JP2001302582A - Method for producing trifluoromethylphenylacetic acid - Google Patents

Method for producing trifluoromethylphenylacetic acid

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JP2001302582A
JP2001302582A JP2000115433A JP2000115433A JP2001302582A JP 2001302582 A JP2001302582 A JP 2001302582A JP 2000115433 A JP2000115433 A JP 2000115433A JP 2000115433 A JP2000115433 A JP 2000115433A JP 2001302582 A JP2001302582 A JP 2001302582A
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JP
Japan
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general formula
represented
group
trifluoromethyl
compound
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JP2000115433A
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Japanese (ja)
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Makoto Koide
誠 小出
Koji Kume
孝司 久米
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Central Glass Co Ltd
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Central Glass Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To produce bis(trifluoromethyl)phenylacetaldehyde having useful applications by a simple operation by using an easily available compound as a raw material. SOLUTION: Trifluoromethylphenylacetic acid is produced by reacting a halogen-substituted trifluoromethyl compound with a vinyl ether or ethanamide in the presence of a palladium compound, a phosphine and a base to obtain a trifluoromethylstylene derivative subsequently hydrolyzing the derivative to obtain trifluoromethylphenylacetldehyde and oxidizing the aldehyde.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、医薬、農薬、殺虫
剤、染料、香料の製造中間体やフッ素含有基導入試薬と
して有用なトリフルオロメチルフェニル酢酸類の製造方
法に関し、該製造方法において重要な中間体であるトリ
フルオロメチルフェニルアセトアルデヒド誘導体および
トリフルオロメチルスチレン誘導体並びにその製造方法
に関する。
The present invention relates to a process for producing trifluoromethylphenylacetic acids useful as intermediates for producing pharmaceuticals, pesticides, insecticides, dyes, and fragrances and as a reagent for introducing a fluorine-containing group. The present invention relates to trifluoromethylphenylacetaldehyde derivatives and trifluoromethylstyrene derivatives, which are simple intermediates, and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来技術】(トリフルオロメチル基を含まない)特定
のハロゲン化アリールまたはトリフルオロメタンスルホ
ン酸アリール類に、パラジウム化合物、ホスフィンまた
は二座アミン類、塩基の存在下、特定のオレフィンを作
用させると、スチレン誘導体を生じる反応が知られてい
る(例えばJ.Org. Chem., 58,7421(1993)、J. Org. Che
m,52,3529 (1987)、Tetrahedron Letters,32,1753(199
1))。ここでオレフィンとしてn−ブチルビニルエーテ
ルなどのビニルエーテル類を用いると、一般に1−アル
コキシスチレン、2−アルコキシスチレンの混合物が得
られる。たとえばJ.Org.Chem.,52,3529-3536(1987)によ
ると,ブロモベンゼンとn−ブチルビニルエーテルを酢
酸パラジウムとトリフェニルホスフィンの共存下、アセ
トニトリル中、100℃で16時間加熱すると、1−ブ
トキシスチレンが34%、2−ブトキシスチレンが22
%(cis体およびtrans体の合計)の収率で得ら
れると記載されている。
BACKGROUND ART When a specific aryl halide (containing no trifluoromethyl group) or aryl trifluoromethanesulfonate is reacted with a specific olefin in the presence of a palladium compound, phosphine or bidentate amine, or a base, Reactions to produce styrene derivatives are known (eg, J. Org. Chem., 58,7421 (1993), J. Org. Che.
m, 52, 3529 (1987), Tetrahedron Letters, 32, 1753 (199
1)). Here, when a vinyl ether such as n-butyl vinyl ether is used as the olefin, a mixture of 1-alkoxystyrene and 2-alkoxystyrene is generally obtained. For example, according to J. Org. Chem., 52, 3529-3536 (1987), when bromobenzene and n-butyl vinyl ether are heated at 100 ° C. for 16 hours in acetonitrile in the presence of palladium acetate and triphenylphosphine, 1- 34% butoxystyrene, 22% 2-butoxystyrene
% (Total of cis and trans isomers).

【0003】また生成物1−アルコキシスチレン、1−
アミドスチレンは加水分解によってアセトフェノンに、
2−アルコキシスチレン、2−アミドスチレンは加水分
解によってフェニルアセトアルデヒドに変換される例が
報告されている(Tetrahedron, 50, 285 (1994))。
The product 1-alkoxystyrene, 1-
Amidostyrene is converted to acetophenone by hydrolysis.
It has been reported that 2-alkoxystyrene and 2-amidostyrene are converted to phenylacetaldehyde by hydrolysis (Tetrahedron, 50, 285 (1994)).

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】入手の容易な化合物を
原料として、簡便な操作で有用性の大きいトリフルオロ
メチルフェニルアセトアルデヒドおよびトリフルオロメ
チルフェニル酢酸を製造することのできる、工業的に適
した方法を提供する。
An industrially suitable method for producing highly useful trifluoromethylphenylacetaldehyde and trifluoromethylphenylacetic acid by a simple operation from a readily available compound as a raw material. I will provide a.

【0005】[0005]

【課題を解決するための具体的手段】本発明者らは、上
記課題を解決すべく検討を加えたところ、対応するトリ
フルオロメチルハロゲノベンゼンをパラジウム化合物と
ホスフィン類と塩基の存在下、ビニルエーテル類または
エタナミド類を反応させると、対応するトリフルオロメ
チルスチレン誘導体が穏和な条件で生成することを見い
だし、このトリフルオロメチルスチレン誘導体を加水分
解することでトリフルオロメチルフェニルアセトアルデ
ヒドが製造でき、さらにこれを酸化するとトリフルオロ
メチルフェニル酢酸が得られることを見いだし、本発明
を完成した。
The present inventors have made studies to solve the above-mentioned problems, and found that the corresponding trifluoromethylhalogenobenzene was converted to a vinyl ether compound in the presence of a palladium compound, a phosphine and a base. Alternatively, when the ethaneamides are reacted, the corresponding trifluoromethylstyrene derivative is found to be formed under mild conditions, and trifluoromethylphenylacetaldehyde can be produced by hydrolyzing the trifluoromethylstyrene derivative. The inventors have found that oxidization gives trifluoromethylphenylacetic acid, and completed the present invention.

【0006】すなわち、本発明は、下記3工程を含んで
なる一般式(7)で表されるトリフルオロメチルフェニ
ル酢酸類の製造方法である。 一般式(1)、
That is, the present invention is a process for producing trifluoromethylphenylacetic acids represented by the general formula (7), comprising the following three steps. General formula (1),

【0007】[0007]

【化7】 Embedded image

【0008】(式中、Xはハロゲン原子(塩素、臭素ま
たはヨウ素)またはトリフルオロメタンスルホネート
基、Yは水素原子または不活性基であり、nは1または
2を表す。)で表されるトリフルオロメチル化合物をパ
ラジウム化合物とホスフィン類または二座アミン類と塩
基の存在下、一般式(2) CH2=CH−OR1 (2) (式中、R1は、C1〜C8のアルキル基、C1〜C8のハ
ロアルキル基、C2〜C8のアルケニル基、C1〜C8のハ
ロアルケニル基、C3〜C6のシクロアルキル基、アリー
ル基、アリール−C1〜C2アルキル基、ヘテロアリール
基またはC1〜C8のアシル基を表す)で表されるビニル
エーテル類または一般式(3)、 CH2=CH−N(R2)−CO−R3 (3) (式中、R2、R3はそれぞれ独立に、C1〜C8のアルキ
ル基、C1〜C8のハロアルキル基、C2〜C8のアルケニ
ル基、C1〜C8のハロアルケニル基、C3〜C6のシクロ
アルキル基、アリール基、アリール−C1〜C2アルキル
基ヘテロアリールオキシ基またはC1〜C8のアシル基を
表す)で表されるエタナミド類を反応させて一般式
(4)、
Wherein X is a halogen atom (chlorine, bromine or iodine) or a trifluoromethanesulfonate group, Y is a hydrogen atom or an inert group, and n represents 1 or 2. In the presence of a palladium compound and a phosphine or bidentate amine and a base, a methyl compound is reacted with a compound represented by the following general formula (2): CH 2 CHCH—OR 1 (2) (wherein R 1 is a C 1 -C 8 alkyl group) , C 1 haloalkyl group -C 8, C alkenyl group 2 -C 8, haloalkenyl groups C 1 -C 8, cycloalkyl radical of C 3 -C 6, an aryl group, an -C 1 -C 2 alkyl Group, a heteroaryl group or a C 1 to C 8 acyl group) or a general formula (3), CH 2 CHCH—N (R 2 ) —CO—R 3 (3) Wherein R 2 and R 3 are each independently C 1 -C 8 alkyl, C 1 haloalkyl group -C 8, C alkenyl group 2 -C 8, haloalkenyl groups C 1 -C 8, cycloalkyl radical of C 3 -C 6, an aryl group, Aryl-C 1 -C 2 alkyl group heteroaryloxy group or C 1 -C 8 acyl group) represented by the general formula (4)

