JPH0826768A - Ｙｂレーザーガラス及び該ガラスを用いたレーザー装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 Ｙｂ³⁺発光遷移 (²F_5/2-²F_7/2)の誘導放出断
面積が約１×１０^-20cm²以上であり、長い蛍光寿命を有
し、かつ量子効率の高いレーザーガラス及びこれを用い
たレーザー装置の提供。 【構成】 ニオブ酸化物、２価金属酸化物及びリン酸を
含むガラス母材にＹｂイオンを含有することを特徴とす
るＹｂレーザーガラス。２価金属酸化物は、例えばＭｇ
Ｏ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯ及びＰｂＯから選
ばれる。各成分の含有率は、モルパーセントで表して、
Ｐ₂ Ｏ₅ が１５〜３５％、Ｎｂ₂ Ｏ₅ が５〜２３％、２
価金属酸化物が４０％以上である。レーザー媒体が上記
レーザーガラスであるレーザー装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は従来、一般に用いられる
Ｎｄ³⁺ドープレーザーにない優れた特徴を有し、高出力
レーザー及びＰｒ³⁺ドープファイバ増幅器の励起光源と
なるファイバレーザーの媒質となるＹｂ³⁺レーザーガラ
ス及びこれを用いたレーザー装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】固体レーザーは、一般に活性イオン濃度
が比較的高く、蛍光寿命も長いため、レーザーの増幅効
率や蓄積エネルギーが大きく、高出力レーザーとして急
激な成長を遂げつつある。特にガラス母材中にＮｄ³⁺活
性物質を含有する燐酸系或いはケイ酸系レーザーガラス
は、加工性が良く、任意形状、かつ大きな寸法のロッド
やディスクを安価でかつ容易に作成できるため、大出力
用の固体レーザー材料として汎用されている。従来、こ
のようなＮｄ³⁺ドープレーザーの励起光源としてはクセ
ノンランプまたは波長０．８μｍのレーザーを発生する
半導体レーザーが用いられている。しかし、クセノンラ
ンプで励起する場合には、励起効率が低く、消費電力も
高いという欠点がある。０．８μｍの半導体レーザーで
励起する場合には、励起効率はかなり高いが、Ｎｄ³⁺の
蛍光寿命が約０．３５ｍｓｅｃ程度と比較的短いため、
励起用半導体レーザーのパルス幅が小さいことが必要で
ある。その結果、半導体レーザーの使用寿命が短かくな
る。特に０．８μｍのＧａＡｌＡｓ半導体レーザーは、
Ａｌが酸化するため劣化しやすい。

【０００３】そこで、半導体レーザーの寿命を長くする
ためには、まずパルス幅を長くし、ピーク出力を低下さ
せることが必要とされる。そのためには、長い蛍光寿命
を有するレーザー活性物質及びそのガラス母材が必要と
なる。また、十分なレーザー利得を得るためには、活性
イオンの誘導放出断面積が約１×１０^-20cm²以上である
ことも必要である。さらに、０．８μｍの半導体レーザ
ーに比べて寿命が長く、比較的安定な０．９８μｍのＧ
ａＩｎＡｓ半導体レーザーを励起光源として使用できれ
ばより好ましい。

【０００４】これらの条件を満たすには、今までに使用
されているＮｄ³⁺活性イオンは適当でない。即ち、ガラ
ス母材中にドープされたＮｄ³⁺は波長０．９８μｍに吸
収バンドを持たないため０．９８μｍの半導体レーザー
が使用できない。その上、０．８μｍの半導体レーザー
励起においてもＮｄ³⁺の蛍光寿命は約０．３５ｍｓｅｃ
程度と短いので、励起光としての半導体レーザーのパル
ス幅を長くすると励起効率が低下する。

