JPH08288319A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents

半導体装置の製造方法

Info

Publication number
JPH08288319A
JPH08288319A JP11356295A JP11356295A JPH08288319A JP H08288319 A JPH08288319 A JP H08288319A JP 11356295 A JP11356295 A JP 11356295A JP 11356295 A JP11356295 A JP 11356295A JP H08288319 A JPH08288319 A JP H08288319A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pellet
solder
collet
gap
molten solder
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11356295A
Other languages
English (en)
Inventor
Hirotake Oka
浩偉 岡
Hidemasa Kagii
秀政 鍵井
Akio Mikami
昭夫 三上
Mitsuo Togawa
光生 戸川
Toru Nagamine
徹 長峰
Hitohisa Sato
仁久 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Renesas Eastern Japan Semiconductor Inc
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Tohbu Semiconductor Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd, Hitachi Tohbu Semiconductor Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP11356295A priority Critical patent/JPH08288319A/ja
Publication of JPH08288319A publication Critical patent/JPH08288319A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies
    • H01L24/741Apparatus for manufacturing means for bonding, e.g. connectors
    • H01L24/743Apparatus for manufacturing layer connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
    • H01L2224/741Apparatus for manufacturing means for bonding, e.g. connectors
    • H01L2224/743Apparatus for manufacturing layer connectors

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Die Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ペレットを接合する半田層を均一な厚さに形
成し、かつ、半田層にボイドが含有されるのを防止す
る。 【構成】 ペレット12を内部に真空吸着したコレット
14をリードフレーム1におけるヘッダ10上に載置す
る。この際、ペレット12とヘッダ10との間に隙間1
8が形成される。隙間18内にコレット14の側壁に形
成されている開口に接続した注入管19から溶融半田1
7を流し込む。隙間18内のエアーはコレット14の側
壁に開口したエアーベント20から溶融半田17によっ
て押し出される。 【効果】 溶融半田が流し込まれる際、隙間はコレット
によって一定に維持されるため、半田層の厚さは均一か
つ一定になる。隙間内のエアーは溶融半田によって押し
出されるため、半田層にボイドは生じない。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置の製造技
術、特に、半導体ペレット(以下、ペレットという。)
の基板への半田接合技術に関し、例えば、半導体ペレッ
トが基板としてのヘッダに半田接合されているパワート
ランジスタやパワーICの製造に利用して有効な技術に
関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、消費電力が大きいパワートラン
ジスタやパワーICにおいては、放熱性に優れたヘッダ
にペレットを低熱抵抗でボンディングするために半田接
合方法が採用されることが多い。この場合、ペレットの
裏面はTi−Ni−Ag(またはAu)やCr−Ni−
Ag(またはAu)等のメタライズが施され、半田材料
としてはPb−Sn系半田が主として用いられる。
【0003】従来、上記ペレットの半田接合は、N2
ス等の不活性ガス雰囲気中や、N2ガスとH2 ガスとの
混合ガス等の還元ガス雰囲気中で、ヘッダにおけるペレ
ットがボンディングされる領域に半田箔を貼り付けた後
に、その溶融半田上にペレットを載せ、ペレットを上下
左右に動かすことによって行っていた。