【0009】[0009]

【化8】 Embedded image

【0010】(式中、Y、R1、nは前記に同じ)で表
されるトリフルオロメチルスチレン誘導体、または一般
式(5)、
Wherein Y, R 1 and n are the same as defined above, or a trifluoromethylstyrene derivative represented by the general formula (5):

【0011】[0011]

【化9】 Embedded image

【0012】(式中、Y、R2、R3、nは前記に同じ)
で表されるトリフルオロメチルスチレン誘導体を得る工
程(第一工程)。 一般式(4)または一般式(5)で表されるトリフ
ルオロメチルスチレン誘導体の何れかを加水分解して一
般式(6)、
Wherein Y, R 2 , R 3 and n are the same as above.
Obtaining a trifluoromethylstyrene derivative represented by the following formula (first step). By hydrolyzing any of the trifluoromethylstyrene derivatives represented by the general formula (4) or (5), the general formula (6)

【0013】[0013]

【化10】 Embedded image

【0014】(式中、Y、nは前記に同じ)で表される
トリフルオロメチルフェニルアセトアルデヒド類を得る
工程(第二工程)。 一般式(6)で表されるトリフルオロメチルフェニ
ルアセトアルデヒド類を酸化して一般式(7)
A step of obtaining a trifluoromethylphenylacetaldehyde represented by the formula (where Y and n are the same as described above) (second step). The trifluoromethylphenylacetaldehyde represented by the general formula (6) is oxidized to obtain a compound represented by the general formula (7)

【0015】[0015]

【化11】 Embedded image

【0016】(式中、Y、nは前記に同じ)で表される
トリフルオロメチルフェニル酢酸を得る工程(第三工
程)。
A step of obtaining trifluoromethylphenylacetic acid represented by the formula (where Y and n are the same as described above) (third step).

【0017】また、他の発明は、第一工程と第二工程か
らなる一般式(6)で表されるトリフルオロメチルフェ
ニルアセトアルデヒド類の製造方法、第三工程の一般式
(7)で表されるトリフルオロメチルフェニル酢酸の製
造方法、および一般式(8)で表されるトリフルオロメ
チルフェニルアセトアルデヒド類である。
Another invention is a method for producing trifluoromethylphenylacetaldehydes represented by the general formula (6) comprising a first step and a second step, and a method represented by a general formula (7) in a third step. And a trifluoromethylphenylacetaldehyde represented by the general formula (8).

【0018】本発明の出発原料となる一般式(1)、The general formula (1) as a starting material of the present invention,

【0019】[0019]

【化12】 Embedded image

【0020】(式中、Xはハロゲン原子(塩素、臭素ま
たはヨウ素)またはトリフルオロメタンスルホネート
基、Yは水素原子または不活性基であり、nは1または
2を表す。)で表されるトリフルオロメチル化合物は、
少なくとも1個のトリフルオロメチル基と反応部位とな
るハロゲン原子をベンゼン環に有する化合物である。Y
はそれぞれ独立に異なった水素原子または不活性基であ
ってよい。
(Wherein X is a halogen atom (chlorine, bromine or iodine) or a trifluoromethanesulfonate group, Y is a hydrogen atom or an inert group, and n represents 1 or 2). The methyl compound is
It is a compound having at least one trifluoromethyl group and a halogen atom serving as a reaction site on a benzene ring. Y
May be independently different hydrogen atoms or inert groups.

【0021】具体的に、特に限定されないが、一個のト
リフルオロメチル基を有する化合物、例えば、1−ブロ
モ−2−トリフルオロメチルベンゼン、1−ヨード−2
−トリフルオロメチルベンゼン、1−ブロモ−3−トリ
フルオロメチルベンゼン、1−ヨード−3−トリフルオ
ロメチルベンゼン、1−ブロモ−4−トリフルオロメチ
ルベンゼン、1−ヨード−4−トリフルオロメチルベン
ゼン、二個のトリフルオロメチル基を有する化合物、例
えば、1−ブロモ−2,4−ビス(トリフルオロメチ
ル)ベンゼン、1−ヨード−2,4−ビス(トリフルオ
ロメチル)ベンゼン、1−ブロモ−3,5−ビス(トリ
フルオロメチル)ベンゼン[3,5−ビス(トリフルオ
ロメチル)ブロモベンゼン]、1−ヨード−3,5−ビ
ス(トリフルオロメチル)ベンゼン[3,5−ビス(ト
リフルオロメチル)ヨードベンゼン]、2−ブロモ−
1,3−ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン、2−ヨ
ード−1,3−ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン、
2−ブロモ−1,4−ビス(トリフルオロメチル)ベン
ゼン、2−ヨード−1,4−ビス(トリフルオロメチ
ル)ベンゼン、4−ブロモ−1,2−ビス(トリフルオ
ロメチル)ベンゼンなどが挙げられる。
Specifically, although not particularly limited, compounds having one trifluoromethyl group, for example, 1-bromo-2-trifluoromethylbenzene, 1-iodo-2
-Trifluoromethylbenzene, 1-bromo-3-trifluoromethylbenzene, 1-iodo-3-trifluoromethylbenzene, 1-bromo-4-trifluoromethylbenzene, 1-iodo-4-trifluoromethylbenzene, Compounds having two trifluoromethyl groups, for example, 1-bromo-2,4-bis (trifluoromethyl) benzene, 1-iodo-2,4-bis (trifluoromethyl) benzene, 1-bromo-3 , 5-bis (trifluoromethyl) benzene [3,5-bis (trifluoromethyl) bromobenzene], 1-iodo-3,5-bis (trifluoromethyl) benzene [3,5-bis (trifluoromethyl) ) Iodobenzene], 2-bromo-
1,3-bis (trifluoromethyl) benzene, 2-iodo-1,3-bis (trifluoromethyl) benzene,
2-bromo-1,4-bis (trifluoromethyl) benzene, 2-iodo-1,4-bis (trifluoromethyl) benzene, 4-bromo-1,2-bis (trifluoromethyl) benzene, and the like. Can be

【0022】また、本発明に使用する一般式(1)で表
されるトリフルオロメチル化合物には、不活性基として
は、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基などを有する
化合物であってもよい。例えば、1−ブロモ−2−メト
キシ−3,5−ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン、
1−ヨード−2−メトキシ−3,5−ビス(トリフルオ
ロメチル)ベンゼン、2−ブロモ−1−ニトロ−3,5
−ビス(トリフルオロメチル)ベンゼンなどが挙げられ
る。
The trifluoromethyl compound represented by the general formula (1) used in the present invention may be a compound having an alkyl group, an alkoxy group, a nitro group or the like as an inert group. For example, 1-bromo-2-methoxy-3,5-bis (trifluoromethyl) benzene,
1-iodo-2-methoxy-3,5-bis (trifluoromethyl) benzene, 2-bromo-1-nitro-3,5
-Bis (trifluoromethyl) benzene and the like.

【0023】一般式(1)で表されるトリフルオロメチ
ル化合物としては、生成物の有用性の顕著なことから
3,5−ビス(トリフルオロメチル)ブロモベンゼンま
たは3,5−ビス(トリフルオロメチル)ヨードベンゼ
ンなどが最も好ましい。
As the trifluoromethyl compound represented by the general formula (1), 3,5-bis (trifluoromethyl) bromobenzene or 3,5-bis (trifluoro Most preferred is methyl) iodobenzene.