【０００５】これに対し、Ｎｄ³⁺レーザーの発振波長に
ほぼ近い１．０１〜１．０５μｍの波長範囲のレーザー
光を発生できるＹｂ³⁺ドープガラスは０．９５〜１．０
μｍ波長範囲で強い吸収バンドをもち、Ｎｄ³⁺より２倍
以上長い蛍光寿命を有する。そのため、０．９８μｍの
半導体レーザーを励起光として用いることができ、励起
光パルス幅を長くすることもできるという特徴がある。
また、Ｙｂ³⁺は単一の発光準位をもつので励起エネルギ
ーを消耗するようなアップコンバージョンがなく、励起
の量子効率が１に近いレーザーが期待される。しかし、
今までのＹｂ³⁺ドープガラスレーザーの誘導放出断面積
はあまりにも小さく、十分なレーザー利得が得られなか
った。従って、１×１０^-20cm²程度或いはそれより大き
い誘導放出断面積を有するＹｂ³⁺ドープガラスマトリッ
クスの開発が当面重要な課題となってきている。

【０００６】また、次世代に向かっての情報、通信ネッ
トワークシステムの一大潮流としてマルチメディア（通
信（音声）、放送（画像）、コンピュータの統合媒体）
構想があげられている。このマルチメディアシステムの
構築には波長１．３μｍの信号光を伝送するガラスファ
イバ及びその信号光を増幅するＰｒ³⁺ドープ１．３μｍ
光ファイバ増幅器が非常に重要な役割を果たすことが期
待されている。最近このＰｒ³⁺ドープ１．３μｍ光増幅
器の研究開発が盛んに行われている。これを実用化する
までにはなおいくつかの問題を解決する必要がある。そ
の一つとして、励起光源がある。Ｐｒ³⁺ドープ１．３μ
ｍ光増幅器には１．０１７〜１．０２５μｍ波長範囲の
励起光源が必要とされる。現在、研究ではチタンサファ
イアレーザーが用いられるが、実用デバイスには１．０
１７μｍの半導体レーザーの使用が検討されている。し
かし、この半導体レーザーは非常に高価であり、コスト
を考えた場合、デバイスへの応用には問題が多い。

【０００７】最近、Ｎｄ³⁺からＰｒ³⁺へのエネルギー伝
達を利用した０．８μｍ帯の半導体レーザー励起による
Ｐｒ³⁺ドープ１．３μｍ光増幅器（特開平４−５０１３
７を参照）及びＹｂ³⁺からＰｒ³⁺へのエネルギー伝達を
利用した０．９８μｍの帯の半導体レーザー励起による
Ｐｒ³⁺ドープ１．３μｍ光増幅器（Electronics Letter
s, Vol.27, (1991)p1012-1014 を参照）などが報告され
ている。しかし、いずれも期待できる程の効率を有する
光ファイバ型増幅器は得られていない。その後、Ｙｂ³⁺
からＰｒ³⁺へのエネルギー伝達を利用するのでなく、直
接Ｐｒ³⁺を励起する波長１．０２μｍの励起光を発生で
きるＹｂ³⁺ドープ石英ガラスファイバレーザーが（Elec
tronics Letters, Vol.29, No.3,(1993)p309-310を参
照）報告された。既に、いくつかのＹｂ³⁺ドープ石英ガ
ラスファイバレーザーの発振実験が報告されている。し
かし、これらの石英ガラスにおけるＹｂ³⁺の誘導放出断
面積は０．５〜０．５５×１０^-20cm²と小さく、高効率
の１．０２μｍレーザーを得るのは難しい。従って、比
較的大きなＹｂ³⁺の誘導放出断面積を有するガラスマト
リックスの開発が当面の課題となっている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明の目的
は、１×１０^-20cm²程度及びそれよりも大きい誘導放出
断面積をもち、かつ１msec程度の長い蛍光寿命を有する
Ｙｂ³⁺ドープレーザーガラスを提供することにある。さ
らに本発明の別の目的は、０．９８μｍのＧａＩｎＡｓ
半導体レーザーも励起光源として使用でき、励起光源で
ある半導体レーザーの使用寿命を長くすることができ、
かつ十分なレーザー利得を得られる、レーザー装置を提
供することにある。

