JPH08267364A - Abrasive tape - Google Patents

Abrasive tape

Info

Publication number
JPH08267364A
JPH08267364A JP7299295A JP7299295A JPH08267364A JP H08267364 A JPH08267364 A JP H08267364A JP 7299295 A JP7299295 A JP 7299295A JP 7299295 A JP7299295 A JP 7299295A JP H08267364 A JPH08267364 A JP H08267364A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polishing
abrasive
acid
resin
diamond
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7299295A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Katsumi Ryomo
克己 両毛
Masaaki Fujiyama
正昭 藤山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP7299295A priority Critical patent/JPH08267364A/en
Publication of JPH08267364A publication Critical patent/JPH08267364A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
  • Magnetic Heads (AREA)

Abstract

PURPOSE: To obtain an abrasive tape capable of polishing ceramic and the like of high hardness well and producing with low cost. CONSTITUTION: An abrasive tape is composed of an abrasive layer 20 and a support body 10, wherein the former 20 comprising abrasive fine powder and a binder 21 is disposed on the latter 10. For the abrasive fine powder, diamond particles 22 and an abrasive particles with a Moh's hardness of 9 or more are used in a weight ratioof 50:50 to 10:90.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は研磨テープに関し、特に
磁気記録再生装置のセラミック磁気ヘッドの研磨やクリ
ーニングを始めとして、各種セラミックの研磨、クリー
ニング、ポリッシュ、バーニッシュ、テクスチャー等に
好適に用いられる研磨テープに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polishing tape, and is particularly suitable for polishing and cleaning ceramic ceramic heads of magnetic recording / reproducing devices, and for polishing, cleaning, polishing, varnishing, and texture of various ceramics. The present invention relates to a polishing tape.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、磁気記録再生装置の磁気ヘッ
ドを研磨したり、クリーニングするために、研磨剤微粉
末とバインダーとからなる研磨層を非磁性支持体上に有
してなる研磨テープが広く用いられている。またこの種
の研磨テープは、その他、ハードディスク基板の表面
に、ディスク使用時のヘッド吸着を防止するための細か
い「スジ」を形成する、いわゆるテクスチャー処理等に
も広く用いられている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a polishing tape having a polishing layer composed of fine abrasive powder and a binder on a non-magnetic support for polishing or cleaning a magnetic head of a magnetic recording / reproducing apparatus has been used. Widely used. In addition, this type of polishing tape is also widely used for so-called texture treatment, etc., in which fine "streaks" are formed on the surface of a hard disk substrate to prevent head adsorption when the disk is used.

【0003】ところで、セラミックおよびその関連製品
は硬度が高いので、それらを上述の研磨やクリーニン
グ、テクスチャー、さらにはポリッシュ、バーニッシュ
等の処理(これらは全て広い意味での研磨の一種であ
り、以下では特にことわらない限り、「研磨」とはこの
広い意味での研磨を指すものとする)にかける場合は、
研磨剤微粉末にダイヤモンド粒子を含む研磨テープの使
用が考えられる。特開平5−309571号公報には、
そのような研磨テープの例が示されている。ここに示さ
れている研磨テープは、研磨剤微粉末に第1の粒状研磨
剤、第2の粒状研磨剤、およびダイヤモンド粒子を含む
ものである。また特開昭62−130168号公報に
は、研磨剤微粉末にダイヤモンド粒子とそれ以外の1つ
の粒状研磨剤を含む研磨テープが開示されている。
By the way, since ceramics and related products have high hardness, they are subjected to the above-mentioned polishing, cleaning, texture, and further polishing, varnishing, etc. (These are all types of polishing in a broad sense. Unless otherwise specified, "polishing" refers to polishing in this broad sense)
It is conceivable to use a polishing tape containing diamond particles in the fine abrasive powder. Japanese Patent Laid-Open No. 5-309571 discloses that
An example of such an abrasive tape is shown. The polishing tape shown here contains a fine abrasive powder containing a first granular abrasive, a second granular abrasive, and diamond particles. Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-130168 discloses a polishing tape containing fine abrasive powder containing diamond particles and another granular abrasive.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上記特開平5−309
571号公報に示されている研磨テープは、硬度が高い
セラミック等に対して確かに有効であるが、その半面、
研磨剤微粉末が3種類の微粉末を含むので、コストが高
くつきやすく、また研磨能力も低いという問題が有っ
た。
DISCLOSURE OF THE INVENTION Problems to be Solved by the Invention
The polishing tape disclosed in Japanese Patent No. 571 is certainly effective for ceramics having high hardness, but on the other hand,
Since the fine abrasive powder contains three types of fine powders, there are problems that the cost is high and the polishing is easy and the polishing ability is low.

【0005】また特開昭62−130168号公報で
は、ダイヤモンド粒子と別の粒状研磨剤とをどのような
比率で含ませると良好な研磨効果が得られるのかについ
ては、全く言及されていない。
Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-130168 does not mention at all what proportion of diamond particles and another granular abrasive should be contained to obtain a good polishing effect.

【0006】そこで本発明は、硬度が高いセラミック等
を良好に研磨可能で、しかも比較的低いコストで形成す
ることができる研磨テープを提供することを目的とする
ものである。
[0006] Therefore, an object of the present invention is to provide a polishing tape which can satisfactorily polish a ceramic having a high hardness and can be formed at a relatively low cost.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明による第1の研磨
テープは、請求項1に記載の通り、研磨剤微粉末とバイ
ンダーとからなる研磨層を支持体上に有してなる研磨テ
ープにおいて、研磨剤微粉末が、重量比で50:50〜10:
90のダイヤモンドと、モース硬度9以上の研磨剤とから
なることを特徴とするものである。
A first polishing tape according to the present invention is a polishing tape having a polishing layer comprising fine abrasive powder and a binder on a support as described in claim 1. , Abrasive fine powder, weight ratio 50:50 ~ 10:
It is characterized by comprising 90 diamonds and an abrasive having a Mohs hardness of 9 or more.

【0008】本発明による第2の研磨テープは、請求項
2に記載の通り、上記モース硬度9以上の研磨剤がアル
ミナであることを特徴とするものである。
According to a second aspect of the present invention, the second abrasive tape is characterized in that the abrasive having a Mohs hardness of 9 or more is alumina.

【0009】本発明による第3の研磨テープは、請求項
3に記載の通り、上記第2の研磨テープにおいて、ダイ
ヤモンドの平均粒子直径が10μm以下であり、アルミナ
の平均粒子直径が0.1 〜8μmの範囲にあることを特徴
とするものである。なお、ダイヤモンドとアルミナの平
均粒子直径は、好ましくは一方が他方に対して3倍以
内、より好ましくは2倍以内とする。すなわち、この平
均粒子直径の差が大きいと、ダイヤモンドとアルミナの
一方が他方の間に入り込むようになって、研磨効果が損
なわれてしまう。
According to a third polishing tape of the present invention, in the above second polishing tape, the average particle diameter of diamond is 10 μm or less and the average particle diameter of alumina is 0.1 to 8 μm. It is characterized by being in the range. The average particle diameter of diamond and alumina is preferably within 3 times, more preferably within 2 times that of the other. That is, if this difference in average particle diameter is large, one of diamond and alumina will enter between the other and the polishing effect will be impaired.

【0010】本発明による第4の研磨テープは、請求項
4に記載の通り、上記第1、2または3の研磨テープに
おいて、支持体が、厚さが4〜300 μmの範囲にあるポ
リエステルであることを特徴とするものである。
A fourth polishing tape according to the present invention is the polishing tape of the first, second or third aspect as set forth in claim 4, wherein the support is a polyester having a thickness in the range of 4 to 300 μm. It is characterized by being.

【0011】なお上記ダイヤモンドとアルミナの重量比
は、好ましくは50:50〜20:80の範囲、さらに好ましく
は40:60〜20:80の範囲内とされる。すなわち、平均粒
子直径、最大粒子の分布、厚みから考えると、ダイヤモ
ンドは、本来の機能を維持するために、20〜40重量%含
まれることが必要であることが判った。
The weight ratio of diamond to alumina is preferably 50:50 to 20:80, more preferably 40:60 to 20:80. That is, considering the average particle diameter, the maximum particle distribution, and the thickness, it was found that diamond should be contained in an amount of 20 to 40% by weight in order to maintain the original function.

【0012】またアルミナとしてより具体的には、平均
粒子直径が上記範囲にあるα−アルミナ、γ−アルミ
ナ、溶融アルミナが使用可能である。一方ダイヤモンド
としては、平均粒子直径が上記範囲にある天然もしくは
人造(合成)ダイヤモンドが使用可能である。
More specifically, as the alumina, α-alumina, γ-alumina and fused alumina having an average particle diameter within the above range can be used. On the other hand, as the diamond, natural or artificial (synthetic) diamond having an average particle diameter within the above range can be used.

【0013】より詳細に、本発明において使用可能なダ
イヤモンド・パウダーとしては、例えばセネラル・エレ
クトリック・カンパニー社の「ダイヤモンドミクロンパ
ウダー 300シリーズ」、「ダイヤモンドミクロンパウダ
ー スタンダードシリーズ」のダイヤモンド・パウダー
のうち、平均粒子直径が「0〜1/10μm」、「0〜1
/4μm」、「0〜1/2μm」、「0〜1μm」、
「0〜2μm」、「1/4〜1/2μm」、「1/4〜
1μm」、「1/2〜1μm」、「1/2〜2μm」、
「1/2〜3μm」、「3/4〜1μm」、「1〜2μ
m」、「1〜3μm」、「1〜5μm」、「2〜3μ
m」、「2〜4μm」、「2〜5μm」、「2〜6μ
m」、「3〜6μm」、「4〜6μm」、「4〜8μ
m」、「5〜10μm」、「6〜10μm」のものが挙げら
れる。ダイヤモンドの平均粒子直径は、好ましくは8μ
m以下、さらに好ましくは6μm以下である。
More specifically, as the diamond powder that can be used in the present invention, for example, among the diamond powders of "Diamond Micron Powder 300 Series" and "Diamond Micron Powder Standard Series" of General Electric Company, average Particle diameter is "0-1 / 10 µm", "0-1
/ 4 μm ”,“ 0 to 1/2 μm ”,“ 0 to 1 μm ”,
"0 to 2 µm", "1/4 to 1/2 µm", "1/4 to
1 μm ”,“ 1/2 to 1 μm ”,“ 1/2 to 2 μm ”,
"1 / 2-3 µm", "3 / 4-1 µm", "1-2 µm"
m ”,“ 1 to 3 μm ”,“ 1 to 5 μm ”,“ 2 to 3 μm ”
m ”,“ 2-4 μm ”,“ 2-5 μm ”,“ 2-6 μm ”
m ”,“ 3-6 μm ”,“ 4-6 μm ”,“ 4-8 μm ”
m ”,“ 5 to 10 μm ”, and“ 6 to 10 μm ”. The average particle diameter of diamond is preferably 8μ
m or less, and more preferably 6 μm or less.

