JPH08314505A - 現場設置型制御装置 - Google Patents
現場設置型制御装置Info
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- JPH08314505A JPH08314505A JP7148286A JP14828695A JPH08314505A JP H08314505 A JPH08314505 A JP H08314505A JP 7148286 A JP7148286 A JP 7148286A JP 14828695 A JP14828695 A JP 14828695A JP H08314505 A JPH08314505 A JP H08314505A
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- plant
- equipment
- control panel
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 プロセスケーブル敷設量の削減、中央制御機
器室の面積縮小、制御装置の製作、設置コストの低減と
据付け工期の短縮及び制御装置据付け後の試験工程の短
縮に好適な現場設置型制御装置を提供することにある。 【構成】 中央制御機器室10に設置したプラントのプ
ロセス機器1を自動制御する制御装置6からプロセスコ
ントローラとプラントI/F(インターフェイス)部を
分離して、それぞれプロセスコントローラ収納制御盤5
とプラントI/F制御盤4を形成し、前者の制御盤をプ
ロセス機器近傍に設けた分散制御機器室11に、後者の
制御盤をプロセス機器近傍にそれぞれ分散配置し、プロ
セスコントローラ収納制御盤に収納した弱電デジタル電
子機器とプラントI/F制御盤に収納した強電のプロセ
ス入出力を行う強電回路の間を電気的に絶縁する光電変
換手段をプラントI/F制御盤に設置することを特徴と
する。
器室の面積縮小、制御装置の製作、設置コストの低減と
据付け工期の短縮及び制御装置据付け後の試験工程の短
縮に好適な現場設置型制御装置を提供することにある。 【構成】 中央制御機器室10に設置したプラントのプ
ロセス機器1を自動制御する制御装置6からプロセスコ
ントローラとプラントI/F(インターフェイス)部を
分離して、それぞれプロセスコントローラ収納制御盤5
とプラントI/F制御盤4を形成し、前者の制御盤をプ
ロセス機器近傍に設けた分散制御機器室11に、後者の
制御盤をプロセス機器近傍にそれぞれ分散配置し、プロ
セスコントローラ収納制御盤に収納した弱電デジタル電
子機器とプラントI/F制御盤に収納した強電のプロセ
ス入出力を行う強電回路の間を電気的に絶縁する光電変
換手段をプラントI/F制御盤に設置することを特徴と
する。
Description
【0001】本発明は、プロセス制御装置の設置にあた
って、この制御装置を構成する一部制御機器を現場に設
置する現場設置型制御装置に関する。
って、この制御装置を構成する一部制御機器を現場に設
置する現場設置型制御装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、火力・原子力制御システムにおい
て、中央制御機器室に計算機、各プロセス機器を制御す
るプロセスコントローラなどを有する制御装置を設置
し、制御装置とプラントのプロセス機器を伝送手段を介
して接続し、プロセス機器を自動制御する制御システム
が採用されている。図9に、従来の制御システムを示
す。中央制御機器室10に設置された計算機7、各プロ
セス機器1を制御するプロセスコントローラなどを有す
る制御装置6’がネットワーク8を介して結合され、制
御装置6’からプロセス機器1の操作端3にプロセスケ
ーブル110を介して制御指令を発してプロセス機器1
を制御すると同時に、センサ2からプロセス機器1の状
態をプロセスケーブル110を介して制御装置6’に伝
送する。この制御装置6’は、図10に示すように、プ
ロセスコントローラを形成するCPU部51’、CPU
−I/F(計算機−インターフェース)部のPI/O
(プラントインプツト/アウトプット)部52’及びプ
ラントI/F(インターフェース)部として機能するR
y(リレー)・TB(中継端子台)41’を収納し、各
Ry(リレー)・TB(中継端子台)41’をプロセス
ケーブル110を介して各プロセス機器1に接続して構
成される。このような従来の制御システムでは、次の特
徴を有する。即ち、 1.制御システムを構成する制御機器の殆ど全てが中央
制御機器室に集中設置されている。 2.CPU−I/F部(PI/O52’)とプラントI
/F部(Ry(リレー)・TB(中継端子台)41’)
が分離していないため、同一制御盤内にCPU−I/F
部のデジタル弱電回路とプロセス入出力信号等のプラン
トI/F部の強電回路が混在している。 3.CPU−I/F部内のPI/O部内にプロセスI/
F信号と内部デジタル弱電回路を分離し、信号を取り合
うための電気的絶縁回路を持っている。 4.CPUーI/F部内のPI/O部内に信号を取り合
うための電気的絶縁回路を持っていると、PI/Oプリ
ント基板の実装効率が悪くなるため、Ry等を用いて外
部に電気的絶縁回路を形成する。
て、中央制御機器室に計算機、各プロセス機器を制御す
るプロセスコントローラなどを有する制御装置を設置
し、制御装置とプラントのプロセス機器を伝送手段を介
して接続し、プロセス機器を自動制御する制御システム
が採用されている。図9に、従来の制御システムを示
す。中央制御機器室10に設置された計算機7、各プロ
セス機器1を制御するプロセスコントローラなどを有す
る制御装置6’がネットワーク8を介して結合され、制
御装置6’からプロセス機器1の操作端3にプロセスケ
ーブル110を介して制御指令を発してプロセス機器1
を制御すると同時に、センサ2からプロセス機器1の状
態をプロセスケーブル110を介して制御装置6’に伝
送する。この制御装置6’は、図10に示すように、プ