【0024】本発明の方法に使用する一般式(2) CH2=CH−OR1 (2) で表されるビニルエーテルまたは一般式(2)、 CH2=CH−N(R2)−CO−R3 (3) で表されるエタナミドにおいて、R1、R2、R3は反応
に著しい悪影響を及ぼさない限りいかなる基であっても
よいが、例えば、C1〜C8のアルキル基、C1〜C8のハ
ロアルキル基、C2〜C8のアルケニル基、C1〜C8のハ
ロアルケニル基、C3〜C6のシクロアルキル基、アリー
ル基、アリール−C1〜C2アルキル基、ヘテロアリール
基またはC1〜C8のアシル基などが挙げられる。また、
これらは適宜置換基を有していてもよい。R1、R2、R
3は何れも本発明においては第二工程で脱離する基であ
るので通常はアルキル基で十分である。これらのうち、
一般式(10) CH2=CH−OR4 (10) (式中、R4はC1〜C6のアルキル基を表す)で表され
るビニルエーテル、例えば、メチルビニルエーテル、エ
チルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、イソプ
ロピルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、s
ec−ブチルビニルエーテル、tert−ブチルビニル
エーテル、n−ペンチルビニルエーテルなどが好ましい
例として挙げられる。
The vinyl ether represented by the general formula (2) CH 2 CHCH—OR 1 (2) or CH 2 CHCH—N (R 2 ) —CO— used in the method of the present invention. In the ethanamide represented by R 3 (3), R 1 , R 2 , and R 3 may be any groups as long as they do not adversely affect the reaction. Examples thereof include C 1 -C 8 alkyl groups and C 1 -C 8 alkyl groups. haloalkyl group 1 -C 8, an alkenyl group of C 2 -C 8, haloalkenyl groups C 1 -C 8, cycloalkyl radical of C 3 -C 6, an aryl group, an -C 1 -C 2 alkyl group, Examples include a heteroaryl group or a C 1 -C 8 acyl group. Also,
These may have a substituent appropriately. R 1 , R 2 , R
In the present invention, any of 3 is a group which is eliminated in the second step, so that an alkyl group is usually sufficient. Of these,
A vinyl ether represented by the general formula (10) CH 2 = CH—OR 4 (10) (wherein R 4 represents a C 1 -C 6 alkyl group), for example, methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, propyl vinyl ether; Isopropyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, s
Preferred examples include ec-butyl vinyl ether, tert-butyl vinyl ether, and n-pentyl vinyl ether.

【0025】本発明においては、パラジウムはパラジウ
ム塩、例えば、酢酸パラジウム、塩化パラジウム、臭化
パラジウム、トリフルオロ酢酸パラジウム、或いはパラ
ジウム錯体、例えば、[3,5−ビス(トリフルオロメ
チル)ベンゾアト]3’,5’−ビス(トリフルオロメ
チル)フェニルビス(トリフェニルホスフィン)パラジ
ウム(II)、〔Pd(PPh34〕、ビス(ジベンザルア
セトン)パラジウム、PdCl2〔P(Ph)2CH2
2P(Ph)2〕、PdCl2〔P(Ph)2CH2CH2
CH2P(Ph)2〕、PdCl2〔P(Ph)2CH2
2CH2CH2P(Ph)2〕、PdCl2(dpp
b)、PdCl2(dppf)、PdCl2[P(o−M
e−Ph)32、PdCl2[P(m−Me−Ph)3
2、PdCl2[P(p−Me−Ph)32、PdCl2
(PMe32、PdCl2(PPh32、PdBr2(P
Ph32、Pd(PPh34、Pd(CO)(PP
33、PhPdI(PPh32、PhPdBr(PP
32、PhPdBr(PMePh22、PdCl
2(PMePh22、PdCl2(PEt2Ph)2、Pd
Cl2(PMe2Ph)2、Pd2Br4(PPh32、P
dCl2(PEt32、Pd(OAc)2(PPh32
PdCl2(acetonitrile)2、PdCl2
(benzonitrile)2、PdCl2(bpy)
等が挙げられる。ここで、Meはメチル基、Etはエチ
ル基、Phはフェニル基、OAcはアセタト配位子を表
す。これらのうち、パラジウム塩としては酢酸パラジウ
ム、塩化パラジウムなど、錯体としては、PdCl
2(dppb)、PdCl2(PPh32、Pd(OA
c)2(PPh32などが特に好ましい。
In the present invention, palladium is a palladium salt such as palladium acetate, palladium chloride, palladium bromide, palladium trifluoroacetate, or a palladium complex such as [3,5-bis (trifluoromethyl) benzoato] 3. ', 5'-bis (trifluoromethyl) phenylbis (triphenylphosphine) palladium (II), [Pd (PPh 3 ) 4 ], bis (dibenzalacetone) palladium, PdCl 2 [P (Ph) 2 CH 2 C
H 2 P (Ph) 2 ], PdCl 2 [P (Ph) 2 CH 2 CH 2
CH 2 P (Ph) 2 ], PdCl 2 [P (Ph) 2 CH 2 C
H 2 CH 2 CH 2 P (Ph) 2 ], PdCl 2 (dpp
b), PdCl 2 (dppf), PdCl 2 [P (o-M
e-Ph) 3] 2, PdCl 2 [P (m-Me-Ph) 3]
2 , PdCl 2 [P (p-Me-Ph) 3 ] 2 , PdCl 2
(PMe 3 ) 2 , PdCl 2 (PPh 3 ) 2 , PdBr 2 (P
Ph 3 ) 2 , Pd (PPh 3 ) 4 , Pd (CO) (PP
h 3) 3, PhPdI (PPh 3) 2, PhPdBr (PP
h 3) 2, PhPdBr (PMePh 2) 2, PdCl
2 (PMePh 2 ) 2 , PdCl 2 (PEt 2 Ph) 2 , Pd
Cl 2 (PMe 2 Ph) 2 , Pd 2 Br 4 (PPh 3 ) 2 , P
dCl 2 (PEt 3 ) 2 , Pd (OAc) 2 (PPh 3 ) 2 ,
PdCl 2 (acetonitrile) 2 , PdCl 2
(Benzonitrile) 2 , PdCl 2 (bpy)
And the like. Here, Me represents a methyl group, Et represents an ethyl group, Ph represents a phenyl group, and OAc represents an acetato ligand. Of these, palladium salts such as palladium acetate and palladium chloride are used as palladium salts, and PdCl is used as a complex.
2 (dppb), PdCl 2 (PPh 3 ) 2 , Pd (OA
c) 2 (PPh 3 ) 2 and the like are particularly preferred.

【0026】本発明の方法で配位子として使用されるホ
スフィンは特に限定されないが、具体例としては、例え
ば、1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセ
ン(dppf)、1,4−ビス(ジフェニルホスフィ
ノ)ブタン(dppb)、1,3−ビス(ジフェニルホ
スフィノ)プロパン(dppp)、1,2−ビス(ジフ
ェニルホスフィノ)エタン(dppe)、トリフェニル
ホスフィン、メチルジフェニルホスフィン、トリ−o−
トリルホスフィン、トリ−m−トリルホスフィン、トリ
−p−トリルホスフィン、トリ−n−ブチルホスフィ
ン、トリエチルホスフィンなどが挙げられる。これらの
ホスフィンは遊離のホスフィンとして添加してもよい
が、例えばPdCl2(PPh32 のようにPd錯体中
に含有された形で添加してもよい。
The phosphine used as a ligand in the method of the present invention is not particularly limited, but specific examples include 1,1'-bis (diphenylphosphino) ferrocene (dppf) and 1,4-bis (Diphenylphosphino) butane (dppb), 1,3-bis (diphenylphosphino) propane (dppp), 1,2-bis (diphenylphosphino) ethane (dppe), triphenylphosphine, methyldiphenylphosphine, tri- o-
Tolyl phosphine, tri-m-tolyl phosphine, tri-p-tolyl phosphine, tri-n-butyl phosphine, triethyl phosphine and the like can be mentioned. These phosphines may be added as free phosphines, or may be added in a form contained in a Pd complex such as PdCl 2 (PPh 3 ) 2 .

【0027】またホスフィン類の代わりに二座のアミン
類を用いることもできる。これら二座アミンの例として
は2,2’−ビピリジル、 1,10−フェナントロリ
ン、1,2−ジアミノベンゼン、N,N,N’,N’−
テトラメチルエチレンジアミンなどを挙げることができ
る。
Further, bidentate amines can be used in place of phosphines. Examples of these bidentate amines are 2,2'-bipyridyl, 1,10-phenanthroline, 1,2-diaminobenzene, N, N, N ', N'-
Tetramethylethylenediamine and the like can be mentioned.

【0028】パラジウムの使用量は、原料である一般式
(1)で表されるトリフルオロメチル化合物1モルに対
して0.00001〜0.5モル、好ましくは0.00
005〜0.1モル、より好ましくは0.0001〜
0.1モルである。0.00001モルよりも少ないと
反応の進行が遅く実用的でないので好ましくなく、ま
た、0.5モルよりも多いことは反応の点では問題はな
いが経済的に不利であるので好ましくない。
The amount of palladium used is 0.00001 to 0.5 mol, preferably 0.001 mol, per mol of the trifluoromethyl compound represented by the general formula (1) as a raw material.
005 to 0.1 mol, more preferably 0.0001 to
0.1 mol. If the amount is less than 0.00001 mol, the progress of the reaction is too slow to be practical, and it is not preferable.