【0014】また研磨層には、テープの帯電防止、遮
光、摩擦係数調節、耐久性向上の目的で適宜、ゴム用フ
ァーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチ
レンブラック等のカーボンブラックを含ませることがで
きる。これらカーボンブラックの米国における略称の具
体例を示すと、SAF、ISAF、IISAF、T、H
AF、SPF、FF、FFF、HMF、GPF、AP
F、SRF、MPF、ECF、SCF、CF、FT、M
T、HCC、HCF、MCF、LFF、RCF等があ
り、米国のASTM規格のD−1765−82aに分類されて
いるものを使用することができる。本発明に使用される
これらカーボンブラックの平均粒子直径は、5〜1000n
m(電子顕微鏡観察による)、窒素吸着法比表面積は1
〜800 m2 /g、pHは4〜11(JIS規格K−6221−
1982法)、ジブチルフタレート(DBP)吸油量は10〜
800 ml/100 g(JIS規格K−6221−1982法)であ
る。そして本発明では、研磨層塗布膜の表面電気抵抗を
下げる目的で粒径5〜100 nmのカーボンブラックを、
また研磨層塗布膜の強度を制御するときに粒径50〜1000
nmのカーボンブラックが好適に用いられる。また研磨
層塗布膜の表面粗さを制御する目的で、スペーシングロ
ス低下のための平滑化を図って、より微粒子のカーボン
ブラック(粒径100 nm未満)を、粗面化して摩擦係数
を下げる目的でより粗粒子のカーボンブラック(粒径10
0 nm以上)が好適に用いられる。
Further, the polishing layer should appropriately contain carbon black such as rubber furnace, rubber thermal, color black, and acetylene black for the purpose of preventing electrification of the tape, shading, adjusting friction coefficient, and improving durability. You can Specific examples of the abbreviations of these carbon blacks in the United States are SAF, ISAF, IISAF, T, H.
AF, SPF, FF, FFF, HMF, GPF, AP
F, SRF, MPF, ECF, SCF, CF, FT, M
There are T, HCC, HCF, MCF, LFF, RCF, etc., and those classified into American ASTM standard D-1765-82a can be used. The average particle diameter of these carbon blacks used in the present invention is 5 to 1000 n.
m (by electron microscope observation), nitrogen adsorption method specific surface area is 1
~ 800 m 2 / g, pH 4-11 (JIS standard K-6221-
1982 method), dibutyl phthalate (DBP) oil absorption is 10 ~
It is 800 ml / 100 g (JIS standard K-6221-1982 method). In the present invention, carbon black having a particle size of 5 to 100 nm is used for the purpose of lowering the surface electric resistance of the coating film for the polishing layer.
In addition, when controlling the strength of the coating film for the polishing layer, a particle size of 50-1000
nm carbon black is preferably used. Also, in order to control the surface roughness of the polishing layer coating film, smoothing is performed to reduce spacing loss, and finer carbon black (particle size less than 100 nm) is roughened to reduce the friction coefficient. Coarse-grained carbon black (particle size 10
0 nm or more) is preferably used.

【0015】このようにカーボンブラックの種類と添加
量は、研磨テープに要求される目的に応じて使い分けら
れる。また、これらのカーボンブラックを、後述の分散
剤等で表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用して
もよい。また、カーボンブラックを製造するときの炉の
温度を2000℃以上で処理して表面の一部をグラファイト
化したものも使用できる。さらに、特殊なカーボンブラ
ックとして、中空カーボンブラックを使用することもで
きる。これらのカーボンブラックは研磨層の無機粉末10
0 重量部に対して0.1 〜10重量部で用いることが望まし
い。
As described above, the kind and the amount of carbon black added are properly selected according to the purpose required for the polishing tape. Further, these carbon blacks may be used after being surface-treated with a dispersant described below or grafted with a resin. Further, a carbon black produced by treating the furnace at a temperature of 2000 ° C. or higher at a temperature of 2000 ° C. or more and partially graphitizing the surface can also be used. Furthermore, hollow carbon black can be used as the special carbon black. These carbon blacks are the inorganic powders in the polishing layer.
It is desirable to use 0.1 to 10 parts by weight with respect to 0 parts by weight.

【0016】またバック層にカーボンブラックを含ませ
る場合は、後述する樹脂100 重量部に対して20〜400 重
量部で用いることが望ましい。本発明に使用できるカー
ボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」(カー
ボンブラック協会編、昭和46年発行)を参考にすること
ができる。
When carbon black is contained in the back layer, it is preferably used in an amount of 20 to 400 parts by weight based on 100 parts by weight of the resin described later. The carbon black that can be used in the present invention can be referred to, for example, “Carbon Black Handbook” (edited by Carbon Black Association, published in 1972).

【0017】また研磨層に使用されるバインダーとして
は、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹
脂、電子線硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、可視光線硬
化型樹脂やこれらの混合物を使用することができる。
As the binder used in the polishing layer, conventionally known thermoplastic resins, thermosetting resins, reactive resins, electron beam curable resins, ultraviolet curable resins, visible light curable resins and mixtures thereof. Can be used.

【0018】そして上記の熱可塑性樹脂としては、軟化
温度が150 ℃以下、平均分子量が10000 〜300000、重合
度が約50〜2000程度のものでより好ましくは200 〜700
程度であり、例えば塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩
化ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコ
ール共重合体、塩化ビニルビニルアルコール共重合体、
塩化ビニル塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニルアクリ
ロニトリル共重合体、アクリル酸エステルアクリロニト
リル共重合体、アクリル酸エステル塩化ビニリデン共重
合体、アクリル酸エステルスチレン共重合体、メタクリ
ル酸エステルアクリロニトリル共重合体、メタクリル酸
エステル塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステ
ルスチレン共重合体、ウレタンエラストマー、ナイロン
−シリコン系樹脂、ニトロセルロース−ポリアミド樹
脂、ポリフッカビニル、塩化ビニリデンアクリロニトリ
ル共重合体、ブタジエンアクリロニトリル共重合体、ポ
リアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セルロース誘導
体(セルロースアセテートブチレート、セルロースダイ
アセテート、セルローストリアセテート、セルロースプ
ロピオネート、ニトロセルロース、エチルセルロース、
メチルセルロース、プロピルセルロース、メチルエチル
セルロース、カルボキシメチルセルロース、アセチルセ
ルロース等)、スチレンブタジエン共重合体、ポリエス
テル樹脂、ポリカーボネート樹脂、クロロビニルエーテ
ルアクリル酸エステル共重合体、アミノ酸樹脂、各種の
合成ゴム系の熱可塑性樹脂およびこれらの混合物等が使
用される。
The thermoplastic resin has a softening temperature of 150 ° C. or lower, an average molecular weight of 10,000 to 300,000, and a degree of polymerization of about 50 to 2000, more preferably 200 to 700.
For example, vinyl chloride vinyl acetate copolymer, vinyl chloride copolymer, vinyl chloride vinyl acetate vinyl alcohol copolymer, vinyl chloride vinyl alcohol copolymer,
Vinyl chloride vinylidene chloride copolymer, vinyl chloride acrylonitrile copolymer, acrylic ester acrylonitrile copolymer, acrylic ester vinylidene chloride copolymer, acrylic ester styrene copolymer, methacrylic ester acrylonitrile copolymer, methacrylic acid Ester vinylidene chloride copolymer, methacrylic acid ester styrene copolymer, urethane elastomer, nylon-silicone resin, nitrocellulose-polyamide resin, polyfucca vinyl, vinylidene chloride acrylonitrile copolymer, butadiene acrylonitrile copolymer, polyamide resin, Polyvinyl butyral, cellulose derivative (cellulose acetate butyrate, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, nit Cellulose, ethyl cellulose,
(Methyl cellulose, propyl cellulose, methyl ethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, acetyl cellulose, etc.), styrene-butadiene copolymer, polyester resin, polycarbonate resin, chlorovinyl ether acrylate copolymer, amino acid resin, various synthetic rubber thermoplastic resins and A mixture of these is used.

【0019】また、上記熱硬化性樹脂あるいは反応型樹
脂としては、塗布液の状態では200000以下の分子量であ
り、塗布、乾燥後に加熱加湿することにより、縮合、付
加等の反応により分子量は無限大となるものが好適に用
いられる。また、これらの樹脂の中で、樹脂が熱分解す
るまでの間に軟化または溶融しないものが特に好まし
い。具体的には例えばフェノール樹脂、フェノキシ樹
脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹
脂、ポリウレタンポリカーボネート樹脂、尿素樹脂、メ
ラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコン樹脂、アクリル
系反応樹脂(電子線硬化樹脂)、エポキシ−ポリアミド
樹脂、ニトロセルロースメラミン樹脂、高分子量ポリエ
ステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物、メ
タクリル酸塩共重合体とジイソシアネートプレポリマー
の混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシアネー
トとの混合物、尿素ホルムアルデヒド樹脂、低分子量グ
リコール/高分子量ジオール/トリフェニルメタントリ
イソシアネートの混合物、ポリアミン樹脂、ポリイミン
樹脂およびこれらの混合物等である。
Further, the thermosetting resin or reactive resin has a molecular weight of 200,000 or less in the state of a coating liquid, and by heating and humidifying after coating and drying, the molecular weight is infinite due to reactions such as condensation and addition. The following are preferably used. Further, among these resins, those not softened or melted before the resin is thermally decomposed are particularly preferable. Specifically, for example, phenol resin, phenoxy resin, epoxy resin, polyurethane resin, polyester resin, polyurethane polycarbonate resin, urea resin, melamine resin, alkyd resin, silicone resin, acrylic reaction resin (electron beam curing resin), epoxy-polyamide Resin, nitrocellulose melamine resin, mixture of high molecular weight polyester resin and isocyanate prepolymer, mixture of methacrylate copolymer and diisocyanate prepolymer, mixture of polyester polyol and polyisocyanate, urea formaldehyde resin, low molecular weight glycol / high molecular weight Mixtures of diol / triphenylmethane triisocyanate, polyamine resins, polyimine resins and mixtures thereof.