ロセスコントローラを形成するCPU部51’、CPU
−I/F(計算機−インターフェース)部のPI/O
(プラントインプツト/アウトプット)部52’及びプ
ラントI/F(インターフェース)部として機能するR
y(リレー)・TB(中継端子台)41’を収納し、各
Ry(リレー)・TB(中継端子台)41’をプロセス
ケーブル110を介して各プロセス機器1に接続して構
成される。このような従来の制御システムでは、次の特
徴を有する。即ち、 1.制御システムを構成する制御機器の殆ど全てが中央
制御機器室に集中設置されている。 2.CPU−I/F部(PI/O52’)とプラントI
/F部(Ry(リレー)・TB(中継端子台)41’)
が分離していないため、同一制御盤内にCPU−I/F
部のデジタル弱電回路とプロセス入出力信号等のプラン
トI/F部の強電回路が混在している。 3.CPU−I/F部内のPI/O部内にプロセスI/
F信号と内部デジタル弱電回路を分離し、信号を取り合
うための電気的絶縁回路を持っている。 4.CPUーI/F部内のPI/O部内に信号を取り合
うための電気的絶縁回路を持っていると、PI/Oプリ
ント基板の実装効率が悪くなるため、Ry等を用いて外
部に電気的絶縁回路を形成する。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】前記従来技術おいて
は、次のような課題を有する。即ち、 1.中央制御機器室10に制御装置6’が集中して設置
されているため、プロセスケーブル110をプロセス機
器1から中央制御機器室10までの長距離敷設が必要で
あり、制御システムの高度化による入出力点数の増加も
相まって設置コストが増加する。 2.制御内容の高度化による制御装置の大型化に伴い、
中央制御機器室10も大型化し、設置コストが上昇す
る。 3.デジタル弱電回路であるCPU−I/F部と強電回
路であるプラントI/F部が同一制御盤内に混在するた
めに、制御盤の設置にあたって、耐温度・耐湿度・耐塵
等の耐環境性で最も劣るCPU−I/F部に合わせた設
置環境が必要となり、大がかりな空調設備の有する中央
制御機器室10が必要となり、製作コストが上昇する。 4.CPU−I/F部もプラントI/F部と同一制御盤
内に収容されているため、制御装置の全てが据付け済で
なければ、プロセスケーブル110の引込み、接続工事
の着手ができないので、据付け工期が長引くことにな
る。 5.電気的絶縁機能を持つCPU−I/F部のPI/O
部では、そのプリント基板上の回路モードにおいて、強
電のプロセスI/F信号から十分な縁間距離をとる必要
があり、また、該信号処理に伴う発熱量が大きいので、
プリント基板の実装効率を図る必要があり、製作コスト
が上昇する。 6.強電/弱電の電気的絶縁機能をRy等の回路で実現
しているため、これらとコントローラの入出力及びプロ
セス信号との組合せ試験が制御装置の据付け後に必要と
なり、試験工程短縮上の障害となる。
は、次のような課題を有する。即ち、 1.中央制御機器室10に制御装置6’が集中して設置
されているため、プロセスケーブル110をプロセス機
器1から中央制御機器室10までの長距離敷設が必要で
あり、制御システムの高度化による入出力点数の増加も
相まって設置コストが増加する。 2.制御内容の高度化による制御装置の大型化に伴い、
中央制御機器室10も大型化し、設置コストが上昇す
る。 3.デジタル弱電回路であるCPU−I/F部と強電回
路であるプラントI/F部が同一制御盤内に混在するた
めに、制御盤の設置にあたって、耐温度・耐湿度・耐塵
等の耐環境性で最も劣るCPU−I/F部に合わせた設
置環境が必要となり、大がかりな空調設備の有する中央
制御機器室10が必要となり、製作コストが上昇する。 4.CPU−I/F部もプラントI/F部と同一制御盤
内に収容されているため、制御装置の全てが据付け済で
なければ、プロセスケーブル110の引込み、接続工事
の着手ができないので、据付け工期が長引くことにな
る。 5.電気的絶縁機能を持つCPU−I/F部のPI/O
部では、そのプリント基板上の回路モードにおいて、強
電のプロセスI/F信号から十分な縁間距離をとる必要
があり、また、該信号処理に伴う発熱量が大きいので、
プリント基板の実装効率を図る必要があり、製作コスト
が上昇する。 6.強電/弱電の電気的絶縁機能をRy等の回路で実現
しているため、これらとコントローラの入出力及びプロ
セス信号との組合せ試験が制御装置の据付け後に必要と
なり、試験工程短縮上の障害となる。
【0004】本発明の目的は、上記事情に鑑み、プロセ
スケーブル敷設量の削減、中央制御機器室の面積縮小、
制御装置の製作、設置コストの低減と据付け工期の短縮
及び制御装置据付け後の試験工程の短縮に好適な現場設
置型制御装置を提供することにある。
スケーブル敷設量の削減、中央制御機器室の面積縮小、
制御装置の製作、設置コストの低減と据付け工期の短縮
及び制御装置据付け後の試験工程の短縮に好適な現場設
置型制御装置を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的は、中央制御機
器室に設置したプラントのプロセス機器を自動制御する
制御装置からプロセスコントローラとプラントI/F
(インターフェイス)部を分離して、それぞれプロセス
コントローラ収納制御盤とプラントI/F制御盤を形成
し、これらの制御盤をプロセス機器近傍に分散配置する
ことによって、達成される。この場合、プロセス機器近
傍に分散制御機器室を設け、分散制御機器室にプロセス
コントローラ収納制御盤を収納すること、また、プロセ
スコントローラ収納制御盤にはプロセスコントローラと
共に弱電デジタル電子機器を収納し、プラントI/F制
御盤には強電のプロセス入出力を行う強電回路と共に強
電/弱電間を電気的に絶縁する光電変換手段を収納する
こと、また、プロセスコントローラ収納制御盤とプラン
トI/F制御盤をコネクタケーブルを介して接続し、プ
ラントI/F制御盤とプロセス機器をプロセスケーブル
