JPH08299785A - 放電反応装置 - Google Patents
放電反応装置Info
- Publication number
- JPH08299785A JPH08299785A JP7111751A JP11175195A JPH08299785A JP H08299785 A JPH08299785 A JP H08299785A JP 7111751 A JP7111751 A JP 7111751A JP 11175195 A JP11175195 A JP 11175195A JP H08299785 A JPH08299785 A JP H08299785A
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- Japan
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- electrode
- discharge
- electrodes
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- vacuum container
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Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、均一放電を可能にし、均一な被処理
物をえ、電極及び電極供給線にかかる負荷を押えられる
ことを目的とする。 【構成】被処理物及び電極(14)を内蔵する真空容器(31)
と、この真空容器(31)内に所定のガスを導入する反応ガ
ス導入部(32)と、前記真空容器(31)内の圧力を制御する
真空ポンプ(37)とを具備し、前記電極(14)に電力を供給
して放電を発生させることにより真空容器(31)内に置か
れた被処理物を処理する放電反応装置において、前記電
極(14)を複数に分割するとともに、分割した電極(14)に
それぞれ電力給電部を設け、更に接地部を分割した各電
極に１箇所又は複数箇所もしくは各電極間で共有するよ
うに設けることを特徴とする放電反応装置。
物をえ、電極及び電極供給線にかかる負荷を押えられる
ことを目的とする。 【構成】被処理物及び電極(14)を内蔵する真空容器(31)
と、この真空容器(31)内に所定のガスを導入する反応ガ
ス導入部(32)と、前記真空容器(31)内の圧力を制御する
真空ポンプ(37)とを具備し、前記電極(14)に電力を供給
して放電を発生させることにより真空容器(31)内に置か
れた被処理物を処理する放電反応装置において、前記電
極(14)を複数に分割するとともに、分割した電極(14)に
それぞれ電力給電部を設け、更に接地部を分割した各電
極に１箇所又は複数箇所もしくは各電極間で共有するよ
うに設けることを特徴とする放電反応装置。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は放電反応装置に関し、特
に真空中で放電により気体プラズマを発生させ、これを
用いて被処理物表面に薄膜堆積，エッチング，清浄化等
の処理を施す放電反応装置に用いられるものである。
に真空中で放電により気体プラズマを発生させ、これを
用いて被処理物表面に薄膜堆積，エッチング，清浄化等
の処理を施す放電反応装置に用いられるものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、真空中で放電により気体プラズマ
を発生させる電極として図４，図５に示すような一体型
の電極で１箇所から電力を供給する構成のものはよく知
られている。図４は、平行平板型電極41の中央部１箇所
に電力給電部42を有する構造のものである。図３は、誘
動結合型平板電極51の一端側に電極給電部52を他端に接
地部53を有している構造のものである。
を発生させる電極として図４，図５に示すような一体型
の電極で１箇所から電力を供給する構成のものはよく知
られている。図４は、平行平板型電極41の中央部１箇所
に電力給電部42を有する構造のものである。図３は、誘
動結合型平板電極51の一端側に電極給電部52を他端に接
地部53を有している構造のものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
技術の場合、被処理物表面積を大きくするため、電極を
大きくすると、放電も不均一になり、それに伴い被処理
物も不均一になる。また、処理速度を向上させるため、
電力を増加させると電極及び電力供給線にかかる負荷が
大きくなり発熱対策が必要であるという欠点がある。
技術の場合、被処理物表面積を大きくするため、電極を
大きくすると、放電も不均一になり、それに伴い被処理
物も不均一になる。また、処理速度を向上させるため、
