JPH0827114A - Manufacture of quinolinecarboaldehyde - Google Patents

Manufacture of quinolinecarboaldehyde

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JPH0827114A
JPH0827114A JP18772994A JP18772994A JPH0827114A JP H0827114 A JPH0827114 A JP H0827114A JP 18772994 A JP18772994 A JP 18772994A JP 18772994 A JP18772994 A JP 18772994A JP H0827114 A JPH0827114 A JP H0827114A
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JP
Japan
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oxyl
tetramethylpiperidine
carbon atoms
fluorophenyl
cyclopropyl
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Susumu Nishizawa
進 西澤
Hiroo Matsumoto
浩郎 松本
Yoshio Obara
義夫 小原
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Sumika Fine Chemicals Co Ltd
Nissan Chemical Corp
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Sumika Fine Chemicals Co Ltd
Nissan Chemical Corp
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Abstract

PURPOSE:To obtain a quinolinecarboaldehyde compound in high yield by oxidiz ing 2-cyclopropyl-4-(4-fluorophenyl)-3-hydroxymethylquinoline in the presence of a specific nitrosyl free radical derivative with a hypohalite. CONSTITUTION:2-Cyclopropyl-4-(4-fluorophenyl)quinoline-3-carboaldehyde is obtained by oxidizing 2-cyclopropyl-4-(4-fluorophenyl)-3-hydroxymethylquinoline. This oxidation reaction is carried out in the presence of a nitrosyl free radical derivative of formula I or formula II (X<1> and X<2> are each H, a halogen, OH, a 1-5C alkyl, a 5-6C cycloalkyl, a 1-5C alkoxy, a 1-10C acyloxy, etc., or X<1> and X<2> together form O; R<1> to R<4> are each a 1-5C alkyl; m is 0 to 1) with a hypohalite. Preferable examples of the nitrosyl free radical derivative include 2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl, etc. Further, potassium bromide or sodium bromide is preferably added into the reaction system.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はキノリンカルボアルデヒ
ドの製造方法に関する。さらに詳しくは、コレステロー
ル低下剤であるHMG−CoA還元酵素阻害剤の合成中
間体として有用な2−シクロプロピル−4−(4−フル
オロフェニル)キノリン−3−カルボアルデヒドを容易
に、効率よく製造する方法に関する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a method for producing quinolinecarbaldehyde. More specifically, 2-cyclopropyl-4- (4-fluorophenyl) quinoline-3-carbaldehyde, which is useful as a synthetic intermediate for an HMG-CoA reductase inhibitor that is a cholesterol lowering agent, can be easily and efficiently produced. Regarding the method.

【0002】[0002]

【従来の技術】2−シクロプロピル−4−(4−フルオ
ロフェニル)キノリン−3−カルボアルデヒドは、HM
G−CoA還元酵素阻害剤として有用な中間体であり、
従来は2−シクロプロピル−4−(4−フルオロフェニ
ル)−3−ヒドロキシメチルキノリンを2−シクロプロ
ピル−4−(4−フルオロフェニル)キノリン−3−カ
ルボアルデヒドに酸化する方法として、クロム酸を用い
る酸化法やジメチルスルホキシド−脱水剤を用いる方法
(たとえば、swern酸化法等)が用いられていた。
2. Description of the Prior Art 2-Cyclopropyl-4- (4-fluorophenyl) quinoline-3-carbaldehyde is HM
An intermediate useful as a G-CoA reductase inhibitor,
Conventionally, chromic acid has been used as a method for oxidizing 2-cyclopropyl-4- (4-fluorophenyl) -3-hydroxymethylquinoline to 2-cyclopropyl-4- (4-fluorophenyl) quinoline-3-carbaldehyde. The oxidation method used and the method using a dimethyl sulfoxide-dehydrating agent (for example, swern oxidation method) have been used.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の方法で
は環境上有害なクロムイオンの生成による廃液処理の問
題や臭気の甚だしいジメチルスルヒドの生成等があり、
工業的に有利な方法とは言い難い。従って、本発明の目
的は2−シクロプロピル−4−(4−フルオロフェニ
ル)−3−ヒドロキシメチルキノリンを酸化して2−シ
クロプロピル−4−(4−フルオロフェニル)キノリン
−3−カルボアルデヒドを簡易にかつ工業的に有利に製
造する方法を提供することにある。
However, in the above method, there are problems of waste liquid treatment due to the production of environmentally harmful chromium ions, and the production of odorous dimethylsulfide.
It is hard to say that this is an industrially advantageous method. Therefore, an object of the present invention is to oxidize 2-cyclopropyl-4- (4-fluorophenyl) -3-hydroxymethylquinoline to give 2-cyclopropyl-4- (4-fluorophenyl) quinoline-3-carbaldehyde. An object of the present invention is to provide a simple and industrially advantageous manufacturing method.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らはこのような
問題点を解決すべく種々の酸化方法を検討した結果、上
記のような廃液処理や悪臭の問題のない、好収率でかつ
工業的に有利な製造方法を見出し、本発明に至った。
DISCLOSURE OF THE INVENTION As a result of studying various oxidation methods to solve such problems, the present inventors have found that there is no problem of waste liquid treatment and bad odor as described above, and a good yield and The present invention has been completed by finding an industrially advantageous manufacturing method.