を介して接続すること、また、プロセスコントローラ収
納制御盤の据付けに先行して、プラントI/F制御盤を
プロセス機器近傍に据付け実施すると共に該プラントI
/F制御盤にプロセスケーブルを引込み、接続する構成
とする。
器室に設置したプラントのプロセス機器を自動制御する
制御装置からプロセスコントローラとプラントI/F
(インターフェイス)部を分離して、それぞれプロセス
コントローラ収納制御盤とプラントI/F制御盤を形成
し、これらの制御盤をプロセス機器近傍に分散配置する
ことによって、達成される。この場合、プロセス機器近
傍に分散制御機器室を設け、分散制御機器室にプロセス
コントローラ収納制御盤を収納すること、また、プロセ
スコントローラ収納制御盤にはプロセスコントローラと
共に弱電デジタル電子機器を収納し、プラントI/F制
御盤には強電のプロセス入出力を行う強電回路と共に強
電/弱電間を電気的に絶縁する光電変換手段を収納する
こと、また、プロセスコントローラ収納制御盤とプラン
トI/F制御盤をコネクタケーブルを介して接続し、プ
ラントI/F制御盤とプロセス機器をプロセスケーブル
を介して接続すること、また、プロセスコントローラ収
納制御盤の据付けに先行して、プラントI/F制御盤を
プロセス機器近傍に据付け実施すると共に該プラントI
/F制御盤にプロセスケーブルを引込み、接続する構成
とする。
【0006】
【作用】本発明は、中央制御機器室の面積が縮小する共
に、プロセス機器から中央制御機器室まで長距離のプロ
セスケーブルを敷設する必要がなくなり、プラント制御
装置の製作、設置コストの低減を図る。また、分散制御
機器室を比較的狭いスペースに形成することができ、空
調等の設備が小型化する。また、プラント制御装置の製
作、設備据付け工事が並行して実施されることになり、
工期の短縮が図れる。また、プロセスコントローラ収納
制御盤は弱電回路のみとなり、プリント基板上のモード
回路の高密度化が可能となり、また、発熱量も低減する
ため、プリント基板の実装効率が向上する。また、プロ
セスコントローラ収納制御盤は、強電/弱電の電気的絶
縁機能用のRy等の回路を持たないため、制御装置の据
付け後のこれらとコントローラの入出力及びプロセス信
号との組合せ試験が不要となり、試験工程の短縮が可能
となり、試験期間が短縮する。また、コネクタケーブル
によって分割されたプロセスコントローラ収納制御盤と
プラントI/F部制御盤間の接続が容易である。
に、プロセス機器から中央制御機器室まで長距離のプロ
セスケーブルを敷設する必要がなくなり、プラント制御
装置の製作、設置コストの低減を図る。また、分散制御
機器室を比較的狭いスペースに形成することができ、空
調等の設備が小型化する。また、プラント制御装置の製
作、設備据付け工事が並行して実施されることになり、
工期の短縮が図れる。また、プロセスコントローラ収納
制御盤は弱電回路のみとなり、プリント基板上のモード
回路の高密度化が可能となり、また、発熱量も低減する
ため、プリント基板の実装効率が向上する。また、プロ
セスコントローラ収納制御盤は、強電/弱電の電気的絶
縁機能用のRy等の回路を持たないため、制御装置の据
付け後のこれらとコントローラの入出力及びプロセス信
号との組合せ試験が不要となり、試験工程の短縮が可能
となり、試験期間が短縮する。また、コネクタケーブル
によって分割されたプロセスコントローラ収納制御盤と
プラントI/F部制御盤間の接続が容易である。
【0007】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を用いて説明す
る。図1は、本発明の一実施例を示す現場設置型制御装
置である。この現場設置型制御装置は、中央制御機器室
10にネットワーク8を介して結合した計算機7、各制
御装置6を設置し、中央制御機器室10から分散した分
散制御機器室11をプラント機器1近傍に設け、この分
散制御機器室11にはプロセスコントローラと共にデジ
タル弱電回路を構成する電子機器を収納するプロセスコ
ントローラ収納制御盤5を設置し、分散制御機器室11
の外のプラント機器1近傍に強電のプロセス入出力を行
う強電回路を収納するプラントI/F(インターフェー
ス)制御盤4を設置する。ここで、プロセスコントロー
ラ収納制御盤5には、従来の制御装置6’が有するプロ
セスコントローラを形成するCPU部51’とCPU−
I/F部のPI/O部52’を収納し、プラントI/F
制御盤4には、プラントI/F41’を収納する(図2
に詳述する。)。また、分散制御機器室11は、デジタ
ル弱電回路を収納するプロセスコントローラ収納制御盤
5を設置するため、中央制御機器室10並みの空調を行
う。制御装置6とプロセスコントローラ収納制御盤5は
通信線9を介して接続する。CPU−I/F部のPI/
O部とプラントI/F制御盤4はコネクタケーブル10
0を介して接続する。プラントI/F制御盤4はプロセ
スケーブル110を介してプラント機器1のセンサ2、
操作端3と接続する。ここで、分散制御機器室11’
は、電気的絶縁等の条件が許せば、プロセスコントロー
ラ収納制御盤5とプラントI/F制御盤4を一緒に収納
してよい例を示す。なお、12は、中央制御機器室10
の立体外観図である。
る。図1は、本発明の一実施例を示す現場設置型制御装
置である。この現場設置型制御装置は、中央制御機器室
10にネットワーク8を介して結合した計算機7、各制
御装置6を設置し、中央制御機器室10から分散した分
散制御機器室11をプラント機器1近傍に設け、この分
散制御機器室11にはプロセスコントローラと共にデジ
タル弱電回路を構成する電子機器を収納するプロセスコ
ントローラ収納制御盤5を設置し、分散制御機器室11
の外のプラント機器1近傍に強電のプロセス入出力を行
う強電回路を収納するプラントI/F(インターフェー
ス)制御盤4を設置する。ここで、プロセスコントロー
ラ収納制御盤5には、従来の制御装置6’が有するプロ
セスコントローラを形成するCPU部51’とCPU−
