JPH08265001A - 位相器 - Google Patents

位相器

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Publication number
JPH08265001A
JPH08265001A JP7062947A JP6294795A JPH08265001A JP H08265001 A JPH08265001 A JP H08265001A JP 7062947 A JP7062947 A JP 7062947A JP 6294795 A JP6294795 A JP 6294795A JP H08265001 A JPH08265001 A JP H08265001A
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JP
Japan
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conductor
substrate
arc
pattern
shaped pattern
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Pending
Application number
JP7062947A
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English (en)
Inventor
Shinji Hasegawa
真司 長谷川
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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  • Waveguide Switches, Polarizers, And Phase Shifters (AREA)
  • Waveguides (AREA)
  • Input Circuits Of Receivers And Coupling Of Receivers And Audio Equipment (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 高周波回路において給電線の長さ調整や回路
ブロックどうしのインピーダンス整合の調整をマイクロ
ストリップラインの長さの変化による位相回転を利用す
る場合、コンデンサの装荷位置の調整が容易な位相器を
得る。 【構成】 誘電体からなる基板1の上面に設けられた弧
形パターン2aを含むストリップ導体であるストリップ
パターン2及び基板1の下面に設けられた接地導体であ
るグランドパターン5を有するマイクロストリップライ
ンと、基板1と直交して配置され弧形パターン2aの曲
率中心を回転中心として回転可能に設けられ、かつグラ
ンドパターン5と電気的に接続された軸導体4と、一端
が軸導体4に固定され、他端が弧形パターン2a上に達
する長さの導体からなり、他端が所定の間隙d1を隔て
て弧形パターン2aと対向すると共に、軸導体4が回転
しても所定の間隙d1が保持されるように配置された移
動導体である平板3とを備えている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、高周波回路における
位相器に関し、特に給電線の長さの調整や回路ブロック
どうしのインピーダンス整合の調整をマイクロストリッ
プラインの長さの変化による位相回転を利用して行う場
合、コンデンサの装荷位置の調整が容易な位相器に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】図11は従来の技術の原理を説明する説
明図で、従来の位相器を用いた調整方法の一例として給
電線長の調整方法の原理を説明する図である。図11に
おいて、8は高周波回路部である。19a,19bは給
電線であり、高周波回路部8の給電線19a,19bの
長さを調整することにより高周波回路部8のインピーダ
ンス整合をとる。11は電源であり、16は使用周波数
で十分インピーダンスの小さいコンデンサである。この
コンデンサの位置の移動により調整を行う。20はグラ
ンドパターンで、給電線19a,19bに平行にパター
ンニングされている。なお、図11は正面図であり、グ
ランドパターン20には、面状のパターンであることを
示すため一部斜線を引いてあるが、これは断面部分を示
すものではない。次に動作について説明する。図11に
示すような高周波回路部8の給電線長の調整では、高周
波回路部8側から見た電源11側のインピーダンスが高