【0020】これらの熱可塑、熱硬化性樹脂、反応型樹
脂は、主たる官能基以外に官能基としてカルボン酸(C
OOM)、スルフィン酸、スルフェン酸、スルホン酸
(SO3 M)、燐酸(PO(OM)(OM))、ホスホ
ン酸、硫酸(OSO3 M)、およびこれらのエステル基
等の酸性基(MはH、アルカリ金属、アルカリ土類金
属、炭化水素基)、アミノ酸類;アミノスルホン酸類、
アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類、スルフ
ォベタイン、ホスホベタイン、アルキルベタイン型等の
両性類基、アミノ基、イミノ基、イミド基、アミド基等
また、水酸基、アルコキシル基、チオール基、アルキル
チオ基、ハロゲン基(F、Cl、Br、I)、シリル
基、シロキサン基、エポキシ基、イソシアナト基、シア
ノ基、ニトリル基、オキソ基、アクリル基、フォスフィ
ン基を通常1種以上6種以内含み、各々の官能基は樹脂
1gあたり1×10-6〜1×10-2eq含むことが好ま
しい。
These thermoplastic, thermosetting resins and reactive resins contain carboxylic acid (C) as a functional group in addition to the main functional group.
OOM), sulfinic acid, sulfenic acid, sulfonic acid (SO 3 M), phosphoric acid (PO (OM) (OM)), phosphonic acid, sulfuric acid (OSO 3 M), and acidic groups such as ester groups (M is H, alkali metal, alkaline earth metal, hydrocarbon group), amino acids; aminosulfonic acids,
Sulfuric acid or phosphoric acid esters of amino alcohols, sulfobetaine, phosphobetaine, amphoteric groups such as alkylbetaine type, amino group, imino group, imide group, amide group, etc., and also hydroxyl group, alkoxyl group, thiol group, alkylthio group, Halogen groups (F, Cl, Br, I), silyl groups, siloxane groups, epoxy groups, isocyanato groups, cyano groups, nitrile groups, oxo groups, acryl groups, phosphine groups are usually contained in one type or more and 6 types or less. The functional group preferably contains 1 × 10 −6 to 1 × 10 −2 eq per 1 g of the resin.

【0021】本発明では、以上のようなバインダーが単
独で、または組合わされて用いられ、研磨層には他に適
宜添加剤が加えられる。研磨層の研磨剤とバインダーと
の混合割合は、重量比で研磨剤の合計100 重量部に対し
て、バインダー5〜70重量部とされる。バック層の微粉
末とバインダーの混合割合は、微粉末100 重量部に対し
てバインダー8〜400 重量部とされる。添加剤としては
分散剤、潤滑剤、帯電防止剤、酸化防止剤、防黴剤、着
色剤、溶剤等が適宜加えられる。
In the present invention, the above binders are used alone or in combination, and other additives are appropriately added to the polishing layer. The mixing ratio of the polishing agent and the binder in the polishing layer is 5 to 70 parts by weight of the binder with respect to 100 parts by weight of the polishing agent in total. The mixing ratio of the fine powder and binder in the back layer is 8 to 400 parts by weight of binder with respect to 100 parts by weight of fine powder. As the additive, a dispersant, a lubricant, an antistatic agent, an antioxidant, a fungicide, a coloring agent, a solvent and the like are appropriately added.

【0022】本発明において、研磨層に硬化剤として用
いるポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシア
ネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネー
ト、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイ
ソシアネート、ナフチレン−1、5−ジイソシアネー
ト、o−トルイジンジイソシアネート、イソホロンジイ
ソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート等のイソシアネート
類、また当該イソシアネート類とポリアルコールとの生
成物、またイソシアネート類の縮合によって生成した2
〜10量体のポリイソシアネート、またポリイソシアネ
ートとポリウレタンとの生成物で末端官能基がイソシア
ネートであるもの等を使用することができる。これらポ
リイソシアネート類の平均分子量は100 〜20000 のもの
が好適である。
In the present invention, the polyisocyanate used as a curing agent in the polishing layer is tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, naphthylene-1,5-diisocyanate, o-toluidine. Isocyanates such as diisocyanate, isophorone diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate and isophorone diisocyanate, products of the isocyanates with polyalcohols, and condensation products of the isocyanates 2
It is possible to use a 10-mer polyisocyanate, or a product of polyisocyanate and polyurethane in which the terminal functional group is isocyanate. The average molecular weight of these polyisocyanates is preferably 100 to 20000.

【0023】これらポリイソシアネートの市販されてい
る商品名としては、コロネートL、コロネートHL、コ
ロネート2030、コロネート2031、ミリオネートMR、ミ
リオネートMTL(日本ポリウレタン株製)、タケネー
トD−102 、タケネートD−110 N、タケネートD−20
0 、タケネートD−202 、タケネート300 S、タケネー
ト500 (武田薬品株製)、スミジュールT−80、スミジ
ュール44S、スミジュールPF、スミジュールL、スミ
ジュールN、デスモジュールL、デスモジュールIL、
デスモジュールN、デスモジュールHL、デスモジュー
ルT65、デスモジュール15、デスモジュールR、デスモ
ジュールRF、デスモジュールSL、デスモジュールZ
4273(住友バイエル社製)等があり、これらを単独、も
しくは硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上
の組み合わせによって使用することができる。
Commercially available trade names of these polyisocyanates are Coronate L, Coronate HL, Coronate 2030, Coronate 2031, Millionate MR, Millionate MTL (manufactured by Nippon Polyurethane Co.), Takenate D-102, Takenate D-110 N. , Takenate D-20
0, Takenate D-202, Takenate 300 S, Takenate 500 (manufactured by Takeda Pharmaceutical Co., Ltd.), Sumidule T-80, Sumidule 44S, Sumidule PF, Sumidule L, Sumidule N, Death Module L, Death Module IL,
Death module N, death module HL, death module T65, death module 15, death module R, death module RF, death module SL, death module Z
4273 (manufactured by Sumitomo Bayer Co., Ltd.) and the like, and these can be used alone or in combination of two or more by utilizing the difference in curing reactivity.

【0024】また、硬化反応を促進する目的で、水酸基
(ブタンジオール、ヘキサンジオール、分子量が1000〜
10000 のポリウレタン、水等)、アミノ基(モノメチル
アミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン等)を有す
る化合物や、金属酸化物の触媒や鉄アセチルアセトネー
ト等の触媒を併用することもできる。これらの水酸基や
アミノ基を有する化合物は、多官能であることが望まし
い。これらポリイソシアネートはバインダー樹脂とポリ
イソシアネートの総量100 重量部あたり2〜70重量部で
使用することが好ましく、より好ましくは5〜50重量部
である。
For the purpose of accelerating the curing reaction, hydroxyl groups (butanediol, hexanediol, molecular weight of 1000 to
It is also possible to jointly use 10000 polyurethane, water, etc.), a compound having an amino group (monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, etc.), a metal oxide catalyst and a catalyst such as iron acetylacetonate. It is desirable that these compounds having a hydroxyl group or an amino group are polyfunctional. These polyisocyanates are preferably used in an amount of 2 to 70 parts by weight, and more preferably 5 to 50 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the binder resin and the polyisocyanate.

【0025】また研磨層に使用される粉末状潤滑剤とし
ては、グラファイト、二硫化モリブデン、窒化硼素、弗
化黒鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化珪素、酸
化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、二硫化タングステン等の
無機微粉末、アクリルスチレン系樹脂微粉末、ベンゾグ
アナミン系樹脂微粉末、メラミン系樹脂微粉末、ポリオ
レフィン系樹脂微粉末、ポリエステル系樹脂微粉末、ポ
リアミド系樹脂微粉末、ポリイミド系樹脂微粉末、ポリ
フッカエチレン系樹脂微粉末等の樹脂微粉末等が挙げら
れる。
The powdery lubricant used in the polishing layer includes graphite, molybdenum disulfide, boron nitride, graphite fluoride, calcium carbonate, barium sulfate, silicon oxide, titanium oxide, zinc oxide, tin oxide and disulfide. Inorganic fine powder such as tungsten, acrylic styrene resin fine powder, benzoguanamine resin fine powder, melamine resin fine powder, polyolefin resin fine powder, polyester resin fine powder, polyamide resin fine powder, polyimide resin fine powder, Resin fine powders such as poly-fucca ethylene-based resin fine powder and the like can be mentioned.

