JPH08269553A - 磁気特性の優れた一方向性電磁鋼板の製造方法 - Google Patents

磁気特性の優れた一方向性電磁鋼板の製造方法

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JPH08269553A
JPH08269553A JP7070181A JP7018195A JPH08269553A JP H08269553 A JPH08269553 A JP H08269553A JP 7070181 A JP7070181 A JP 7070181A JP 7018195 A JP7018195 A JP 7018195A JP H08269553 A JPH08269553 A JP H08269553A
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JP
Japan
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steel sheet
hot
annealing
temperature
rolling
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JP7070181A
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Yasunari Yoshitomi
康成 吉冨
Takashi Mogi
尚 茂木
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Nippon Steel Corp
Original Assignee
Nippon Steel Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は電気機器の鉄心に用いられる一方向
性電磁鋼板の磁気特性の向上を目的とする。 【構成】 C,Si,Mn,酸可溶性Al:0.010
〜0.060%、S+0.405Se:0.005〜
0.020%、Nを含有し、残部Fe及び不可避的不純
物からなるスラブを1280℃未満の温度で加熱し、熱
延を行い、引き続き熱延板焼鈍を施すことなく冷延し
て、次いで、通常の工程で一方向性電磁鋼板を製造する
方法において、P:0.010〜0.050%を含有
し、熱延後500℃以下の温度で巻取り、熱延板の再結
晶率を制御し、脱炭焼鈍後最終仕上焼鈍開始までの一次
再結晶粒の平均粒径を制御し、熱延後最終仕上焼鈍の二
次再結晶開始までの間に鋼板に窒化処理を施すことを特
徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、トランス等の鉄心とし
て使用される磁気特性の優れた一方向性電磁鋼板の製造
方法に関する。
【0002】
【従来の技術】一方向性電磁鋼板は、主にトランスその
他の電気機器の鉄心材料として使用されており、励磁特
性、鉄損特性等の磁気特性に優れていることが要求され
る。励磁特性を表わす数値としては、通常磁場の強さ8
00A/m における磁束密度B8が使用される。また、鉄
損特性を表わす数値としては、周波数50Hzで1.7テ
スラー(T)まで磁化した時の1kg当りの鉄損W17/50
を使用している。
【0003】磁束密度は、鉄損特性の最大支配因子であ
り、一般的にいって磁束密度が高いほど鉄損特性が良好
になる。なお、一般的に磁束密度を高くすると二次再結
晶粒が大きくなり、鉄損特性が不良となる場合がある。
これに対しては、磁区制御により、二次再結晶粒の粒径
に拘らず、鉄損特性の改善をすることができる。
【0004】この一方向性電磁鋼板は、最終仕上焼鈍工
程で二次再結晶を起こさせ、鋼板面に{110}、圧延
方向に〈001〉軸を持ったいわゆるゴス組織を発達さ
せることにより製造されている。良好な磁気特性を得る
ためには、磁化容易軸である〈001〉を圧延方向に高
度に揃えることが必要である。
【0005】このような高磁束密度一方向性電磁鋼板の
製造技術として代表的なものに特公昭40−15644
号公報及び特公昭51−13469号公報記載の方法が
ある。前者においては主なインヒビターとしてMnS及
びAlNを、後者ではMnS,MnSe,Sb等を用い
ている。従って現在の技術においてはこれらのインヒビ
ターとして機能する析出物の大きさ、形態及び分散状態
を適正に制御することが不可欠である。MnSに関して
いえば、現在の工程では熱延前のスラブ加熱時にMnS
を一旦完全固溶させた後、熱延時に析出する方法がとら
れている。
【0006】二次再結晶に必要な量のMnSを完全固溶
するためには1400℃程度の温度が必要である。これ
は普通鋼のスラブ加熱温度に比べて200℃以上も高
く、この高温スラブ加熱処理には以下に述べるような不
利な点がある。1)方向性電磁鋼専用の高温スラブ加熱
炉が必要。2)加熱炉のエネルギー原単位が高い。3)
溶融スケール量が増大し、いわゆるノロかき出し等に見
られるように操業上の悪影響が大きい。
【0007】このような問題点を回避するためにはスラ
ブ加熱温度を普通鋼並みに下げればよいわけであるが、
このことは同時にインヒビターとして有効なMnSの量
を少なくするかあるいは全く用いないことを意味し、必
然的に二次再結晶の不安定化をもたらす。このため低温
スラブ加熱化を実現するためには何らかの形でMnS以
外の析出物等によりインヒビターを強化し、仕上焼鈍時
の正常粒成長の抑制を充分にする必要がある。
【0008】このようなインヒビターとしては硫化物の
他、窒化物、酸化物及び粒界析出元素等が考えられ、公
知の技術として例えば次のようなものがあげられる。特