くなるようにする。このため高周波回路では、波動の反
射の性質を利用して任意のポイントでショートすること
により発生する定在波により、回路側から見たとき電圧
が腹で電流が節となる様にすることによって回路側から
見たその周波数でのインピーダンスを高くする手法が使
われる。またショーポイントを変化させることによりイ
ンピーダンスも変化させることができる。これをショー
トスタブという。このショートスタブの調整をする際
は、実装されたコンデンサ16を取り外し、その位置を
移動して再度取り付けるという一連の操作を繰り返し調
整を行っていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来、調整しようとす
る線路に対してグランドと並列にコンデンサを実装して
コンデンサの位置と容量値により回路の特性を調整する
場合、コンデンサをある位置に半田付けで固定しなけれ
ば特性を確認することが出来ないという課題があった。
【0004】この発明はかかる課題を解決するためにな
されたもので、ストリップラインに弧形パターンの部分
を形成し、基板に回転可能に導体からなる軸を設け、こ
の軸に導体を固定し、該導体が弧形パターンに対して所
定の間隙を隔てて対向しながら移動し得るようにするこ
とにより、あるいは前記軸に固定した導体は弧形パター
ンと接触させ、基板に設けた穴の内壁を導体でおおい、
この内壁と軸とが所定の間隙を隔てて対向するようにす
ることによりコンデンサの位置を連続的に移動させ得る
ようにして、調整作業を容易に行うことができる位相器
を得ることを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】この発明の第1発明に係
る位相器は、誘電体からなる基板、この基板の上面に設
けられた弧形パターンを含むストリップ導体及び基板の
下面に設けられた接地導体からなるマイクロストリップ
ラインと、基板と直交して配置され弧形パターンの曲率
中心を回転中心として回転可能に設けられ、かつ接地導
体と電気的に接続された軸導体と、一端が軸導体に固定
され、他端が弧形パターン上に達する長さの導体からな
り、他端が所定の間隙を隔てて弧形パターンと対向する
と共に、軸導体が回転しても所定の間隙が保持されるよ
うに配置された移動導体とを備えたものである。
【0006】第2発明に係る位相器は、第1発明におい
て、弧形パターンと移動導体とで形成される所定の間隙
を誘電体で充填したものである。
【0007】第3発明に係る位相器は、誘電体からなる
第1の基板、この第1の基板の上面に設けられた弧形パ
ターンを含むストリップ導体及び第1の基板の下面に設
けられた接地導体からなるマイクロストリップライン
と、第1の基板と直交して配置され弧形パターンの曲率
中心を回転中心として回転可能に設けられ、かつ接地導
体と電気的に接続された軸導体と、この軸導体に固定さ
れ、少なくとも第1の基板と所定の間隙を隔てて対向す
る面を有する絶縁物からなる第2の基板と、第1の基板
と対向する面に形成され、一端が軸導体に接続され他端
が弧形パターン上に達する長さのパターンからなる移動
導体とを備えたものである。
【0008】第4発明に係る位相器は、第3発明におい
て、弧形パターンと第1の基板と対向する面とで形成さ
れる所定の間隔を誘電体で充填したものである。
【0009】第5発明に係る位相器は、誘電体からなる
基板、この基板の上面に設けられた弧形パターンを含む
ストリップ導体及び基板の下面に設けられた接地導体か
らなるマイクロストリップラインと、基板に弧形パター
ンの曲率中心と同心的に該基板と直交するように設けら
れ、かつその内壁は導体でおおわれると共に該導体が接
地導体と接続されている穴と、穴の内壁をおおっている
導体と所定の間隙を隔てて回転可能に設けられた軸導体
と、一端が軸導体に固定され、他端が弧形パターンと接
触する長さの導体からなる移動導体とを備えたものであ
る。
【0010】第6発明に係る位相器は、第5発明におい
て、穴の内壁をおおっている導体と軸導体とで形成され
る所定の間隙を誘電体で充填したものである。
【0011】第7発明に係る位相器は、誘電体からなる
第1の基板、この第1の基板の上面に設けられた弧形は
パターンを含むストリップ導体及び第1の基板の下面に
設けられた接地導体からなるマイクロストリップライン
と、第1の基板に弧形パターンの曲率中心と同心的に該
基板と直交するように設けられ、かつその内壁は導体で
おおわれると共に該導体が接地導体と接続されている穴
と、穴の内壁をおおっている導体と所定の間隙を隔てて