【0026】また有機化合物系潤滑剤としてはシリコン
オイル(ジアルキルポリシロキサン、ジアルコキシポリ
シロキサン、フェニルポリシロキサン、フルオロアルキ
ルポリシロキサン(信越化学製KF96、KF69等))、
脂肪酸変性シリコンオイル、フッ素アルコール、ポリオ
レフィン(ポリエチレンワックス、ポリプロピレン
等)、ポリグリコール(エチレングリコール、ポリエチ
レンオキシドワックス等)、テトラフルオロエチレンオ
キシドワックス、ポリテトラフルオログリコール、パー
フルオロアルキルエーテル、パーフルオロ脂肪酸、パー
フルオロ脂肪酸エステル、パーフルオロアルキル硫酸エ
ステル、パーフルオロアルキルスルホン酸エステル、パ
ーフルオロアルキルベンゼンスルホン酸エステル、パー
フルオロアルキル燐酸エステル等の弗素や珪素を導入し
た化合物、アルキル硫酸エステル、アルキルスルホン酸
エステル、アルキルホスホン酸トリエステル、アルキル
ホスホン酸モノエステル、アルキルホスホン酸ジエステ
ル、アルキル燐酸エステル、琥珀酸エステル等の有機酸
および有機酸エステル化合物、トリアザインドリジン、
テトラアザインデン、ベンゾトリアゾール、ベンゾトリ
アジン、ベンゾジアゾール、EDTA等の窒素・硫黄を
含む複素(ヘテロ)環化合物、炭素数10〜40の一塩基性
脂肪酸と炭素数2〜40の一価のアルコールもしくは2価
のアルコール、三価のアルコール、四価のアルコール、
六価のアルコールのいずれか1つもしくは2つ以上とか
らなる脂肪酸エステル類、炭素数10以上の一塩基性脂肪
酸と該脂肪酸の炭素数と合計して炭素数が11〜70となる
一価〜六価のアルコールからなる脂肪酸エステル類、炭
素数8〜40の脂肪酸あるいは脂肪酸アミド類、脂肪酸ア
ルキルアミド類、脂肪族アルコール類も使用できる。
As the organic compound type lubricant, silicone oil (dialkyl polysiloxane, dialkoxy polysiloxane, phenyl polysiloxane, fluoroalkyl polysiloxane (KF96, KF69 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)),
Fatty acid-modified silicone oil, fluoroalcohol, polyolefin (polyethylene wax, polypropylene, etc.), polyglycol (ethylene glycol, polyethylene oxide wax, etc.), tetrafluoroethylene oxide wax, polytetrafluoroglycol, perfluoroalkyl ether, perfluorofatty acid, perfluoro Compounds with fluorine or silicon introduced such as fatty acid ester, perfluoroalkyl sulfuric acid ester, perfluoroalkyl sulfonic acid ester, perfluoroalkylbenzene sulfonic acid ester, perfluoroalkyl phosphoric acid ester, alkyl sulfuric acid ester, alkyl sulfonic acid ester, alkyl phosphonic acid Triester, alkylphosphonic acid monoester, alkylphosphonic acid diester, alkylphosphoric acid ester Le, organic acids and organic acid ester compounds such as succinic acid ester, triazaindolizine,
Heterocyclic ring compounds containing nitrogen and sulfur such as tetraazaindene, benzotriazole, benzotriazine, benzodiazole and EDTA, monobasic fatty acids having 10 to 40 carbon atoms and monohydric alcohols having 2 to 40 carbon atoms Or dihydric alcohol, trihydric alcohol, tetrahydric alcohol,
Fatty acid esters consisting of any one or more of hexavalent alcohols, monobasic fatty acids having 10 or more carbon atoms and monohydric acids having 11 to 70 carbon atoms in total with the carbon number of the fatty acid Fatty acid esters composed of hexavalent alcohols, fatty acids or fatty acid amides having 8 to 40 carbon atoms, fatty acid alkylamides, and aliphatic alcohols can also be used.

【0027】これら化合物の具体的な例としては、カプ
リル酸ブチル、カプリル酸オクチル、ラウリン酸エチ
ル、ラウリン酸ブチル、ラウリン酸オクチル、ミリスチ
ン酸エチル、ミリスチン酸ブチル、ミリスチン酸オクチ
ル、ミリスチン酸2エチルヘキシル、パルミチン酸エチ
ル、パルミチン酸ブチル、パルミチン酸オクチル、パル
ミチン酸2エチルヘキシル、ステアリン酸エチル、ステ
アリン酸ブチル、ステアリン酸イソブチル、ステアリン
酸オクチル、ステアリン酸2エチルヘキシル、ステアリ
ン酸アミル、ステアリン酸イソアミル、ステアリン酸2
エチルペンチル、ステアリン酸2ヘキシルデシル、ステ
アリン酸イソトリデシル、ステアリン酸アミド、ステア
リン酸アルキルアミド、ステアリン酸ブトキシエチル、
アンヒドロソルビタンモノステアレート、アンヒドロソ
ルビタンジステアレート、アンヒドロソルビタントリス
テアレート、アンヒドロソルビタンテトラステアレー
ト、オレイルオレート、オレイルアルコール、ラウリル
アルコール、モンタンワックス、カルナウバワックス等
が有り、それらを単独で、もしくは組み合わせて使用す
ることができる。
Specific examples of these compounds include butyl caprylate, octyl caprylate, ethyl laurate, butyl laurate, octyl laurate, ethyl myristate, butyl myristate, octyl myristate, 2-ethylhexyl myristate, Ethyl palmitate, butyl palmitate, octyl palmitate, 2-ethylhexyl palmitate, ethyl stearate, butyl stearate, isobutyl stearate, octyl stearate, 2-ethylhexyl stearate, amyl stearate, isoamyl stearate, 2 stearate.
Ethyl pentyl, 2-hexyldecyl stearate, isotridecyl stearate, stearic acid amide, stearic acid alkylamide, butoxyethyl stearate,
Anhydrosorbitan monostearate, anhydrosorbitan distearate, anhydrosorbitan tristearate, anhydrosorbitan tetrastearate, oleyl oleate, oleyl alcohol, lauryl alcohol, montan wax, carnauba wax, etc. Or in combination.

【0028】また本発明では、潤滑剤としていわゆる潤
滑油添加剤も単独で、もしくは組み合わせて使用可能で
あり、そのような潤滑油添加剤としては、防錆剤として
知られている酸化防止剤(アルキルフェノール、ベンゾ
トリアジン、テトラアザインデン、スルファミド、グア
ニジン、核酸、ピリジン、アミン、ヒドロキノン、ED
TA等の金属キレート剤)、錆どめ剤(ナフテン酸、ア
ルケニルコハク酸、燐酸、ジラウリルフォスフェート
等)、油性剤(ナタネ油、ラウリルアルコール等)、極
圧剤(ジベンジルスルフィド、トリクレジルフォスフェ
ート、トリブチルホスファイト等)、清浄分散剤、粘度
指数向上剤、流動点降下剤、泡どめ剤等が挙げられる。
これらの潤滑剤はバインダー100 重量部に対して0.01〜
30重量部の範囲で添加される。
In the present invention, a so-called lubricating oil additive can be used alone or in combination as a lubricant. As such a lubricating oil additive, an antioxidant (known as a rust preventive agent) ( Alkylphenol, benzotriazine, tetraazaindene, sulfamide, guanidine, nucleic acid, pyridine, amine, hydroquinone, ED
Metal chelating agents such as TA), rust suppressants (naphthenic acid, alkenyl succinic acid, phosphoric acid, dilauryl phosphate, etc.), oiliness agents (rapeseed oil, lauryl alcohol, etc.), extreme pressure agents (dibenzyl sulfide, tricre) Examples thereof include zirconium phosphate, tributyl phosphite, etc.), detergent dispersants, viscosity index improvers, pour point depressants, foam depressants and the like.
These lubricants range from 0.01 to 100 parts by weight of binder.
It is added in the range of 30 parts by weight.

【0029】これらについては、アイビーエム テクニ
カル ディスクロジャー ブレテン(IBM Technica
l Disclosure Bulletin )Vol.9,No.7,p779 (1966年12
月)、エレクトロニク(ELEKTRONIK)1961年 No.12,p3
80 、化学便覧応用編 pp954-967 ,1980年丸善(株)
発行等に示されている化合物を参照できる。
Regarding these, IBM Technica Bulletin (IBM Technica
l Disclosure Bulletin) Vol.9, No.7, p779 (12 December 1966)
Mon), Electronic (ELEKTRONIK) 1961 No.12, p3
80, Applied Chemistry Handbook pp954-967, 1980 Maruzen Co., Ltd.
Reference can be made to the compounds shown in publications and the like.

【0030】また本発明に使用する分散剤、分散助剤と
しては、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリス
チン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、エ
ライジン酸、リノール酸、リノレン酸、ステアロール
酸、ベヘン酸、マレイン酸、フタル酸等の炭素数2〜40
の脂肪酸(R1 COOH;R1 は炭素数1〜39のアルキ
ル基、フェニル基、アラルキル基),前記脂肪酸のアル
カリ金属(Li、Na、K、NH4 + 等)またはアルカ
リ土類金属(Mg、Ca、Ba等)、Cu、Pb等から
なる金属石鹸(オレイン酸銅)、脂肪酸アミド;レシチ
ン(大豆油レシチン)等が使用される。この他に炭素数
4〜40の高級アルコール、(ブタノール、オクチルアル
コール、ミリスチルアルコール、ステアリンアルコー
ル)およびこれらの硫酸エステル、スルホン酸、フェニ
ルスルホン酸、アルキルスルホン酸、スルホン酸エステ
ル、燐酸モノエステル、燐酸ジエステル、燐酸トリエス
テル、アルキルホスホン酸、フェニルホスホン酸、アミ
ン化合物等も使用可能である。また、ポリエチレングリ
コール、ポリエチレンオキサイド、スルホ琥珀酸、スル
ホ琥珀酸金属塩、スルホ琥珀酸エステル等も使用可能で
ある。これらの分散剤は通常一種類以上で用いられ、一
種類の分散剤はバインダー100 重量部に対して0.005 〜
20重量部の範囲で添加される。これら分散剤は、研磨剤
の表面に予め被着させても良く、また分散途中で添加し
てもよい。
The dispersant and dispersion aid used in the present invention include caprylic acid, capric acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid, stearic acid, oleic acid, elaidic acid, linoleic acid, linolenic acid and stearol. 2-40 carbon atoms such as acids, behenic acid, maleic acid, phthalic acid, etc.
Fatty acid (R1 COOH; R1 is an alkyl group having 1 to 39 carbon atoms, a phenyl group, an aralkyl group), an alkali metal of said fatty acid (Li, Na, K, NH 4 + , etc.) or alkaline earth metals (Mg, Ca , Ba, etc.), metal soaps (copper oleate) composed of Cu, Pb, etc., fatty acid amides; lecithin (soybean oil lecithin), etc. are used. In addition to these, higher alcohols having 4 to 40 carbon atoms (butanol, octyl alcohol, myristyl alcohol, stearic alcohol) and their sulfates, sulfonic acids, phenylsulfonic acids, alkylsulfonic acids, sulfonic acid esters, phosphoric acid monoesters, phosphoric acid Diesters, phosphoric acid triesters, alkylphosphonic acids, phenylphosphonic acids, amine compounds and the like can also be used. Further, polyethylene glycol, polyethylene oxide, sulfosuccinic acid, sulfosuccinic acid metal salt, sulfosuccinic acid ester and the like can also be used. These dispersants are usually used in one or more kinds, and one kind of the dispersant is 0.005 to 100 parts by weight of the binder.
It is added in the range of 20 parts by weight. These dispersants may be applied to the surface of the abrasive in advance, or may be added during the dispersion.