公昭54−24685号公報ではAs,Bi,Sn,S
b等の粒界偏析元素を鋼中に含有することにより、スラ
ブ加熱温度を1050〜1350℃の範囲にする方法が
開示され、特開昭52−24116号公報ではAlの
他、Zr,Ti,B,Nb,Ta,V,Cr,Mo等の
窒化物生成元素を含有することによりスラブ加熱温度を
1100〜1260℃の範囲にする方法を開示してい
る。
【0009】また、特開昭57−158322号公報で
はMn含有量を下げ、Mn/Sの比率を2.5以下にす
ることにより低温スラブ加熱化を行い、さらにCuの添
加により二次再結晶を安定化する技術を開示している。
これらインヒビターの補強と組み合わせて金属組織の側
から改良を加えた技術も開示された。
【0010】すなわち特開昭57−89433号公報で
はMnに加えS,Se,Sb,Bi,Pb,Sn,B等
の元素を加え、これにスラブの柱状晶率と二次冷延圧下
率を組み合わせることにより1100〜1250℃の低
温スラブ加熱化を実現している。さらに特開昭59−1
90324号公報ではSあるいはSeに加え、Al及び
Bと窒素を主体としてインヒビターを構成し、これに冷
延後の一次再結晶焼鈍時にパルス焼鈍を施すことにより
二次再結晶を安定化する技術を公開している。
【0011】このように方向性電磁鋼板製造における低
温スラブ加熱化実現のためには、これまでに多大な努力
が続けられてきている。さらに、特開昭59−5652
2号公報においてはMnを0.08〜0.45%、Sを
0.007%以下にすることにより低温スラブ加熱化を
可能にする技術が開示された。この方法により高温スラ
ブ加熱時のスラブ結晶粒粗大化に起因する製品の線状二
次再結晶不良発生の問題が解消された。
【0012】ところで、一方向性電磁鋼板の製造におい
ては通常熱延後組織の不均一化、析出処理等を目的とし
て熱延板焼鈍が行われている。例えばAlNを主インヒ
ビターとする製造方法においては、特公昭40−238
20号公報に示すように熱延板焼鈍においてAlNの析
出処理を行ってインヒビターを制御する方法がとられて
いる。
【0013】通常一方向性電磁鋼板は鋳造−熱延−焼鈍
−冷延−脱炭焼鈍−仕上焼鈍のような主工程を経て製造
され、多量のエネルギーを必要としており、加えて普通
鋼製造プロセス等と比較して製造コストも高くなってい
る。
【0014】近年多量のエネルギー消費をするこのよう
な製造工程に対する見直しが進められ、工程、エネルギ
ーの簡省略化の要請が強まってきた。このような要請に
応えるべく、AlNを主インヒビターとする製造方法に
おいて、熱延板焼鈍でのAlNの析出処理を、熱延後の
高温巻取で代替する方法(特公昭59−45730号公
報)が提案された。
【0015】確かにこの方法によって熱延板焼鈍を省略
しても、磁気特性をある程度確保することはできるが、
5〜20トンのコイル状で巻取られる通常の方法におい
ては、冷却過程でコイル内での場所的な熱履歴の差が生
じ、必然的にAlNの析出が不均一となり最終的な磁気
特性はコイル内の場所によって変動し、歩留が低下する
結果となる。
【0016】また、MnS,MnSe,Sbを主インヒ
ビターとする一方向性電磁鋼板の製造方法において、仕
上最終スタンドを離れてから巻取るまでの熱延鋼帯の冷
却速度に応じて決まる温度以下で鋼帯を巻取ることによ
って、製品における帯状の二次再結晶不良の発生を抑制
する方法(特開昭59−50118号公報)が提案され
た。
【0017】この方法は、高温スラブ加熱に起因する製
品における帯状の二次再結晶不良発生を抑制する技術で
あり、熱延板焼鈍を省略した1回冷延法での製造は検討
すらされていない。
【0018】本発明者らは、低温スラブ加熱でかつ、熱
延板焼鈍を省略して一方向性電磁鋼板を製造するプロセ
スにおいて、良好な磁気特性を得るための手法について
広範な検討を行ってきた。例えば、特開平2−2748
14号公報においては、冷延前鋼板の再結晶率に応じて
冷延率を決定する方法を開示した。また、特開平2−2
74815号公報において熱延後の巻取り温度を低めに
し、冷延時パス間時効を施す方法を開示し、特開平3−
294427号公報において、熱延後の巻取り温度を特
段低めとする方法を開示した。
【0019】このように、熱延の巻取り条件、熱延板の
再結晶率、冷延条件との関係で、磁気特性向上のための
技術開発を行ってきた。しかしながら、工場でこれらの
技術を実施する場合、巻取り温度のバラツキが生じ、そ
の結果、磁気特性が変動した。また、本来低コストプロ
セスを指向した技術開発であるにもかかわらず、冷延時
パス間時効を施すことによる生産性の低迷が問題となっ
た。
【0020】
【発明が解決しようとする課題】低温スラブ加熱による
方法は元来、製造コストの低減を目的としているもの
の、当然のことならが良好な磁気特性を安定して得る技
術でなければ、工業化できない。本発明者らは、低温ス
ラブ加熱の工業化のため、最終仕上焼鈍前の一次再結
晶の平均粒径制御と、熱延後、最終仕上焼鈍の二次再
結晶開始までの間に鋼板に窒化処理を施すことを柱とす
る技術を構築してきた。
【0021】この技術体系をベースに熱延板焼鈍省略技
術を開発してきたが、熱延後の巻取り温度のバラツキに
よる磁性変動や冷延時のパス間時効付加による生産性の
低迷が問題となった。
【0022】本発明の目的は、この低温スラブ加熱と熱
延板焼鈍省略を同時達成しようとした場合、磁性変動や
生産性低迷が生じて好ましくないという問題点を解決す
る方法を提供することにある。
【0023】
【課題を解決するための手段】本発明の要旨とするとこ
ろは下記の通りである。すなわち、重量比で、C:0.