【0005】即ち、本発明の要旨は、(1)2−シクロ
プロピル−4−(4−フルオロフェニル)−3−ヒドロ
キシメチルキノリンを、式(I)または式(II):
That is, the gist of the present invention is that (1) 2-cyclopropyl-4- (4-fluorophenyl) -3-hydroxymethylquinoline is represented by the formula (I) or the formula (II):

【化2】 (式中、X1 およびX2 は同一または相異なり、水素原
子、ハロゲン原子、水酸基、炭素数1〜5のアルキル
基、炭素数5〜6のシクロアルキル基、炭素数1〜5の
アルコキシ基、炭素数1〜10のアシルオキシ基、−C
(O)NH2 、−(炭素数1ないし4のアルキレン)−
C(O)NH2 、−C(O)OH、−(炭素数1ないし
4のアルキレン)−CO2 Hまたは−C(O)O−(炭
素数1ないし5のアルキル)を示すか、またはX1 およ
びX2 は一緒になって酸素原子を示し;R1 、R2 、R
3 およびR4 は同一または相異なる炭素数1〜5のアル
キル基を示す。mは0または1の整数を示し、nは0ま
たは1〜12の整数を示す。)で表されるニトロキシル
ラジカル誘導体の存在下、次亜ハロゲン酸塩で酸化する
ことを特徴とする2−シクロプロピル−4−(4−フル
オロフェニル)キノリン−3−カルボアルデヒドの製造
方法に関する。
Embedded image (In the formula, X 1 and X 2 are the same or different and each is a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. , An acyloxy group having 1 to 10 carbon atoms, -C
(O) NH 2 ,-(alkylene having 1 to 4 carbon atoms)-
C (O) NH 2 , -C (O) OH,-(C 1 -C 4 alkylene) -CO 2 H or -C (O) O- (C 1 -C 5 alkyl), or X 1 and X 2 together represent an oxygen atom; R 1 , R 2 , R
3 and R 4 are the same or different and each represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. m represents an integer of 0 or 1, and n represents an integer of 0 or 1 to 12. ) In the presence of a nitroxyl radical derivative represented by the formula (4), the method relates to a method for producing 2-cyclopropyl-4- (4-fluorophenyl) quinoline-3-carbaldehyde, which comprises oxidizing with a hypohalite.

【0006】また本発明は、(2)ニトロキシルラジカ
ル誘導体が、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
−1−オキシル、4−オキソ−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン−1−オキシル、4−ヒドロキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシ
ル、4−メトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン−1−オキシル、4−アセトキシ−2,2,6,
6−テトラメチルピペリジン−1−オキシル、4−ベン
ゾイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ン−1−オキシル、4−アセトアミド−2,2,6,6
−テトラメチルピペリジン−1−オキシル、ジ(2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシル−
4−イル)スクシネートおよびジ(2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン−1−オキシル−4−イル)セバ
コネートからなる群より選ばれる1種以上である前記
(1)記載の製造方法、
Further, in the present invention, (2) the nitroxyl radical derivative is 2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl, 4-oxo-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1. -Oxyl, 4-hydroxy-
2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl, 4-methoxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl, 4-acetoxy-2,2,6,
6-Tetramethylpiperidine-1-oxyl, 4-benzoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl, 4-acetamido-2,2,6,6
-Tetramethylpiperidine-1-oxyl, di (2,2
2,6,6-Tetramethylpiperidine-1-oxyl-
4-yl) succinate and di (2,2,6,6-tetramethylpiperidin-1-oxyl-4-yl) sebaconate, which is one or more selected from the group consisting of the above (1),