【0029】また、ホスフィン(または2座アミン)は
パラジウム1モルに対し配位リン原子(または窒素原
子)が0.5〜4モル程度、好ましくは1〜3モル程度
になるよう添加する。ホスフィン(または二座アミン)
をあまり過剰に使用すると、反応速度が低下したり、2
−置換体の選択率が低下することがある。またホスフィ
ン(または二座アミン)を必要量以上に添加しないと、
パラジウム黒が析出して十分に反応が進行しないことが
あり、好ましくない。
The phosphine (or bidentate amine) is added so that the coordinated phosphorus atom (or nitrogen atom) is about 0.5 to 4 moles, preferably about 1 to 3 moles per mole of palladium. Phosphine (or bidentate amine)
If too much is used, the reaction rate will decrease,
-The selectivity of the substituted product may decrease. Also, if phosphine (or bidentate amine) is not added more than necessary,
Palladium black may precipitate and the reaction may not proceed sufficiently, which is not preferable.

【0030】本発明の第一の工程にかかる反応は溶媒中
で行われる。溶媒は非プロトン性極性溶媒が用いられ、
例えば、プロピレンカーボネート、アニソール、N−メ
チル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミ
ド、ジメチルホルムアミド、テトラメチル尿素、γ−ブ
チロラクトン、N,N−ジメチルイミダゾリジノンおよ
びジメチルスルホキシドなどが挙げられる。
The reaction according to the first step of the present invention is carried out in a solvent. As the solvent, an aprotic polar solvent is used,
Examples include propylene carbonate, anisole, N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, dimethylformamide, tetramethylurea, γ-butyrolactone, N, N-dimethylimidazolidinone, dimethylsulfoxide and the like.

【0031】これら非プロトン性極性溶媒に水を添加す
ると反応が促進されることがあるので、系内に適宜、水
を添加してもよい。添加量に特に制限はないが、あまり
多量に添加するとかえって反応が抑制されたり、副反応
が促進されることがある。具体的には非プロトン性極性
溶媒の半分以下の添加量範囲が好ましい。
Since the reaction may be accelerated by adding water to these aprotic polar solvents, water may be appropriately added to the system. The amount of addition is not particularly limited, but if added in too large an amount, the reaction may be suppressed or a side reaction may be accelerated. Specifically, the addition amount range is preferably not more than half of the aprotic polar solvent.

【0032】塩基としては、アミン類;トリエチルアミ
ン、トリエチレンジアミン、シクロヘキシルアミン、N
−シクロヘキシル−N,N−ジエチルアミン、ピリジ
ン、4−(N,N−ジメチルアミノ)ピリジン、N−メ
チルモルホリン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.
0]ウンデカ−5−エン(DBU)、アルカリ金属、ア
ルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩、リン
酸塩、例えば、カリウムの水酸化物、炭酸塩、炭酸水素
塩、リン酸塩;カルボン酸塩、例えば、C2〜C4のカル
ボン酸のアルカリ金属塩などが挙げられる。これらのう
ち、トリエチルアミン、水酸化カリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸水素カリウム、リン酸カリウム、酢酸ナトリウ
ムが特に好ましい。
Examples of the base include amines; triethylamine, triethylenediamine, cyclohexylamine, N
-Cyclohexyl-N, N-diethylamine, pyridine, 4- (N, N-dimethylamino) pyridine, N-methylmorpholine, 1,8-diazabicyclo [5.4.
0] Undec-5-ene (DBU), alkali metal, alkaline earth metal hydroxide, carbonate, hydrogen carbonate, phosphate, for example, potassium hydroxide, carbonate, hydrogen carbonate, phosphorus Acid Salts: Carboxylates, for example, alkali metal salts of C 2 -C 4 carboxylic acids and the like. Among them, triethylamine, potassium hydroxide, potassium carbonate, potassium hydrogen carbonate, potassium phosphate and sodium acetate are particularly preferred.

【0033】本発明の第一工程の反応の反応温度は30
〜200℃であり、70〜150℃程度が好ましい。
The reaction temperature of the reaction of the first step of the present invention is 30.
To 200 ° C, preferably about 70 to 150 ° C.

【0034】第一工程の操作は、特に限定されず通常の
有機合成の手順で行えばよいが、例えば、それぞれ所定
量の一般式(1)で表されるトリフルオロメチル化合
物、反応溶媒、塩基、パラジウム化合物、ホスフィン
(もしくは二座アミン)を反応容器に入れ、内部を不活
性ガス、例えば、窒素、アルゴン、水素、ヘリウムなど
で置換し、攪拌しながら所定の温度まで昇温する。その
後、所定量の一般式(2)または(3)で表される化合
物を一時に、連続的に、または断続的に投入する。所定
量の一般式(2)または(3)で表される化合物は他の
試剤と共に昇温前に反応器に仕込んでもかまわない。投
入終了後必要に応じてさらに反応を継続する。反応が完
結または終了した後、内容物を取りだし精製操作に付す
る。
The operation of the first step is not particularly limited, and may be performed by a general procedure of organic synthesis. For example, a predetermined amount of a trifluoromethyl compound represented by the general formula (1), a reaction solvent, a base , A palladium compound and phosphine (or bidentate amine) are charged into a reaction vessel, and the inside is replaced with an inert gas, for example, nitrogen, argon, hydrogen, helium, etc., and the temperature is raised to a predetermined temperature while stirring. Thereafter, a predetermined amount of the compound represented by the general formula (2) or (3) is added at one time, continuously or intermittently. A predetermined amount of the compound represented by the general formula (2) or (3) may be charged into the reactor together with other reagents before the temperature is raised. After completion of the charging, the reaction is further continued as necessary. After the reaction is completed or completed, the contents are taken out and subjected to a purification operation.

【0035】第二工程においては、第一工程で得られた
一般式(4)または一般式(5)、で表されるトリフル
オロメチルスチレン誘導体の何れかを加水分解して一般
式(6)で表されるトリフルオロメチルフェニルアセト
アルデヒド類とすることからなっている。一般式(4)
または一般式(5)で表されるトリフルオロメチルスチ
レン誘導体にはcis体とtrans体の異性体があるが第二工
程の反応においては何れも一般式(6)で表される生成
物が得られる。
In the second step, any one of the trifluoromethylstyrene derivatives represented by the general formula (4) or (5) obtained in the first step is hydrolyzed to obtain a compound of the general formula (6) And trifluoromethylphenylacetaldehydes represented by General formula (4)
Alternatively, the trifluoromethylstyrene derivative represented by the general formula (5) has a cis isomer and a trans isomer, but in the reaction of the second step, the product represented by the general formula (6) is obtained in any case. Can be

【0036】本発明の第二工程は、一般式(4)または
一般式(5)で表される化合物を加水分解させて一般式
(6)で表されるアルデヒド化合物とすることからなっ
ている。この加水分解反応は、第一工程で得られた一般
式(4)または一般式(5)で表される生成物を酸水溶
液と0〜100℃程度で接触させて行う。この時溶媒を
共存させてもよい。酸としては例えば塩酸、硫酸、酢酸
などが使用でき、溶媒としては生成物を溶解できるもの
であれば特に限定されないが、例えば、アセトン、N,
N−ジメチルフォルムアミド(DMF)、N,N−ジメ
チルアセトアミド(DMAC)、アセトニトリルなどが
挙げられる。無溶媒の場合に比べ、溶媒を使用する方が
一般的にトリフルオロメチルフェニルアセトアルデヒド
類の選択率が高くなるので、好ましい。
The second step of the present invention comprises hydrolyzing the compound represented by the general formula (4) or (5) to obtain an aldehyde compound represented by the general formula (6). . This hydrolysis reaction is carried out by bringing the product represented by the general formula (4) or (5) obtained in the first step into contact with an aqueous acid solution at about 0 to 100 ° C. At this time, a solvent may be allowed to coexist. As the acid, for example, hydrochloric acid, sulfuric acid, acetic acid and the like can be used, and the solvent is not particularly limited as long as it can dissolve the product. For example, acetone, N,
Examples include N-dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide (DMAC), and acetonitrile. It is preferable to use a solvent, since the selectivity of trifluoromethylphenylacetaldehydes generally increases as compared with the case without a solvent.