025〜0.075%、Si:2.5〜4.5%、酸可
溶性Al:0.010〜0.060%、N:0.001
0〜0.0130%、S+0.405Se:0.005
〜0.020%、Mn:0.05〜0.8%、P:0.
010〜0.050%を含有し、残部がFe及び不可避
的不純物からなるスラブを1280℃未満の温度で加熱
し、熱延し、引き続き、熱延板焼鈍を施すことなく、圧
下率80%以上の冷延を施し、次いで脱炭焼鈍、最終仕
上焼鈍を施して一方向性電磁鋼板を製造する方法におい
て、上記熱延に引き続く鋼板の巻取り工程において、鋼
板を500℃以下の温度で巻取り、熱延板の板厚中心の
再結晶率を95%以下とし、上記冷延時鋼板を150℃
以下の温度に制御して、タンデムで冷延し、脱炭焼鈍完
了後最終仕上焼鈍開始までの一次再結晶粒の平均粒径を
18〜35μmとし、熱延後最終仕上焼鈍の二次再結晶
開始までの間に鋼板に増窒素量で0.0010%以上の
窒化処理を施すことを特徴とする磁気特性の優れた一方
向性電磁鋼板の製造方法である。
【0024】
【作用】本発明が対象としている一方向性電磁鋼板は、
従来用いられている製鋼法で得られた溶鋼を連続鋳造法
あるいは造塊法で鋳造し、必要に応じて分塊工程をはさ
んでスラブとし、引き続き熱間圧延して熱延板とし、次
いで、熱延板焼鈍を施すことなく、圧下率が80%以上
の1回の冷延を施し、次いで、脱炭焼鈍、最終仕上焼鈍
を順次行うことによって製造される。
【0025】本発明者らは、低温スラブ加熱と熱延板焼
鈍省略を両立して、かつ、良好な磁気特性を安定して得
る方策を種々検討した結果、P添加、低温巻取り、
熱延板再結晶率制御、低温冷延を組み合わせること
が、極めて有効であるという新知見を得た。
【0026】以下、実験結果を基に説明する。図1は、
熱延後の巻取り温度と冷延時の鋼板の最高温度が磁気特
性に与える影響を示したものである。この場合、重量
で、C=0.056%、Si=3.28%、酸可溶性A
l=0.030%、N=0.0060%、S=0.00
8%、Mn=0.12%、P=0.001〜0.075
%を含有し、残部Fe及び不可避的不純物からなる25
0mm厚のスラブを作成した。
【0027】そして、1150℃に60分加熱した後、
5パスで粗熱延し、40mm厚とした後、仕上熱延開始温
度、圧下配分を種々変更して、6パスで仕上熱延して、
2.8mm厚とし、100〜800℃まで水冷し、直ち
に、100〜800℃の各温度に60分保持後炉冷する
巻取りシミュレーションを行った。
【0028】かかる熱延板に熱延板焼鈍を施すことなく
約88%の強圧下圧延を行って最終板厚0.335mmの
冷延板とした。この冷延時、タンデム冷延、リバース冷
延、各パス圧下配分変更、パス間時効後即冷延、圧延油
の変更等を組み合わせて、冷延時の鋼板の温度を種々変
更した。これらの最終板厚の冷延板を840℃に150
秒保持する脱炭焼鈍を施した。
【0029】次いで、770℃に30秒保持する焼鈍
時、焼鈍雰囲気中にNH3 ガスを混入させ、鋼板に窒素
吸収を生ぜしめた。この窒化処理後のN量は、0.01
89〜0.0241重量%であり、一次再結晶粒の平均
粒径が20〜25μmであった。かかる窒化後の鋼板に
MgOを主成分とする焼鈍分離剤を塗布し、最終仕上焼
鈍を行った。
【0030】図1から明らかなように、熱延後の巻取り
温度が500℃以下、冷延時の鋼板の最高温度が150
℃以下の条件がB8 ≧1.92Tを実現する必要条件で
ある。
【0031】本発明者らは、図1に示した知見をさらに
詳細に検討した。図2は、図1で熱延後の巻取り温度5
00℃以下で、かつ、冷延時の鋼板の最高温度が150
℃以下の場合について、Pの含有量及び熱延板の板厚中
心での再結晶率と磁気特性の関係を示したものである。
【0032】図2から明らかなように、Pの含有量が
0.010〜0.050%で、かつ、熱延板の板厚中心
での再結晶率が95%以下という条件が、B8 ≧1.9
2Tを実現する十分な条件である。この場合、熱延板の
再結晶率は、本発明者らが開発したECP(Elect
ron Channelling Pattern)を
画像解析して結晶歪を測定する方法(日本金属学会誌,