回転可能に設けられた軸導体と、この軸導体に固定さ
れ、少なくとも第1の基板と所定の間隙を隔てて対向す
る面を有する絶縁物からなる第2の基板と、第1の基板
と対向する面に形成され、一端が軸導体に接続され他端
が弧形パターンと接触する長さのパターンからなる移動
導体とを備えたものである。
【0012】第8発明に係る位相器は、第7発明におい
て、穴の内壁をおおっている導体と軸導体とで形成され
る所定の間隙を誘電体で充填したものである。
【0013】
【作用】この発明の第1発明においては、基板と直交し
て配置され弧形パターンの曲率中心を回転中心として回
転可能に設けられ、かつ接地導体と電気的に接続された
軸導体に移動導体の一端が固定され、該移動導体は他端
が弧形パターン上に達する長さを有し、他端が所定の間
隙を隔てて弧形パターンと対向すると共に、軸導体が回
転しても該所定の間隙が保持されるように配置されてい
るから、弧形パターンと移動導体とで形成されるコンデ
ンサは、その装荷位置を連続的に変化させることができ
る。
【0014】第2発明は、第1発明において、弧形パタ
ーンと移動導体とで形成される所定の間隙を誘電体で充
填したから、コンデンサの容量をおおきくすることがで
きる。
【0015】第3発明においては、第1の基板と直交し
て配置され弧形パターンの曲率中心を回転中心として回
転可能に設けられ、かつ接地導体と電気的に接続された
軸導体に、少なくとも第1の基板と所定の間隙を隔てて
対向する面を有する絶縁物からなる第2の基板が固定さ
れ、第1の基板と対向する面に、一端が軸導体に接続さ
れ他端が弧形パターン上に達する長さのパターンからな
る移動導体が形成されているから、弧形パターンと移動
導体とで形成されるコンデンサは、その装荷位置を連続
的に変化させることができる。さらに第2の基板を設け
たから移動導体を移動させる操作がやり易くなる。
【0016】第4発明は、第3発明において、弧形パタ
ーンと第1の基板と対向する面とで形成される所定の間
隙を誘電体で充填したから、コンデンサの容量を大きく
することができる。
【0017】第5発明においては、マイクロストリップ
ラインの基板には弧形パターンの曲率中心と同心的に該
基板と直交する穴が設けられ、かつその内壁は導体でお
おわれると共に該導体が接地導体と接続され、前記穴の
内壁をおおっている導体と所定の間隙を隔てて回転可能
に軸導体が設けられ、この軸導体に移動導体の一端が固
定され、該移動導体は他端が弧形パターンと接触してい
るから、前記穴の内壁をおおっている導体と軸導体とで
形成されるコンデンサは、その装荷位置を連続的に変化
させることができる。
【0018】第6発明は、第5発明において、穴の内壁
をおおっている導体と軸導体とで形成される所定の間隙
を誘電体で充填したから、コンデンサの容量を大きくす
ることができる。
【0019】第7発明においては、第1の基板には弧形
パターンの曲率中心と同心的に該基板と直交する穴が設
けられ、かつその内壁は導体でおおわれると共に該導体
が接地導体と接続され、前記穴の内壁をおおっている導
体と所定の間隙を隔てて回転可能に軸導体が設けられ、
この軸導体に少なくとも第1の基板と所定の間隔を隔て
て対向する面を有する絶縁物からなる第2の基板が固定
され、第1の基板と対向する面に、一端が軸導体に接続
され他端が弧形パターンと接触する長さのパターンから
なる移動導体が形成されているから、前記穴の内壁をお
おっている導体と軸導体とで形成されるコンデンサは、
その装荷位置を連続的に変化させることができる。さら
に第2の基板を設けたから移動導体を移動させる操作が
やり易くなる。
【0020】第8発明は、第7発明において、穴の内壁
をおおっている導体と軸導体とで形成される所定の間隙
を誘電体で充填したから、コンデンサの容量を大きくす
ることができる。
【0021】
【実施例】
実施例1.図1はこの発明の実施例1による位相器の構
成図であり、(a)は平面図、(b)は側面図である。
図1において、1は誘電体からなる基板であり、上面に
弧形パターン2aと直線パターン2bとで構成されたス
トリップ導体(以下、ストリップパターンと記す)2が
設けられている。また、基板1の下面全面にはマイクロ
ストップラインの地板となる接地導体(以下、グランド
パターンと記す)5が設けられている。そして、基板
1、ストリップパターン2及びグンドパターン5により
一定の特性インピーダンスを有するマイクロストリップ
ラインが構成されている。4は回転軸導体で、弧形パタ
ーン2aの曲率中心を回転中心として回転可能に設けら
れている。また、回転軸導体4はグランドパターン5と