電力を増加させると電極及び電力供給線にかかる負荷が
大きくなり発熱対策が必要であるという欠点がある。
【０００４】本発明はこうした事情を考慮してなされた
もので、均一放電を可能にし、均一な被処理物を得、電
極及び電極供給線にかかる負荷を押えられる放電反応装
置を提供することを目的とする。
もので、均一放電を可能にし、均一な被処理物を得、電
極及び電極供給線にかかる負荷を押えられる放電反応装
置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、被処理物及び
電極を内蔵する真空容器と、この真空容器内に所定のガ
スを導入する導入手段と、前記真空容器内の圧力を制御
する制御手段とを具備し、前記電極に電力を供給して放
電を発生させることにより真空容器内に置かれた被処理
物を処理する放電反応装置において、前記電極を複数に
分割するとともに、分割した電極にそれぞれ電力給電部
を設け、更に接地部を分割した各電極に１箇所又は複数
箇所もしくは各電極間で共有するように設けることを特
徴とする放電反応装置である。
電極を内蔵する真空容器と、この真空容器内に所定のガ
スを導入する導入手段と、前記真空容器内の圧力を制御
する制御手段とを具備し、前記電極に電力を供給して放
電を発生させることにより真空容器内に置かれた被処理
物を処理する放電反応装置において、前記電極を複数に
分割するとともに、分割した電極にそれぞれ電力給電部
を設け、更に接地部を分割した各電極に１箇所又は複数
箇所もしくは各電極間で共有するように設けることを特
徴とする放電反応装置である。
【０００６】本発明において、前記電極の形態として
は、例えば図１に示すように２分割して分割した電極に
それぞれ電力給電部を設け、かつ２分割した電極に共通
の接地部を設けた構成のもの、あるいは図２に示すよう
に４分割して分割した電極にそれぞれ電力給電部を設
け、かつ４分割した電極にそれぞれ接地部を設けた構成
のもの等が挙げられる。
は、例えば図１に示すように２分割して分割した電極に
それぞれ電力給電部を設け、かつ２分割した電極に共通
の接地部を設けた構成のもの、あるいは図２に示すよう
に４分割して分割した電極にそれぞれ電力給電部を設
け、かつ４分割した電極にそれぞれ接地部を設けた構成
のもの等が挙げられる。
【０００７】
【作用】本発明においては、例えば図３の装置におい
て、反応ガス導入部より真空容器に反応ガスを導入し、
真空ポンプにより連続排気し、高周波電源より例えば図
１のような電極に電力を供給することにより、基板の表
面において均一な放電及び被処理物を形成することが可
能とする。
て、反応ガス導入部より真空容器に反応ガスを導入し、
真空ポンプにより連続排気し、高周波電源より例えば図
１のような電極に電力を供給することにより、基板の表
面において均一な放電及び被処理物を形成することが可
能とする。
【０００８】
【実施例】以下、この発明の実施例を図面を参照して説
明する。 （実施例１）図１を参照する。図中の符番11ａ，11ｂ
は、２分割された誘動結合型平板電極を示す。これらの
誘動結合型平板電極11ａ，11ｂの一端側には、それぞれ
電力給電部12ａ，12ｂが設置されている。また、電力給
電部12ａ，12ｂと反対側の誘動結合型平板電極11ａ，11
ｂには共通の接地部13が設置されている。
明する。 （実施例１）図１を参照する。図中の符番11ａ，11ｂ
は、２分割された誘動結合型平板電極を示す。これらの
誘動結合型平板電極11ａ，11ｂの一端側には、それぞれ
電力給電部12ａ，12ｂが設置されている。また、電力給
電部12ａ，12ｂと反対側の誘動結合型平板電極11ａ，11
ｂには共通の接地部13が設置されている。
【０００９】図３は、こうした構成の電極14を備えた薄
膜堆積，エッチング，清浄化装置（放電反応装置）を示
す。図中の符番31は、上部にガスを導入する手段として
の反応ガス導入部32を備えた真空容器である。前記電極
14は、真空容器31内の所定の位置に設置される。前記電
極14には高周波電源33が接続されている。また、前記真
空容器31内には、ヒータ34上に配置された基板35が２分
割した前記電極14と対向するように配置されている。前
記真空容器31のガス排出部36には、真空容器内の圧力を
制御する制御手段としての真空ポンプ37が接続されてい
る。
膜堆積，エッチング，清浄化装置（放電反応装置）を示
す。図中の符番31は、上部にガスを導入する手段として
の反応ガス導入部32を備えた真空容器である。前記電極
14は、真空容器31内の所定の位置に設置される。前記電
極14には高周波電源33が接続されている。また、前記真
空容器31内には、ヒータ34上に配置された基板35が２分
割した前記電極14と対向するように配置されている。前
記真空容器31のガス排出部36には、真空容器内の圧力を