【0007】(3)ニトロキシルラジカル誘導体の使用
量が、2−シクロプロピル−4−(4−フルオロフェニ
ル)−3−ヒドロキシメチルキノリンに対して0.00
5〜0.05当量である、前記(1)記載の製造方法、
(3) The amount of the nitroxyl radical derivative used is 0.00 based on 2-cyclopropyl-4- (4-fluorophenyl) -3-hydroxymethylquinoline.
The production method according to (1) above, which is 5 to 0.05 equivalents;

【0008】(4)次亜ハロゲン酸塩が、次亜塩素酸ソ
ーダ、次亜塩素酸カルシウムまたは次亜塩素酸カリウム
である前記(1)記載の製造方法、(5)次亜ハロゲン
酸塩の使用量が、2−シクロプロピル−4−(4−フル
オロフェニル)−3−ヒドロキシメチルキノリンに対し
て1.05〜1.8当量である前記(1)記載の製造方
法、および
(4) The method according to (1) above, wherein the hypohalite is sodium hypochlorite, calcium hypochlorite or potassium hypochlorite, and (5) hypohalite. The production method according to (1) above, wherein the amount used is 1.05 to 1.8 equivalents relative to 2-cyclopropyl-4- (4-fluorophenyl) -3-hydroxymethylquinoline, and

【0009】(6)反応系にさらに臭化カリまたは臭化
ナトリウムを0.05〜0.5当量添加することを特徴
とする前記(1)〜(5)いずれか記載の製造方法に関
する。
(6) The production method according to any one of (1) to (5) above, wherein 0.05 to 0.5 equivalent of potassium bromide or sodium bromide is further added to the reaction system.

【0010】本発明で用いる式(I)および式(II)で
表されるニトロキシルラジカル誘導体において、X1
よびX2 は同一または相異なり、水素原子、ハロゲン原
子、水酸基、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数5〜6
のシクロアルキル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、炭
素数1〜10のアシルオキシ基、−C(O)NH2 、−
(炭素数1ないし4のアルキレン)−C(O)NH2
−C(O)OH、−(炭素数1ないし4のアルキレン)
−CO2 Hまたは−C(O)O−(炭素数1ないし5の
アルキル)を示すか、またはX1 およびX2 は一緒にな
って酸素原子を示す。
In the nitroxyl radical derivative represented by the formula (I) and the formula (II) used in the present invention, X 1 and X 2 are the same or different and each is a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, or a carbon number of 1 to 5. Alkyl group of 5 to 6 carbon atoms
A cycloalkyl group, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 10 carbon atoms, -C (O) NH 2, -
(Alkylene having 1 to 4 carbon atoms) -C (O) NH 2 ,
-C (O) OH,-(alkylene having 1 to 4 carbon atoms)
-CO 2 H or -C (O) O-or indicating the (alkyl having 1 to 5 carbon atoms) or X 1 and X 2, is an oxygen atom together.