電気的に接続されている。3は導体からなる平板で、一
端が回転軸導体4に固定されており、弧形パターン2a
の外側曲率半径と同等の長さを有している。平板3と弧
形パターン2aとは、平面図(a)で見たときは直角に
交わっており、側面図(b)で見たときは弧形パターン
2aに対して距離d1の間隙が保持されるように配置さ
れている。つまり、基板1の上面に対して平行に配置さ
れている。この平板3は、回転軸導体4を中心にして他
端が弧形パターン2a上を移動する。なお、図1に示す
弧形パターン2aは円形に近いが、完全な円形になって
はいないので、この明細書では図1に示すような形状も
含めて弧形パターンと呼ぶことにする。
【0022】6a,6bはストリップパターン2の接続
端子であり、例えばスルーホールを半分に切断して得ら
れるハーフスルーホールによって形成されている。他に
図示しないがグランドパターン5の接続端子が数個所設
けてある。この端子は、例えばストリップパターン2を
避けた位置にハーフスルーホールにより設ける。また、
表面実装用の端子などでもよい。51はプラスチックで
形成された上部軸受、52はプラスチックで形成された
下部軸受であり、回転軸導体4の軸方向の位置を決める
部品である。上部軸受51は、例えばE形止め輪と同等
の形状に形成し、これを回転軸導体4に設けた溝41に
はめ込んだ後軸受51を基板1に固定する。このように
することにより、回転軸導体4がその軸方向に移動する
のがおさえられ、間隙d1が保持される。なお、回転軸
導体4の回転中心は、弧形パターン2aの曲率中心と同
心的にあけられた穴に、回転軸導体4を嵌め込むことに
よって決まる。
【0023】実施例1の位相器は、上記のように構成さ
れているから、平板3の先端部と弧形パターン2aとが
重なる部分に、対向する導体を電極とするコンデンサC
1が形成される。そして、このコンデンサC1は一方の
端子が弧形パターン2aに接続され、他方の端子が回転
軸導体4を介してグランドパターン5に接続されている
ことになり移動導体である平板3を移動させることによ
り、マイクロストリップラインの弧形パターン2a上
で、その装荷位置が連続的に変化する。従って、ショー
トスタブの調整や、インピーダンスの整合が容易とな
る。
【0024】図2は上記実施例1による位相器をショー
トスタブの一部に接続したときの説明図である。図2に
おいて、7は実施例1の位相器、8は高周波回路部で、
この例は高周波増幅器である。9a,9bは給電線、1
0aは出力ライン、10bは入力ラインである。図2に
示すような高周波増幅回路の給電線では使用周波数にお
いて増幅器側から給電線を見たインピーダンスを高くし
なければならない。この時用いられるのがショートスタ
ブである。図2は、給電線の一部に実施例1の位相器7
を挿入したもので、給電線9a,9bはストリップパタ
ーン2と接続されている。グランドパターン5は増幅器
8のグランドと接続されている。そして、高周波回路部
8から給電線9aを通り位相器7のストリップパターン
2の平板3の位置迄によりショートスタブが構成されて
いる。上記のように接続することにより、直流電流は給
電線9b、ストリップパターン2及び給電線9aを介し
て増幅器8に供給される。一方、高周波電流は給電線9
a及びストリップパターン2を流れた後コンデンサC1
を介してグランドへ流れる。この時、回転軸導体4は回
転可能になっているから、平板3の位置を移動させて、
つまりコンデンサC1の装荷位置を移動させて、最良の
ポイントに容易に調整することができる。即ち、波動の
反射の性質を利用して任意のポイントでショートするこ
とにより発生する定在波により、回路側から見たとき電
圧が腹で電流が節となる様にすることによって回路側か
ら見たその周波数でのインピーダンスを高くする手法に
おいて、コンデンサの装荷位置の調整作業が容易に行え
る。なお、コンデンサC1の容量値は使用周波数で十分
インピーダンスが小さくなるように設定する。また、シ
ョートスタブの長さは理論的にどの位の長さが最適であ
るが決まるので、位相器7の弧形パターン2aの大体真
中で最適となるように、ストリップパターン2の長さと
の関係で給電線9aの長さを予め決めて作っておき、図
2に示すような装置を完成させる段階で平板3を移動さ
せて微調整を行うようにする。
【0025】図3は上記実施例1の位相器をインピーダ
ンス整合に用いたときの説明図である。図3において、
図2と同一符号を付した部分は同一部分を示している。
15a,15bは伝送線路で、この伝送線路もマイクロ
ストリップラインで構成されている。C1は平板3と弧
形パターン2aとで形成されるコンデンサである。位相