制御する制御手段としての真空ポンプ37が接続されてい
る。
【００１０】図３の装置において、反応ガス導入部32よ
り真空容器31内に反応ガス38を導入し、真空ポンプ37に
より連続排気し、高周波電源33より前記電極14に電力を
供給することにより、基板35の表面において均一な放電
及び被処理物を形成することが可能とする。
り真空容器31内に反応ガス38を導入し、真空ポンプ37に
より連続排気し、高周波電源33より前記電極14に電力を
供給することにより、基板35の表面において均一な放電
及び被処理物を形成することが可能とする。
【００１１】このように、実施例１に係る放電反応装置
は、基板35及び電極14を内蔵する真空容器31と、この真
空容器31内に所定のガスを導入する反応ガス導入部32
と、前記真空容器31内の圧力を制御する真空ポンプ37と
を具備し、前記電極14を２つに分割するとともに、分割
した電極11ａ，11ｂにそれぞれ電力給電部12ａ，12ｂを
設け、更に接地部13を分割した各電極11ａ，11ｂ間で共
有するように設け、前記電極14に電力を供給して放電を
発生させることにより真空容器31内に置かれた被処理物
を処理するようになっている。従って、基板35の表面に
おいて均一な放電及び被処理物を形成することができ
る。
は、基板35及び電極14を内蔵する真空容器31と、この真
空容器31内に所定のガスを導入する反応ガス導入部32
と、前記真空容器31内の圧力を制御する真空ポンプ37と
を具備し、前記電極14を２つに分割するとともに、分割
した電極11ａ，11ｂにそれぞれ電力給電部12ａ，12ｂを
設け、更に接地部13を分割した各電極11ａ，11ｂ間で共
有するように設け、前記電極14に電力を供給して放電を
発生させることにより真空容器31内に置かれた被処理物
を処理するようになっている。従って、基板35の表面に
おいて均一な放電及び被処理物を形成することができ
る。
【００１２】（実施例２）図２を参照する。図中の符番
21ａ，21ｂ，21ｃ，21ｄは、４分割された誘動結合型平
板電極を示す。これらの誘動結合型平板電極の21ａ，21
ｂ，21ｃ，21ｄの一端側には、それぞれ電力給電部22
ａ，22ｂ，22ｃ，22ｄが設置されている。また、誘動結
合型平板電極21ａ，21ｂ，21ｃ，21ｄには、電力給電部
22ａ，22ｂ，22ｃ，22ｄの反対側にそれぞれ接地部23
ａ，23ｂ，23ｃ，23ｄが設置されている。
21ａ，21ｂ，21ｃ，21ｄは、４分割された誘動結合型平
板電極を示す。これらの誘動結合型平板電極の21ａ，21
ｂ，21ｃ，21ｄの一端側には、それぞれ電力給電部22
ａ，22ｂ，22ｃ，22ｄが設置されている。また、誘動結
合型平板電極21ａ，21ｂ，21ｃ，21ｄには、電力給電部
22ａ，22ｂ，22ｃ，22ｄの反対側にそれぞれ接地部23
ａ，23ｂ，23ｃ，23ｄが設置されている。
【００１３】図２の構成の電極も、上記実施例１と同様
に図３のような放電反応装置に適用することにより、基
板35の表面において均一な放電及び被処理物を形成する
ことができる。
に図３のような放電反応装置に適用することにより、基
板35の表面において均一な放電及び被処理物を形成する
ことができる。
【００１４】このように、本発明においては、前記実施
例に示すように基板その他の条件により電極を様々に分
割しかつ電力給電部を各電極に１箇所又は多数箇所，も
しくは各電極間で共有してよく、様々な構成が考えられ
る。
例に示すように基板その他の条件により電極を様々に分
割しかつ電力給電部を各電極に１箇所又は多数箇所，も
しくは各電極間で共有してよく、様々な構成が考えられ
る。
【００１５】
【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、均
一放電を可能にし、均一な被処理物をえ、電極及び電極
供給線にかかる負荷を押えられる信頼性の高い放電反応
装置を提供できる。
一放電を可能にし、均一な被処理物をえ、電極及び電極
供給線にかかる負荷を押えられる信頼性の高い放電反応
装置を提供できる。
【図１】本発明の実施例１に係る放電用分割型電極の説
明図。
明図。
【図２】本発明の実施例２に係る放電用分割型電極の説
明図。
明図。
【図３】図１の放電用分割型電極を備えた薄膜堆積，エ
ッチング，清浄化装置の説明図。
ッチング，清浄化装置の説明図。
【図４】従来の放電により気体プラズマを発生させる電
極の説明図。
極の説明図。
【図５】従来の放電により気体プラズマを発生させる他
の電極の説明図。
の電極の説明図。
11ａ，11ｂ，21ａ，21ｂ，21ｃ，21ｄ…誘動結合型平板
電極、12ａ，12ｂ，22ａ，22ｂ，22ｃ，22ｄ…電力給電
部、13，23ａ，23ｂ，23ｃ，23ｄ…接地部、