【0011】X1 およびX2 としての、ハロゲン原子
は、弗素原子、塩素原子、臭素原子、又は沃素原子;炭
素数1〜5のアルキル基は例えば、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基またはペンチル基;炭素数5
〜6のシクロアルキル基は例えば、シクロペンチル基ま
たはシクロヘキシル基;炭素数1〜5のアルコキシ基は
例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブト
キシ基またはペントオキシ基;炭素数1〜10のアシル
オキシ基は例えばアセチルオキシ基、エチルケトオキシ
基またはベンゾイルオキシ基、−(炭素数1ないし4の
アルキレン)−C(O)NH2 は例えば−CH2
(O)NH2 ;−(炭素数1ないし4のアルキレン)−
CO2 Hは例えば−CH2 −CO2 H;そして−C
(O)O−(炭素数1ないし5のアルキル)は例えば−
C(O)O−(メチル、エチル、プロピル、ブチル又は
ペンチル)である。
The halogen atom as X 1 and X 2 is a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom; the alkyl group having 1 to 5 carbon atoms is, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group or a butyl group. Or pentyl group; carbon number 5
A cycloalkyl group having 6 to 6 is, for example, a cyclopentyl group or a cyclohexyl group; an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms is, for example, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group or a pentoxy group; For example, an acetyloxy group, an ethyl ketooxy group or a benzoyloxy group,-(alkylene having 1 to 4 carbon atoms) -C (O) NH 2 is, for example, -CH 2 C.
(O) NH 2 ;-( having 1 to 4 carbon atoms alkylene) -
CO 2 H is, for example, —CH 2 —CO 2 H; and —C.
(O) O- (alkyl having 1 to 5 carbons) is, for example,
C (O) O- (methyl, ethyl, propyl, butyl or pentyl).

【0012】R1 、R2 、R3 およびR4 は同一または
相異なる炭素数1〜5のアルキル基を示す。mは0また
は1の整数を示し、nは0または1〜12の整数を示
す。R1 、R2 、R3 およびR4 としての炭素数1〜5
のアルキル基は例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基またはペンチル基である。
R 1 , R 2 , R 3 and R 4 represent the same or different alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms. m represents an integer of 0 or 1, and n represents an integer of 0 or 1 to 12. 1 to 5 carbon atoms as R 1 , R 2 , R 3 and R 4
The alkyl group of is, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group or a pentyl group.

【0013】好ましくは、X1 およびX2 は水素原子、
酸素原子または水酸基を、R1 、R2 、R3 およびR4
はメチル基を、そしてmは1を示す。
Preferably, X 1 and X 2 are hydrogen atoms,
The oxygen atom or hydroxyl group is replaced by R 1 , R 2 , R 3 and R 4
Represents a methyl group, and m represents 1.

【0014】これらのニトロキシルラジカル誘導体の具
体的な例としては、2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン−1−オキシル、4−オキソ−2,2,6,6−
テトラメチルピペリジン−1−オキシル、4−ヒドロキ
シ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オ
キシル、4−メトキシ−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−1−オキシル、4−アセトキシ−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシル、4−
ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン−1−オキシル、4−アセトアミド−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシル、ジ
(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキ
シル−4−イル)スクシネートおよびジ(2,2,6,
6−テトラメチルピペリジン−1−オキシル−4−イ
ル)セバコネート等が挙げられる。 本発明において
は、特に限定されるものではないが、これらを単独であ
るいは2種以上を併用して用いることができる。なかで
も、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オ
キシル、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジン−1−オキシル、4−オキソ−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシル等が好
適である。
Specific examples of these nitroxyl radical derivatives include 2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl and 4-oxo-2,2,6,6-.
Tetramethylpiperidine-1-oxyl, 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl, 4-methoxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl, 4- Acetoxy-2,2
6,6-Tetramethylpiperidine-1-oxyl, 4-
Benzoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl, 4-acetamido-2,2
6,6-Tetramethylpiperidine-1-oxyl, di (2,2,6,6-tetramethylpiperidin-1-oxyl-4-yl) succinate and di (2,2,6)
6-tetramethylpiperidin-1-oxyl-4-yl) sebaconate and the like can be mentioned. In the present invention, although not particularly limited, these may be used alone or in combination of two or more kinds. Among them, 2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl, 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl, 4-oxo-2,2,
6,6-Tetramethylpiperidine-1-oxyl and the like are preferable.