【0037】第一工程においては、一般式(4)または
一般式(5)で表される化合物(2−置換体)ととも
に、ビニルエーテルまたはエタナミドの1−位にアリー
ル基が置換した異性体(1−置換体)の得られることが
ある。第二工程において1−置換体は加水分解される
と、一般式(9)、
In the first step, together with the compound (2-substituted) represented by the general formula (4) or (5), an isomer (1) in which an aryl group is substituted at the 1-position of vinyl ether or ethanamide -Substituted) may be obtained. When the 1-substituted product is hydrolyzed in the second step, the compound represented by the general formula (9):

【0038】[0038]

【化13】 Embedded image

【0039】(式中、Y、nは前記と同じ)で表される
アセトフェノン誘導体に変換されるので、2−置換体が
加水分解されて生成する一般式(6)で表されるアルデ
ヒド化合物から公知の方法、例えば、蒸留、溶媒抽出、
再結晶、カラムクロマトグラフ等で分離し、除去するこ
とができる。また、2−置換体が1−置換体よりも加水
分解反応を受け易い場合には、比較的温和な条件で2−
置換体のみを加水分解して一般式(6)で表されるアル
デヒド化合物とし、それを未反応の1−置換体から分離
精製することもできる。一方、1−置換体が2−置換体
よりも加水分解反応を受け易い場合には、アルデヒド化
合物の精製の煩雑を避けるためには1−置換体を第二工
程の加水分解の前に予め除去しておくこともできる。除
去する方法としては、蒸留、溶媒抽出、再結晶、カラム
クロマトグラフなどの方法を採用してもよい。また、前
もって1−置換体のみを反応させ、他の物質に変換させ
た後公知の手段で分離、除去することもできる。例え
ば、1−置換体のみを加水分解できる条件においてそれ
を一般式(6)で表されるアセトフェノン誘導体に変換
して、一般式(4)または一般式(5)で表される化合
物から除去しておくのは好ましい方法である。
(Where Y and n are the same as those described above), so that the aldehyde compound represented by the general formula (6), which is formed by hydrolysis of the 2-substituted product, is obtained. Known methods, for example, distillation, solvent extraction,
It can be separated and removed by recrystallization, column chromatography or the like. When the 2-substituted product is more susceptible to a hydrolysis reaction than the 1-substituted product, the 2-substituted product is obtained under relatively mild conditions.
It is also possible to hydrolyze only the substituted product to obtain an aldehyde compound represented by the general formula (6), and to separate and purify the aldehyde compound from the unreacted 1-substituted product. On the other hand, when the 1-substituted product is more susceptible to hydrolysis than the 2-substituted product, the 1-substituted product is removed in advance before the hydrolysis in the second step in order to avoid complicated purification of the aldehyde compound. You can also keep. As a method for removal, a method such as distillation, solvent extraction, recrystallization, or column chromatography may be employed. Alternatively, only the 1-substituted product can be reacted in advance and converted to another substance, and then separated and removed by known means. For example, the compound is converted into an acetophenone derivative represented by the general formula (6) under the condition that only the 1-substituted product can be hydrolyzed and removed from the compound represented by the general formula (4) or (5). This is the preferred method.

【0040】第二工程で得られた反応生成物は公知の方
法、例えば、蒸留、溶媒抽出、再結晶、カラムクロマト
グラフ等で精製することができる。例えば、3,5−ビ
ス(トリフルオロメチル)フェニルアセトアルデヒドの
場合、この化合物は常温で固体のため、加水分解反応終
了後、有機成分を適当な有機溶媒に溶媒抽出した後、濃
縮、洗浄することで結晶として容易に単離することがで
きる。この3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニ
ルアセトアルデヒドは通常の条件下で十分安定である。
The reaction product obtained in the second step can be purified by a known method, for example, distillation, solvent extraction, recrystallization, column chromatography or the like. For example, in the case of 3,5-bis (trifluoromethyl) phenylacetaldehyde, since this compound is a solid at ordinary temperature, after the hydrolysis reaction is completed, the organic component is extracted with a suitable organic solvent, and then concentrated and washed. Can be easily isolated as crystals. This 3,5-bis (trifluoromethyl) phenylacetaldehyde is sufficiently stable under ordinary conditions.

【0041】さらに本発明者らは、上記の通り得た一般
式(6)で表されるアルデヒド化合物に酸化処理を施す
ことにより、有用性の大きい対応するトリフルオロメチ
ルフェニル酢酸を容易に製造できることを見いだした。
Furthermore, the present inventors can easily produce the corresponding trifluoromethylphenylacetic acid having high utility by subjecting the aldehyde compound represented by the general formula (6) obtained as described above to an oxidation treatment. Was found.

【0042】第三工程にかかる反応は一般式(6)で表
されるアルデヒド化合物を溶媒と共に特定の酸化剤と−
50〜100℃程度の温度で接触させることで行う。一
般式(6)で表されるアルデヒド化合物としては、単離
精製したものを使用してもよいが、その必要は必ずしも
なく、第二工程で得られた反応生成物から有機相を分取
し未精製のまま使用してもよい。酸化剤には、酸素、オ
ゾン等、三酸化クロム(CrO3)、重クロム酸カリウム
(K2Cr2O7)、過マンガン酸カリウム(KMnO4)、活性マ
ンガン、二酸化マンガン、一酸化銀などの重金属塩、次
亜塩素酸ナトリウム、亜塩素酸ナトリウム、塩素酸ナト
リウム、過塩素酸ナトリウム、過酸化水素などの過酸化
物等、汎用の酸化剤を使用すればよい。また、溶媒とし
ては、水、アセトン、酢酸などが好ましい。
In the reaction relating to the third step, the aldehyde compound represented by the general formula (6) is reacted with a specific oxidizing agent together with a solvent.
The contact is performed at a temperature of about 50 to 100 ° C. As the aldehyde compound represented by the general formula (6), an isolated and purified aldehyde compound may be used, but it is not always necessary, and the organic phase is separated from the reaction product obtained in the second step. It may be used without purification. Oxidizing agents include oxygen, ozone, chromium trioxide (CrO 3 ), potassium dichromate (K 2 Cr 2 O 7 ), potassium permanganate (KMnO 4 ), active manganese, manganese dioxide, silver monoxide, etc. A general-purpose oxidizing agent such as a heavy metal salt, sodium hypochlorite, sodium chlorite, sodium chlorate, sodium perchlorate and peroxide such as hydrogen peroxide may be used. Further, as the solvent, water, acetone, acetic acid and the like are preferable.

【0043】反応終了後のトリフルオロメチルフェニル
酢酸の精製は通常の有機合成の方法によればよく、特に
限定されない。例えば、溶媒抽出、カラムクロマトグラ
フィ、蒸留、再結晶などを適宜組み合わせて行えばよ
い。
The purification of trifluoromethylphenylacetic acid after the completion of the reaction may be carried out by a conventional organic synthesis method, and is not particularly limited. For example, solvent extraction, column chromatography, distillation, recrystallization and the like may be appropriately combined.

【0044】[0044]

【実施例】以下に、本発明を実施例をもって詳細に説明
するが、本発明はこれらの実施態様に限られない。
EXAMPLES The present invention will be described in detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to these embodiments.

【0045】[錯体の調製1][3,5−ビス(トリフ
ルオロメチル)ベンゾアト]3’,5’−ビス(トリフ
ルオロメチル)フェニルビス(トリフェニルホスフィ
ン)パラジウム(II)の合成 ステンレス製オートクレーブに3,5−ビス(トリフル
オロメチル)ブロモベンゼン65.3g、テトラヒドロ
フラン100ml、酢酸パラジウム50.0g、トリフ
ェニルホスフィン175.5g、3,5−ビス(トリフ
ルオロメチル)安息香酸57.6g、25%アンモニア
水60.8gを仕込んだ。窒素置換を2回行い、窒素圧
を3kg/cm2として攪拌を始めると内温が約50℃
に上昇した。その後油浴温度を120℃に設定し加熱を
開始した。約2時間後、内温が95.6℃に達した時点
で油浴を外し冷却した。反応液に水200mlおよびト
ルエン600mlを加え、数分間攪拌した。得られた処
理液を吸引濾過し、濾液の有機層(上層)を分液した
後、飽和食塩水で2回洗浄し、無水マグネシウムで乾燥
後、揮発成分を留去濃縮した。濃縮初期に析出した固体
を濾別し、さらに濾液を濃縮した後,n−ヘキサンを加
え冷却し析出した固体を濾別し粗生成物187.5gを
得た。粗生成物をトルエンから再結晶し淡黄色結晶14
3.0gを得た。
[Preparation of Complex 1] [3,5-bis (trifluoromethyl) benzoato] Synthesis of 3 ', 5'-bis (trifluoromethyl) phenylbis (triphenylphosphine) palladium (II) Stainless steel autoclave 65.3 g of 3,5-bis (trifluoromethyl) bromobenzene, 100 ml of tetrahydrofuran, 50.0 g of palladium acetate, 175.5 g of triphenylphosphine, 57.6 g of 3,5-bis (trifluoromethyl) benzoic acid, 25 60.8 g of an aqueous ammonia solution was charged. Nitrogen replacement is performed twice, the stirring is started at a nitrogen pressure of 3 kg / cm 2 , and the internal temperature becomes about 50 ° C.
Rose. Thereafter, the oil bath temperature was set to 120 ° C. and heating was started. About 2 hours later, when the internal temperature reached 95.6 ° C, the oil bath was removed and the system was cooled. 200 ml of water and 600 ml of toluene were added to the reaction solution, and the mixture was stirred for several minutes. The obtained treatment liquid was subjected to suction filtration, the organic layer (upper layer) of the filtrate was separated, washed twice with a saturated saline solution, dried over anhydrous magnesium, and concentrated by evaporation of volatile components. The solid precipitated at the initial stage of concentration was separated by filtration, and the filtrate was further concentrated. Then, n-hexane was added and the mixture was cooled, and the precipitated solid was filtered to obtain 187.5 g of a crude product. The crude product was recrystallized from toluene to give pale yellow crystals.
3.0 g were obtained.