【０００９】レーザーの発振は、利得が反射やガラスマ
トリックス中の吸収散乱などの損失を上回った時開始す
る。それゆえ、利得係数（ｇ）を大きくする必要があ
る。３準位レーザーに対して利得係数は通常、吸収断面
積σ_abs 、誘導放出断面積σ_emi 、反転分布率Ｐ（＝上
準位にある活性化イオン数／下準位にある活性イオン
数）及び活性イオン濃度Ｎで表される。 ｇ（λ）＝Ｎ｛Ｐσ_emi （λ）−（１−Ｐ）σ_abs ）
（λ）｝ レーザー発振しきい値を高めずに、Ｙｂ³⁺レーザー利得
効率を増すためにはＹｂ³⁺の誘導放出断面積を大きくす
ることが必要とされる。即ちＹｂ³⁺の²F_5/2-²F_7/2 輻射
遷移確率が大きなガラスマトリックスの開発が要求され
る。

【００１０】衆知のようにＹｂ³⁺の輻射遷移確率は強度
パラメーター（Ω_t ）の値に、特にΩ₂ の値に比例す
る。これらの強度パラメータを大きくするにはガラス中
にあるＹｂ³⁺配位子場の非対称性を増す必要がある。従
って、本発明者はガラス骨格が複数のユニットから形成
されるガラスを作製することによってガラス構造の非対
称性を増すことを考えた。このような考えを元に、上記
従来のＮｄ³⁺ドープレーザーガラス或いはＹｂ³⁺ドープ
石英ファイバレーザーガラスの有する諸欠点を克服する
べく、種々の試験研究を重ねた結果、約１×１０^-20cm²
以上の誘導放出断面積をもち、かつ１msec程度の長い蛍
光寿命を有するＹｂ³⁺ドープレーザーガラスを見い出し
て本発明を完成した。

【００１１】本発明は、ニオブ酸化物、２価金属酸化物
及びリン酸を含むガラス母材にＹｂイオンを含有するこ
とを特徴とするＹｂレーザーガラスに関する。さらに本
発明は、このＹｂレーザーガラスを用いたレーザー装置
に関する。以下本発明について説明する。

【００１２】本発明のレーザーガラスは、リン酸を含む
ガラスを母材とする。リン酸を含むガラスとしては、例
えばリン酸ガラス及びホウリン酸ガラスを挙げることが
できる。リン酸（Ｐ₂ Ｏ₅ ）はガラス形成酸化物として
働き、ガラス構造の安定化即ち失透に対する安定性を増
す。またＮｂ₂ Ｏ₅ 或いはＢ₂ Ｏ₃ などのガラス構造形
成物とを組み合わせることによってＹｂ³⁺配位子場の対
称性を低下させるためにも、ガラスの高温粘性を調整す
るためにも不可欠な成分である。ただし、Ｐ₂Ｏ₅ はガ
ラスの成分として３５％より多くなると得られたガラス
のＹｂ³⁺の誘導放出断面積は低下してしまうのに対し、
１５％より少ないとガラスの安定性が悪化するので、Ｐ
₂ Ｏ₅ の組成範囲は１５〜３５％となることが適当であ
る。特に１６〜３４％の範囲が好ましい。