I/F部のPI/O部52’を収納し、プラントI/F
制御盤4には、プラントI/F41’を収納する(図2
に詳述する。)。また、分散制御機器室11は、デジタ
ル弱電回路を収納するプロセスコントローラ収納制御盤
5を設置するため、中央制御機器室10並みの空調を行
う。制御装置6とプロセスコントローラ収納制御盤5は
通信線9を介して接続する。CPU−I/F部のPI/
O部とプラントI/F制御盤4はコネクタケーブル10
0を介して接続する。プラントI/F制御盤4はプロセ
スケーブル110を介してプラント機器1のセンサ2、
操作端3と接続する。ここで、分散制御機器室11’
は、電気的絶縁等の条件が許せば、プロセスコントロー
ラ収納制御盤5とプラントI/F制御盤4を一緒に収納
してよい例を示す。なお、12は、中央制御機器室10
の立体外観図である。
【0008】本実施例において、計算機7から指令が発
せられると、制御装置6はこの計算機7の指令を通信線
9を介してプロセスコントローラ収納制御盤5に伝送す
る。プロセスコントローラ収納制御盤5に収納されてい
るプロセスコントローラは、制御装置6からの指令とコ
ネクタケーブル100を介して送られてくるプラント機
器1の状態を基に制御指令を作成し、この制御指令をコ
ネクタケーブル100を介してプラントI/F制御盤4
に送出し、プロセスケーブル110を介してプラント機
器1の操作端3に伝達し、プラント機器1を制御する。
一方、プラント機器1の状態は、センサ2が検知し、プ
ロセスケーブル110を介してプラントI/F制御盤4
に送出され、コネクタケーブル100を介してプロセス
コントローラ収納制御盤5のプロセスコントローラに伝
送される。さらに、プラント機器1の状態は、必要に応
じて通信線9を介して制御装置6に入力される。また、
計算機7はネットワーク8を介して各制御装置6と情報
の送受を行い、処理に必要な各種演算を実行する。
せられると、制御装置6はこの計算機7の指令を通信線
9を介してプロセスコントローラ収納制御盤5に伝送す
る。プロセスコントローラ収納制御盤5に収納されてい
るプロセスコントローラは、制御装置6からの指令とコ
ネクタケーブル100を介して送られてくるプラント機
器1の状態を基に制御指令を作成し、この制御指令をコ
ネクタケーブル100を介してプラントI/F制御盤4
に送出し、プロセスケーブル110を介してプラント機
器1の操作端3に伝達し、プラント機器1を制御する。
一方、プラント機器1の状態は、センサ2が検知し、プ
ロセスケーブル110を介してプラントI/F制御盤4
に送出され、コネクタケーブル100を介してプロセス
コントローラ収納制御盤5のプロセスコントローラに伝
送される。さらに、プラント機器1の状態は、必要に応
じて通信線9を介して制御装置6に入力される。また、
計算機7はネットワーク8を介して各制御装置6と情報
の送受を行い、処理に必要な各種演算を実行する。
【0009】このように本実施例では、プロセスコント
ローラ収納制御盤5とプラントI/F制御盤4を制御装
置から分離して、プラント機器1近傍に分散設置するの
で、中央制御機器室10の面積が縮小すると共に、プロ
セス機器1から中央制御機器室10まで長距離のプロセ
スケーブル110を敷設する必要がなくなる。また、デ
ジタル弱電回路によるプロセスコントローラ収納制御盤
5と強電のプロセス入出力を行うプラントI/F制御盤
4を別の制御盤に分割して設置することによって、耐環
境性の劣るプロセスコントローラ収納制御盤5のみを設
置環境の良い分散制御機器室11内に収納し、プラント
I/F制御盤4をより環境条件の悪いプロセス機器1近
傍の分散制御機器室11外に設置することが可能とな
る。そのため、分散制御機器室11を比較的狭いスペー
スに形成することができ、空調等の設備を小型化でき
る。
ローラ収納制御盤5とプラントI/F制御盤4を制御装
置から分離して、プラント機器1近傍に分散設置するの
で、中央制御機器室10の面積が縮小すると共に、プロ
セス機器1から中央制御機器室10まで長距離のプロセ
スケーブル110を敷設する必要がなくなる。また、デ
ジタル弱電回路によるプロセスコントローラ収納制御盤
5と強電のプロセス入出力を行うプラントI/F制御盤
4を別の制御盤に分割して設置することによって、耐環
境性の劣るプロセスコントローラ収納制御盤5のみを設
置環境の良い分散制御機器室11内に収納し、プラント
I/F制御盤4をより環境条件の悪いプロセス機器1近
傍の分散制御機器室11外に設置することが可能とな
る。そのため、分散制御機器室11を比較的狭いスペー
スに形成することができ、空調等の設備を小型化でき
る。
【0010】図2は、本実施例によるプロセスコントロ
ーラ収納制御盤5とプラントI/F制御盤4の構成を示
す。プロセス機器1近傍の分散制御機器室11内に設置
したプロセスコントローラ収納制御盤5には、制御装置
6の下位制御装置であるプロセスコントローラを形成す
るCPU部51と、CPU−I/F(計算機−インター
フェース)部のPI/O(プラントインプツト/アウト
プット)部52を収納し、分散制御機器室11の外のプ
ロセス機器1近傍に設置したプラントI/F制御盤4に
は、機能付きTB(中継端子台)41を収納する。ここ
で、機能付TB41は、プラントI/Fとして機能する
従来のRy(リレー)・TB(中継端子台)41’に代
えて設けるものであり、この機能付TB41には、コネ
クタケーブル100とプロセスケーブル110との間つ
まり強電/弱電間の電気的絶縁機能(図4、図5で詳述
する。)を持たせる。プロセスコントローラ収納制御盤
5とプラントI/F制御盤4との間はコネクタケーブル
100で接続し、プロセス機器1のセンサ2、操作端3
からのプロセスケーブル110はプラントI/F制御盤
4に引き込み、接続する。
ーラ収納制御盤5とプラントI/F制御盤4の構成を示
す。プロセス機器1近傍の分散制御機器室11内に設置
したプロセスコントローラ収納制御盤5には、制御装置