55(1991),22)を用いて測定し、ほぼランダ
ム方位を有する標準試料の焼鈍板を1.5%冷延した場
合のECPの鮮明度より高いECPの鮮明度の値を示す
粒の面積率(低歪粒の面積率)を再結晶率と呼んでい
る。
【0033】従来、珪素鋼の熱延板または熱延板焼鈍後
の鋼板の再結晶率測定は、光学顕微鏡像または写真をも
とに目視判断で行われていた。この従来の方法は、測定
者によって値が異なり、客観性に欠けていた。そして、
この主な原因は、熱延及び熱延板焼鈍で起こる再結晶の
中に、(1)核生成−成長型再結晶、(2)その場再結
晶の2つが混在しているためであった。
【0034】(1)の場合は、目視判断が容易である
が、(2)の場合は、回復粒が連続的に転位密度を下げ
て(1)と同様の転位量となっていくため、再結晶粒で
あるか否かを目視判定することは困難であった。一方、
ECPを画像解析する方法は、実質的には、転位密度を
測定している方法であり、客観性が高いので、本発明に
おいても再結晶粒の判定に用いた。
【0035】上記、再結晶粒の判定基準作成のため、冷
延再結晶の挙動を広範に調査し、(1)型の再結晶が完
了した時点のECPの鮮明度をもとに再結晶判定基準を
決定しており、多数の試料について再結晶粒の判定に用
いられることを確認している。
【0036】図1,2で示された現象のメカニズムにつ
いては、必ずしも明らかではないが、本発明者らは、次
のように考えている。熱延後の巻取り温度を下げること
によって生じる金属学的変化としては、変態相のパー
ライトからベイナイトへの変化、炭窒化物の粒界析出
から粒内析出への変化、及び、Fe3 Cからε−炭化物
への変化、Si3 4 からFe162への変化が考えら
れる。
【0037】一方、冷延時の鋼板の温度を低めに保つこ
とは、「固溶C、固溶Nが転位の回りにコットレル雰囲
気を作り、転位の動きを抑制する」という現象を生じに
くくさせる作用がある。低温巻取りと低温冷延を組み合
わせると、冷延時の転位の運動に対する固溶C、固溶N
の影響を極力抑え、ベイナイト近傍への転位の集積及び
粒内の微細炭窒化物の回りの転位のタングリングが顕在
化すると考えられる。
【0038】この場合、冷延再結晶集合組織(一次再結
晶集合組織)は、ランダム化する。このランダム化は、
従来の一方向性電磁鋼板の製造メタラジーからすると、
必ずしもよい傾向とはいえない。しかしながら、本発明
者らは一次再結晶集合組織において、{100}〈02
5〉方位粒が減少することに注目している。
【0039】{100}〈025〉方位粒は、他の方位
粒と比較して、サイズが大きい傾向があり、かつ、等価
な2つの{100}〈025〉方位粒がΣ5対応方位の
関係にあることから、最終仕上焼鈍時、双方を侵食し合
って、粗粒を形成しやすい傾向がある。一次再結晶板に
粗粒が増すと、{110}〈001〉方位二次再結晶粒
の粒成長の駆動力が局所的に低下し、二次再結晶が遅延
する。
【0040】その結果、通常行われる昇温過程の二次再
結晶の場合、二次再結晶完了温度が上昇することとな
り、インヒビター強度の急激な低下、粒界移動の粒界性
格依存性の低下が生じ、このため、二次再結晶集合組織
の{110}〈001〉方位集積度の低下、及び、極端
な場合は、二次再結晶不良が生じることとなる。従っ
て、低温巻取りと低温冷延を組み合わせることによって
一次再結晶集合組織において、{100}〈025〉方
位を減少させたことが、良好な磁気特性を得ることに繋
がっているものと推定される。
【0041】さらに加えて、P添加量と熱延板の再結晶
率の組み合わせ効果については、次のように推定してい
る。熱延後の低温巻取りに伴なって生じる現象の内、
の炭窒化物の析出に対して、P添加量と熱延板の再結晶
率は影響を与える。Pは炭素との相互作用がある元素と
考えられ、P−Cのダイポールの存在等も考えられ、炭
素の拡散を抑制する傾向がある。
【0042】低温巻取り時の炭化物の粒内析出について
は、巻取り後室温に到るまでの冷却過程で、炭素が粒界
まで拡散すればFe3 C等として析出するが、粒界まで
拡散しなければ、粒内析出する。従って、Pを添加すれ