【0015】このようなニトロキシルラジカル誘導体の
使用量は、原料である2−シクロプロピル−4−(4−
フルオロフェニル)−3−ヒドロキシメチルキノリンに
対して、通常0.005〜0.05当量、好ましくは
0.01〜0.02当量である。ニトロキシル誘導体の
使用量がこの範囲より少ないと反応が遅くなり、多いと
不経済である。
The amount of such nitroxyl radical derivative used is 2-cyclopropyl-4- (4-
The amount is usually 0.005-0.05 equivalents, preferably 0.01-0.02 equivalents, relative to fluorophenyl) -3-hydroxymethylquinoline. If the amount of the nitroxyl derivative used is less than this range, the reaction becomes slow, and if the amount is too large, it is uneconomical.

【0016】本発明で用いる次亜ハロゲン酸塩として
は、次亜塩素酸ソーダ、次亜塩素酸カルシウムおよび次
亜塩素酸カリウム等が挙げられ、特に限定されるもので
はないが、安価に入手可能で取り扱いが容易である点か
ら次亜塩素酸ソーダが好適に用いられる。これら次亜ハ
ロゲン酸塩の使用量は原料である2−シクロプロピル−
4−(4−フルオロフェニル)−3−ヒドロキシメチル
キノリンに対して通常1.05〜1.8当量、好ましく
は1.1〜1.5当量用いられる。次亜ハロゲン酸塩の
使用量がこの範囲より少ないと反応が遅く、未反応物が
残存する。また、この範囲より多いと副生物が生成し、
過剰の次亜ハロゲン酸塩を処理しなければ廃棄できない
からである。
Examples of the hypohalite used in the present invention include sodium hypochlorite, calcium hypochlorite, potassium hypochlorite and the like, which are not particularly limited, but can be obtained at low cost. Sodium hypochlorite is preferably used because it is easy to handle. The amount of these hypohalites used is 2-cyclopropyl-
It is generally 1.05 to 1.8 equivalents, preferably 1.1 to 1.5 equivalents, relative to 4- (4-fluorophenyl) -3-hydroxymethylquinoline. If the amount of hypohalite used is less than this range, the reaction is slow and unreacted substances remain. Also, if more than this range, by-products are generated,
This is because the excess hypohalite cannot be discarded unless it is treated.

【0017】次亜ハロゲン酸塩とニトロキシルラジカル
誘導体の組み合わせにおいては、特に限定されるもので
はなく、適宜選択されて使用される。たとえば、次亜ハ
ロゲン酸塩として次亜塩素酸ソーダを用いる場合、共存
させるニトロキシルラジカル誘導体としてはいずれでも
よく、たとえば2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ン−1−オキシル、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−
テトラメチルピペリジン−1−オキシル等が用いられ
る。
The combination of the hypohalous acid salt and the nitroxyl radical derivative is not particularly limited and is appropriately selected and used. For example, when sodium hypochlorite is used as the hypohalous acid salt, any nitroxyl radical derivative may be present, for example, 2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl, 4-hydroxy-. 2, 2, 6, 6-
Tetramethylpiperidine-1-oxyl or the like is used.

【0018】また、本発明においては反応系にさらに臭
素イオン源になる化合物を添加することにより、反応が
促進されるため、例えば臭化カリ、臭化ナトリウム等を
添加してもよい。この場合、これら臭素イオン源になる
化合物の使用量は原料である2−シクロプロピル−4−
(4−フルオロフェニル)−3−ヒドロキシメチルキノ
リンに対して通常0.05〜0.5当量、好ましくは
0.1〜0.2当量用いられる。
In the present invention, the reaction is further promoted by adding a compound serving as a bromine ion source to the reaction system. Therefore, potassium bromide, sodium bromide or the like may be added. In this case, the amount of the compound serving as the bromine ion source used is 2-cyclopropyl-4-
It is usually used in an amount of 0.05 to 0.5 equivalents, preferably 0.1 to 0.2 equivalents, relative to (4-fluorophenyl) -3-hydroxymethylquinoline.

【0019】また、反応系のpH調整は、適宜行っても
よく、アルカリを添加し系内のpHを8〜9、なかでも
8.6付近に調整することは、反応促進には好ましい。
かかるアルカリとしては苛性ソーダ、炭酸ソーダおよび
炭酸水素ナトリウム等が挙げられ、特に限定されるもの
ではない。
The pH of the reaction system may be adjusted as appropriate, and it is preferable to add an alkali to adjust the pH of the system to 8-9, especially around 8.6 in order to accelerate the reaction.
Examples of the alkali include caustic soda, sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate and the like, and are not particularly limited.