【0046】[3,5−ビス(トリフルオロメチル)ベ
ンゾアト]3’,5’−ビス(トリフルオロメチル)フ
ェニルビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II) 融点:168-170℃(decomp.) IR(KBr:cm-1):3060,2926,1637,1437,1321,1277,1173,
1127,748,697,5181 H-NMR(基準物質:TMS 溶媒:CDCl3):δppm 6.97(s,1
H),7.09(s,2H),7.20-7.32(m,18H),7.40-7.50(m,12H),7.
53(s,2H),7.62(s,1H)31 P-NMR(基準物質:85%H3PO4 溶媒:CDCl3):δppm 2
5.73(s) [錯体の調製2]PdCl2(dppb)の調製は公知
の方法[J. Coord. Chem.(Engl. Edit), 22(1996),563-5
67]によった。すなわち、攪拌子を入れた300ml三
角フラスコにアセトニトリル100mlを入れ、そこへ
塩化パラジウム0.574gを投入し、オイルバスで7
0℃に加温しながら攪拌した。塩化パラジウムが溶解し
てから1,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン
1.382gを投入すると淡黄色の結晶が沈殿した。約
3時間攪拌を続けた後、結晶を濾過してアセトニトリル
で洗浄しPdCl2(dppb)を得た。
[3,5-bis (trifluoromethyl) benzoato] 3 ', 5'-bis (trifluoromethyl) phenylbis (triphenylphosphine) palladium (II) Melting point: 168-170 ° C (decomp.) IR (KBr: cm -1 ): 3060,2926,1637,1437,1321,1277,1173,
1127,748,697,518 1 H-NMR (reference substance: TMS solvent: CDCl 3 ): δ ppm 6.97 (s, 1
H), 7.09 (s, 2H), 7.20-7.32 (m, 18H), 7.40-7.50 (m, 12H), 7.
53 (s, 2H), 7.62 (s, 1H) 31 P-NMR (reference substance: 85% H 3 PO 4 solvent: CDCl 3 ): δ ppm 2
5.73 (s) [Preparation of complex 2] Preparation of PdCl 2 (dppb) is performed by a known method [J. Coord. Chem. (Engl. Edit), 22 (1996), 563-5].
67]. That is, 100 ml of acetonitrile was put into a 300 ml Erlenmeyer flask containing a stirrer, 0.574 g of palladium chloride was put therein, and 7
The mixture was stirred while warming to 0 ° C. After dissolving the palladium chloride, 1.382 g of 1,4-bis (diphenylphosphino) butane was added, and pale yellow crystals precipitated. After continuing stirring for about 3 hours, the crystals were filtered and washed with acetonitrile to obtain PdCl 2 (dppb).

【0047】[実施例1−1]1リットルのSUS製オー
トクレーブ中に、3,5−(ビストリフルオロメチル)
ブロモベンゼン(純度97.0%)150g(0.51
2mol)、n−ブチルビニルエーテル102.6g
(1.024mol)、トリエチルアミン62.2g
(0.615mol)、PdCl2(dppb) 1.
5462g(0.00256mol)、N,N−ジメチ
ルアセトアミド360ml、水90mlを加えた。反応
器を密閉し、数回窒素置換した後、撹拌しながらオイル
バスで内温を105℃に上げた。以後105〜110℃
で12時間撹拌した。
Example 1-1 In a 1-liter SUS autoclave, 3,5- (bistrifluoromethyl) was added.
150 g (0.51) of bromobenzene (purity 97.0%)
2mol), 102.6 g of n-butyl vinyl ether
(1.024 mol), 62.2 g of triethylamine
(0.615 mol), PdCl 2 (dppb)
5462 g (0.00256 mol), 360 ml of N, N-dimethylacetamide and 90 ml of water were added. After closing the reactor and purging with nitrogen several times, the internal temperature was raised to 105 ° C. with an oil bath while stirring. Thereafter, 105-110 ° C
For 12 hours.

【0048】反応生成物を室温まで放冷し、これに水を
加えたところ2相の透明液体となった。下相を分取して
水で2回洗浄した。ロータリーエバポレーターで低沸点
成分を除いて、3,5−ビス(トリフルオロメチル)−
1−n−ブトキシスチレン=22.6%、3,5−ビス
(トリフルオロメチル)−2−n−ブトキシスチレン
(cis)=31.1%、3,5−ビス(トリフルオロ
メチル)−2−n−ブトキシスチレン(trans)=
25.9%、3,5−ビス(トリフルオロメチル)アセ
トフェノン=2.0%を含む褐色の液体が138.6g
得られた。
The reaction product was allowed to cool to room temperature, and water was added to the reaction product to form a two-phase transparent liquid. The lower phase was separated and washed twice with water. Remove 3,5-bis (trifluoromethyl)-
1-n-butoxystyrene = 22.6%, 3,5-bis (trifluoromethyl) -2-n-butoxystyrene (cis) = 31.1%, 3,5-bis (trifluoromethyl) -2 -N-butoxystyrene (trans) =
138.6 g of a brown liquid containing 25.9% and 3,5-bis (trifluoromethyl) acetophenone = 2.0%
Obtained.

【0049】同様の方法で第一工程を2バッチ行い、得
られたスチレン誘導体混合物のうち380.5gを実施
例2に使用した。
In the same manner, two batches of the first step were carried out, and 380.5 g of the obtained styrene derivative mixture was used in Example 2.

【0050】[実施例1−2〜1−6]100mlの耐
圧ガラス製のオートクレーブに3,5−ビス(トリフル
オロメチル)ブロモベンゼン5.0g(0.0171m
ol)、n−ブチルビニルエーテル3.42g(0.0
341mol)、塩基(0.0205mol)、溶媒、
Pd触媒、ホスフィン配位子をおのおの表1のように添
加した。窒素ガスによって反応器内を数回置換した後、
反応器内を密閉しオイルバスで所定温度に昇温し、所定
時間攪拌を続けた。反応終了後、水洗し、ジエチルエー
テルで抽出してガスクロマトグラフで組成を分析したと
ころ、表1に示す通りであった。
Examples 1-2 to 1-6 5.0 g of 3,5-bis (trifluoromethyl) bromobenzene was placed in a 100 ml pressure-resistant glass autoclave.
ol), 3.42 g (0.0%) of n-butyl vinyl ether.
341 mol), a base (0.0205 mol), a solvent,
The Pd catalyst and phosphine ligand were added as shown in Table 1, respectively. After replacing the inside of the reactor several times with nitrogen gas,
The reactor was closed, the temperature was raised to a predetermined temperature in an oil bath, and stirring was continued for a predetermined time. After completion of the reaction, the product was washed with water, extracted with diethyl ether, and analyzed for composition by gas chromatography. The result was as shown in Table 1.

