JPH08281295A - フォトレジスト含有廃液の処理方法 - Google Patents
フォトレジスト含有廃液の処理方法Info
- Publication number
- JPH08281295A JPH08281295A JP7088929A JP8892995A JPH08281295A JP H08281295 A JPH08281295 A JP H08281295A JP 7088929 A JP7088929 A JP 7088929A JP 8892995 A JP8892995 A JP 8892995A JP H08281295 A JPH08281295 A JP H08281295A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photoresist
- waste liquid
- containing waste
- component
- polymerize
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- Pending
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】半導体素子製造で排出される現像廃液は、フォ
トレジストと有機アルカリ現像液を含んだアリカル性廃
液である。この廃液は、ＣＯＤ．ＢＯＤが高く従来の廃
液処理法では高コストであった。本発明は前記廃液処理
コストを低減することを目的とする。 【構成】フォトレジスト含有廃液を限外濾過膜で濾過し
てフォトレジスト成分のみ通過させず、フォトレジスト
主成分の濃縮液として残す。前記フォトレジストを主成
分とする濃縮液は原廃液量の約１／１０程度まで濃縮が
可能である。次に、前記フォトレジスト成分を含有する
濃縮液、すなわち廃液に熱エネルギーを加え、フォトレ
ジスト主成分を重合させて固形物にする。この固形化し
たフォトレジスト主成分は燃焼させる。また、この燃焼
熱を利用し上記フォトレジスト成分を含有する廃液を重
合させるのに使用する。
トレジストと有機アルカリ現像液を含んだアリカル性廃
液である。この廃液は、ＣＯＤ．ＢＯＤが高く従来の廃
液処理法では高コストであった。本発明は前記廃液処理
コストを低減することを目的とする。 【構成】フォトレジスト含有廃液を限外濾過膜で濾過し
てフォトレジスト成分のみ通過させず、フォトレジスト
主成分の濃縮液として残す。前記フォトレジストを主成
分とする濃縮液は原廃液量の約１／１０程度まで濃縮が
可能である。次に、前記フォトレジスト成分を含有する
濃縮液、すなわち廃液に熱エネルギーを加え、フォトレ
ジスト主成分を重合させて固形物にする。この固形化し
たフォトレジスト主成分は燃焼させる。また、この燃焼
熱を利用し上記フォトレジスト成分を含有する廃液を重
合させるのに使用する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体素子製造等によ
り排出されるフォトレジスト含有廃液の処理方法に関す
る。
り排出されるフォトレジスト含有廃液の処理方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】一般に半導体素子製造においては、フォ
トレジスト有機アルカリ現像液を含んだ現像廃液、すな
わちフォトレジスト含有廃液を排出する。従来のフォト
レジスト含有廃液処理方法は、図２に示すように酸溶剤
を添加してＰＨを中和し希釈水により有機物の負荷を低
減させた後、生物処理／濾過／活性炭吸着を行うもので
あった。
トレジスト有機アルカリ現像液を含んだ現像廃液、すな
わちフォトレジスト含有廃液を排出する。従来のフォト
レジスト含有廃液処理方法は、図２に示すように酸溶剤
を添加してＰＨを中和し希釈水により有機物の負荷を低
減させた後、生物処理／濾過／活性炭吸着を行うもので
あった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】このような処理方法で
は、多量の酸溶剤を消費するとともに、多量の希釈水と
大型の処理装置が必要となり廃液の処理コストが極めて
高いものであった。そしてフォトレジスト含有廃液の全
量を処理しなければならない。
は、多量の酸溶剤を消費するとともに、多量の希釈水と
大型の処理装置が必要となり廃液の処理コストが極めて
高いものであった。そしてフォトレジスト含有廃液の全
量を処理しなければならない。
【０００４】また、フォトレジストと有機アルカリ現像
液を含んだ現像廃液はアルカリ性廃液である。したがっ
て化学的酸素要求量ＣＯＤ、生物化学的酸素要求量ＢＯ
Ｄが高く、廃液処理コストが高いものであった。
液を含んだ現像廃液はアルカリ性廃液である。したがっ