14…電極、31…真空容器、 32…反応ガス導入
部、 33…高周波電源、34…ヒータ、 35
…高周波電源、 36…ガス排出部、37…真空
ポンプ、 38…反応ガス。
電極、12ａ，12ｂ，22ａ，22ｂ，22ｃ，22ｄ…電力給電
部、13，23ａ，23ｂ，23ｃ，23ｄ…接地部、
14…電極、31…真空容器、 32…反応ガス導入
部、 33…高周波電源、34…ヒータ、 35
…高周波電源、 36…ガス排出部、37…真空
ポンプ、 38…反応ガス。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｈ０１Ｌ 21/3065 Ｈ０１Ｌ 21/302 Ｃ (72)発明者 浜本 員年 長崎県長崎市飽の浦町１番１号 三菱重工 業株式会社長崎造船所内
Claims (1)
- 【請求項１】 被処理物及び電極を内蔵する真空容器
と、この真空容器内に所定のガスを導入する導入手段
と、前記真空容器内の圧力を制御する制御手段とを具備
し、前記電極に電力を供給して放電を発生させることに
より真空容器内に置かれた被処理物を処理する放電反応
装置において、 前記電極を複数に分割するとともに、分割した電極にそ
れぞれ電力給電部を設け、更に接地部を分割した各電極
に１箇所又は複数箇所もしくは各電極間で共有するよう
に設けることを特徴とする放電反応装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7111751A JPH08299785A (ja) | 1995-05-10 | 1995-05-10 | 放電反応装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7111751A JPH08299785A (ja) | 1995-05-10 | 1995-05-10 | 放電反応装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08299785A true JPH08299785A (ja) | 1996-11-19 |
Family
ID=14569272
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7111751A Withdrawn JPH08299785A (ja) | 1995-05-10 | 1995-05-10 | 放電反応装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08299785A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001019144A1 (fr) * | 1999-09-09 | 2001-03-15 | Anelva Corporation | Dispositif de traitement au plasma a electrode interieure et procede associe |
| JP2002069653A (ja) * | 2000-09-04 | 2002-03-08 | Anelva Corp | 薄膜形成方法、薄膜形成装置及び太陽電池 |
-
1995
- 1995-05-10 JP JP7111751A patent/JPH08299785A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001019144A1 (fr) * | 1999-09-09 | 2001-03-15 | Anelva Corporation | Dispositif de traitement au plasma a electrode interieure et procede associe |
| US6719876B1 (en) | 1999-09-09 | 2004-04-13 | Ishikawajima-Harima Heavy Industries Co., Ltd. | Internal electrode type plasma processing apparatus and plasma processing method |
| JP4029615B2 (ja) * | 1999-09-09 | 2008-01-09 | 株式会社Ｉｈｉ | 内部電極方式のプラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 |
| JP2002069653A (ja) * | 2000-09-04 | 2002-03-08 | Anelva Corp | 薄膜形成方法、薄膜形成装置及び太陽電池 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20020806 |