【0004】また、半田箔を使用せずに、ヘッダにおけ
るペレットがボンディングされる領域に適量の溶融半田
を滴下し、この溶融半田上にペレットを載置してヘッダ
に接合する方法も知られている(例えば、特公昭62−
26176号公報や特開昭53−95576号公報参
照)。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】消費電力の大きい半導
体装置においては、その熱放散はペレット裏面からヘッ
ダへ抜ける経路がほとんどであるため、ペレットを接合
している半田層の品質、信頼性は重要なものとなる。
【0006】しかしながら、上記半田箔を使用した従来
の半田接合法は、半田箔が溶融されて生じる溶融半田が
一様な表面を有している均一厚さに形成されるのが難し
いため、その溶融半田上に載置されるペレットが傾いて
接合されたり、半田層中にボイドが含まれやすい問題が
あった。また、上記従来公報に記載されている半田接合
法は、半田層を均一な厚さにすることを一つの目的とし
ているが、溶融半田上にペレットを上から載せる方法の
ために、溶融半田中にボイドが溜まりやすく、ボイドが
含有されている半田層になりやすい問題を有している。
【0007】本発明の目的は、ペレットを接合する半田
層を均一な厚さに形成することができ、かつ、半田層に
ボイドが含有されるのを防止することができる半導体装
置の製造技術を提供することにある。
【0008】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
【0009】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を説明すれば、次の通り
である。
【0010】すなわち、基板に半導体ペレットを隙間を
とって配置するとともに、半導体ペレットと基板との間
に形成した隙間に側方から溶融半田を流し込んで半田層
を形成することを特徴とする。
【0011】
【作用】前記した手段によれば、ペレットと基板との間
に予め形成された隙間に溶融半田が流し込まれて半田層
が形成されるため、半田層は均一な厚さに形成される。
また、隙間内に溶融半田を側方から流し込むことによ
り、隙間内の空気が溶融半田によって追い出されるた
め、半田層にボイドが含まれるのを防止することができ
る。
【0012】
【実施例】図1は本発明の一実施例であるパワートラン
ジスタの製造方法におけるペレットのボンディング工程
を示しており、(a)は平面図、(b)はその一部分の
断面図である。図2は製造されたパワートランジスタを
示しており、(a)は平面断面図、(b)は正面断面図
である。図3はその製造方法に使用されるリードフレー
ム、ペレットおよびワイヤの組立体を示しており、
(a)は平面図、(b)は側面図である。
【0013】本実施例において、本発明に係る半導体装
置の製造方法は、ヘッダ付き樹脂封止パッケージを備え
ているパワートランジスタ(以下、パワートランジスタ
という。)を製造するのに使用されており、パワートラ
ンジスタは図2に示されているように構成されている。
そして、本発明に係る半導体装置の製造方法の一実施例
であるパワートランジスタの製造方法には、ペレットが
半田接合される基板としてのヘッダを形成するのにリー
ドフレームが使用されている。まず、パワートランジス
タの製造方法の一工程であるリードフレームの準備工程
を、図3について説明する。
【0014】リードフレーム1は42アロイ等の鉄系材
料や、無酸素銅等の銅系材料(銅または銅合金)のよう
な導電性の良好な材料が使用されてプレス加工によって
一体成形されている。実際にはリードフレーム1は単位
リードフレームが一列に連結された多連リードフレーム
構造に形成される。但し、以下の説明および図示におい
ては、一単位のみが示されている。リードフレーム1は
矩形の板形状に形成された外枠2を備えており、外枠2
には位置決め孔2aが開設されている。外枠2の片脇に
はダム部材3が平行に配されており、外枠2とダム部材
3との間には第1アウタリード4、第2アウタリード5
および第3アウタリード6が長手方向に等間隔に配され
て、直角方向にそれぞれ架設されている。
【0015】ダム部材3には第1インナリード7および
第2インナリード8が、左右の両端に位置する第1アウ
タリード4および第2アウタリード5と反対側位置で一
体的に連続するように形成されており、両インナリード
7、8はその一部がダム部材3と平行に延設されてい
る。また、ダム部材3にはヘッダ吊りリード9が、中央
に位置する第3アウタリード6と反対側の位置で一体的
に連続するように形成されており、このヘッダ吊りリー
ド9にはペレットが半田接合される基板としてのヘッダ
10が一体的に形成されている。ちなみに、ダム部材3
の各アウタリード4、5、6の間の部分は樹脂封止体の
成形に際して樹脂のキャビティー外部への流出を堰止め
るダム3aを構成している。
【0016】リードフレーム1はヘッダ10の厚さがそ
の他の部分に対して厚く(例えば、2倍以上)なるよう
に、異なる厚さの板材(所謂異形材)が使用されプレス
加工によって一体的に成形されている。すなわち、ヘッ
ダ10はリードフレーム1の他の部分よりも厚い大略正
方形の板形状に一体成形されている。また、ヘッダ吊り
リード9にはクランク形状の屈曲部11が形成されてお
り、この屈曲部11によって、ヘッダ10の高さは後記
するペレットの略厚さ分だけインナリード7、8の高さ
よりも低く下げられている。
【0017】以上のように構成されて準備されたリード