【0051】[0051]

【表1】 [Table 1]

【0052】[実施例2]実施例1−1で得たスチレン
誘導体混合物380.5gにアセトン760g、20%
塩酸380.5gを加え25℃で分液ろうとを使って約
10秒間振とうした。静置したところ2相に分かれたの
で、下相を分取し水で洗浄し、アセトンと塩酸を除去し
た。この有機相をNaHCO3水溶液で処理して酸成分
を除去し、ついでMgSO4で乾燥して水分を除去する
と、留分として3,5(ビストリフルオロメチル)アセ
トフェノン(無色液体、純度98.6%)が50.7g
と、蒸留残渣として純度89.4%の3,5−ビス(ト
リフルオロメチル)2−n−ブトキシスチレン(ci
s、trans)が228.3g得られた。
Example 2 To 380.5 g of the styrene derivative mixture obtained in Example 1-1, 760 g of acetone and 20%
380.5 g of hydrochloric acid was added, and the mixture was shaken at 25 ° C. for about 10 seconds using a separating funnel. After standing, the mixture was separated into two phases. The lower phase was separated and washed with water to remove acetone and hydrochloric acid. The organic phase was treated with an aqueous solution of NaHCO 3 to remove the acid component, and then dried over MgSO 4 to remove water. As a fraction, 3,5 (bistrifluoromethyl) acetophenone (colorless liquid, purity 98.6%) ) Is 50.7g
And 8,5-bis (trifluoromethyl) 2-n-butoxystyrene (ci) having a purity of 89.4% as a distillation residue.
s, trans) were obtained.

【0053】[実施例3]実施例2で得られた蒸留残渣
のうち107gにアセトン252g、20%塩酸84g
を加え40℃で1時間、撹拌を行った。この反応生成物
を水で洗浄し、有機成分を濃縮したところ、固体が析出
した。この固体をろうと上に捕集しトルエンおよびヘキ
サンで数回洗浄し真空乾燥した。その結果59.9gの
白色結晶が得られた。この結晶は3,5−ビス(トリフ
ルオロメチル)フェニルアセトアルデヒドであり、ガス
クロマトグラフにより分析したところ不純物は検出され
なかった。
Example 3 Of the distillation residue obtained in Example 2, 107 g was added to 252 g of acetone and 84 g of 20% hydrochloric acid.
Was added and stirred at 40 ° C. for 1 hour. The reaction product was washed with water, and the organic component was concentrated. As a result, a solid precipitated. This solid was collected on a funnel, washed several times with toluene and hexane, and dried under vacuum. As a result, 59.9 g of white crystals were obtained. The crystals were 3,5-bis (trifluoromethyl) phenylacetaldehyde, and no impurities were detected by gas chromatography.

【0054】3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェ
ニルアセトアルデヒドの物性 白色結晶 分子量(GC−MASS) 256(M) 主なフラグメント 227、208、177,159 融点 57〜58℃1 H−NMR(基準物質:TMS、溶媒:CDCl3): δppm;3.89(d,J=1.3Hz,2H)、
7.65(s,2H)、7.81(s,1H)、9.8
2(t,J=1.3Hz,1H)19 F−NMR (基準物質:CCl3F、溶媒:CDC
3)δppm;−63.43(s)。
Physical properties of 3,5-bis (trifluoromethyl) phenylacetaldehyde White crystal Molecular weight (GC-MASS) 256 (M + ) Main fragment 227, 208, 177,159 Melting point 57-58 ° C. 1 H-NMR ( Reference substance: TMS, solvent: CDCl 3 ): δ ppm; 3.89 (d, J = 1.3 Hz, 2H),
7.65 (s, 2H), 7.81 (s, 1H), 9.8
2 (t, J = 1.3 Hz, 1H) 19 F-NMR (reference substance: CCl 3 F, solvent: CDC
l 3 ) δ ppm; -63.43 (s).

【0055】[実施例4]実施例3で得られた3,5−
ビス(トリフルオロメチル)フェニルアセトアルデヒド
3.0g(0.0117mol)のアセトニトリル溶液
11.7mlにリン酸二水素ナトリウム0.3744g
(0.00312mol)水溶液4.7mlと35%過
酸化水素水1.17mlを加え、攪拌し内温を5〜10
℃に保ちながら、亜塩素酸ナトリウム1.872g
(0.0163mol)の水溶液16.4mlを3時間
かけて滴下した。滴下終了後さらに2時間、同条件で撹
拌を継続した。
Example 4 The 3,5- obtained in Example 3
0.3744 g of sodium dihydrogen phosphate in 11.7 ml of acetonitrile solution of 3.0 g (0.0117 mol) of bis (trifluoromethyl) phenylacetaldehyde
(0.00312 mol) 4.7 ml of aqueous solution and 1.17 ml of 35% hydrogen peroxide solution were added, and the mixture was stirred and the internal temperature was reduced to 5 to 10%.
1.872 g of sodium chlorite while maintaining at
(0.0163 mol) of an aqueous solution (16.4 ml) was added dropwise over 3 hours. After completion of the dropwise addition, stirring was continued under the same conditions for another 2 hours.

【0056】反応終了後、反応生成物に20%塩酸と亜
硫酸ナトリウムを加えた。次いで有機物水洗しジエチル
エーテルに抽出した。このエーテル相をガスクロマトグ
ラフで分析したところ、ジエチルエーテルを除く組成は
3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル酢酸9
2.7%、3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニ
ルアセトアルデヒド3.2%であった。
After the completion of the reaction, 20% hydrochloric acid and sodium sulfite were added to the reaction product. Then, the organic matter was washed with water and extracted with diethyl ether. When this ether phase was analyzed by gas chromatography, the composition excluding diethyl ether was 3,5-bis (trifluoromethyl) phenylacetic acid 9
2.7% and 3.2% of 3,5-bis (trifluoromethyl) phenylacetaldehyde.

【0057】[実施例5]実施例2で得られた蒸留残渣
120gを実施例3と同一の方法で加水分解して得られ
た未精製の3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニ
ルアセトアルデヒドの溶液385mlに、リン酸二水素
ナトリウム12.3g(0.1025mol)水溶液1
54mlと35%過酸化水素水38.5mlを加え、攪
拌し内温を5〜10℃に保ちながら、亜塩素酸ナトリウ
ム61.54g(0.537mol)の水溶液538m
lを3時間かけて滴下した。滴下終了後さらに2時間、
同条件で撹拌を継続した。
Example 5 120 g of the distillation residue obtained in Example 2 was hydrolyzed in the same manner as in Example 3 to obtain unpurified 3,5-bis (trifluoromethyl) phenylacetaldehyde. To 385 ml of the solution, an aqueous solution of 12.3 g (0.1025 mol) of sodium dihydrogen phosphate 1
54 ml and 38.5 ml of 35% hydrogen peroxide solution were added, and while stirring and maintaining the internal temperature at 5 to 10 ° C., an aqueous solution of 538 m of 61.54 g (0.537 mol) of sodium chlorite was added.
1 was added dropwise over 3 hours. 2 hours after dropping,
Stirring was continued under the same conditions.

【0058】反応終了後、反応生成物に20%水酸化ナ
トリウム水溶液を100g添加し、100mlのトルエ
ンで3回洗浄を行った。次いで20%塩酸と亜硫酸ナト
リウムを加え、析出した有機物をトルエンに抽出し、エ
バポレーターにより濃縮したところ、結晶が析出した。
この結晶をトルエンで洗浄し、真空乾燥をしたところ白
色結晶60.5gを得た。ガスクロマトグラフにより分
析したところ、この結晶は純度98.9%の3,5−ビ
ス(トリフルオロメチル)フェニル酢酸であった。
After completion of the reaction, 100 g of a 20% aqueous sodium hydroxide solution was added to the reaction product, and the reaction product was washed three times with 100 ml of toluene. Then, 20% hydrochloric acid and sodium sulfite were added, and the precipitated organic matter was extracted into toluene and concentrated by an evaporator, whereby crystals were precipitated.
The crystals were washed with toluene and dried under vacuum to obtain 60.5 g of white crystals. As a result of analysis by gas chromatography, the crystals were found to be 3,5-bis (trifluoromethyl) phenylacetic acid having a purity of 98.9%.

【0059】物性データ 3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル酢酸 白色結晶 分子量(GC−MASS) 272(M) 主なフラグメント 253、227、208,177,
159 融点 120〜123℃1 H−NMR(基準物質:TMS、溶媒:CDCl3) δppm;3.79(s,2H)、7.74(s,2
H)、7.80(s,1H)19 F−NMR (基準物質:CCl3F、溶媒:CDC
3)δppm;−63.41(s)。
Physical properties data 3,5-bis (trifluoromethyl) phenylacetic acid White crystal Molecular weight (GC-MASS) 272 (M + ) Main fragments 253, 227, 208, 177,
159 melting point 120-123 ° C 1 H-NMR (reference substance: TMS, solvent: CDCl 3 ) δ ppm; 3.79 (s, 2H), 7.74 (s, 2)
H), 7.80 (s, 1H) 19 F-NMR (reference substance: CCl 3 F, solvent: CDC
l 3 ) δ ppm; -63.41 (s).