【0031】本発明に用いる防黴剤としては2−(4−
チアゾリル)−ベンズイミダゾール、N−(フルオロジ
クロロメチルチオ)−フタルイミド、10,10’−オキシ
ビスフェノキサルシン、2,4,5,6テトラクロロイ
ソフタロニトリル、P−トリルジヨードメチルスルホ
ン、トリヨードアリルアルコール、ジヒドロアセト酸、
フェニルオレイン酸水銀、酸化ビス(トリブチル錫)、
サルチルアニライド等がある。このようなものは、例え
ば「微生物災害と防止技術」1972年工学図書、「化学と
工業」第32巻、第904 頁(1979)等に示されている。
The antifungal agent used in the present invention is 2- (4-
Thiazolyl) -benzimidazole, N- (fluorodichloromethylthio) -phthalimide, 10,10'-oxybisphenoxarcin, 2,4,5,6 tetrachloroisophthalonitrile, P-tolyldiiodomethylsulfone, triiodo Allyl alcohol, dihydroacetate,
Mercury phenyloleate, Bis (tributyltin) oxide,
For example, salcyl anilide. Such materials are shown, for example, in "Microbial Hazard and Prevention Technology", 1972 Engineering Book, "Chemistry and Industry", Vol. 32, p. 904 (1979).

【0032】本発明に用いるカーボンブラック以外の帯
電防止剤としてはグラファイト、変性グラファイト、カ
ーボンブラックグラフトポリマー、酸化錫一酸化アンチ
モン、酸化錫、酸化チタン−酸化錫−酸化アンチモン、
等の導電性粉末;サポニン等の天然界面活性剤;アルキ
レンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系、多
価アルコール、多価アルコールエステル、アルキルフェ
ノールEO付加体等のノニオン界面活性剤;高級アルキ
ルアミン類、環状アミン、ヒダントイン誘導体、アミド
アミン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ピ
リジンその他の複素環類、ホスホニウムまたはスルホニ
ウム類等のカチオン界面活性剤;カルボン酸、スルホン
酸、ホスホン酸、燐酸、硫酸エステル基、ホスホン酸エ
ステル、燐酸エステル基等の酸性基を含むアニオン界面
活性剤;アミノ酸類;アミノスルホン酸類、アミノアル
コールの硫酸または燐酸エステル類、アルキルベタイン
型等の両性界面活性剤等が使用される。
As the antistatic agent other than carbon black used in the present invention, graphite, modified graphite, carbon black graft polymer, tin oxide antimony oxide, tin oxide, titanium oxide-tin oxide-antimony oxide,
Conductive powders such as; saponin and other natural surfactants; alkylene oxide-based, glycerin-based, glycidol-based, polyhydric alcohols, polyhydric alcohol esters, nonionic surfactants such as alkylphenol EO adducts; higher alkylamines, cyclics Amine, hydantoin derivative, amidoamine, ester amide, quaternary ammonium salt, pyridine and other heterocycles, cation surfactant such as phosphonium or sulfonium; carboxylic acid, sulfonic acid, phosphonic acid, phosphoric acid, sulfuric ester group, phosphon Anionic surfactants containing acidic groups such as acid ester and phosphoric acid ester groups; amino acids; aminosulfonic acids, sulfuric acid or phosphoric acid esters of amino alcohols, amphoteric surfactants such as alkyl betaine type, and the like are used.

【0033】これら帯電防止剤として使用し得る界面活
性剤化合物例の一部は、小田良平他著「界面活性剤の合
成とその応用」(槇書店1972年版);A.W.ベイリ著
「サーフェス アクティブ エージェンツ」(インター
サイエンス パブリケーション コーポレイテッド 19
85年版);T.P.シスリー著「エンサイクロペディア
オブ サーフェス アクティブ エージェンツ,第2
巻」(ケミカル パブリシュ カンパニー 1964年
版);「界面活性剤便覧」第六刷(産業図書株式会社,
昭和41年12月20日);丸茂秀雄著「帯電防止剤」幸書房
(1968)等の成書に記載されている。
Some examples of these surfactant compounds that can be used as the antistatic agent are described in "Synthesis of Surfactants and Their Applications" by Ryohei Oda et al. (Maki Shoten 1972 edition); W. Baili, "Surface Active Agents" (InterScience Publications Corporation 19
1985 version); P. Sisley "Encyclopedia of Surface Active Agents, 2nd"
Volume "(Chemical Publishing Company, 1964 edition);" Surfactant Handbook ", 6th edition (Sangyo Tosho Co., Ltd.,
December 20, 1964); Hideo Marumoshi, "Antistatic Agent," written in Koshobo (1968).

【0034】これらの界面活性剤は単独で、または混合
して添加してもよい。研磨層におけるこれらの界面活性
剤の好ましい使用量は、研磨剤の合計100 重量部当たり
0.01〜10重量部である。またバック層での使用量は、バ
インダー100 重量部当り0.01〜30重量部である。これら
は帯電防止剤として用いられるものであるが、時として
その他の目的、例えば分散、潤滑性の改良のため、さら
には塗布助剤、湿潤剤、硬化促進剤、分散促進剤として
適用される場合もある。
These surfactants may be added alone or as a mixture. The preferred amount of these surfactants used in the abrasive layer is 100 parts by weight of the total abrasive.
It is 0.01 to 10 parts by weight. The amount used in the back layer is 0.01 to 30 parts by weight per 100 parts by weight of the binder. Although these are used as antistatic agents, they are sometimes used for other purposes such as dispersion, improvement of lubricity, and as a coating aid, a wetting agent, a curing accelerator, or a dispersion accelerator. There is also.

【0035】本発明で研磨剤粒子、結合剤樹脂等を分
散、混練、塗布の際に使用する有機溶剤は、任意の比率
で混合使用することができる。以下にその具体例を示す
と、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン系;
メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、
イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチ
ルシクロヘキサノール等のアルコール系;酢酸メチル、
酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプ
ロピル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチルエーテ
ル等のエステル系;ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエ
チルエーテル、ジオキサン等のエーテル系;ベンゼン、
トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、ス
チレン等のタール系(芳香族炭化水素);メチレンクロ
ライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホル
ム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩
素化炭化水素、N,N−ジメチルホルムアルデヒド、ヘ
キサン等が使用できる。
The organic solvent used in the present invention for dispersing, kneading and coating the abrasive particles, the binder resin and the like can be mixed and used in an arbitrary ratio. Specific examples are shown below. Ketone compounds such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, and isophorone;
Methanol, ethanol, propanol, butanol,
Alcohols such as isobutyl alcohol, isopropyl alcohol, and methylcyclohexanol; methyl acetate,
Ester type such as ethyl acetate, butyl acetate, isobutyl acetate, isopropyl acetate, ethyl lactate, glycol acetate monoethyl ether; ether type such as diethyl ether, tetrahydrofuran, glycol dimethyl ether, glycol monoethyl ether, dioxane; benzene,
Tar-based (aromatic hydrocarbons) such as toluene, xylene, cresol, chlorobenzene and styrene; chlorinated hydrocarbons such as methylene chloride, ethylene chloride, carbon tetrachloride, chloroform, ethylene chlorohydrin and dichlorobenzene, N, N-dimethylformaldehyde, hexane, etc. can be used.

【0036】またこれらの溶剤は、通常任意の比率で2
種以上で用いる。また1重量%以下の量で微量の不純物
(その溶剤自身の重合物、水分、原料成分等)を含んで
もよい。これらの溶剤は研磨層塗布液もしくはバック
液、下塗液の合計固形分100 重量部に対して100 〜2000
0 重量部で用いられる。好ましい塗布液の固形分率は1
〜40重量%である。またバック液の好ましい固形分率は
1〜20重量%である。有機溶剤の代わりに水系溶剤
(水、アルコール、アセトン等)を使用することもでき
る。
These solvents are usually used in an arbitrary ratio of 2
Used in seeds and above. In addition, a trace amount of impurities (polymer of the solvent itself, water, raw material components, etc.) may be contained in an amount of 1% by weight or less. These solvents are used in an amount of 100 to 2000 with respect to 100 parts by weight of the total solid content of the coating liquid for the polishing layer, the back liquid and the undercoat liquid.
Used in 0 parts by weight. The preferred solid content of the coating solution is 1
~ 40% by weight. The preferred solid content of the back liquid is 1 to 20% by weight. An aqueous solvent (water, alcohol, acetone, etc.) can be used instead of the organic solvent.

【0037】研磨層は、上記の組成などを任意に組合わ
せて有機溶剤に溶解し、塗布溶液として支持体上に塗布
・乾燥、また必要により配向して形成する。支持体の厚
みは3〜500 μm、好ましくは4〜300 μmとする。ま
た、支持体の長手もしくは幅方向のいずれかのヤング率
は、200 kg/mm2 以上であることが望ましい。支持
体の素材としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
エチレンナフタレート等のポリエステル類、ポリプロピ
レン等のポリオレフィン類、セルローストリアセテー
ト、セルロースダイアセテート等のセルロース誘導体、
ポリ塩化ビニル等のビニル系樹脂類、ポリカーボネー
ト、ポリイミド、ポリアミド、ポリスルホン、ポリフェ
ニルスルホン、ポリベンゾオキサゾール等のプラスチッ
クの他にアルミニウム、銅等の金属、ガラス等のセラミ
ックス等も使用できる。これらのなかでも、特にポリエ
チレンナフタレートもしくはポリアミドが好ましい。
The polishing layer is formed by dissolving any combination of the above-mentioned compositions and the like in an organic solvent, applying it as a coating solution on a support, drying it, and orienting it if necessary. The thickness of the support is 3 to 500 μm, preferably 4 to 300 μm. The Young's modulus in either the longitudinal direction or the width direction of the support is preferably 200 kg / mm 2 or more. The material of the support, polyethylene terephthalate, polyesters such as polyethylene naphthalate, polyolefins such as polypropylene, cellulose triacetate, cellulose derivatives such as cellulose diacetate,
In addition to vinyl resins such as polyvinyl chloride, plastics such as polycarbonate, polyimide, polyamide, polysulfone, polyphenyl sulfone and polybenzoxazole, metals such as aluminum and copper and ceramics such as glass can be used. Of these, polyethylene naphthalate or polyamide is particularly preferable.