フレーム1には、ペレットボンディング工程において図
3に示されているようにヘッダ10にペレット12が半
田層13を介してボンディングされる。
【0018】ペレットボンディング工程へ供給されるペ
レット12は、ピックアップ工程でピックアップされた
ペレットが供給される。すなわち、半導体装置の製造工
程における所謂前工程においてパワートランジスタ素子
を作り込まれたウエハは、ダイシング工程で個々のペレ
ットに分断される。分断されたペレットはピックアップ
工程においてコレットに真空吸着されてピックアップさ
れる。ピックアップされたペレットはコレットが適当な
移動装置によって移動されることにより、ペレットボン
ディング工程へ供給される。
【0019】本実施例において、ペレットを真空吸着し
てペレットボンディング工程へ移送する上記コレット
は、次のように構成されている。すなわち、図1に示さ
れているように、コレット14は下面が開放され上面が
閉塞された箱体であるペレット保持体15の上面に通気
管16が連通接続されており、通気管16は図示外の真
空源に接続されている。ペレット保持体15は平面から
見てペレット12と大きめに相似する略正方形の箱形状
に形成されており、ペレット保持体15の容積はペレッ
ト12よりも若干大きい大きさを備えている。そして、
ペレット保持体15の高さはペレット12の厚さよりも
大きい寸法を備えており、ペレット保持体15内の上部
にペレット12が真空吸着保持された状態で、ペレット
保持体15内におけるペレット12の下方には溶融半田
17が注入される隙間18が形成されるように構成され
ている。
【0020】また、コレット14におけるペレット保持
体15の一側壁に開設されている開口には溶融半田17
の注入管19が接続されており、注入管19と対向する
ペレット保持体15の側壁における下端部には溶融半田
17の注入時にペレット保持体15内のエアーが排出さ
れるようにエアーベント20が開設されている。
【0021】次に、前記構成に係るコレット14が使用
されるペレットボンディング方法を説明する。このペレ
ットボンディング工程において、リードフレーム1は還
元ガス(H2ガスとN2 ガスとの混合ガス)の雰囲気中
にセットされており、さらに、半田溶融温度よりも約5
0〜60℃高い温度で加熱される。
【0022】一方、ピックアップ工程においてペレット
12を真空吸着したコレット14は、還元ガス雰囲気中
で加熱されているリードフレーム1へ移動装置によって
移送され、ヘッダ10の上面の所定位置に下端面が密着
した状態で当接される。この状態で、コレット14内の
上部にはペレット12が真空吸着されて固定されてお
り、ペレット12の下方には溶融半田17が充填される
隙間18がペレット保持体15の下部で囲まれて形成さ
れている。このとき、隙間18の寸法はコレット14の
下端面がヘッダ10の上面に密着されるため、予め設定
された値に維持されており、しかも、全体にわたって均
一に(水平に)維持されている。
【0023】この状態で、溶融半田17がコレット14
内のペレット12下方に形成された隙間18内に注入管
19から注入され、ペレット12の下面、ヘッダ10の
上面およびペレット保持体15下部の内周面で囲まれた
隙間18の内部に充填される。このとき、隙間18内の
エアーは溶融半田17によってエアーベント20から強
制的に排出されるため、溶融半田17中にボイドが含有
されるのが防止される。また、溶融半田17は水平に維
持されたペレット12の下面、ヘッダ10の上面および
ペレット保持体15の下部内周面で囲まれた隙間18内
に充填されるため、外形が規定された形状で均一厚さの
半田層13を形成することになる。
【0024】溶融半田17がコレット14におけるペレ
ット保持体15内の隙間18内に充填されたら、コレッ
ト14におけるペレット保持体15内のペレット12の
上側空間に通気管16からエアーが吹き出され、ペレッ
ト12が溶融半田17に密着される。
【0025】次いで、リードフレーム1からコレット1
4が上昇された後にピックアップ位置へ移動される。こ
のとき、コレット14にペレット保持体15内の溶融半
田17が付着しないようにするために、コレット14は
加熱手段(図示せず)によって約340℃に加熱されて
いる。
【0026】そして、溶融半田17が固化すると、ペレ
ット12はリードフレーム1におけるヘッダ10の所定
位置に、溶融半田17が固化して形成された半田層13
によって半田接合される。この半田層13は前述した通
りコレット14に保持された状態で溶融半田17を隙間
18内に横から流し込まれて形成されるため、所定の均
一厚さでボイドのない半田層を呈することになる。
【0027】以上のようにしてヘッダ10にペレット1
2がボンディングされたリードフレーム1には、ワイヤ
ボンディング工程において、ペレット12と両側のイン
ナリード7、8との間にワイヤ21がそれぞれボンディ
ングされる。
【0028】その後、樹脂封止体成形工程において、リ
ードフレーム1には図2に示されている樹脂封止体22
が樹脂成形され、ヘッダ10の下面が露出された状態
で、ペレット12等が樹脂封止される。
【0029】樹脂封止体22が成形された後、リード切
断成形工程において、リードフレーム1は外枠2および
ダム3aを切り落とされ、各アウタリード4、5、6を
図2に示されているようにガル・ウイング形状に屈曲成
形される。
【0030】以上のようにして、図2に示されているヘ
ッダ付き樹脂封止パッケージを備えているパワートラン
ジスタ23が製造されたことになる。
