセス機器を伝送
    手段を介して接続し、前記プロセス機器を自動制御する
    制御システムにおいて、前記制御装置からプロセスコン
    トローラとプラントI/F部を分離して、それぞれ複数
    のプロセスコントローラ収納制御盤とプラントI/F制
    御盤を形成し、前記伝送手段をネットワークとして前記
    複数のプロセスコントローラ収納制御盤を結合すると共
    に、前記複数のプラントI/F制御盤にそれぞれプロセ
    ス機器を接続し、かつ、これらの制御盤を前記プロセス
    機器近傍に分散配置することを特徴とする現場設置型制
    御装置。
  4. 【請求項4】 請求項1から請求項3のいずれかにおい
    て、プロセス機器近傍に分散制御機器室を設け、前記分
    散制御機器室にプロセスコントローラ収納制御盤を収納
    することを特徴とする現場設置型制御装置。
  5. 【請求項5】 請求項4において、分散制御機器室に分
    離、独立したプロセスコントローラ収納制御盤とプラン
    トI/F制御盤を収納することを特徴とする現場設置型
    制御装置。
  6. 【請求項6】 請求項1から請求項3のいずれかにおい
    て、プロセスコントローラ収納制御盤にはプロセスコン
    トローラと共に弱電デジタル電子機器を収納し、プラン
    トI/F制御盤には強電のプロセス入出力を行う強電回
    路と共に強電/弱電間を電気的に絶縁する光電変換手段
    を収納することを特徴とする現場設置型制御装置。
  7. 【請求項7】 請求項1から請求項6のいずれかにおい
    て、プロセスコントローラ収納制御盤とプラントI/F
    制御盤をコネクタケーブルを介して接続し、プラントI
    /F制御盤とプロセス機器をプロセスケーブルを介して
    接続することを特徴とする現場設置型制御装置。
  8. 【請求項8】 請求項1から請求項7のいずれかにおい
    て、プロセスコントローラ収納制御盤の据付けに先行し
    て、プラントI/F制御盤をプロセス機器近傍に据付け
    実施すると共に該プラントI/F制御盤にプロセスケー
    ブルを引込み、接続することを特徴とする現場設置型制
    御装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003177802A (ja) * 2001-12-10 2003-06-27 Hitachi Ltd プラント制御システム

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JP2003177802A (ja) * 2001-12-10 2003-06-27 Hitachi Ltd プラント制御システム

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