【0038】これらの支持体は、塗布溶液の塗布に先立
ってコロナ放電処理、プラズマ処理、下塗処理、熱処
理、除塵埃処理、金属蒸着処理、アルカリ処理を行なっ
てもよい。これらの支持体に関しては、例えば西独特許
第3338854A号明細書、特開昭59-116926 号公報、特開昭
61-129731 号公報、米国特許第4,388,368 号明細書;三
石幸夫著、「繊維と工業」31巻pp50〜55,1975年 等に
記載されている。これら支持体の中心線平均表面粗さ
(Ra)は0.001 〜1.5 μm(カットオフ値0.25mm)
が好ましい。
These supports may be subjected to corona discharge treatment, plasma treatment, undercoating treatment, heat treatment, dust removal treatment, metal vapor deposition treatment and alkali treatment prior to coating with the coating solution. With respect to these supports, for example, West German Patent No. 3338854A, JP-A-59-116926, and JP-A-
61-129731, U.S. Pat. No. 4,388,368; Yukio Mitsuishi, "Fiber and Industry," Vol. 31, pp. 50-55, 1975. The center line average surface roughness (Ra) of these supports is 0.001 to 1.5 μm (cutoff value 0.25 mm).
Is preferred.

【0039】分散、混練の方法に特に制限はなく、また
各成分の添加順序(樹脂、粉体、潤滑剤、溶媒等)、分
散・混練中の添加位置、分散温度(0〜80℃)等は適宜
設定することができる。研磨層塗料およびバック層塗料
の調製には通常の混練機、例えば、二本ロールミル、三
本ロールミル、ボールミル、ペブルミル、トロンミル、
サンドグラインダー、ツェグバリ(Szegvari)、アトライ
ター、高速インペラー分散機、高速ストーンミル、高速
度衝撃ミル、ディスパー、ニーダー、高速ミキサー、リ
ボンブレンダー、コニーダー、インテンシブミキサー、
タンブラー、ブレンダー、ディスパーザー、ホモジナイ
ザー、単軸スクリュー押し出し機、二軸スクリュー押し
出し機、および超音波分散機等を用いることができる。
The method of dispersion and kneading is not particularly limited, and the addition order of each component (resin, powder, lubricant, solvent, etc.), addition position during dispersion / kneading, dispersion temperature (0 to 80 ° C.), etc. Can be set appropriately. Ordinary kneading machine for the preparation of the polishing layer coating and the back layer coating, for example, two roll mill, three roll mill, ball mill, pebble mill, tron mill,
Sand grinder, Szegvari, Attritor, High speed impeller disperser, High speed stone mill, High speed impact mill, Disper, Kneader, High speed mixer, Ribbon blender, Cokneader, Intensive mixer,
A tumbler, a blender, a disperser, a homogenizer, a single screw extruder, a twin screw extruder, an ultrasonic disperser, etc. can be used.

【0040】通常、分散・混練にはこれらの分散・混練
機を複数用い、連続的に処理を行なう。混練分散に関す
る技術の詳細は、T.C.PATTON(テー.シー.
パットン)著“Paint Flow and Pigment Dispersion ”
(ペイント フロー アンドピグメント ディスパージ
ョン)1964年 John Wiley & Sons (ジョン ウイリー
アンド サンズ)社発行や、田中信一著「工業材料」
25巻 37(1977)や、これらの書籍の引用文献に記載さ
れている。これら分散・混練の補助手段として、分散・
混練を効率よく進めるため、球相当径でφ0.05mm〜φ
10cmのスチールボール、スチールビーズ、セラミック
ビーズ、ガラスビーズ、有機ポリマービーズを用いるこ
ともできる。またこれらの材料は球形に限らない。また
それらについては、米国特許第2,581,414 号および同第
2,855,156 号等の明細書にも記載がある。本発明におい
ても、上記の書籍や当該書籍の引用文献等に記載された
方法に準じて混練分散を行ない、研磨層塗料およびバッ
ク層塗料を調製することができる。
Usually, a plurality of these dispersing / kneading machines are used for dispersing / kneading, and the treatment is continuously carried out. For details of the technique regarding kneading and dispersion, see T.W. C. PATH (T.C.
Patton) "Paint Flow and Pigment Dispersion"
(Paint Flow and Pigment Dispersion) Published by John Wiley & Sons in 1964 and Shinichi Tanaka "Industrial Materials"
25, 37 (1977), and in the references cited in these books. As an auxiliary means for dispersing and kneading,
In order to efficiently carry out kneading, the equivalent spherical diameter is φ0.05 mm to φ
It is also possible to use 10 cm steel balls, steel beads, ceramic beads, glass beads, organic polymer beads. Further, these materials are not limited to the spherical shape. In addition, regarding those, U.S. Patent Nos. 2,581,414 and
It is also described in the specifications such as 2,855,156. Also in the present invention, the polishing layer coating material and the back layer coating material can be prepared by kneading and dispersing according to the method described in the above-mentioned book or the cited document of the book.

【0041】支持体上へ上記の研磨層用塗布液を塗布す
る方法としては、塗布液の粘度を1〜20000 センチスト
ークス(25℃)に調整した上で、エアードクターコータ
ー、ブレードコーター、エアナイフコーター、スクイズ
コーター、含浸コーター、リバースロールコーター、ト
ランスファーロールコーター、グラビアコーター、キス
コーター、キヤストコーター、スプレイコーター、ロッ
ドコーター、正回転ロールコーター、カーテンコータ
ー、押出コーター、バーコーター、リップコーター等が
利用でき、さらにその他の方法も使用可能であり、これ
らの具体的説明は朝倉書店発行の『コーティング工学』
(昭和46.3.20.発行)253 頁〜277 頁等に詳細に記載さ
れている。これら塗布液の塗布の順番は任意に選択で
き、また所望の液の塗布の前に下塗り層あるいは支持体
との密着力向上のためにコロナ放電処理等を行なっても
よい。
As a method for applying the above-mentioned coating liquid for the polishing layer onto the support, the viscosity of the coating liquid is adjusted to 1 to 20000 centistokes (25 ° C.), and then an air doctor coater, a blade coater or an air knife coater is used. , Squeeze coater, impregnation coater, reverse roll coater, transfer roll coater, gravure coater, kiss coater, cast coater, spray coater, rod coater, forward rotation roll coater, curtain coater, extrusion coater, bar coater, lip coater, etc. can be used, Other methods can also be used, and detailed explanations of these can be found in "Coating Engineering" published by Asakura Shoten.
(Published 46.20.46) Shown in detail on pages 253 to 277. The order of applying these coating liquids can be arbitrarily selected, and corona discharge treatment or the like may be performed prior to the application of the desired liquid to improve the adhesion with the undercoat layer or the support.

【0042】また研磨層もしくはバック層を多層で構成
したいときは、同時多層塗布、逐次多層塗布等を行なっ
てもよい。これらの塗布方法は、例えば特開昭57-12353
2 号公報、特公昭62-37451号公報、特開昭59-142741 号
公報、特開昭59-165239 号公報等に示されている。
When it is desired to form the polishing layer or the back layer in multiple layers, simultaneous multilayer coating or sequential multilayer coating may be performed. These coating methods are described in, for example, JP-A-57-12353.
No. 2, JP-B-62-37451, JP-A-59-142741 and JP-A-59-165239.

【0043】以上のような方法により、支持体上に約1
〜100 μm等の厚さに塗布された研磨層塗布液は、直ち
に20〜130 ℃で多段階で乾燥させる処理を施した後、形
成した研磨層を0.1 〜10μmの厚さに乾燥する。このと
きの支持体の搬送は、通常10〜900 m/分の搬送速度で
行なわれ、複数の乾燥ゾーンで乾燥温度を20〜130 ℃に
制御し、塗布膜の残留溶剤量を0.1 〜40mg/m2 とす
る。また必要により同様の手順でバック層を設けてもよ
く、引き続き表面平滑化加工を施して研磨層もしくはバ
ック層の中心線平均表面粗さを0.001 〜0.3 μm(カッ
トオフ0.25mm)とし、所望の形状に裁断したりして、
本発明の研磨テープが製造される。
By the above method, about 1 is formed on the support.
The polishing layer coating liquid applied to a thickness of -100 μm or the like is immediately subjected to a multi-step drying treatment at 20 to 130 ° C., and then the formed polishing layer is dried to a thickness of 0.1 to 10 μm. At this time, the support is usually transported at a transport speed of 10 to 900 m / min, the drying temperature is controlled to 20 to 130 ° C. in a plurality of drying zones, and the residual solvent amount of the coating film is 0.1 to 40 mg / min. m 2 If necessary, a back layer may be provided by the same procedure, and then the surface is smoothed to obtain a center line average surface roughness of the polishing layer or the back layer of 0.001 to 0.3 μm (cutoff 0.25 mm). Cut it into a shape,
The polishing tape of the present invention is manufactured.