【0060】[0060]

【発明の効果】本発明の方法は、入手の容易な化合物を
原料として、有用性の大きなトリフルオロメチルフェニ
ルアセトアルデヒド類を工業的製造することができ、さ
らにこの物質からトリフルオロメチルフェニル酢酸類等
の有用な誘導体を製造できるという効果を奏する。
According to the method of the present invention, highly useful trifluoromethylphenylacetaldehydes can be industrially produced from readily available compounds as raw materials. This produces an effect that a useful derivative of can be produced.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 Fターム(参考) 4H006 AA01 AA02 AB84 AC12 AC24 AC43 AC45 AC46 AC53 BA02 BA25 BA29 BA32 BA37 BA48 BA51 BA53 BB15 BB17 BB24 BB25 BB41 BC10 BC34 BM10 BM71 BS10 4H039 CA61 CA62 CA71 CC30 CG20──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI theme coat ゛ (reference) // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 F term (reference) 4H006 AA01 AA02 AB84 AC12 AC24 AC43 AC45 AC46 AC53 BA02 BA25 BA29 BA32 BA37 BA48 BA51 BA53 BB15 BB17 BB24 BB25 BB41 BC10 BC34 BM10 BM71 BS10 4H039 CA61 CA62 CA71 CC30 CG20

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】下記3工程を含んでなる一般式(7)で表
されるトリフルオロメチルフェニル酢酸類の製造方法。 一般式(1)、 【化1】 (式中、Xはハロゲン原子(塩素、臭素またはヨウ素)
またはトリフルオロメタンスルホネート基、Yは水素原
子または不活性基であり、nは1または2を表す。)で
表されるトリフルオロメチル化合物をパラジウム化合物
とホスフィン類または二座アミン類と塩基の存在下、一
般式(2) CH2=CH−OR1 (2) (式中、R1は、C1〜C8のアルキル基、C1〜C8のハ
ロアルキル基、C2〜C8のアルケニル基、C1〜C8のハ
ロアルケニル基、C3〜C6のシクロアルキル基、アリー
ル基、アリール−C1〜C2アルキル基、ヘテロアリール
基またはC1〜C8のアシル基を表す)で表されるビニル
エーテル類または一般式(3)、 CH2=CH−N(R2)−CO−R3 (3) (式中、R2、R3はそれぞれ独立に、C1〜C8のアルキ
ル基、C1〜C8のハロアルキル基、C2〜C8のアルケニ
ル基、C1〜C8のハロアルケニル基、C3〜C6のシクロ
アルキル基、アリール基、アリール−C1〜C2アルキル
基、ヘテロアリール基またはC1〜C8のアシル基を表
す)で表されるエタナミド類を反応させて一般式
(4)、 【化2】 (式中、Y、R1、nは前記に同じ)で表されるトリフ
ルオロメチルスチレン誘導体、または一般式(5)、 【化3】 (式中、Y、R2、R3、nは前記に同じ)で表されるト
リフルオロメチルスチレン誘導体を得る工程。 一般式(4)または一般式(5)で表されるトリフ
ルオロメチルスチレン誘導体の何れかを加水分解して一
般式(6)、 【化4】 (式中、Y、nは前記に同じ)で表されるトリフルオロ
メチルフェニルアセトアルデヒド類を得る工程。 一般式(6)で表されるトリフルオロメチルフェニ
ルアセトアルデヒド類を酸化して一般式(7) 【化5】 (式中、Y、nは前記に同じ)で表されるトリフルオロ
メチルフェニル酢酸類を得る工程。
1. A method for producing trifluoromethylphenylacetic acids represented by the general formula (7), comprising the following three steps. General formula (1), (Where X is a halogen atom (chlorine, bromine or iodine)
Or a trifluoromethanesulfonate group, Y is a hydrogen atom or an inert group, and n represents 1 or 2. ) In the presence of a palladium compound and phosphines or bidentate amines and a base in the presence of a base of the general formula (2) CH 2 CHCH—OR 1 (2) (wherein R 1 is C alkyl group of 1 -C 8, C 1 haloalkyl group -C 8, C alkenyl group 2 -C 8, haloalkenyl groups C 1 -C 8, cycloalkyl radical of C 3 -C 6, an aryl group, an aryl -C 1 -C 2 alkyl group, heteroaryl group or C 1 -C 8 acyl group) or a vinyl ether represented by the general formula (3): CH 2 CHCH—N (R 2 ) —CO— R 3 (3) (wherein, R 2 and R 3 are each independently a C 1 -C 8 alkyl group, a C 1 -C 8 haloalkyl group, a C 2 -C 8 alkenyl group, a C 1 -C 8 8 haloalkenyl group, a cycloalkyl group of C 3 -C 6, an aryl group, an aryl - 1 -C 2 alkyl group, a heteroaryl group or a C 1 represents an acyl group -C 8) the Etanamido compound represented by is reacted general formula (4), ## STR2 ## Wherein Y, R 1 and n are as defined above, or a trifluoromethylstyrene derivative represented by the general formula (5): (Wherein, Y, R 2 , R 3 , and n are the same as those described above). Either the trifluoromethylstyrene derivative represented by the general formula (4) or the general formula (5) is hydrolyzed to obtain a compound represented by the general formula (6): (Wherein, Y and n are the same as those described above). The trifluoromethylphenylacetaldehyde represented by the general formula (6) is oxidized to form a compound represented by the general formula (7): (Wherein, Y and n are the same as described above).
【請求項2】下記2工程を含んでなる一般式(6)で表
されるトリフルオロメチルフェニルアセトアルデヒド類
の製造方法。 一般式(1)で表されるトリフルオロメチル化合物
をパラジウム化合物とホスフィン類または二座アミン類
と塩基の存在下、一般式(2)で表されるビニルエーテ
ルまたは一般式(3)で表されるエタナミドを反応させ
て一般式(4)または一般式(5)で表されるトリフル
オロメチルスチレン誘導体を得る工程。 一般式(4)または一般式(5)で表されるトリフ
ルオロメチルスチレン誘導体の何れかを加水分解して一
般式(6)で表されるトリフルオロメチルフェニルアセ
トアルデヒド類を得る工程。
2. A method for producing trifluoromethylphenylacetaldehyde represented by the general formula (6), comprising the following two steps. The trifluoromethyl compound represented by the general formula (1) is converted to a vinyl ether represented by the general formula (2) or a general formula (3) in the presence of a palladium compound and a phosphine or a bidentate amine and a base. A step of reacting ethanamide to obtain a trifluoromethylstyrene derivative represented by the general formula (4) or (5). A step of hydrolyzing any of the trifluoromethylstyrene derivatives represented by the general formula (4) or (5) to obtain trifluoromethylphenylacetaldehydes represented by the general formula (6).
【請求項3】一般式(4)または一般式(5)で表され
るトリフルオロメチルスチレン誘導体の何れかを加水分
解して一般式(6)で表されるトリフルオロメチルフェ
ニルアセトアルデヒド類を製造する方法。
3. Production of a trifluoromethylphenylacetaldehyde represented by the general formula (6) by hydrolyzing either a trifluoromethylstyrene derivative represented by the general formula (4) or (5). how to.
【請求項4】一般式(6)で表されるトリフルオロメチ
ルフェニルアセトアルデヒド類を酸化して一般式(7)
で表されるトリフルオロメチルフェニル酢酸を製造する
方法。
4. Oxidizing a trifluoromethylphenylacetaldehyde represented by the general formula (6) to obtain a compound of the general formula (7)
A method for producing trifluoromethylphenylacetic acid represented by the formula:
【請求項5】一般式(8)、 【化6】 (式中、Yは水素原子または不活性基を表し、mは0〜
3の整数を表す。)で表されるトリフルオロメチルフェ
ニルアセトアルデヒド。
5. A compound represented by the general formula (8): (Wherein, Y represents a hydrogen atom or an inert group, and m represents 0 to
Represents an integer of 3. ).
【請求項6】3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェ
ニルアセトアルデヒド
6. A 3,5-bis (trifluoromethyl) phenylacetaldehyde
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CN105503569A (en) * 2016-01-11 2016-04-20 苏州汇和药业有限公司 Synthetic method for Netupitant intermediate 2-(3,5-bi-trifluoromethyl-phenyl)-2-methyl-propionic acid

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