器7は高周波回路部8の出力ポートに接続されている。
0 は伝送線線路を構成するマイクロストリップライン
の特性インピーダンスである。図3では高周波回路部8
の出力ポートをマイクロストリップラインの特性インピ
ーダンスZ0 に整合することができる。この整合は、高
周波回路部8の出力ポートから平板3にいたる伝送線路
15bとストリップパターン2とによるストリップライ
ンの長さによる定在波の位相回転とコンデンサC1の組
み合せにより行う。この場合はコンデンサC1は、平板
3の幅、弧形パターン2aの幅、間隙d1などを適当に
設定して必要な容量が得られるように設計する必要があ
る。
【0026】実施例2.図4は実施例2による位相器の
構成図であり、(a)は平面図、(b)は(a)のA−
A線断面図である。図4において、図1〜図3と同一符
号を付した部分は同一部分を示している。この実施例2
は、弧形パターン2aと間隙d1を隔てて配置されてい
る平板3との間に誘電体21を充填したものである。な
お、実施例1は間隙d1の部分が空気である。図4では
基板1の上面全面に誘電体21が一定の厚さで充填され
ている。そして、平板3は誘電体21に接しながら移動
するようになっている。この実施例2によれば、実施例
1と同様の効果が得られ、さらに誘電体21の作用によ
りコンデンサC1の容量値を実施例1の場合に比べて大
きくすることができる。なお、実施例2では、誘電体2
1が基板1の上面全面に充填されているが、コンデンサ
C1が形成される部分、つまり弧形パターン2aの上部
だけに一定の厚さで充填することでもよい。
【0027】実施例3.図5は実施例3による位相器の
構成図であり、(a)は平面図、(b)は(a)のA−
A線断面図である。図5において、図1〜図4と同一符
号を付した部分は同一部分を示している。図5におい
て、23は第2の基板で、この実施例3では絶縁物から
なる円形基板である。この円形基板23は回転軸導体4
に固定され、基板1と所定の間隙を隔てて対向する面2
3aを有しており、この面23aには印刷配線により板
状パターン31が形成されている。この板状パターン3
1の一端は回転軸導体4に接続されている。また、他端
は弧形パターン2aの外周に達する長さを有している。
この実施例3によれば、円形基板23の回転により移動
導体である帯状パターン31が、弧形パターン2aと間
隙d1を保って移動する。従って、帯状パターン31の
先端部と弧形パターン2aとが重なる部分に、対向する
導体を電極として形成されるコンデンサC1は、板状パ
ターン31の移動に伴って、マイクロストリップライン
の弧形パターン2a上でその装荷位置が連続的に変化す
る。また、実施例3では、回転軸導体4に第2の基板で
ある円形基板23を設けているから、板状パターン31
を移動させる操作がやり易い。なお、円形基板23は円
形に限らず多角形でよい。また、板状パターン31を移
動させる操作がし易い状態であればよく、形状は適宜選
定することができる。
【0028】実施例4.図6は実施例4による位相器の
断面図であり、図5(b)と同じ部分で断面した断面図
である。図6において、図1〜図5と同一符号を付した
部分は同一部分を示している。この実施例4は、実施例
3において、弧形パターン2aと間隙d1を隔てて配置
されている板状パターン31との間に誘電体21を充填
したものである。実施例4では、基板1の上面全面に誘
電体21が一定の厚さで充填されている。この点は、図
4に示す実施例2と同じである。この実施例4によれ
ば、実施例3と同様の効果が得られ、さらに誘電体21
の作用によりコンデンサC1の容量値を実施例3の場合
に比べ大きくすることができる。なお、実施例4では、
誘電体21か基板1の上面全面に充填されているが、コ
ンデンサC1が形成される部分、つまり弧形パターン2
aの上部だけに一定の厚さで充填することでもよい。こ
の点は実施例2と同様である。
【0029】実施例5.図7はこの発明の実施例5によ
る位相器の構成図であり、(a)は平面図、(b)は
(a)のA−A線断面図である。図7において、図1〜
図6と同一符号を付した部分は同一部分を示している。
図7において、25は基板1にあけた穴で、弧形パター
ン2aの曲率中心と同心的に基板1に直交させて設けて
ある。26は穴25の内壁をおおう導体で、例えばスル
ーホールを形成する際のメッキにより形成し、形成され
た導体はグランドパターン5と接続されている。この実
施例5では、回転軸導体4は、穴25の内壁をおおって
いる導体26と間隙d2を隔てて軸受51,52により
回転可能に設けられている。また、平板3の他端は弧形