て化学的酸素要求量ＣＯＤ、生物化学的酸素要求量ＢＯ
Ｄが高く、廃液処理コストが高いものであった。
【０００５】本発明は前記従来の問題に留意し、廃液処
理コストの低減されたフォトレジスト含有廃液処理方法
を提供することを目的とする。
理コストの低減されたフォトレジスト含有廃液処理方法
を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は前記目的を達成
するため、フォトレジスト成分を含有する廃液のフォト
レジスト成分のみを限外濾過膜によりとり出し、このフ
ォトレジスト成分を濃縮し得られた濃縮廃液に熱エネル
ギーを加え、フォトレジスト成分を重合させて固形物に
して処理するフォトレジスト含有廃液の処理方法とす
る。また得られたフォトレジスト固形物を燃焼させて、
その燃焼熱により上記フォトレジスト濃縮廃液をさらに
蒸発させ、そして重合させる方法とする。
するため、フォトレジスト成分を含有する廃液のフォト
レジスト成分のみを限外濾過膜によりとり出し、このフ
ォトレジスト成分を濃縮し得られた濃縮廃液に熱エネル
ギーを加え、フォトレジスト成分を重合させて固形物に
して処理するフォトレジスト含有廃液の処理方法とす
る。また得られたフォトレジスト固形物を燃焼させて、
その燃焼熱により上記フォトレジスト濃縮廃液をさらに
蒸発させ、そして重合させる方法とする。
【０００７】
【作用】本発明によるフォトレジスト含有廃液処理方法
では、フォトレジスト含有廃液自体を限外濾過膜により
約１／１０程度に濃縮できる。そのフォトレジスト成分
濃縮液に熱エネルギーを加え含有フォトレジスト成分な
どの有機物を重合させて固形物にし、固形物は燃焼させ
ることで容易に処分できる。
では、フォトレジスト含有廃液自体を限外濾過膜により
約１／１０程度に濃縮できる。そのフォトレジスト成分
濃縮液に熱エネルギーを加え含有フォトレジスト成分な
どの有機物を重合させて固形物にし、固形物は燃焼させ
ることで容易に処分できる。
【０００８】
【実施例】以下に本発明のフォトレジスト含有廃液の処
理方法の一実施例を説明する。図１はフォトレジスト含
有廃液の処理フローを示す。図示のようにフォトレジス
ト含有廃液は、限外濾過膜を通じて濾過を行い、フォト
レジスト成分のみ通過させずに濃縮液として残す。現像
液の主成分であるアルカリ水溶液は限外濾過膜を自由に
透過する。透過したアルカリ水溶液は酸の添加により中
和させることで処理できる。
理方法の一実施例を説明する。図１はフォトレジスト含
有廃液の処理フローを示す。図示のようにフォトレジス
ト含有廃液は、限外濾過膜を通じて濾過を行い、フォト
レジスト成分のみ通過させずに濃縮液として残す。現像
液の主成分であるアルカリ水溶液は限外濾過膜を自由に
透過する。透過したアルカリ水溶液は酸の添加により中
和させることで処理できる。
【０００９】ここで、限外濾過膜を用いることで濃縮で
きた廃液は、フォトレジストを主成分に含有しており、
原廃液量の約１／１０程度まで濃縮が可能である。上記
限外濾過膜での濃縮によりフォトレジスト成分は１．５
ｗｔ％程度から１５〜２０ｗｔ％程度まで濃縮される。
半導体素子製造で使用されているフォトレジストの樹脂
成分の分子量は一般的に５０００〜１００００程度であ
る。このため本発明で使用する限外濾過膜の分画分子量
５０００〜１００００程度の膜を用いる。またここで用
いる限外濾過膜は、濾過する廃液がアルカリ性であるた
め耐アルカリの優れたものである。
きた廃液は、フォトレジストを主成分に含有しており、
原廃液量の約１／１０程度まで濃縮が可能である。上記
限外濾過膜での濃縮によりフォトレジスト成分は１．５
ｗｔ％程度から１５〜２０ｗｔ％程度まで濃縮される。
半導体素子製造で使用されているフォトレジストの樹脂
成分の分子量は一般的に５０００〜１００００程度であ
る。このため本発明で使用する限外濾過膜の分画分子量
５０００〜１００００程度の膜を用いる。またここで用
いる限外濾過膜は、濾過する廃液がアルカリ性であるた
め耐アルカリの優れたものである。
【００１０】次に、限界濾過膜で分離した高濃度のフォ
トレジスト成分を含有する廃液に熱エネルギーを加え、
フォトレジスト主成分を重合させて固形物にする。ここ
で加熱温度は２００〜３００度程度で、間接加熱方式を
用いる。次に、固形化したフォトレジスト主成分の固形
物は、燃焼させその燃焼熱を上記限外濾過膜で濃縮させ
た廃液を重合させるのに用いて効率的に廃液を固形化す
る。
トレジスト成分を含有する廃液に熱エネルギーを加え、
フォトレジスト主成分を重合させて固形物にする。ここ
で加熱温度は２００〜３００度程度で、間接加熱方式を
用いる。次に、固形化したフォトレジスト主成分の固形
物は、燃焼させその燃焼熱を上記限外濾過膜で濃縮させ