6の下位制御装置であるプロセスコントローラを形成す
るCPU部51と、CPU−I/F(計算機−インター
フェース)部のPI/O(プラントインプツト/アウト
プット)部52を収納し、分散制御機器室11の外のプ
ロセス機器1近傍に設置したプラントI/F制御盤4に
は、機能付きTB(中継端子台)41を収納する。ここ
で、機能付TB41は、プラントI/Fとして機能する
従来のRy(リレー)・TB(中継端子台)41’に代
えて設けるものであり、この機能付TB41には、コネ
クタケーブル100とプロセスケーブル110との間つ
まり強電/弱電間の電気的絶縁機能(図4、図5で詳述
する。)を持たせる。プロセスコントローラ収納制御盤
5とプラントI/F制御盤4との間はコネクタケーブル
100で接続し、プロセス機器1のセンサ2、操作端3
からのプロセスケーブル110はプラントI/F制御盤
4に引き込み、接続する。
【0011】図3は、プロセスコントローラ収納制御盤
5とプラントI/F制御盤4の各々の詳細構成を示す。
プロセスコントローラ収納制御盤5に収納するCPU部
51は、CPU511、メモリ512、伝送I/F部5
13、PI/O−I/F部514及びこれらを結ぶ内部
BUS515からなる。PI/O部52は、DI(デジ
タル入力)521、DO(デジタル出力)522、CP
UーI/F部523及びこれらを結ぶ内部PI/O−B
US524からなる。プラントI/F制御盤4に収納す
る機能付TB41は、PI/O部52のDI521、D
O522にコネクタケーブル100を介して接続し、プ
ラント機器1にプロセスケーブル110を介して接続す
る。また、プロセスコントローラを形成するCPU部5
1は、I/F513から通信線9を介して他のプロセス
コントローラ5aや制御装置6に接続し、データの取り
合いを可能とする。プラント機器1の状態は、プロセス
ケーブル110を介して機能付TB41が取り込み、コ
ネクタケーブル100を介してDI521に入力され、
BUS524−I/F523−PI/O−I/F514
−BUS515を介してメモリ512に格納される。C
PU511は必要に応じてメモリ512の情報をI/F
513を介して制御装置6に送る。一方、制御装置6か
らの指令は、I/F513を介してメモリ512に入
る。CPU511は、必要に応じてメモリ512の情報
から制御指令を作成し、BUS515−PI/O−I/
F514−I/F523−BUS524を介してDO5
22に送り、コネクタケーブル100を介して機能付T
B41に出力する。機能付TB41の出力はプロセスケ
ーブル110を介してプラント機器1に与えられ、プラ
ント機器1を制御する。
5とプラントI/F制御盤4の各々の詳細構成を示す。
プロセスコントローラ収納制御盤5に収納するCPU部
51は、CPU511、メモリ512、伝送I/F部5
13、PI/O−I/F部514及びこれらを結ぶ内部
BUS515からなる。PI/O部52は、DI(デジ
タル入力)521、DO(デジタル出力)522、CP
UーI/F部523及びこれらを結ぶ内部PI/O−B
US524からなる。プラントI/F制御盤4に収納す
る機能付TB41は、PI/O部52のDI521、D
O522にコネクタケーブル100を介して接続し、プ
ラント機器1にプロセスケーブル110を介して接続す
る。また、プロセスコントローラを形成するCPU部5
1は、I/F513から通信線9を介して他のプロセス
コントローラ5aや制御装置6に接続し、データの取り
合いを可能とする。プラント機器1の状態は、プロセス
ケーブル110を介して機能付TB41が取り込み、コ
ネクタケーブル100を介してDI521に入力され、
BUS524−I/F523−PI/O−I/F514
−BUS515を介してメモリ512に格納される。C
PU511は必要に応じてメモリ512の情報をI/F
513を介して制御装置6に送る。一方、制御装置6か
らの指令は、I/F513を介してメモリ512に入
る。CPU511は、必要に応じてメモリ512の情報
から制御指令を作成し、BUS515−PI/O−I/
F514−I/F523−BUS524を介してDO5
22に送り、コネクタケーブル100を介して機能付T
B41に出力する。機能付TB41の出力はプロセスケ
ーブル110を介してプラント機器1に与えられ、プラ
ント機器1を制御する。
【0012】このように本実施例では、プロセスコント
ローラ収納制御盤5とプラントI/F制御盤4を分離す
るので、まず、制御設備据付け工事の初期に敷設が必要
なプロセスケーブル110を引込み、このプロセスケー
ブル110に接続するプラントI/F部制御盤4のみを
先に据付ける。続いて、プロセスコントローラ収納制御
盤5を搬入、据付けを実施する。これにより、プロセス
コントローラ収納制御盤5とプラントI/F部制御盤4
の同時搬入、据付け実施による工事の輻輳が避けられる
と共に、このケーブル110の敷設と平行してプロセス
コントローラ収納制御盤5の製作ができる。これは、制
御システムの製作、設備据付け工事が並行して実施され
ることであり、工期の短縮が図れる。
ローラ収納制御盤5とプラントI/F制御盤4を分離す
るので、まず、制御設備据付け工事の初期に敷設が必要
なプロセスケーブル110を引込み、このプロセスケー
ブル110に接続するプラントI/F部制御盤4のみを
先に据付ける。続いて、プロセスコントローラ収納制御
盤5を搬入、据付けを実施する。これにより、プロセス
コントローラ収納制御盤5とプラントI/F部制御盤4
の同時搬入、据付け実施による工事の輻輳が避けられる
と共に、このケーブル110の敷設と平行してプロセス
コントローラ収納制御盤5の製作ができる。これは、制
御システムの製作、設備据付け工事が並行して実施され
ることであり、工期の短縮が図れる。
【0013】図4、図5に、機能付TB41の詳細を示
す。図4は、DIの用機能付TB41aである。DI用
の機能付TB41aは、コネクタケーブル100を接続
するためのコネクタ411aとプロセスケーブル110