ば、炭素の拡散が阻害され、その結果、粒内の炭化物の
析出が増加する。また、熱延板の再結晶率を所定量以下
にするというのは、粒内の転位密度を高めに確保するこ
とと等しく、粒内の炭窒化物の析出サイトとしての転位
の量を確保する意味がある。
【0043】さらに加えて、熱延板で再結晶しにくい方
位は、{100}系の方位であり、この方位粒は、板厚
中心層に多く存在する。磁気特性を良好にするための熱
延板の板厚中心の再結晶率の上限が存在する理由は、板
厚中心の{100}系方位を未再結晶状態に確保する必
要があるためである。熱延後{100}系方位が未再結
晶状態にあるということは、炭窒化物の析出核としての
転位密度が高く、炭窒化物が粒内析出しやすい状況にあ
ると理解できる。つまり、P添加量の適正範囲と熱延板
再結晶率の上限値の組み合わせ条件は、熱延板の{10
0}系方位粒の粒内に炭窒化物を析出させるための具備
条件となっていると考えられる。
【0044】熱延板の状態で{100}系方位粒の粒内
に多数の炭窒化物の析出を実現できれば、引き続く冷延
時、{100}系方位粒の粒内で炭窒化物に転位がタン
グリングされ、粒内に多数の高歪領域が形成されると考
えられる。
【0045】これらの高歪領域は、ランダム方位、一次
再結晶方位の核生成サイトとなるため、冷延再結晶集合
組織において、熱延板の{100}系方位の位置から発
生しやすい{100}〈025〉方位粒が相対的に減少
するものと考えられる。この{100}〈025〉方位
粒の減少は、前述の如く、二次再結晶時{110}〈0
01〉方位集積度を高めるのに役立つものと考えられ
る。
【0046】次に本発明の構成要件を限定した理由につ
いて述べる。先ず、スラブ成分とスラブ加熱温度に関し
て限定理由を詳細に説明する。Cは0.025重量%
(以下単に%と略述)未満になると二次再結晶が不安定
になり、かつ二次再結晶した場合でもB8 >1.80
(T)が得がたいので0.025%以上とした。一方、
Cが多くなりすぎると脱炭焼鈍時間が長くなり経済的で
ないので0.075%以下とした。
【0047】Siは4.5%を超えると冷延時の割れが
著しくなるので4.5%以下とした。また、2.5%未
満では素材の固有抵抗が低すぎ、トランス鉄心材料とし
て必要な低鉄損が得られないので2.5%以上とした。
望ましくは3.2%以上である。
【0048】Alは二次再結晶の安定化に必要なAlN
もしくは(Al,Si)Nを確保するため、酸可溶性A
lとして0.010%以上が必要である。酸可溶性Al
が0.060%を超えると熱延板のAlNが不適切とな
り二次再結晶が不安定となるので0.060%以下とし
た。
【0049】Nについては通常の製鋼作業では0.00
10%未満にすることが困難であり、かつ経済的に好ま
しくないので0.0010%以上とし、一方、0.01
30%を超えるとブリスターと呼ばれる“鋼板表面ふく
れ”が発生するので0.0130%以下とした。
【0050】MnS,MnSeが鋼中に存在しても、製
造工程の条件を適正に選ぶことによって磁気特性を良好
にすることが可能である。しかしながらSやSeが高い
と線状細粒と呼ばれる二次再結晶不良部が発生する傾向
があり、この二次再結晶不良部の発生を予防するために
は(S+0.405Se)≦0.014%であることが
望ましい。
【0051】SあるいはSeが上記値を超える場合には
製造条件をいかに変更しても二次再結晶不良部が発生す
る確率が高くなり好ましくない。また最終仕上焼鈍で純
化するのに要する時間が長くなりすぎて好ましくなく、
このような観点からSあるいはSeを不必要に増すこと
は意味がない。
【0052】Mnの下限値は0.05%である。0.0
5%未満では、熱間圧延によって得られる熱延板の形状
(平坦さ)、就中、ストリップの側縁部が波形状となり
製品歩留りを低下させる問題が発生する。一方、Mn量
が0.8%を超えると製品の磁束密度を低下させ、好ま
しくないので、Mn量の上限を0.8%とした。
【0053】Pの範囲は、0.010〜0.050%と
した。これは、図2に示した如く、この範囲でB8
1.92Tなる良好な磁気特性が得られるからである。