【0031】前記実施例によれば次の効果が得られる。 コレット14はペレット保持体15内の上部にペレ
ット12を真空吸着保持した状態で、ペレット保持体1
5内におけるペレット12の下方に溶融半田17が注入
される隙間18が形成されるように構成され、かつ、ペ
レット保持体15の一側部に開設されている開口には溶
融半田17の注入管19を接続されているため、ペレッ
ト12を真空吸着したコレット14がヘッダ10の上面
の所定位置に密着した状態で載置されると、ペレット1
2とヘッダ10との間に所定の隙間18を自動的に形成
させることができ、この状態で、溶融半田17をコレッ
ト14内のペレット12下方の隙間18に注入管19か
ら注入することにより、溶融半田17はコレット14の
ペレット保持体15下部で囲まれたペレット12とヘッ
ダ10との間の隙間18に充填されるため、外形が規定
された形状で均一厚さの半田層13を自動的に形成する
ことができる。
【0032】 上記において、隙間18の高さはコ
レット14のペレット保持体15の大きさを選定するこ
とによって自由に設定することができるため、所望の厚
さの半田層13を得ることができる。
【0033】 上記において、注入管19と対向す
るペレット保持体15の側部にはエアーベント20が開
設されていることにより、溶融半田17の充填時に隙間
18内のエアーは溶融半田17によってエアーベント2
0から自動的に排出されるため、ボイドのない半田層1
3を形成することができる。
【0034】 ペレット12のヘッダ10への半田接
合後、リードフレーム1からコレット14が移動される
に際して、コレット14は加熱手段によって約340℃
に加熱されていることにより、コレット14に半田が付
着するのを防止することができる。
【0035】図4は本発明の実施例2であるパワートラ
ンジスタの製造方法におけるペレットの半田接合工程を
示しており、(a)は平面図、(b)はその一部分の断
面図である。図5はパワートランジスタの製造方法に使
用されるリードフレーム、ペレットおよびワイヤの組立
体を示しており、(a)は平面図、(b)は側面図であ
る。
【0036】本実施例2が上記実施例1と異なる点はコ
レットの構造と、リードフレームにおけるヘッダの構造
である。
【0037】本実施例2においては、リードフレーム1
におけるヘッダ10の上面に、ペレット12が半田接合
される領域の周囲を囲むようにダム30が上方に突出す
るようにして形成されており、他の構成は上記実施例1
におけるリードフレームと同じである。ダム30は平面
から見て略正方形の枠形状に形成され、その一部には開
口部31が開設されており、溶融半田の注入時に溶融半
田を注入するための溶融半田注入ノズル32が開口部3
1に配置されるようになっている。
【0038】コレット14は上記実施例1で用いられた
コレットとは異なり、一般的に使用されているコレット
が用いられる。すなわち、コレット14は下面が開放さ
れ上面が閉塞されたペレット保持体15の上面に通気管
16が連通接続されており、通気管16は図示外の真空
源に接続されている。そして、ペレット12はペレット
保持体15の下面に吸着保持される。コレット14によ
るペレット12の吸着時にペレット12はコレット14
の下面の下方に若干突出した状態になる。
【0039】次に、前記構成に係るコレット14および
リードフレーム1が使用される本実施例2に係るペレッ
トボンディング方法を説明する。ペレットボンディング
工程において、上記実施例1と同様に、リードフレーム
1は還元ガス(H2 ガスとN2 ガスとの混合ガス)の雰
囲気中にセットされており、さらに、半田溶融温度より
も約50〜60℃高い温度で加熱される。
【0040】ピックアップ工程においてペレット12を
下面に真空吸着したコレット14は、移動装置によって
リードフレーム1へ移送され、ヘッダ10の上面の所定
位置においてヘッダ10の上面から所定高さだけ離れた
位置に配置される。
【0041】この状態で、溶融半田17がヘッダ10の
上面に形成されているダム30の開口部31に配されて
いる溶融半田注入ノズル32からペレット12とヘッダ
10との間に形成された隙間18内に注入される。この
とき、隙間18内のエアーは溶融半田17によって四方
に逃げるため、溶融半田17中にボイドが含有されるの
が防止される。また、溶融半田17はダム30で囲まれ
たペレット12とヘッダ10との間の隙間18内に充填
されるため、外形が規定された形状で均一厚さの半田層
を形成することになる。
【0042】溶融半田17がダム30内のペレット12
とヘッダ10との間に形成された隙間18に充填された
ら、コレット14内に通気管16からエアーが吹き出さ
れることにより、ペレット12が溶融半田17に密着さ
れる。
【0043】その後、リードフレーム1からコレット1
4が移動される。そして、溶融半田17が固化すると、
ペレット12はリードフレーム1におけるヘッダ10の
所定位置に、溶融半田17が固化して形成された半田層
13によって半田接合される。この半田層13は前述し
た通り、コレット14に保持された状態で、溶融半田1
7を隙間18内に横から流し込まれて形成されるため、
所定の均一厚さでボイドのない半田層を呈することにな
る。
【0044】以上のようにしてヘッダ10にペレット1
2がボンディングされたリードフレーム1には、上記実
施例1と同様に、ワイヤボンディング、樹脂封止体成
形、リード切断成形が施され、ヘッダ付き樹脂封止パッ
ケージを備えているパワートランジスタが製造される。