【００１３】ニオブ酸化物（Ｎｂ₂ Ｏ₅ ）はガラスにド
ープしたＹｂ³⁺に大きな誘導放出断面積を付与する成分
としても、Ｐ₂ Ｏ₅ とともにガラス構造の安定化及びそ
の耐久性を高める成分としても非常に重要である。特に
Ｎｂ₂ Ｏ₅ でＰ₂ Ｏ₅ を置換してガラスに導入する場合
は、ガラス構造の非対称性を高め、Ｙｂ³⁺の²F_5/2-²F
_7/2 輻射遷移確率を増大する効果が大きい。即ち、Ｎｂ
₂ Ｏ₅ はＹｂ³⁺の誘導放出断面積を向上させるために不
可欠な成分である。しかし、Ｎｂ₂ Ｏ₅ の含有量を５％
より少なくすると、Ｙｂ³⁺の誘導放出断面積を十分に向
上させないのに対し、２３％を超えて導入するとガラス
の失透に対する安定性が悪化するので、その含有量は５
〜２３％の範囲に限定することが適当である。特に７〜
２０％が好ましい。

【００１４】本発明のレーザーガラスのリン酸を含むガ
ラス母材は２価金属酸化物を含む。２価金属酸化物は、
例えば、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯ及び
ＰｂＯからなる群から選ばれる少なくとも１種の酸化物
である。また、これら２価金属酸化物は合計の含有率が
４０％以上であることがＹｂ³⁺誘導放出断面積を１×１
０²⁰ｃｍ²以上とするという観点から好ましい。特に好
ましくは、４２％以上である。

【００１５】ＭｇＯはガラスの耐久性及び高温溶解性を
改良するために添加される成分である。少量のＭｇＯで
ＢａＯなどのイオン半径の大きいアルカリ土類金属酸化
物を置換する場合、ガラスの高温溶解性などを改善する
効果があるが、１５％以上に導入するとガラスの失透に
対する安定性も低下するし、Ｙｂ³⁺の発光特性にもあま
りよい影響を与えないので、その導入量を１５％以下、
特に１３．５％以下とすることが好ましい。

【００１６】ＣａＯはガラスの耐久性を高め、ガラスの
失透に対する安定性を増すには非常に有効な成分ではあ
るが、あまりにも多く添加すると、例えば２８％を超え
るとガラスの失透に対する安定性は逆に悪化する。その
ため、ガラスの安定性に応じてその含有量を２８％以下
とすることが好ましく、特に２５％以下が好ましい。

【００１７】ＳｒＯとＢａＯなどのイオン半径の比較的
に大きいアルカリ土類金属酸化物はガラスの失透に対す
る安定性を向上するには不可欠な成分である。またＹｂ
³⁺の輻射遷移確率を大きくするにもある程度寄与する成
分である。但し、工業的規模で製造できる程の安定性を
もつガラスを得るという観点から、ＳｒＯの添加量は０
〜３０％の範囲、またＢａＯの添加量は５〜４０％の範
囲であることが好ましい。特にＳｒＯの含有量を２５％
以下、ＢａＯの含有量を５〜３８％にすることが好まし
い。

【００１８】ＺｎＯとＰｂＯはガラスの失透に対する安
定性、特にＢ₂ Ｏ₃ を導入する場合の安定性を向上させ
るには効果的に寄与する成分である。さらにファイバを
作成する時にコア−クラッド屈折率差を調整するために
も非常に有効な成分である。しかし、ＺｎＯとＰｂＯの
添加量がそれぞれ３５％と２０％を超えると、得られた
ガラスがかなり不安定になるので、それぞれの添加量を
０〜３５％、０〜２０％の範囲とすることが望ましい。
特にＺｎＯの含有量を０〜３２％に、ＰｂＯの含有量を
０〜１５％にすることが好ましい。

【００１９】Ｂ₂ Ｏ₃ はＰ₂ Ｏ₅ とともにガラスの失透
に対する安定性及びその耐久性を高め、Ｙｂ³⁺配位子場
の対称性を低下させる目的で添加することができる成分
である。適当量のＢ₂ Ｏ₃ を添加することでＹｂ³⁺の誘
導放出断面積を向上させる効果があり、ガラスの失透に
対する安定性も向上する。しかし、２０％を超えるとガ
ラスの失透に対する安定性は悪化し、Ｙｂ³⁺の蛍光寿命
も短くなる。そこで、Ｂ₂ Ｏ₃ の含有量は２０％以下と
することが好ましい。特に１８．５％以下が好ましい。