の信号を電気的に絶縁するフォトカプラ(光電変換手
段)412とプロセスケーブル110の接続用TB41
3からなる。コネクタ411bはコネクタケーブル10
0に装着し、コネクタ411aと接続する。DI用の機
能付TB41aは、プロセス機器1の信号をプロセスケ
ーブル110を介して接続用TB413に入力し、フォ
トカプラ412を作動し、コネクタ411a、411b
からコネクタケーブル100を介してPI/O部52の
DI521に出力する。図5は、DO用の機能付TB4
1bである。DO用の機能付TB41bは、コネクタケ
ーブル100を接続するためのコネクタ411aとプロ
セスケーブル110の信号を電気的に絶縁するフォトカ
プラ(光電変換手段)412とプロセスケーブル110
の接続用TB413よりなる。コネクタ411bはコネ
クタケーブル100に装着し、コネクタ411aと接続
する。DO用の機能付TB41bは、PI/O部52の
DO522の信号をコネクタケーブル100を介してコ
ネクタ411b、411aに入力し、フォトカプラ41
2を作動し、接続用TB413からプロセスケーブル1
10を介してプロセス機器1に出力する。
す。図4は、DIの用機能付TB41aである。DI用
の機能付TB41aは、コネクタケーブル100を接続
するためのコネクタ411aとプロセスケーブル110
の信号を電気的に絶縁するフォトカプラ(光電変換手
段)412とプロセスケーブル110の接続用TB41
3からなる。コネクタ411bはコネクタケーブル10
0に装着し、コネクタ411aと接続する。DI用の機
能付TB41aは、プロセス機器1の信号をプロセスケ
ーブル110を介して接続用TB413に入力し、フォ
トカプラ412を作動し、コネクタ411a、411b
からコネクタケーブル100を介してPI/O部52の
DI521に出力する。図5は、DO用の機能付TB4
1bである。DO用の機能付TB41bは、コネクタケ
ーブル100を接続するためのコネクタ411aとプロ
セスケーブル110の信号を電気的に絶縁するフォトカ
プラ(光電変換手段)412とプロセスケーブル110
の接続用TB413よりなる。コネクタ411bはコネ
クタケーブル100に装着し、コネクタ411aと接続
する。DO用の機能付TB41bは、PI/O部52の
DO522の信号をコネクタケーブル100を介してコ
ネクタ411b、411aに入力し、フォトカプラ41
2を作動し、接続用TB413からプロセスケーブル1
10を介してプロセス機器1に出力する。
【0014】このように本実施例では、強電回路に接続
されるプロセスケーブル110と弱電回路に接続される
コネクタケーブル100間の電気的絶縁機能を機能付T
B41に持たせ、かつ、機能付TB41をプラントI/
F制御盤4に設けることによって、プロセスコントロー
ラ収納制御盤5に収納するCPUーI/F部のPI/O
部52に電気的絶縁回路を持つ必要がなくなる。このた
め、PI/O部52は弱電回路のみとなり、プリント基
板上のモード回路の高密度化が実施でき、また、発熱量
も低減するため、プリント基板の実装効率が向上する。
また、CPU−I/F部のPI/O部52は、強電/弱
電の電気的絶縁機能用のRy等の回路を持たないため、
制御装置の据付け後のこれらとコントローラの入出力及
びプロセス信号との組合せ試験が不要となり、試験工程
の短縮が可能となり、試験期間が短縮する。また、コネ
クタケーブル100によってプロセスコントローラ収納
制御盤5とプラントI/F部制御盤4を接続するので、
この分割された制御盤間の接続を容易にする。
されるプロセスケーブル110と弱電回路に接続される
コネクタケーブル100間の電気的絶縁機能を機能付T
B41に持たせ、かつ、機能付TB41をプラントI/
F制御盤4に設けることによって、プロセスコントロー
ラ収納制御盤5に収納するCPUーI/F部のPI/O
部52に電気的絶縁回路を持つ必要がなくなる。このた
め、PI/O部52は弱電回路のみとなり、プリント基
板上のモード回路の高密度化が実施でき、また、発熱量
も低減するため、プリント基板の実装効率が向上する。
また、CPU−I/F部のPI/O部52は、強電/弱
電の電気的絶縁機能用のRy等の回路を持たないため、
制御装置の据付け後のこれらとコントローラの入出力及
びプロセス信号との組合せ試験が不要となり、試験工程
の短縮が可能となり、試験期間が短縮する。また、コネ
クタケーブル100によってプロセスコントローラ収納
制御盤5とプラントI/F部制御盤4を接続するので、
この分割された制御盤間の接続を容易にする。
【0015】以上本実施例では、プロセスコントローラ
51は制御装置6の下位にあると位置付けして説明した
が、本発明の他の実施例として、図6に示すように、プ
ロセスコントローラ51を直接上位ネットワーク8に接
続してもよい。即ち、図6において、プロセスコントロ
ーラ51は、上位ネットワーク8に計算機7、制御装置
6と共に直接接続する。これにより、上位の制御装置6
を省略することができる。きた、本実施例では、プロセ
スコントローラ収納制御盤5がプロセス機器1近傍の分
散制御機器室11内に設置される例を示したが、プロセ
スコントローラ収納制御盤5の収納装置の耐環境性が許
せば、つまり、プロセスコントローラ収納制御盤5の設
置にあたって、耐温度・耐湿度・耐塵等の耐環境性が良
好であれば、本発明の他の実施例として、図7に示すよ
うに、プロセスコントローラ収納制御盤5を収納する分
散制御機器室11の設置なしに、プロセスコントローラ
収納制御盤5をプラントI/F制御盤4と共にプロセス
機器1近傍に直に設置してもよい。これにより、分散制
御機器室11を省略することができる。また、本発明の
他の実施例として、図8に示すように、プロセス機器1
近傍のプロセスコントローラ収納制御盤5を相互に通信
線9を介してネットワークで接続し、これにより制御デ
ータの取り合いを行うことも可能である。これにより、
分散設置されたプロセスコントローラ51間は相互にデ