パターン2aと接触している。実施例5では、上部軸受
51は回転軸導体4の軸方向の位置を決めると共に回転
中心を決める作用をしている。実施例5は上記のように
構成されているから、回転軸導体4と穴25の内壁をお
おっている導体26とによりコンデンサC2が形成され
ている。そして、このコンデンサC2は一方の端子が弧
形パターン2aに接続され、他方の端子がグランドパタ
ーン5に接続されていることになり、移動導体である平
板3を移動させることにより、ストリップパターン2a
上でその装荷位置が連続的に変化する。この実施例5に
よれば実施例1と同様の効果が得られる。
【0030】実施例6.図8はこの発明の実施例6によ
る位相器の断面図であり、図7(b)と同じ部分で断面
した断面図である。図8において、図1〜図7と同一符
号を付した部分は同一部分を示している。図8におい
て、27は回転軸導体4と穴25の内壁をおおっている
導体26とで形成される間隙d2に充填された誘電体で
ある。この実施例6によれば、実施例5と同様の効果が
得られ、さらに誘電体27の作用によりコンデンサC2
の容量値を実施例5の場合に比べて大きくすることがで
きる。
【0031】実施例7.図9はこの発明の実施例7によ
る位相器の構成図であり、(a)は平面図、(b)は
(a)のA−A線断面図である。図9において、図1〜
図8と同一符号を付した部分は同一部分を示している。
この実施例7は、実施例5において実施例3と同様の第
2の基板である円形基板23を回転軸導体4に固定した
ものである。この円形基板23は基板1と所定の間隙を
隔てて対向する面23aを有しており、この面23aに
は印刷配線により板状パターン31が形成されている。
この板状パターン31の一端は回転軸導体4に接続され
ており、他端は弧形パターン2aと接触できるだけの長
さを有している。この実施例7によれば、円形基板23
を回転させると移動導体である板状パターン31は、そ
の先端が弧形パターン2aと接触しながら移動する。従
って、回転軸導体4と穴25の内壁をおおっている導体
26とにより形成されるコンデンサC2は、板状パター
ン31の移動にしたがって弧形パターン2a上でその装
荷位置が連続的に変化する。この実施例7によれば、実
施例5と同様の効果が得られ、さらに円形基板23を固
定したことにより板状パターン31を移動させる操作が
やり易い。なお、円形基板23は円形に限らず多角形な
どでもよいことは、実施例3と同様である。
【0032】実施例8.図10はこの発明の実施例8に
よる位相器の断面図であり、図9(b)と同じ部分で断
面した断面図である。図10において、図1〜図9と同
一符号を付した部分は同一部分を示している。この実施
例8は、実施例7において回転軸導体4と穴25の内壁
をおおう導体26とにより形成される間隙d2に誘電体
27を充填したものである。この実施例8によれば、実
施例7と同様の効果が得られる。さらに誘電体27の作
用によりコンデンサC2の容量値を実施例7の場合に比
べ大きくすることができる。
【0033】
【発明の効果】この発明の第1発明は以上説明したとお
り、基板と直交して配置され弧形パターンの曲率中心を
回転中心として回転可能に設けられ、かつ接地導体と電
気的に接続された軸導体に移動導体の一端が固定され、
該移動導体は他端が弧形パターン上に達する長さを有
し、他端が所定の間隙を隔てて弧形パターンと対向する
と共に、軸導体が回転しても該所定の間隙が保持される
ように配置されているから、弧形パターンと移動導体と
で形成されるコンデンサは、その装荷位置を連続的に変
化させることができる。従って、ショートスタブの長さ
の調整やインピーダンス整合における調整作業が容易に
なるという効果がある。
【0034】第2発明は以上説明したとおり、第1発明
において、弧形パターンと移動導体とで形成される所定
の間隙を誘電体で充填したから、コンデンサの容量を大
きくすることができる。従って、インピーダンス整合に
おける調整範囲が広くなるという効果がある。
【0035】第3発明は以上説明したとおり、第1の基
板と直交して配置され弧形パターンの曲率中心を回転中
心として回転可能に設けられ、かつ接地導体と電気的に
接続された軸導体に、少なくとも第1の基板と所定の間
隙を隔てて対向する面を有する絶縁物からなる第2の基
板が固定され、第1の基板と対向する面に、一端が軸導
体に接続され他端が弧形パターン上に達する長さのパタ
ーンからなる移動導体が形成されているから、弧形パタ
ーンと移動導体とで形成されるコンデンサは、その装荷
位置を連続的に変化させることができる。従って、ショ
ートスタブの長さの調整やインピーダンス整合における