【0020】反応温度としては、通常−3〜10℃、好
ましくは0〜5℃である。反応温度がこの範囲より低い
と水相が氷結しやすくなり、反応が遅くなる。また、高
いと副反応を起こしやすい。反応時間は反応温度、ニト
ロキシルラジカル誘導体の種類、使用量等によって異な
るが、通常30分〜12時間である。
The reaction temperature is usually -3 to 10 ° C, preferably 0 to 5 ° C. If the reaction temperature is lower than this range, the aqueous phase is likely to freeze and the reaction becomes slow. If it is high, side reactions are likely to occur. The reaction time varies depending on the reaction temperature, the type of nitroxyl radical derivative, the amount used, etc., but is usually 30 minutes to 12 hours.

【0021】本発明の反応において、反応溶媒は、塩化
メチレン、クロロホルム、1,2−ジクロルエタン、酢
酸エチル等がよく、2−シクロプロピル−4−(4−フ
ルオロフェニル)−3−ヒドロキシメチルキノリンに対
して5〜10倍量を使用するのが好ましい。
In the reaction of the present invention, the reaction solvent is preferably methylene chloride, chloroform, 1,2-dichloroethane, ethyl acetate, etc., and is converted into 2-cyclopropyl-4- (4-fluorophenyl) -3-hydroxymethylquinoline. It is preferable to use 5 to 10 times the amount.

【0022】本発明において、上記の方法により得られ
る反応液を分液し有機層を飽和食塩水等により洗浄した
後、得られる結晶をイソプロピルエーテル、ジエチルエ
ーテル、ベンゼン、トルエンまたはシクロヘキサン等で
洗浄することで簡易に精製することができ、再結晶等の
操作は不要である。
In the present invention, the reaction solution obtained by the above method is separated, the organic layer is washed with saturated saline and the like, and the crystals obtained are washed with isopropyl ether, diethyl ether, benzene, toluene or cyclohexane. By doing so, it can be easily purified, and operations such as recrystallization are unnecessary.

【0023】[0023]

【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳しく説
明するが、本発明はこれらの実施例等によりなんら限定
されるものではない。 実施例1 2−シクロプロピル−4−(4−フルオロフェニル)−
3−ヒドロキシメチルキノリン19.7g(67ミリモ
ル)を塩化メチレン200mlに溶解し、臭化カリ0.
8g(6.7ミリモル)を水100mlに溶解した液を
加えた。攪拌下1℃に冷却し、2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン−1−オキシル104mg(0.67
ミリモル)を加えた。0.7モルの次亜塩素酸ソーダ液
120mlを滴下し、0〜5℃で5時間攪拌した。反応
液中のpHが8.6となるように炭酸水素ナトリウム飽
和溶液を滴下した。反応終了後、反応液を分液し、有機
層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。次いで、硫酸マグネシウムを分離し、減圧下溶媒
を留去後、イソプロピルエーテルで結晶を洗浄し、乾燥
して目的の2−シクロプロピル−4−(4−フルオロフ
ェニル)キノリン−3−カルボアルデヒド18.7gを
得た。純度は99.3%で収率は96%であった。 IR(KBr)cm-1;1700,770 融点;151℃
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples. Example 1 2-Cyclopropyl-4- (4-fluorophenyl)-
3-Hydroxymethylquinoline (19.7 g, 67 mmol) was dissolved in 200 ml of methylene chloride, and potassium bromide (0.1 g) was added.
A solution prepared by dissolving 8 g (6.7 mmol) in 100 ml of water was added. It was cooled to 1 ° C. with stirring and 104 mg (0.67) of 2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl.
Mmol) was added. 120 ml of 0.7 mol of sodium hypochlorite solution was added dropwise, and the mixture was stirred at 0 to 5 ° C for 5 hours. A saturated sodium hydrogen carbonate solution was added dropwise so that the pH of the reaction solution would be 8.6. After the reaction was completed, the reaction solution was separated, the organic layer was washed with saturated saline and dried over anhydrous magnesium sulfate. Then, magnesium sulfate was separated, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the crystals were washed with isopropyl ether and dried to give the desired 2-cyclopropyl-4- (4-fluorophenyl) quinoline-3-carbaldehyde 18. 7 g was obtained. The purity was 99.3% and the yield was 96%. IR (KBr) cm -1 ; 1700,770 melting point; 151 ° C