【００２０】Ｌｉ₂ Ｏ、Ｎａ₂ Ｏ 、Ｋ₂ Ｏなどのアル
カリ金属酸化物はガラスの助融剤として、特にＮｂ₂Ｏ₅
を多く添加する場合にＮｂ₂ Ｏ₅ を十分に溶かすために
添加することができる成分である。しかし、合計量で１
０％を超えて添加するとＹｂ³⁺の誘導放出断面積を低下
させる傾向があるので、アルカリ金属酸化物の全添加量
は１０％以下、好ましくは７％以下であることが適当で
ある。

【００２１】本発明のレーザーガラスは、レーザー光を
発生する活性化物質としてＹｂ₂ Ｏ₃ を含有する。Ｙｂ
₂ Ｏ₃ はＹｂ³⁺レーザーガラスの不可欠な成分である。
高出力レーザーあるいは、マイクロチップ型レーザーの
場合には、Ｙｂ₂ Ｏ₃ のドープ量を多くし、レーザーフ
ァイバの場合には、Ｙｂ₂ Ｏ₃ のドープ量は比較的少な
くする。従って、Ｙｂ₂ Ｏ₃ のドープ量は、本発明のレ
ーザーガラスの適用対象に応じて、０．０００１〜４％
の範囲で調整することができる。４％を超えてＹｂ₂ Ｏ
₃ を導入すると、ガラスの失透に対する安定性が悪化す
る傾向があるので、その含有量は４％以下に抑えること
が適当である。さらに、濃度消光及び自己吸収の影響に
よる量子効率の低下傾向を考慮すると、Ｙｂ₂ Ｏ₃ のド
ープ量は３％以下にすることがより好ましい。

【００２２】レーザーガラスに適した失透に対する安定
性を得るという観点から、上記のガラス組成においてガ
ラス骨格形成酸化物として用いられるＰ₂ Ｏ₅ 、Ｎｂ₂
Ｏ₅、Ｂ₂ Ｏ₃ の全含有量は４２％以上であることが適
当である。また、十分大きなＹｂ³⁺誘導放出断面積を得
るという観点からは、Ｐ₂ Ｏ₅ 、Ｎｂ₂ Ｏ₅ 、Ｂ₂ Ｏ₃
の全含有量は５５％以下であることが適当である。ま
た、アルカリ金属酸化物に比べ、アルカリ土類金属酸化
物のほうがＹｂ³⁺の誘導放出断面積を向上させる効果が
大きいので、なるべくアルカリ金属酸化物成分を抑え、
アルカリ土類金属酸化物成分を多く添加することが望ま
しい。尚、アルカリ土類金属酸化物成分間の割合の調整
は、主にガラスの失透に対する安定性を考慮しながら行
うことができる。

【００２３】本発明のレーザー装置は、上記発明のレー
ザーガラスをレーザー媒体として用いたものである。よ
り具体的には、図１に概略図を示すように、共振器１及
び２の間に設けた発明のレーザーガラスを用いたレーザ
ー媒体３と、レーザー媒体３に対する励起光源４からな
る。レーザー媒体３は、共振器１及び２と向かい合う面
を研磨したものであり、共振器１は全反射鏡（励起光及
び発振レーザー光を反射する）であり、共振器２は部分
透過鏡（励起光は反射し、発振レーザー光を透過する）
であり、共振器１及び２が一対となって共振器を構成す
る。励起光源４は、サファイアレーザー等の固体レーザ
ー及びＧａＩｎＡｓ半導体レーザー等の半導体レーザー
であることができる。励起光源４からレーザー媒体１に
励起光が照射され、レーザー媒体１から発振されたレー
ザー光は、部分透過鏡である共振器２を透過して外部に
供給される。