【0044】この場合、粉体の予備処理・表面処理、混
練・分散、塗布・配向・乾燥、平滑処理、熱処理、EB
処理、表面クリーニング処理、裁断、巻き取りの工程を
連続して行なうのが望ましい。このようにして作成した
研磨テープを裁断した後、プラスチックや金属製のリー
ルに巻き取る。巻き取る直前ないしはそれ以前の工程に
おいて、研磨テープの研磨層、バック層、エッジ端面、
ベース面をバーニッシュおよび/またはクリーニングす
ることが望ましい。
In this case, powder pretreatment / surface treatment, kneading / dispersion, coating / orientation / drying, smoothing treatment, heat treatment, EB
It is desirable to continuously carry out the treatment, surface cleaning treatment, cutting and winding steps. After cutting the polishing tape thus created, it is wound on a plastic or metal reel. Immediately before or before winding, the polishing layer of the polishing tape, the back layer, the edge surface,
It is desirable to burnish and / or clean the base surface.

【0045】バーニッシュは研磨テープの表面粗度と研
磨力を制御するために、具体的にはサファイア刃、剃刀
刃、超硬材料刃、ダイヤモンド刃、セラミック刃のよう
な硬い部材により研磨テープ表面の突起部分をそぎおと
し、均一にもしくは平滑にするものである。これらの部
材のモース硬度は8以上が好ましいが、特に制限はな
く、とにかく突起を除去できるものであれば良い。また
これらの部材の形状は特に刃である必要はなく、角型、
丸型、ホイール(回転する円筒形状の周囲にこれらの材
質を付与しても良い)のような形状でも使用できる。
In order to control the surface roughness and polishing power of the polishing tape, the varnish is specifically formed by a hard member such as a sapphire blade, a razor blade, a cemented carbide blade, a diamond blade, or a ceramic blade. The projections of are shaved off to make them uniform or smooth. The Mohs hardness of these members is preferably 8 or more, but there is no particular limitation as long as the protrusions can be removed. Moreover, the shape of these members does not need to be a blade, but a square shape,
A shape such as a round shape or a wheel (these materials may be provided around a rotating cylindrical shape) can also be used.

【0046】また研磨テープのクリーニングは、研磨テ
ープ表面の汚れや余分な潤滑剤を除去する目的で、研磨
テープ表層つまり研磨層面、バック層面、エッジ端面、
バック側のベース面等を不織布等でワイピングすること
により行なう。このようなワイピングの材料としては、
例えば日本バイリーン製の各種バイリーンや東レ製のト
レシー、エクセーヌ、商品名キムワイプ等が使用でき、
さらにはナイロン製不織布、ポリエステル製不織布、レ
ーヨン製不織布、アクリロニトリル製不織布、混紡不織
布や、ティッシュペーパー等が使用できる。
The cleaning of the polishing tape is carried out for the purpose of removing dirt on the surface of the polishing tape and excess lubricant, that is, the surface layer of the polishing tape, that is, the polishing layer surface, the back layer surface, the edge end surface,
This is done by wiping the back side base surface with a non-woven fabric or the like. As a material for such wiping,
For example, you can use various types of Vilene made in Japan Vileen, Toraysee made in Toray, Exaine, Kimwipe, etc.,
Further, nylon non-woven fabric, polyester non-woven fabric, rayon non-woven fabric, acrylonitrile non-woven fabric, mixed-spun non-woven fabric, tissue paper and the like can be used.

【0047】本発明に使用される研磨剤および非磁性粉
末、バインダー、添加剤(潤滑剤、分散剤、帯電防止
剤、表面処理剤、カーボンブラック、研磨剤、遮光剤、
酸化防止剤、防黴剤等)、溶剤および支持体(下塗層、
バック層、バック下塗層を有してもよい)あるいはその
製法に関しては、特公昭56-26890号公報等に記載されて
いる磁気記録媒体の製造方法を参考にすることができ
る。
Abrasives and non-magnetic powders, binders, additives (lubricants, dispersants, antistatic agents, surface treatment agents, carbon black, abrasives, light-shielding agents, used in the present invention,
Antioxidants, antifungal agents, etc., solvents and supports (undercoat layer,
A back layer, a back undercoat layer may be provided) or a manufacturing method thereof can be referred to a manufacturing method of a magnetic recording medium described in JP-B-56-26890.

【0048】[0048]

【作用および発明の効果】本発明による研磨テープは、
研磨剤微粉末がダイヤモンドとモース硬度9以上の研磨
剤との2種類からなり、そして高価なダイヤモンドの添
加量はもう1つの研磨剤の添加量を超えないように抑え
られているので、比較的低コストで形成できるものとな
る。
The operation and effect of the invention The polishing tape according to the present invention is
The fine abrasive powder consists of two types, diamond and an abrasive having a Mohs hardness of 9 or more, and the amount of expensive diamond added is controlled so that it does not exceed the amount of another abrasive, so It can be formed at low cost.

【0049】また、ダイヤモンドとともに添加されるも
う1つの研磨剤として、モース硬度9以上の研磨剤を用
いているので、研磨剤微粉末が全てダイヤモンドである
場合とほとんど変わらない研削力が確保される。
Since another abrasive having a Mohs hardness of 9 or more is used as another abrasive to be added together with diamond, a grinding force which is almost the same as that when all the fine abrasive powder is diamond is secured. .

【0050】なお、上記モース硬度9以上の研磨剤に対
するダイヤモンドの重量比が50:50を上回ると、研磨剤
微粉末が全てダイヤモンドである場合と比べて、研削
力、研削物のスクラッチ発生防止において優れる点がな
くなる。一方上記モース硬度9以上の研磨剤に対するダ
イヤモンドの重量比が20:80を下回ると研削力が著しく
劣る。そこで、この重量比を前述したように50:50〜1
0:90の範囲に設定すれば、良好な研削力が確保され
る。
When the weight ratio of diamond to the abrasive having a Mohs hardness of 9 or more exceeds 50:50, the grinding force and scratches of the grinding object are prevented in comparison with the case where the fine abrasive powder is all diamond. There are no good points. On the other hand, if the weight ratio of diamond to the abrasive having a Mohs hardness of 9 or more is less than 20:80, the grinding force is extremely poor. Therefore, this weight ratio is 50:50 to 1 as described above.
A good grinding force is secured by setting it in the range of 0:90.

【0051】また支持体の厚さを、前述したように4μ
m以上としておけば、硬度の高いセラミック研磨に使用
しても、研削中に支持体が破損することが防止される。
一方、支持体の厚さを300 μm以下としておけば、取扱
いが容易になる上、腰が強過ぎて平滑かつ均一な研磨が
し難くなるという不具合も回避できる。
The thickness of the support is 4 μm as described above.
If it is set to m or more, even if it is used for polishing ceramics having high hardness, the support is prevented from being damaged during grinding.
On the other hand, if the support has a thickness of 300 μm or less, it is easy to handle, and it is possible to avoid the problem that the rigidity is too strong and smooth and uniform polishing becomes difficult.

【0052】[0052]

【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに具体的に
説明する。ここに示す成分、割合および操作順序等は、
本発明の精神から逸脱しない範囲において変更しうるこ
とは当業者であれば容易に理解されることであり、した
がって本発明は下記の実施例に制限されるものではな
い。なお、実施例中の「部」は重量部を示す。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. The components, ratios and operation sequences shown here are
It is easily understood by those skilled in the art that modifications can be made without departing from the spirit of the present invention, and thus the present invention is not limited to the following examples. In addition, "part" in an Example shows a weight part.

【0053】(実施例1〜3)厚さ25μmのポリエチレ
ンテレフタレート(PET)支持体上に、ポリエステル
樹脂からなる下塗り層を厚さ0.1 μmに塗布し、その上
に下記の組成で調製した研磨塗布液を、乾燥後厚さ6μ
mとなるようにバーコート塗布して、実施例1、2、3
および比較例2、3、4、5としてのサンプルを作成し
た。なお各サンプルは、下記の重量部XおよびYの点の
みで互いに異なるものであり、その数値は表1に示して
ある。
(Examples 1 to 3) On a polyethylene terephthalate (PET) support having a thickness of 25 μm, an undercoat layer made of a polyester resin was applied to a thickness of 0.1 μm, and polishing coating prepared by the following composition was applied thereon. After the liquid is dried, the thickness is 6μ
Bar coat is applied so as to obtain m, and
And the samples as Comparative Examples 2, 3, 4, and 5 were prepared. The respective samples differ from each other only in the weight parts X and Y described below, and the numerical values are shown in Table 1.

【0054】 塗布液組成 研磨剤(ダイヤモンド、平均粒径2μm以下、モース硬度10) X部 研磨剤(アルミナ、平均粒径2μm、モース硬度9) Y部 結合剤(ポリエステル、スルホン酸ナトリウム2×10-3当量/g 包有、Mw70000 ) 10部 結合剤(ポリイソシアネート、トリメチロールプロパン (1モル)のTDI(3モル)付加物) 2部 カーボン(バルカンXC72) 5部 潤滑剤(オレイン酸/オレイン酸オレイル) 0.1部 希釈剤(メチルエチルケトン/シクロヘキサノン=2/1 ) 200部 希釈剤(トルエン/MIBK) 150部 そして、作成した各サンプルの研磨テープを幅12.65 m
mに加工した。なお、本発明による研磨テープの構成を
図1に概略的に示す。図示の通りこの研磨テープは、支
持体10上に研磨層20が形成されたものであり、該研磨層
20は結合剤(バインダー)21中にダイヤモンド粒子22
と、アルミナ粒子23とが分散されてなる。
Coating liquid composition Abrasive (diamond, average particle size 2 μm or less, Mohs hardness 10) X part Abrasive (alumina, average particle size 2 μm, Mohs hardness 9) Y part Binder (polyester, sodium sulfonate 2 × 10 -3 equivalent / g inclusion, Mw70000) 10 parts Binder (polyisocyanate, trimethylolpropane (1 mol) TDI (3 mol) adduct) 2 parts Carbon (Vulcan XC72) 5 parts Lubricant (oleic acid / olein) Oleyl acid) 0.1 part Diluent (methyl ethyl ketone / cyclohexanone = 2/1) 200 parts Diluent (toluene / MIBK) 150 parts And the polishing tape for each sample is 12.65 m wide.
processed into m. The structure of the polishing tape according to the present invention is schematically shown in FIG. As shown in the figure, this polishing tape comprises a support 10 and a polishing layer 20 formed on the support 10.
20 is a diamond particle in a binder 21
And alumina particles 23 are dispersed.