調整作業が容易になる。さらに第2の基板を設けたから
移動導体を移動させる操作がやり易くなるという効果が
ある。
【0036】第4発明は以上説明したとおり、第3発明
において、弧形パターンと第1の基板と対向する面とで
形成される所定の間隙を誘電体で充填したから、コンデ
ンサの容量を大きくすることができる。従って、インピ
ーダンス整合における調整範囲が広くなるという効果が
ある。
【0037】第5発明は以上説明したとおり、マイクロ
ストリップラインの基板には弧形パターンの曲率中心と
同心的に該基板と直交する穴が設けられ、かつその内壁
は導体でおおわれると共に該導体が接地導体と接続さ
れ、前記穴の内壁をおおっている導体と所定の間隙を隔
てて回転可能に軸導体が設けられ、この軸導体に移動導
体の一端が固定され、該移動導体は他端が弧形パターン
と接触しているから、前記穴の内壁をおおっている導体
と軸導体とで形成されるコンデンサは、その装荷位置を
連続的に変化させることができる。従って、ショートス
タブの長さの調整やインピーダンス整合における調整作
業が容易になるという効果がある。
【0038】第6発明は以上説明したとおり、第5発明
において、穴の内壁をおおっている導体と軸導体とで形
成される所定の間隙を誘電体で充填したから、コンデン
サの容量を大きくすることができる。従って、インピー
ダンス整合における調整範囲が広くなるという効果があ
る。
【0039】第7発明は以上説明したとおり、第1の基
板には弧形パターンの曲率中心と同心的に該基板と直交
する穴が設けられ、かつその内壁は導体でおおわれると
共に該導体が接地導体と接続され、前記穴の内壁をおお
っている導体と所定の間隙を隔てて回転可能に軸導体が
設けられ、この軸導体に少なくとも第1の基板と所定の
間隙を隔てて対向する面を有する絶縁物からなる第2の
基板が固定され、第1の基板と対向する面に、一端が軸
導体に接続され他端が弧形パターンと接触する長さのパ
ターンからなる移動導体が形成されているから、前記穴
の内壁をおおっている導体と軸導体とで形成されるコン
デンサは、その装荷位置を連続的に変化させることがで
きる。従って、ショートスタブの長さの調整やインピー
ダンス整合における調整作業が容易になる。さらに、第
2の基板を設けたから移動導体を移動させる操作がやり
易くなるという効果がある。
【0040】第8発明は以上説明したとおり、第7発明
において、穴の内壁をおおっている導体と軸導体とで形
成される所定の間隙を誘電体で充填したから、コンデン
サの容量を大きくすることができる。従って、インピー
ダンス整合における調整範囲が広くなるという効果があ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の実施例1による位相器の構成図で
ある。
【図2】 実施例1の位相器をショートスタブの一部に
接続したときの説明図である。
【図3】 実施例1の位相器をインピーダンス整合に用
いたときの説明図である。
【図4】 この発明の実施例2による位相器の構成図で
ある。
【図5】 この発明の実施例3のによる位相器の構成図
である。
【図6】 この発明の実施例4による位相器の断面図で
ある。
【図7】 この発明の実施例5による位相器の構成図で
ある。
【図8】 この発明の実施例6による位相器の断面図で
ある。
【図9】 この発明の実施例7による位相器の構成図で
ある。
【図10】 この発明の実施例8による位相器の断面図
である。
【図11】 従来の技術の原理を説明する説明図であ
る。
【符号の説明】
1 基板、2 ストリップパターン、2a 弧形パター
ン、2b 直線パターン、3 平板、4 回転軸導体、
5,20 グランドパターン、6a,6b 接続端子、
7 位相器、8 高周波回路部、9a,9b,19a,
19b 給電線、12 特性インピーダンス、15a,
15b 伝送線路、16 コンデンサ、21,27 誘
電体、23 円形基板、25 穴、26 導体、31
板状パターン、51 上部軸受、52 下部軸受、C
1,C2 コンデンサ、d1,d2間隙。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 誘電体からなる基板、この基板の上面に
    設けられた弧形パターンを含むストリップ導体及び前記
    基板の下面に設けられた接地導体からなるマイクロスト
    リップラインと、 前記基板と直交して配置され前記弧形パターンの曲率中
    心を回転中心として回転可能に設けられ、かつ前記接地
    導体と電気的に接続された軸導体と、 一端が前記軸導体に固定され、他端が前記弧形パターン