【００２４】

【発明の効果】本発明のＹｂ³⁺レーザーガラスは１×１
０^-20 cm² 程度或いはそれ以上の大きな誘導放出断面積
を持ち、１msec程度或いはそれ以上に長い蛍光寿命を有
し、さらにガラスとしても比較的安定に得ることがで
き、工業的規模での生産が容易であるため、高利得、高
効率のレーザーガラスとして期待される。また、本発明
のＹｂ³⁺ドープレーザーガラスから、容易にファイバを
作成できるため、Ｐｒ³⁺ドープ１．３μｍファイバ型増
幅器の励起光源となりうる１．０２μｍのファイバレー
ザー用ガラスとしても非常に有望である。さらに本発明
のレーザー装置では、励起光源として半導体レーザーを
用いた場合でも長時間使用でき（励起光源を長くで
き）、かつ高い励起効率でレーザー光を得ることができ
る。

【００２５】

【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに説明す
る。 実施例１〜４３ 表１〜４に、実施例１〜４３のガラス組成をモル％で示
した。これらのガラスを溶解する際の出発原料として
は、Ｐ₂ Ｏ₅ 、Ｎｂ₂ Ｏ₅ 、Ｂ₂ Ｏ₃ 、ＭｇＯ、ＣａＣ
Ｏ₃ 、ＳｒＣＯ₃ 、ＢａＣＯ₃ 、ＺｎＯ、Ｐｂ（Ｎ
Ｏ₃ ）₂ 、Ｌｉ₂ ＣＯ₃ 、Ｎａ₂ ＣＯ₃ 、Ｋ₂ ＣＯ₃ な
ど或いはそれらの２価、１価成分のメタ燐酸塩を用い
る。これらの出発原料を表１に示した所定の割合に１０
０ｇ秤量し、十分に混合して調合バッチと成し、これを
白金ルツボに入れ、バッチ組成に応じて１２５０℃から
１３８０℃までの温度範囲で空気中或いはＮｂ⁵⁺イオン
の低原子価イオンへの変化を防止するために、若干の酸
化雰囲気で１．５〜２時間ガラスの溶解を行った。溶解
後、ガラス溶液をカーボンの金型に流し、ガラスの転移
温度まで放冷してから直ちにアニール炉に入れ、ガラス
転移温度範囲で約１時間アニールした。得られたガラス
は無色透明或いは浅黄色で肉眼で観察できる結晶は析出
しなかった。

【００２６】これらのガラスを２５×２５×５mmに４面
研磨し、鏡面仕上げをした後、光学特性の測定サンプル
とした。蛍光寿命の測定を図２に示した方法で、発光ス
ペクトルの測定を図３に示した方法でそれぞれ行った。
測定した蛍光寿命をガラス組成とともに表１〜４に示
す。また、Ｙｂ³⁺ドープガラスの６００ｎｍ〜１２００
ｎｍ波長範囲の吸収スペクトルの測定を日立−３３０型
分光光度計を用いて行った。発光及び吸収スペクトルの
測定データを元に、次の式でＹｂ³⁺の誘導放出断面積
（σ_emi ）を計算した。 σ_emi ＝ λ_e ⁴A_rad ／８πcn² Δλ ここでλ_e は発光スペクトルのピーク波長（約１．０２
μｍ）、ｃは光の速度、ｎはガラスの屈折率、Δλは発
光スペクトルの半値幅、 A_rad はＹｂ³⁺（²F_5/2-
²F_7/2 ）の輻射遷移確率であり、次式により計算でき
る。 A_rad ＝〔８πn²c (2J¹＋1)／Ｎλ_p ⁴(2J＋1)〕∫k(λ)
dλ ここでＮはガラスにドープしたＹｂ³⁺イオン数、λ_p は
Ｙｂ³⁺の吸収スペクトルのピーク波長（約０．９７８μ
ｍ）、∫k(λ)dλはＹｂ³⁺の吸収スペクトルの積分面
積、J 、J¹は上下準位の全角運動量子数であり、Ｙｂ³⁺
に対しては(2J¹＋1)／ (2J＋1)＝１．３３３３となる。
これらの式を用いて計算したＹｂ³⁺の誘導放出断面積を
表１〜４に示した。