Pが0.010%未満では、PとCの相互作用が不十分
で好ましくない。一方、Pが0.050%を超えると、
一次再結晶集合組織が不適切なものとなり好ましくな
い。この他、インヒビター構成元素として知られている
Sn,Sb,Cr,Cu,Ni,B,Ti等を微量に含
有することはさしつかえない。
【0054】スラブ加熱温度は、普通鋼並みにしてコス
トダウンを行うという目的から1280℃未満と限定し
た。好ましくは1200℃以下である。引き続く熱延工
程は、通常100〜400mm厚のスラブを加熱した後、
いずれも複数回のパスで行う粗熱延と仕上熱延よりな
る。
【0055】粗熱延と仕上熱延の方法については、特に
限定するものではないが、後述するように、熱延板の再
結晶率を制御することは留意すべきである。また、本発
明の如く、熱延板焼鈍を省略する場合には、AlNの析
出を熱延中に行わしめることが一次再結晶粒径制御の点
で好ましい。従って、AlNの析出温度域である800
〜1000℃の温度範囲に長時間滞在するような熱延の
温度履歴をとることは好ましい。
【0056】仕上熱延終了後は、数秒間空冷された後、
20〜200℃/secで水冷され、鋼板は5〜20TON の
コイル状で巻取られる。この鋼板の冷却過程については
特に限定するものではないが、後述するように、熱延板
の再結晶率を制御することは留意すべきである。また、
本発明の如く、熱延板焼鈍を省略する場合には、仕上熱
延後空冷時間を延ばしてAlNを積極的に析出させるこ
とは、一次再結晶粒径制御の点で好ましい。
【0057】熱延後の鋼板の巻取り温度は、500℃以
下とする必要がある。これは、図1に示した如く、この
範囲にすることがB8 ≧1.92Tなる良好な磁気特性
を得るための必要条件となるためである。なお、巻取り
温度の下限については特に限定するものではないが、室
温(例えば、20℃)以下で巻取るためには水冷、ミス
ト冷却等通常の冷却方式以外の特殊な冷却方式を採用す
る必要があり、工業的には好ましくない。
【0058】また、200℃未満で巻取ることは工業的
には容易でないので、200〜500℃の範囲で巻取る
ことが工業的には適当である。また、巻取り後、通常、
5〜20TON のコイル状で空冷され、この時の鋼板の冷
却速度は、0.005℃/sec程度と遅い。この冷却につ
いては特に限定するものではないが、ε−炭化物やFe
162 の粗大化を防ぐためには、400〜500℃の温
度域の滞在時間は、不必要に延ばすべきではない。
【0059】この熱延板の板厚中心での再結晶率を95
%以下と規定した。これは、図2に示した如く、この範
囲で、B8 ≧1.92Tなる良好な磁気特性が得られる
からである。再結晶率の下限値は、特に限定しないが、
再結晶率を低下させると、磁気特性を良好とするための
冷延率が低下する傾向がある。再結晶率を制御する方法
については特に限定するものではないが、仕上熱延温
度、特に仕上熱延終了温度を制御する方法、仕上熱延の
圧下配分を制御する方法、仕上熱延後の水冷開始までの
時間を制御する方法等を用いることができる。
【0060】かかる熱延板は、引き続き、熱延板焼鈍を
施すことなく冷延される。この冷延の圧下率を80%以
上としたのは、この範囲で、一次再結晶集合組織中に、
適正量の{110}〈001〉方位粒と、その{11
0}〈001〉方位粒が二次再結晶する時に蚕食されや
すい適正量の対応方位粒({111}〈112〉等)が
得られるからである。
【0061】また、この冷延時の鋼板の温度を150℃
以下とする必要がある。これは、図1から明らかなよう
に、150℃以下にすることがB8 ≧1.92Tなる良
好な磁気特性を得るために必要だからである。この鋼板
温度の下限値は、特に限定しない。室温(例えば20
℃)まで許容される。室温以下の温度で冷延するために
は、水冷等を行う必要があり、工業的には積極的な意味
はない。
【0062】冷延方式としては、タンデムとリバースが
あるが、リバースの場合、加工発熱による温度上昇が大
きく、かつ、パス間に150℃超の温度で鋼板が保持さ
れてしまいがちであり、本発明の如く圧下率80%以上