【0055】以上の実施例1〜3および比較例2〜5の
各研磨テープによって焼結アルミナセラミックの表面を
研磨した結果を表1に示す。なお比較例1とは、全く研
磨を行なわなかったセラミックについて示すものであ
る。
Table 1 shows the results of polishing the surface of the sintered alumina ceramic with each of the polishing tapes of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 2 to 5 described above. Comparative Example 1 shows a ceramic which was not polished at all.

【0056】またこの表1中の(コスト比較)は、比較
例5つまり研磨層がダイヤモンドを含まずにアルミナの
みを研磨剤として形成された研磨テープのコストを
「1」とした相対値で示してある。また表1中のその他
の評価項目は、以下のようにして求めた。
Further, (Comparison of costs) in Table 1 is shown as a relative value in which the cost of Comparative Example 5, that is, the cost of the polishing tape in which the polishing layer does not contain diamond and only alumina is used as the polishing agent is "1". There is. Further, the other evaluation items in Table 1 were obtained as follows.

【0057】(表面粗さ) 東京精密社製サーフコムを
用いて、セラミック表面の中心線平均表面粗さ(Ra)
を測定した。カットオフは0.08mm。
(Surface Roughness) The center line average surface roughness (Ra) of the ceramic surface was measured using Surfcom manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd.
Was measured. The cutoff is 0.08 mm.

【0058】(スクラッチ)倍率100 倍の光学顕微鏡で
表面を観察し、スクラッチの発生状況を観察した。
(Scratch) The surface was observed with an optical microscope at a magnification of 100 times to observe the occurrence of scratches.

【0059】(鋼球摩耗量)φ20mmの鋼球を研磨テー
プ上で10回往復運動させ、鋼球の削り取られた摩耗面よ
り摩耗量を求めた。
(Abrasion amount of steel ball) A steel ball having a diameter of 20 mm was reciprocated 10 times on the polishing tape, and the abrasion amount was obtained from the abrasion surface of the steel ball scraped off.

【0060】[0060]

【表1】 [Table 1]

【0061】表1から分かるように、ダイヤモンドのア
ルミナに対する重量比が50:50以下10:90以上の本発明
による研磨テープ(実施例1〜3)は、研磨剤微粉末が
全てダイヤモンドである研磨テープ(比較例2)と比べ
てほとんど変わらない研削力、スクラッチ発生防止効果
が得られており、その一方でそれらのコストは、研磨剤
微粉末が全てダイヤモンドである研磨テープよりも明ら
かに低いものとなっている。
As can be seen from Table 1, the polishing tapes (Examples 1 to 3) according to the present invention in which the weight ratio of diamond to alumina was 50:50 or less and 10:90 or more, the fine abrasive powder was all diamond. Grinding force and scratch generation prevention effect that are almost the same as those of the tape (Comparative Example 2) are obtained, while the costs thereof are obviously lower than those of the polishing tape in which the fine abrasive powder is all diamond. Has become.

【0062】(実施例4〜8)結合剤の適正な添加量を
求めるために、厚さ50μmのポリエチレンテレフタレー
ト(PET)支持体上に、ポリエステル樹脂からなる下
塗り層を厚さ0.1 μmに塗布し、その上に下記の組成で
調製した研磨塗布液を、乾燥後厚さ6μmとなるように
バーコート塗布して、実施例4、5、6、7、8として
のサンプルを作成した。なお各サンプルは、下記の重量
部Zの点のみで互いに異なるものであり、その数値は表
2に示してある。
(Examples 4 to 8) In order to determine an appropriate amount of the binder to be added, an undercoat layer made of a polyester resin was applied to a thickness of 0.1 μm on a polyethylene terephthalate (PET) support having a thickness of 50 μm. A polishing coating solution prepared with the following composition was applied thereon by bar coating so as to have a thickness of 6 μm after drying to prepare samples as Examples 4, 5, 6, 7, and 8. The respective samples differ from each other only in the weight part Z described below, and the numerical values are shown in Table 2.

【0063】 塗布液組成 研磨剤(ダイヤモンド、平均粒径2μm以下、モース硬度10) 20部 研磨剤(アルミナ、平均粒径2μm、モース硬度9) 80部 結合剤(ポリエステル、スルホン酸ナトリウム2×10-3当量/g 包有、Mw70000 ) Z部 結合剤(ポリイソシアネート、トリメチロールプロパン (1モル)のTDI(3モル)付加物 2部 カーボン(バルカンXC72) 5部 潤滑剤(オレイン酸/オレイン酸オレイル) 0.1部 希釈剤(メチルエチルケトン/シクロヘキサノン=2/1 ) 200部 希釈剤(トルエン/MIBK) 150部 そして、作成した各サンプルの研磨テープを幅12.65 m
mに加工した。以上の実施例4〜8の各研磨テープによ
って、焼結アルミナセラミックの表面を研磨した結果を
表2に示す。この表2中の評価項目は、前述と同様にし
て求めた。
Composition of coating liquid Abrasive (diamond, average particle size 2 μm or less, Mohs hardness 10) 20 parts Abrasive agent (alumina, average particle size 2 μm, Mohs hardness 9) 80 parts Binder (polyester, sodium sulfonate 2 × 10 -3 eq / g inclusion, Mw70000) Z part Binder (polyisocyanate, trimethylolpropane (1 mol) TDI (3 mol) adduct 2 parts Carbon (Vulcan XC72) 5 parts Lubricant (oleic acid / oleic acid) Oleyl) 0.1 part Diluent (methyl ethyl ketone / cyclohexanone = 2/1) 200 parts Diluent (toluene / MIBK) 150 parts And the polishing tape of each sample is 12.65 m wide.
processed into m. Table 2 shows the results of polishing the surface of the sintered alumina ceramic with each of the polishing tapes of Examples 4 to 8 described above. The evaluation items in Table 2 were obtained in the same manner as described above.

【0064】[0064]

【表2】 [Table 2]

【0065】この表2から分かるように、結合剤は研磨
剤に対して概ね5〜30重量%添加するのが望ましい。
As can be seen from Table 2, it is desirable to add the binder in an amount of approximately 5 to 30% by weight based on the abrasive.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明による研磨テープの構造を示す概略図FIG. 1 is a schematic view showing the structure of an abrasive tape according to the present invention.

【符号の説明】 10 支持体 20 研磨層 21 結合剤 22 ダイヤモンド粒子 23 アルミナ粒子[Explanation of Codes] 10 Support 20 Abrasive Layer 21 Binder 22 Diamond Particles 23 Alumina Particles

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 研磨剤微粉末とバインダーとからなる研
磨層を支持体上に有してなる研磨テープにおいて、研磨
剤微粉末が、重量比で50:50〜10:90のダイヤモンド
と、モース硬度9以上の研磨剤とからなることを特徴と
する研磨テープ。
1. A polishing tape comprising a support and a polishing layer comprising fine abrasive powder and a binder, wherein the fine abrasive powder comprises diamond in a weight ratio of 50:50 to 10:90 and mohs. A polishing tape comprising an abrasive having a hardness of 9 or more.
【請求項2】 前記モース硬度9以上の研磨剤がアルミ
ナであることを特徴とする請求項1記載の研磨テープ。
2. The polishing tape according to claim 1, wherein the abrasive having a Mohs hardness of 9 or more is alumina.
【請求項3】 ダイヤモンドの平均粒子直径が10μm以
下であり、アルミナの平均粒子直径が0.1 〜8μmの範
囲にあることを特徴とする請求項2記載の研磨テープ。
3. The polishing tape according to claim 2, wherein the average particle diameter of diamond is 10 μm or less and the average particle diameter of alumina is in the range of 0.1 to 8 μm.
【請求項4】 前記支持体が、厚さが4〜300 μmの範
囲にあるポリエステルであることを特徴とする請求項1
から3いずれか1項記載の研磨テープ。
4. The support is polyester having a thickness in the range of 4-300 μm.
Item 3. The polishing tape according to any one of items 1 to 3.
JP7299295A 1995-03-30 1995-03-30 Abrasive tape Pending JPH08267364A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7299295A JPH08267364A (en) 1995-03-30 1995-03-30 Abrasive tape

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7299295A JPH08267364A (en) 1995-03-30 1995-03-30 Abrasive tape

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH08267364A true JPH08267364A (en) 1996-10-15

Family

ID=13505419

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7299295A Pending JPH08267364A (en) 1995-03-30 1995-03-30 Abrasive tape

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH08267364A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010500278A (en) * 2007-05-30 2010-01-07 ダウ グローバル テクノロジーズ インコーポレイティド Method for bonding glass and ceramic enamel on glass
JPWO2017163565A1 (en) * 2016-03-25 2018-03-29 バンドー化学株式会社 Abrasive

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010500278A (en) * 2007-05-30 2010-01-07 ダウ グローバル テクノロジーズ インコーポレイティド Method for bonding glass and ceramic enamel on glass
JPWO2017163565A1 (en) * 2016-03-25 2018-03-29 バンドー化学株式会社 Abrasive

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH08112769A (en) Abrasive tape
JPH08294872A (en) Polishing body
JP3135741B2 (en) Abrasive body
JPH0752019A (en) Cleaning method using abrasive tape
JP2000354970A (en) Polishing body and manufacture for polishing body
JPH08216033A (en) Polishing tape
JPH08267363A (en) Abrasive body
JPH0985631A (en) Polishing body
JPH09141547A (en) Abrasive body for connector ferrule with ultra low reflective light
JPH11188647A (en) Grinding body
JPH08267364A (en) Abrasive tape
JP2001240849A (en) Grinding liquid
JPH10273648A (en) Abrasion solution
JPH11277450A (en) Polishing body
JP2745170B2 (en) Magnetic recording media
JPH08294873A (en) Polishing body
JPH08294869A (en) Polishing body
JPH0825205A (en) Polishing method
JPH09155749A (en) Polishing sheet
JP2000094343A (en) Polishing body
JPH11277448A (en) Polishing body
JP2004009145A (en) Polishing medium
JP2001009738A (en) Abrasive
JP2000190229A (en) Abrasive body
JP2000190235A (en) Manufacture of abrasive body

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Effective date: 20031219

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20040316