【００２７】

【表１】

【００２８】

【表２】

【００２９】

【表３】

【００３０】

【表４】

【００３１】表１〜４から明らかなように本発明のＹｂ
レーザーガラスは、Ｙｂ³⁺の誘導放出断面積が比較例の
Ｙｂドープ石英ガラスに比べて約２倍程度と大きく、か
つより長い蛍光寿命をもつ。このことは、本発明のレー
ザーガラスが優れた性能を有する固体レーザーであるこ
とを示すものである。

【００３２】実施例４４実施例４の組成でＹｂ₂ Ｏ₃ ド
ープ量が４．５ｗｔ％（１．６８モル％）のガラスを厚
さ１．５ｍｍに加工研磨し、片面に１．０２μｍの光を
９９％反射し、０．９７８μｍの光を８０％透過するコ
ートを施し、他面に１．０２μｍ、０．９７８μｍの光
を９７％反射するコートを施す。図４に示すような構成
でチタンサファイアレーザー或いは半導体レーザーを励
起光源として、レーザー発振を達成した。チランサファ
イアレーザーで励起した場合、発振のしきい値は約１０
ｍＷ、スロープ効率は約３０％、最大出力として３０ｍ
Ｗが得られた。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明のレーザー装置の概略図。

【図２】 蛍光寿命の測定方法の概略図。

【図３】 発光スペクトルの測定方法の概略図。

【図４】 実施例４４で用いたレーザー装置の概略図。

【符号の説明】

１、２：共振器 ３：レーザー媒体 ４：励起光源

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ニオブ酸化物、２価金属酸化物及びリン
   酸を含むガラス母材にＹｂイオンを含有することを特徴
   とするＹｂレーザーガラス。
2. 【請求項２】 ２価金属酸化物が、ＭｇＯ、ＣａＯ、Ｓ
   ｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯ及びＰｂＯからなる群から選ばれ
   る少なくとも１種の酸化物である請求項１記載のレーザ
   ーガラス。
3. 【請求項３】 各成分の含有率がモルパーセントで表示
   して、Ｐ₂ Ｏ₅ が１５〜３５％、Ｎｂ₂ Ｏ₅ が５〜２３
   ％、２価金属酸化物が４０％以上である請求項１又は２
   記載のレーザーガラス。
4. 【請求項４】 各成分の含有率がモルパーセントで表示
   して、Ｂ₂Ｏ₃が０〜２０％、ＭｇＯが０〜１５％、Ｃａ
   Ｏが０〜２８％、ＳｒＯが０〜３０％、ＢａＯが５〜４
   ０％、ＺｎＯが０〜３５％及びＰｂＯが０〜２０％であ
   る請求項３記載のレーザーガラス。
5. 【請求項５】 各成分の含有率がモルパーセントで表示
   して、Ｌｉ₂ Ｏが０〜１０％、Ｎａ₂ Ｏが０〜１０％、
   Ｋ₂ Ｏが０〜１０％であり、かつＬｉ₂ Ｏ＋Ｎａ₂ Ｏ＋
   Ｋ₂ Ｏの合計含有率が１０％以下である請求項４記載の
   レーザーガラス。
6. 【請求項６】 Ｙ₂ Ｏ₃ の含有率がモルパーセントで表
   示して０．０００１〜４％である請求項１〜５のいずれ
   か１項に記載のレーザーガラス。
7. 【請求項７】 レーザー媒体、共振器及び励起光源を含
   むレーザー装置であって、前記レーザー媒体が請求項１
   〜６のいずれか１項に記載のレーザーガラスからなるレ
   ーザー装置。