ータの取り合いが行えるので、プロセスコントローラ5
1を中央に集約して設置する必要がなくなる。
51は制御装置6の下位にあると位置付けして説明した
が、本発明の他の実施例として、図6に示すように、プ
ロセスコントローラ51を直接上位ネットワーク8に接
続してもよい。即ち、図6において、プロセスコントロ
ーラ51は、上位ネットワーク8に計算機7、制御装置
6と共に直接接続する。これにより、上位の制御装置6
を省略することができる。きた、本実施例では、プロセ
スコントローラ収納制御盤5がプロセス機器1近傍の分
散制御機器室11内に設置される例を示したが、プロセ
スコントローラ収納制御盤5の収納装置の耐環境性が許
せば、つまり、プロセスコントローラ収納制御盤5の設
置にあたって、耐温度・耐湿度・耐塵等の耐環境性が良
好であれば、本発明の他の実施例として、図7に示すよ
うに、プロセスコントローラ収納制御盤5を収納する分
散制御機器室11の設置なしに、プロセスコントローラ
収納制御盤5をプラントI/F制御盤4と共にプロセス
機器1近傍に直に設置してもよい。これにより、分散制
御機器室11を省略することができる。また、本発明の
他の実施例として、図8に示すように、プロセス機器1
近傍のプロセスコントローラ収納制御盤5を相互に通信
線9を介してネットワークで接続し、これにより制御デ
ータの取り合いを行うことも可能である。これにより、
分散設置されたプロセスコントローラ51間は相互にデ
ータの取り合いが行えるので、プロセスコントローラ5
1を中央に集約して設置する必要がなくなる。
【0016】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
プロセスコントローラ収納制御盤とプラントI/F制御
盤を制御装置から分離して、プラント機器近傍に分散設
置するので、中央制御機器室の面積を縮小できる共に、
プロセス機器から中央制御機器室まで長距離のプロセス
ケーブルを敷設する必要がなくなり、プラント制御装置
の製作、設置コストの低減を図ることができる。また、
デジタル弱電回路によるプロセスコントローラ収納制御
盤5のみを分散制御機器室内に収納するようにしたの
で、分散制御機器室を比較的狭いスペースに形成するこ
とができ、空調等の設備を小型化できる。また、プロセ
スコントローラ収納制御盤とプラントI/F制御盤を分
離するので、プロセスコントローラ収納制御盤とプラン
トI/F部制御盤の同時搬入、据付け実施による工事の
輻輳が避けられると共に、プラントI/F制御盤の据付
け後に据付け実施するプロセスコントローラ収納制御盤
をプロセスケーブルの敷設と平行して製作することがで
きるので、プラント制御装置の製作、設備据付け工事が
並行して実施されることになり、工期の短縮が図れる。
また、強電/弱電間の電気的絶縁機能を持つ機能付TB
を設け、この機能付TBを強電回路のプラントI/F制
御盤に設置するので、プロセスコントローラ収納制御盤
は弱電回路のみとなり、プリント基板上のモード回路の
高密度化が可能となり、また、発熱量も低減するため、
プリント基板の実装効率を向上できる。また、プロセス
コントローラ収納制御盤は、強電/弱電の電気的絶縁機
能用のRy等の回路を持たないため、制御装置の据付け
後のこれらとコントローラの入出力及びプロセス信号と
の組合せ試験が不要となり、試験工程の短縮が可能とな
り、試験期間を短縮することができる。また、コネクタ
ケーブルによってプロセスコントローラ収納制御盤とプ
ラントI/F部制御盤を接続するので、この分割された
制御盤間の接続を容易に実施することができる。
プロセスコントローラ収納制御盤とプラントI/F制御
盤を制御装置から分離して、プラント機器近傍に分散設
置するので、中央制御機器室の面積を縮小できる共に、
プロセス機器から中央制御機器室まで長距離のプロセス
ケーブルを敷設する必要がなくなり、プラント制御装置
の製作、設置コストの低減を図ることができる。また、
デジタル弱電回路によるプロセスコントローラ収納制御
盤5のみを分散制御機器室内に収納するようにしたの
で、分散制御機器室を比較的狭いスペースに形成するこ
とができ、空調等の設備を小型化できる。また、プロセ
スコントローラ収納制御盤とプラントI/F制御盤を分
離するので、プロセスコントローラ収納制御盤とプラン
トI/F部制御盤の同時搬入、据付け実施による工事の
輻輳が避けられると共に、プラントI/F制御盤の据付
け後に据付け実施するプロセスコントローラ収納制御盤
をプロセスケーブルの敷設と平行して製作することがで
きるので、プラント制御装置の製作、設備据付け工事が
並行して実施されることになり、工期の短縮が図れる。
また、強電/弱電間の電気的絶縁機能を持つ機能付TB
を設け、この機能付TBを強電回路のプラントI/F制
御盤に設置するので、プロセスコントローラ収納制御盤
は弱電回路のみとなり、プリント基板上のモード回路の
高密度化が可能となり、また、発熱量も低減するため、
プリント基板の実装効率を向上できる。また、プロセス
コントローラ収納制御盤は、強電/弱電の電気的絶縁機
能用のRy等の回路を持たないため、制御装置の据付け
後のこれらとコントローラの入出力及びプロセス信号と
の組合せ試験が不要となり、試験工程の短縮が可能とな
り、試験期間を短縮することができる。また、コネクタ
ケーブルによってプロセスコントローラ収納制御盤とプ
ラントI/F部制御盤を接続するので、この分割された
制御盤間の接続を容易に実施することができる。
【図1】本発明の一実施例を示す現場設置型制御装置の
構成図
構成図
【図2】本実施例によるプロセスコントローラ収納制御
盤とプラントI/F制御盤の構成図
盤とプラントI/F制御盤の構成図
【図3】本実施例によるプロセスコントローラ収納制御
盤とプラントI/F制御盤の各々の詳細構成図
盤とプラントI/F制御盤の各々の詳細構成図
【図4】本実施例の機能付TBの詳細図
【図5】本実施例の機能付TBの詳細図
【図6】本発明の他の実施例
【図7】本発明の他の実施例
【図8】本発明の他の実施例