【0024】実施例2 2−シクロプロピル−4−(4−フルオロフェニル)−
3−ヒドロキシメチルキノリン123g(0.419モ
ル)を塩化メチレン980mlに溶解し、臭化カリ10
g(84ミリモル)を水374mlに溶解した液を加え
た。攪拌下3℃に冷却し、2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジン−1−オキシル1.3g(8.3ミリモ
ル)を加えた。1.4モルの次亜塩素酸ソーダ液374
mlを滴下し、1〜2℃で5時間攪拌した。反応終了
後、反応液を分液し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。次いで、硫酸マグネシ
ウムを分離し、減圧下溶媒を留去後、イソプロピルエー
テルで結晶を洗浄し、乾燥して目的の2−シクロプロピ
ル−4−(4−フルオロフェニル)キノリン−3−カル
ボアルデヒド114.9gを得た。純度は99.2%で
収率は94.2%であった。 IR(KBr)cm-1;1700,770 融点;151℃
Example 2 2-Cyclopropyl-4- (4-fluorophenyl)-
123 g (0.419 mol) of 3-hydroxymethylquinoline was dissolved in 980 ml of methylene chloride to give 10 parts of potassium bromide.
A solution of g (84 mmol) in 374 ml of water was added. The mixture was cooled to 3 ° C. with stirring, and 1.3 g (8.3 mmol) of 2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl was added. 1.4 mol sodium hypochlorite solution 374
ml was added dropwise, and the mixture was stirred at 1-2 ° C for 5 hours. After the reaction was completed, the reaction solution was separated, the organic layer was washed with saturated saline and dried over anhydrous magnesium sulfate. Then, magnesium sulfate was separated, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the crystals were washed with isopropyl ether and dried to give the desired 2-cyclopropyl-4- (4-fluorophenyl) quinoline-3-carbaldehyde 114. 9 g was obtained. The purity was 99.2% and the yield was 94.2%. IR (KBr) cm -1 ; 1700,770 melting point; 151 ° C

【0025】[0025]

【発明の効果】本発明の製造方法によれば、従来法で問
題にされていた重金属イオンの生成、悪臭の発生等の問
題がなく、容易に2−シクロプロピル−4−(4−フル
オロフェニル)キノリン−3−カルボアルデヒドを製造
することが可能となった。また、本発明の製造方法を用
いた場合、精製工程が簡易となるなど工業的に有利であ
る。
EFFECTS OF THE INVENTION According to the production method of the present invention, there are no problems such as generation of heavy metal ions and generation of malodor, which have been problems in the conventional method, and it is easy to carry out 2-cyclopropyl-4- (4-fluorophenyl). ) It has become possible to produce quinoline-3-carbaldehyde. Further, when the production method of the present invention is used, it is industrially advantageous in that the purification process is simplified.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小原 義夫 千葉県船橋市坪井町722番地1 日産化学 工業株式会社中央研究所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Yoshio Ohara 722 Tsuboi-cho, Funabashi-shi, Chiba 1 Nissan Chemical Industries, Ltd. Central Research Laboratory