【0045】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変更可能であることはいうまでもない。
【0046】例えば、ペレットが半田接合される基板
は、ヘッダに限らず、一般的なリードフレームにおける
タブであってもよいし、気密封止パッケージにおけるベ
ース、さらには、ハイブリッドIC等におけるモジュー
ル基板やプリント配線基板等の実装基板であってもよ
い。
【0047】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野であるパワー
トランジスタに適用した場合について説明したが、それ
に限定されるものではなく、パワーICや一般的なI
C、ハイブリッドIC等の半導体装置全般に適用するこ
とができる。
【0048】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、次
の通りである。
【0049】基板上に半導体ペレットを隙間をとって配
置するとともに、半導体ペレットと基板との間に形成し
た隙間に側方から溶融半田を流し込んで半田層を形成す
ることにより、ペレットを基板に接合する半田層を均一
な厚さに形成することができるとともに、半田層にボイ
ドが含まれるのを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例であるパワートランジスタの
製造方法におけるペレットのボンディング工程を示して
おり、(a)は平面図、(b)はその一部分の断面図で
ある。
【図2】パワートランジスタを示しており、(a)は平
面断面図、(b)は正面断面図である。
【図3】その製造方法に使用されるリードフレーム、ペ
レットおよびワイヤの組立体を示しており、(a)は平
面図、(b)は側面図である。
【図4】本発明の実施例2であるパワートランジスタの
製造方法におけるペレットのボンディング工程を示して
おり、(a)は平面図、(b)はその一部分の断面図で
ある。
【図5】その製造方法に使用されるリードフレーム、ペ
レットおよびワイヤの組立体を示しており、(a)は平
面図、(b)は側面図である。
【符号の説明】
1…リードフレーム、2…外枠、2a…位置決め孔、3
…ダム部材、3a…ダム、4、5、6…アウタリード、
7、8…インナリード、9…ヘッダ吊りリード、10…
ヘッダ(基板)、11…屈曲部、12…ペレット、13
…半田層、14…コレット、15…ペレット保持体、1
6…通気管、17…溶融半田、18…隙間、19…注入
管、20…エアーベント、21…ワイヤ、22…樹脂封
止体、23…パワートランジスタ(半導体装置)、30
…ダム、31…開口部、32…溶融半田注入ノズル。
フロントページの続き (72)発明者 三上 昭夫 埼玉県入間郡毛呂山町大字旭台15番地 日 立東部セミコンダクタ株式会社内 (72)発明者 戸川 光生 東京都小平市上水本町5丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体事業部内 (72)発明者 長峰 徹 埼玉県入間郡毛呂山町大字旭台15番地 日 立東部セミコンダクタ株式会社内 (72)発明者 佐藤 仁久 埼玉県入間郡毛呂山町大字旭台15番地 日 立東部セミコンダクタ株式会社内

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板に半導体ペレットを半田層を介して
    ボンディングする工程を備えている半導体装置の製造方
    法において、 前記基板上に前記半導体ペレットを隙間をとって配置す
    るとともに、この半導体ペレットと基板との間に形成し
    た隙間に側方から溶融半田を流し込んで前記半田層が形
    成されることを特徴とする半導体装置の製造方法。
  2. 【請求項2】 前記半導体ペレットを内部で保持するペ
    レット保持体と、このペレット保持体にそれぞれ開設さ
    れた溶融半田注入口およびエアーベントとを備えている
    コレットが用意され、前記ペレット保持体内における上
    部にペレットが吸着保持された状態で、前記コレットが
    前記基板上に載置され、前記溶融半田注入口を通じて溶
    融半田を前記エアーベントからエアーを排出させながら
    隙間内に流し込んで前記半田層を形成することを特徴と
    する請求項1記載の半導体装置の製造方法。
  3. 【請求項3】 前記基板上における前記半導体ペレット
    が半田接合される領域の周囲に、溶融半田の流出を堰止
    めるダムが突出して形成され、このダム内に半導体ペレ
    ットを隙間をとって配置し、この隙間内に溶融半田を流
    し込むことを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製
    造方法。
JP11356295A 1995-04-14 1995-04-14 半導体装置の製造方法 Pending JPH08288319A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11356295A JPH08288319A (ja) 1995-04-14 1995-04-14 半導体装置の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11356295A JPH08288319A (ja) 1995-04-14 1995-04-14 半導体装置の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH08288319A true JPH08288319A (ja) 1996-11-01