の場合に、鋼板を150℃以下にして冷延を行うことが
困難なので、冷延方式をタンデムと限定した。
【0063】タンデム冷延は通常3〜10スタンドで連
続的に行われる。この冷延の圧下配分については特に限
定しない。鋼板温度が150℃以下で冷延されればよ
い。
【0064】かかる冷延後の鋼板は通常の方法で脱炭焼
鈍、焼鈍分離剤塗布、最終仕上焼鈍が施されて最終製品
となる。ここで脱炭焼鈍完了後、最終仕上焼鈍開始まで
の間の一次再結晶粒の平均粒径を18〜35μmとした
のは、この値の範囲で良好な磁束密度が得られやすく、
かつ粒径変動に対する磁束密度の変化が少ないからであ
る。
【0065】そして、熱延後最終仕上焼鈍の二次再結晶
開始までの間に鋼板に増窒素量で0.0010%以上の
窒化処理を施すと規定したのは、本発明の如き低温スラ
ブ加熱を前提とするプロセスでは、二次再結晶に必要な
インヒビター強度が不足がちになるからである。
【0066】窒化の方法としては特に限定するものでは
なく、脱炭焼鈍後引き続き焼鈍雰囲気にNH3 ガスを混
入させ窒化する方法、プラズマを用いる方法、焼鈍分離
剤に窒化物を添加し、最終仕上焼鈍の昇温中に窒化物が
分解してできた窒素を鋼板に吸収させる方法、最終仕上
焼鈍の雰囲気のN2 分圧を高めとし、鋼板を窒化する方
法等何れの方法でもよい。窒化量については、インヒビ
ター効果を十分発揮させるためには、増窒素量で0.0
010%以上は必要である。
【0067】
【実施例】
〔実施例1〕C:0.051%(重量%、以下同じ)、
Si:3.28%、Mn:0.10%、S:0.008
%、酸可溶性Al:0.030%、N:0.0063%
を基本成分とし、P量を、<0.001%、0.0
30%、0.041%、0.067%なる4水準で
添加した4種類の250mm厚のスラブを作成した。かか
るスラブを1110℃で60分均熱した後、直ちに熱延
を開始し、5パスの粗熱延で40mm厚とした後、6パス
の仕上熱延で2.8mm厚の熱延板とした。この時、粗熱
延と仕上熱延の間の時間を種々変更した。その結果、仕
上熱延終了温度は、828〜1003℃であった。
【0068】次いで、熱延終了後は2秒間空冷後、
(a)550℃、(b)450℃、(c)350℃まで
水冷し、各温度に1時間保持した後炉冷する巻取りシミ
ュレーションを行った。この熱延板に次いで、熱延板焼
鈍を施すことなく、圧下率約88%でタンデム冷延して
0.335mmの冷延板とし、840℃で150秒保持す
る脱炭焼鈍を施した。しかる後、750℃で30秒保持
する焼鈍を行い、焼鈍雰囲気中にNH3 ガスを混入させ
鋼板に窒素を吸収せしめた。窒化後のこの鋼板のN量は
0.0185〜0.0217%であった。また、この窒
化処理後の鋼板の一次再結晶粒の平均粒径は、21〜2
3μmであった。次いで、この鋼板にMgOを主成分と
する焼鈍分離剤を塗布し、公知の方法で、最終仕上焼鈍
を行った。実験条件と磁気特性の結果を表1に示す。
【0069】
【表1】
【0070】〔実施例2〕C:0.048%、Si:
3.17%、Mn:0.11%、S:0.008%、酸
可溶性Al:0.027%、N:0.0060%、P:
0.028%を含有し、残部Fe及び不可避的不純物か
らなる250mm厚のスラブを作成した。かかるスラブを
1120℃で60分均熱した後、直ちに熱延を開始し、
5パスの粗熱延で40mm厚とした後、6パスの仕上熱延
で2.6mm厚の熱延板とした。この時、仕上熱延終了温
度は、935℃であった。
【0071】次いで、熱延終了後は3秒間空冷後、40
0℃まで水冷し、400℃に1時間保持した後炉冷する
巻取りシミュレーションを行った。この熱延板の板厚中
心の再結晶率は63%であった。
【0072】この熱延板に熱延板焼鈍を施すことなく、
次いで圧下率約89%でタンデム冷延して0.285mm
冷延板とした。この冷延直前に鋼板を300℃に加
熱、200℃に加熱、加熱なし、の3条件で処理し
た。次いでこの冷延板に835℃で150秒保持する脱
炭焼鈍を施した。しかる後、770℃で30秒保持する
焼鈍を行い、焼鈍雰囲気中にNH3 ガスを混入させ鋼板
に窒素吸収を生ぜしめた。窒化後の鋼板のN量は、0.