    上に達する長さの導体からなり、前記他端が所定の間隙
    を隔てて前記弧形パターンと対向すると共に、前記軸導
    体が回転しても前記所定の間隙が保持されるように配置
    された移動導体とを備えた位相器。
  2. 【請求項2】 前記弧形パターンと前記移動導体とで形
    成される所定の間隔を誘電体で充填したことを特徴とす
    る請求項1記載の位相器。
  3. 【請求項3】 誘電体からなる第1の基板、この第1の
    基板の上面に設けられた弧形パターンを含むストリップ
    導体及び前記第1の基板の下面に設けられた接地導体か
    なるマイクロストリップラインと、 前記第1の基板と直交して配置され前記弧形パターンの
    曲率中心を回転中心として回転可能に設けられ、かつ前
    記接地導体と電気的に接続された軸導体と、 この軸導体に固定され、少なくとも前記第1の基板と所
    定の間隙を隔てて対向する面を有する絶縁物からなる第
    2の基板と、 前記第1の基板と対向する面に形成され、一端が前記軸
    導体に接続され他端が前記弧形パターン上に達する長さ
    のパターンからなる移動導体とを備えた位相器。
  4. 【請求項4】 前記弧形パターンと前記第1の基板と対
    向する面とで形成される所定の間隙を誘電体で充填した
    ことを特徴とする請求項3記載の位相器。
  5. 【請求項5】 誘電体からなる基板、この基板の上面に
    設けられた弧形パターンを含むストリップ導体及び前記
    基板の下面に設けられた接地導体からなるマイクロスト
    リップラインと、 前記基板に前記弧形パターンの曲率中心と同心的に該基
    板と直交するように設けられ、かつその内壁は導体でお
    おわれると共に該導体が前記接地導体と接続されている
    穴と、 前記穴の内壁をおおっている導体と所定の間隙を隔てて
    回転可能に設けられた軸導体と、 一端が前記軸導体に固定され、他端が前記弧形パターン
    と接触する長さの導体からなる移動導体とを備えた位相
    器。
  6. 【請求項6】 前記穴の内壁をおおっている導体と前記
    軸導体とで形成される所定の間隙を誘電体で充填したこ
    とを特徴とする請求項5記載の位相器。
  7. 【請求項7】 誘電体からなる第1の基板、この第1の
    基板の上面に設けられた弧形パターンを含むストリップ
    導体及び前記第1の基板の下面に設けられた接地導体か
    らなるマイクロストリップラインと、 前記第1の基板に前記弧形パターンの曲率中心と同心的
    に該基板と直交するように設けられ、かつその内壁は導
    体でおおわれると共に該導体が前記接地導体と接続され
    ている穴と、 前記穴の内壁をおおっている導体と所定の間隙を隔てて
    回転可能に設けられた軸導体と、 この軸導体に固定され、少なくとも前記第1の基板と所
    定の間隙を隔てて対向する面を有する絶縁物からなる第
    2の基板と、 前記第1の基板と対向する面に形成され、一端が前記軸
    導体に接続され他端が前記弧形パターンと接触する長さ
    のパターンからなる移動導体とを備えた位相器。
  8. 【請求項8】 前記穴の内壁をおおっている導体と前記
    軸導体とで形成される所定の間隙を誘電体で充填したこ
    とを特徴とする請求項7記載の位相器。
JP7062947A 1995-03-22 1995-03-22 位相器 Pending JPH08265001A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100812066B1 (ko) * 2006-05-24 2008-03-07 엘지이노텍 주식회사 알에프 매칭 회로 및 그 제조 방법
RU2729513C1 (ru) * 2019-11-26 2020-08-07 Федеральное Государственное Бюджетное Образовательное Учреждение Высшего Образования "Новосибирский Государственный Технический Университет" Полосковый фазовращатель
CN111725630A (zh) * 2020-06-23 2020-09-29 Oppo广东移动通信有限公司 阵列天线组件、天线模组及电子设备

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