Family

ID=14615423

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11356295A Pending JPH08288319A (ja) 1995-04-14 1995-04-14 半導体装置の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH08288319A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10259835A1 (de) * 2002-12-19 2004-07-15 Siemens Ag Vorrichtung und Verfahren zum Transport einer Komponente
JP2012099559A (ja) * 2010-10-29 2012-05-24 Shindengen Electric Mfg Co Ltd 電子部品の実装方法、および電子部品の実装構造

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10259835A1 (de) * 2002-12-19 2004-07-15 Siemens Ag Vorrichtung und Verfahren zum Transport einer Komponente
DE10259835B4 (de) * 2002-12-19 2005-02-03 Siemens Ag Vorrichtung und Verfahren zum Transport einer Komponente
JP2012099559A (ja) * 2010-10-29 2012-05-24 Shindengen Electric Mfg Co Ltd 電子部品の実装方法、および電子部品の実装構造

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6410363B1 (en) Semiconductor device and method of manufacturing same
US5147821A (en) Method for making a thermally enhanced semiconductor device by holding a leadframe against a heatsink through vacuum suction in a molding operation
US6291274B1 (en) Resin molded semiconductor device and method for manufacturing the same
TWI419243B (zh) 一種積體電路封裝體及其製造方法
US5105259A (en) Thermally enhanced semiconductor device utilizing a vacuum to ultimately enhance thermal dissipation
US6574107B2 (en) Stacked intelligent power module package
US5958100A (en) Process of making a glass semiconductor package
US7410834B2 (en) Method of manufacturing a semiconductor device
US6492739B2 (en) Semiconductor device having bumper portions integral with a heat sink
US6028356A (en) Plastic-packaged semiconductor integrated circuit
KR100867575B1 (ko) 열방출 능력이 개선된 전력용 모듈 패키지 및 그 제조 방법
US20030011054A1 (en) Power module package having improved heat dissipating capability
JPH07321139A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JPH0350758A (ja) 樹脂封止型半導体装置
JP3482888B2 (ja) 樹脂封止型半導体装置およびその製造方法
JP2003170465A (ja) 半導体パッケージの製造方法およびそのための封止金型
JPH08288319A (ja) 半導体装置の製造方法
JPH0473297B2 (ja)
JP2000082721A (ja) 半導体装置の製造方法
KR20000033885A (ko) 금속 터미널을 구비하는 전력 반도체 모쥴, 전력 반도체 모쥴의금속 터미널 제조방법 및 전력 반도체 모쥴의 제조방법
KR100237912B1 (ko) 패키지 반도체, 그것을 이용한 반도체 장치 및 그 제조방법
JP3023303B2 (ja) 半導体装置の成形方法
JPH03266456A (ja) 半導体チップ用放熱部材及び半導体パッケージ
JPH07307350A (ja) 半導体リードフレ−ムおよびパッケージ
JPH09298262A (ja) 半導体装置およびその製造方法