た廃液を重合させるのに用いて効率的に廃液を固形化す
る。
【００１１】前記フォトレジスト含有廃液処理方法を用
いることで、従来のフォトレジスト含有廃液処理方法と
比較して、フォトレジスト成分を約１／１０程度に減少
しており、より一層の無公害化ができる。また、生物処
理等による廃液処理工程が削減され、コスト削減ができ
た。
いることで、従来のフォトレジスト含有廃液処理方法と
比較して、フォトレジスト成分を約１／１０程度に減少
しており、より一層の無公害化ができる。また、生物処
理等による廃液処理工程が削減され、コスト削減ができ
た。
【００１２】
【発明の効果】前記実施例の説明より明らかなように本
発明のフォトレジスト含有廃液処理方法は、高分子量の
フォトレジストのみ排除するため、従来のフォトレジス
ト含有廃液処理法にくらべ、フォトレジスト含有廃液の
ＢＯＤ負荷が低下させることができ、一層の無公害化と
生物処理等の廃液処理工程が削減でき、コスト低減が図
れる。
発明のフォトレジスト含有廃液処理方法は、高分子量の
フォトレジストのみ排除するため、従来のフォトレジス
ト含有廃液処理法にくらべ、フォトレジスト含有廃液の
ＢＯＤ負荷が低下させることができ、一層の無公害化と
生物処理等の廃液処理工程が削減でき、コスト低減が図
れる。
【図１】本発明のフォトレジスト含有廃液処理方法の処
理システムを示すフロー図
理システムを示すフロー図
【図２】従来のフォトレジスト含有廃液処理方法の処理
システムを示すフロー図
システムを示すフロー図
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｇ０３Ｆ 7/26 Ｇ０３Ｆ 7/26
Claims (2)
- 【請求項１】 フォトレジスト成分含有廃液を限外濾過
膜により濾過してレジスト成分濃縮廃液を取り出し、前
記フォトレジスト成分濃縮廃液に熱エネルギーを加えて
フォトレジスト成分を重合させ固形化させて処理するこ
とを特徴とするフォトレジスト含有廃液の処理方法。 - 【請求項２】 フォトレジスト成分を重合してなる固形
物を燃焼させて、その燃焼熱でフォトレジスト成分濃縮
廃液の溶剤成分を蒸発させてフォトレジスト成分を重合
させ固形化させることを特徴とする請求項１記載のフォ
トレジスト含有廃液の処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7088929A JPH08281295A (ja) | 1995-04-14 | 1995-04-14 | フォトレジスト含有廃液の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7088929A JPH08281295A (ja) | 1995-04-14 | 1995-04-14 | フォトレジスト含有廃液の処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08281295A true JPH08281295A (ja) | 1996-10-29 |
Family
ID=13956602
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7088929A Pending JPH08281295A (ja) | 1995-04-14 | 1995-04-14 | フォトレジスト含有廃液の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08281295A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100361799B1 (ko) * | 1998-01-05 | 2003-02-05 | 오르가노 코포레이션 | 포토레지스트현상폐액의재생처리방법및장치 |
| CN110668529A (zh) * | 2018-07-02 | 2020-01-10 | 陈俊吉 | 显影液再生系统及其正负型光刻胶分离装置 |
-
1995
- 1995-04-14 JP JP7088929A patent/JPH08281295A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100361799B1 (ko) * | 1998-01-05 | 2003-02-05 | 오르가노 코포레이션 | 포토레지스트현상폐액의재생처리방법및장치 |
| CN110668529A (zh) * | 2018-07-02 | 2020-01-10 | 陈俊吉 | 显影液再生系统及其正负型光刻胶分离装置 |
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