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 2−シクロプロピル−4−(4−フルオ
ロフェニル)−3−ヒドロキシメチルキノリンを、 式(I)または式(II): 【化1】 〔式中、X1 およびX2 は同一または相異なり、水素原
子、ハロゲン原子、水酸基、炭素数1〜5のアルキル
基、炭素数5〜6のシクロアルキル基、炭素数1〜5の
アルコキシ基、炭素数1〜10のアシルオキシ基、−C
(O)NH2 、 −(炭素数1ないし4のアルキレン)−C(O)N
2 、−C(O)OH、−(炭素数1ないし4のアルキ
レン)−CO2 Hまたは−C(O)O−(炭素数1ない
し5のアルキル)を示すか、またはX1 およびX2 は一
緒になって酸素原子を示し、 R1 、R2 、R3 およびR4 は同一または相異なる炭素
数1〜5のアルキル基を示す。mは0または1の整数を
示し、nは0または1〜12の整数を示す。〕で表され
るニトロキシルラジカル誘導体の存在下、次亜ハロゲン
酸塩で酸化することを特徴とする2−シクロプロピル−
4−(4−フルオロフェニル)キノリン−3−カルボア
ルデヒドの製造方法。
1. 2-Cyclopropyl-4- (4-fluorophenyl) -3-hydroxymethylquinoline represented by the formula (I) or (II): [In the formula, X 1 and X 2 are the same or different and each is a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. , An acyloxy group having 1 to 10 carbon atoms, -C
(O) NH 2 ,-(alkylene having 1 to 4 carbon atoms) -C (O) N
H 2 , -C (O) OH,-(alkylene having 1 to 4 carbon atoms) -CO 2 H or -C (O) O- (alkyl having 1 to 5 carbon atoms), or X 1 and X 2 together represents an oxygen atom, and R 1 , R 2 , R 3 and R 4 represent the same or different alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms. m represents an integer of 0 or 1, and n represents an integer of 0 or 1 to 12. ] 2-Cyclopropyl- which is characterized by being oxidized with a hypohalite in the presence of a nitroxyl radical derivative represented by
Process for producing 4- (4-fluorophenyl) quinoline-3-carbaldehyde.
【請求項2】 ニトロキシルラジカル誘導体が、2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシル、
4−オキソ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
−1−オキシル、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン−1−オキシル、4−メトキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシ
ル、4−アセトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン−1−オキシル、4−ベンゾイルオキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシル、
4−アセトアミド−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン−1−オキシル、ジ(2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン−1−オキシル−4−イル)スクシネー
トおよびジ(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
−1−オキシル−4−イル)セバコネートからなる群よ
り選ばれる1種以上である請求項1記載の製造方法。
2. The nitroxyl radical derivative is 2,
2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl,
4-oxo-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl, 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl, 4-methoxy-
2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl, 4-acetoxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl, 4-benzoyloxy-2,
2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl,
4-acetamido-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl, di (2,2,6,6-tetramethylpiperidin-1-oxyl-4-yl) succinate and di (2,2,2 The production method according to claim 1, which is one or more selected from the group consisting of 6,6-tetramethylpiperidin-1-oxyl-4-yl) sebacone.
【請求項3】 ニトロキシルラジカル誘導体の使用量
が、2−シクロプロピル−4−(4−フルオロフェニ
ル)−3−ヒドロキシメチルキノリンに対して0.00
5〜0.05当量である請求項1記載の製造方法。
3. The use amount of the nitroxyl radical derivative is 0.00 based on 2-cyclopropyl-4- (4-fluorophenyl) -3-hydroxymethylquinoline.
The production method according to claim 1, which has an amount of 5 to 0.05 equivalents.
【請求項4】 次亜ハロゲン酸塩が、次亜塩素酸ソー
ダ、次亜塩素酸カルシウムまたは次亜塩素酸カリウムで
ある請求項1記載の製造方法。
4. The method according to claim 1, wherein the hypohalite is sodium hypochlorite, calcium hypochlorite or potassium hypochlorite.
【請求項5】 次亜ハロゲン酸塩の使用量が、2−シク
ロプロピル−4−(4−フルオロフェニル)−3−ヒド
ロキシメチルキノリンに対して1.05〜1.8当量で
ある請求項1記載の製造方法。
5. The amount of hypohalite used is 1.05 to 1.8 equivalents relative to 2-cyclopropyl-4- (4-fluorophenyl) -3-hydroxymethylquinoline. The manufacturing method described.
【請求項6】 反応系にさらに臭化カリまたは臭化ナト
リウムを0.05〜0.5当量添加することを特徴とす
る請求項1〜5いずれか記載の製造方法。
6. The method according to claim 1, wherein 0.05 to 0.5 equivalent of potassium bromide or sodium bromide is further added to the reaction system.
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