0208〜0.0245%であった。また、この窒化処
理後の鋼板の一次再結晶粒の平均粒径は、23〜25μ
mであった。
【0073】次いで、この鋼板にMgOを主成分とする
焼鈍分離剤を塗布し、公知の方法で、最終仕上焼鈍を行
った。実験条件と磁気特性の結果を表2に示す。
【0074】
【表2】
【0075】〔実施例3〕C:0.054%、Si:
3.51%、Mn:0.12%、S:0.010%、酸
可溶性Al:0.032%、N:0.0063%、P:
0.018%を添加し、残部Fe及び不可避的不純物か
らなる2種類の250mm厚のスラブを作成した。かかる
スラブを1200℃の温度で60分均熱した後、直ちに
熱延を開始し、5パスの粗熱延で40mm厚とした後、6
パスで仕上熱延して2.3mm厚の熱延板とした。
【0076】この時、仕上熱延開始温度を1100
℃、1050℃、1000℃の3条件とし、仕上熱
延の各パスの板厚及び圧下配分を、(a)40→20→
10→5→4→3→2.3mm(50→50→50→20
→25→23%)、(b)40→30→18→11→7
→4→2.3mm(25→40→39→36→43→43
%)の2通りとした。次いで熱延終了後3秒間空冷後、
450℃まで水冷し、450℃に1時間保持した後炉冷
する巻取りシミュレーションを行った。
【0077】次いで、この熱延板に熱延板焼鈍を施すこ
となく、圧下率約90%でタンデム冷延して0.220
mmの冷延板とした。この冷延時鋼板の最高温度は35〜
52℃であった。次いで、この冷延板に825℃で90
秒保持する脱炭焼鈍を施した。しかる後、770℃に3
0秒保持する焼鈍を行い、焼鈍雰囲気中にNH3 ガスを
混入させ、鋼板に窒素吸収を生ぜしめた。
【0078】窒化後のこの鋼板のN量は、0.0175
〜0.0195%であった。またこの窒化処理後の鋼板
の一次結晶粒の平均粒径は、22〜24μmであった。
次いで、この鋼板にMgOを主成分とする焼鈍分離剤を
塗布し、公知の方法で、最終仕上焼鈍を行った。実験条
件と磁気特性の結果を表3に示す。
【0079】
【表3】
【0080】
【発明の効果】本発明においては、Pを所定量添加し、
熱延後の巻取り温度を制御し、熱延板の再結晶率を制御
し、冷延時の鋼板の温度を制御し、脱炭焼鈍完了後最終
仕上焼鈍開始までの一次再結晶粒の平均値を制御し、熱
延後最終仕上焼鈍の二次再結晶開始までの間に鋼板に所
定量の窒化処理を施すことにより、低温スラブ加熱で、
熱延板焼鈍を省略してもなお、良好な磁気特性を安定し
て得られるので、その工業的効果は極めて大である。
【図面の簡単な説明】
【図1】熱延後の巻取り温度と冷延時の鋼板の最高温度
が磁気特性に与える影響を表わすグラフである。
【図2】Pの含有量及び熱延板の板厚中心での再結晶率
と磁気特性の関係を表わすグラフである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 重量比で、 C :0.025〜0.075%、 Si:2.5〜4.5%、 酸可溶性Al:0.010〜0.060%、 N :0.0010〜0.0130%、 S+0.405Se:0.005〜0.020%、 Mn:0.05〜0.8%、 P :0.010〜0.050% 残部がFe及び不可避的不純物からなるスラブを128
    0℃未満の温度で加熱し、熱延し、引き続き、熱延板焼
    鈍を施すことなく、圧下率80%以上の冷延を施し、次
    いで脱炭焼鈍、最終仕上焼鈍を施して一方向性電磁鋼板
    を製造する方法において、上記熱延に引き続く鋼板の巻
    取り工程において、鋼板を500℃以下の温度で巻取
    り、熱延板の板厚中心の再結晶率を95%以下とし、上
    記冷延時鋼板を150℃以下の温度に制御して、タンデ
    ムで冷延し、脱炭焼鈍完了後最終仕上焼鈍開始までの一
    次再結晶粒の平均粒径を18〜35μmとし、熱延後最
    終仕上焼鈍の二次再結晶開始までの間に鋼板に増窒素量
    で0.0010%以上の窒化処理を施すことを特徴とす
    る磁気特性の優れた一方向性電磁鋼板の製造方法。
JP7070181A 1995-03-28 1995-03-28 磁気特性の優れた一方向性電磁鋼板の製造方法 Withdrawn JPH08269553A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100721819B1 (ko) * 2005-12-14 2007-05-28 주식회사 포스코 철손이 낮고 자속밀도가 높은 방향성 전기강판 제조방법
JP2013512332A (ja) * 2009-11-25 2013-04-11 タタ、スティール、アイモイデン、ベスローテン、フェンノートシャップ 方向性電磁鋼帯を製造する方法およびそれにより製造された方向性電磁鋼
WO2022163723A1 (ja) * 2021-01-28 2022-08-04 Jfeスチール株式会社 方向性電磁鋼板の製造方法および電磁鋼板製造用圧延設備
CN115053005A (zh) * 2019-12-19 2022-09-13 Posco公司 双取向电工钢板及其制造方法

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