【図9】従来の従来の制御システムの構成図
【図10】従来の制御装置の構成図
1 プラント機器 2 センサ 3 操作端 4 プラントI/F(インターフェース)制御盤 41 機能付TB(中継端子台) 5 プロセスコントローラ収納制御盤 51 CPU部 52 CPU−I/F部のPI/O部 6 制御装置 7 計算機 8 ネットワーク 9 通信線 10 中央制御機器室 11 分散制御機器室 100 コネクタケーブル 110 プロセスケーブル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 丸山 良雄 茨城県日立市大みか町五丁目2番1号 株 式会社日立製作所大みか工場内
Claims (8)
- 【請求項1】 中央制御機器室にネットワークを介して
結合する計算機と各プロセス機器を制御する制御装置を
設置し、前記制御装置とプラントのプロセス機器を伝送
手段を介して接続し、前記プロセス機器を自動制御する
制御システムにおいて、前記制御装置からプロセスコン
トローラとプラントI/F(インターフェイス)部を分
離して、それぞれプロセスコントローラ収納制御盤とプ
ラントI/F制御盤を形成し、これらの制御盤を前記プ
ロセス機器近傍に分散配置することを特徴とする現場設
置型制御装置。 - 【請求項2】 中央制御機器室にネットワークを介して
結合する計算機と各プロセス機器を制御する制御装置を
設置し、前記制御装置とプラントのプロセス機器を伝送
手段を介して接続し、前記プロセス機器を自動制御する
制御システムにおいて、プロセスコントローラを有する
プロセスコントローラ収納制御盤とプラントI/F制御
盤を形成し、前記プロセスコントローラ収納制御盤を前
記ネットワークに直接結合すると共に、これらの制御盤
を前記プロセス機器近傍に分散配置することを特徴とす
る現場設置型制御装置。 - 【請求項3】 中央制御機器室にネットワークを介して
結合する計算機と各プロセス機器を制御する制御装置を
設置し、前記制御装置とプラントのプロセス機器を伝送
手段を介して接続し、前記プロセス機器を自動制御する
制御システムにおいて、前記制御装置からプロセスコン
トローラとプラントI/F部を分離して、それぞれ複数
のプロセスコントローラ収納制御盤とプラントI/F制
御盤を形成し、前記伝送手段をネットワークとして前記
複数のプロセスコントローラ収納制御盤を結合すると共
に、前記複数のプラントI/F制御盤にそれぞれプロセ
ス機器を接続し、かつ、これらの制御盤を前記プロセス
機器近傍に分散配置することを特徴とする現場設置型制
御装置。 - 【請求項4】 請求項1から請求項3のいずれかにおい
て、プロセス機器近傍に分散制御機器室を設け、前記分
散制御機器室にプロセスコントローラ収納制御盤を収納
することを特徴とする現場設置型制御装置。 - 【請求項5】 請求項4において、分散制御機器室に分
離、独立したプロセスコントローラ収納制御盤とプラン
トI/F制御盤を収納することを特徴とする現場設置型
制御装置。 - 【請求項6】 請求項1から請求項3のいずれかにおい
て、プロセスコントローラ収納制御盤にはプロセスコン
トローラと共に弱電デジタル電子機器を収納し、プラン
トI/F制御盤には強電のプロセス入出力を行う強電回
路と共に強電/弱電間を電気的に絶縁する光電変換手段
を収納することを特徴とする現場設置型制御装置。 - 【請求項7】 請求項1から請求項6のいずれかにおい
て、プロセスコントローラ収納制御盤とプラントI/F
制御盤をコネクタケーブルを介して接続し、プラントI
/F制御盤とプロセス機器をプロセスケーブルを介して
接続することを特徴とする現場設置型制御装置。 - 【請求項8】 請求項1から請求項7のいずれかにおい
て、プロセスコントローラ収納制御盤の据付けに先行し
て、プラントI/F制御盤をプロセス機器近傍に据付け
実施すると共に該プラントI/F制御盤にプロセスケー
ブルを引込み、接続することを特徴とする現場設置型制
御装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7148286A JPH08314505A (ja) | 1995-05-23 | 1995-05-23 | 現場設置型制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7148286A JPH08314505A (ja) | 1995-05-23 | 1995-05-23 | 現場設置型制御装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08314505A true JPH08314505A (ja) | 1996-11-29 |
Family
ID=15449379
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7148286A Pending JPH08314505A (ja) | 1995-05-23 | 1995-05-23 | 現場設置型制御装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08314505A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003177802A (ja) * | 2001-12-10 | 2003-06-27 | Hitachi Ltd | プラント制御システム |
-
1995
- 1995-05-23 JP JP7148286A patent/JPH08314505A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003177802A (ja) * | 2001-12-10 | 2003-06-27 | Hitachi Ltd | プラント制御システム |
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