JPH08262387A - 真空吸着装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 真空吸着時およびエアブロー時の空気の流れ
による摩擦帯電を防止した真空吸着ステージを提供す
る。 【構成】 真空吸着する場合は、バキューム系15を作動
させ、第１のエアオペレートバルブ17をオンさせて真空
排気し、ガラス基板12をステージ11上に真空吸着する。
ガラス基板12の周囲に設けた第１のイオナイザ30で正負
イオンを発生する。エアブローする場合は、エアブロー
系20を作動させ、第２のエアオペレートバルブ22をオン
操作させ、エアブロー配管21に空気を供給する。エアブ
ロー配管21に設けた第２のイオナイザ31は正負イオンを
発生し、エア配管23からの空気とともに配管13を通って
ステージ11の表面からエアブローする。いずれの場合に
もガラス基板12の裏面に空気との摩擦による静電気が発
生するが、正負イオンにより中和する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、被吸着物をステージに
吸着保持する真空吸着装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】たとえば液晶表示装置用の露光ステー
ジ、ガラス基板を加熱するホットプレート、あるいは、
半導体素子に用いるシリコンウエハ用露光装置の露光ス
テージなどのように、ガラス基板をステージ表面に吸着
保持する真空吸着装置が用いられている。

【０００３】そして、一般に露光ステージのように、ガ
ラス基板をステージ表面に真空吸着保持し、所定の加工
を施す装置が、各種電子部品などの製造工程で利用され
ている。

【０００４】従来の、この種の真空吸着装置としては、
たとえば図３に示す構成が知られており、吸着保持用の
ステージ11の表面に、被吸着物であるガラス基板12を吸
着保持し、ステージ11は、吸着面である表面の数箇所に
ガラス基板12を吸着、剥離する開口を備えた配管13を有
している。

【０００５】また、ステージ11の配管13にはバキューム
系15が連通して接続され、このバキューム系15は真空吸
着配管16を有し、この真空吸着配管16は第１のエアオペ
レートバルブ17を介してバキューム配管18と連結してい
る。そして、バキューム配管18の先端部には図示しない
真空機器が連結されており、バキューム配管18内は真空
状態となっている。また、この第１のエアオペレートバ
ルブ17は、真空吸着配管16とバキューム配管18との間を
遮断しオフする一方の弁体17a と、真空吸着配管16とバ
キューム配管18との間を連通しオンする他方の弁体17b
とを有し、これら一方の弁体17a および他方の弁体17b
は切り換え可能になっている。

【０００６】さらに、ステージ11の配管13にはエアブロ
ー系20が連通して接続され、このエアブロー系20はエア
ブロー配管21を有し、このエアブロー配管21は第２のエ
アオペレートバルブ22を介してエア配管23と連結してい
る。そして、このエア配管23の先端部には図示しない送
風設備が設けられており、エア配管23内に加圧空気を供
給する。また、第２のエアオペレートバルブ22は、エア
ブロー配管21とエア配管23との間を遮断しオフする一方
の弁体22a と、エアブロー配管21とエア配管23との間を
連通しオンする他方の弁体22b とを有し、これら一方の
弁体22a および他方の弁体22b は切り換え可能になって
いる。

【０００７】一方、第２のエアオペレートバルブ22には
エキゾースト系25が接続され、このエキゾースト系25は
第２のエアオペレートバルブ22がオフ状態にあるとき一
方の弁体22a を介してエアブロー配管21に通じる連通配
管26を有する。そして、この連通配管26は第３のエアオ
ペレートバルブ27を介してエキゾースト配管28と連結し
ている。このエキゾースト配管28の先端部は大気に開放
している。また、第３のエアオペレートバルブ27は、連
通配管26とエキゾースト配管28との間に位置して遮断し
オフする一方の弁体27a と、連通配管26とエキゾースト
配管28との間を挿通させオンする他方の弁体27b とを有
している。

【０００８】そして、ガラス基板12は図示しない搬送装
置により真空吸着用のステージ11上に載置される。ステ
ージ11による真空吸着が行なわれていない場合、ステー
ジ11の上面とガラス基板12との間には微少な間隔Ｐが生
じ、この間隔Ｐは微少量の空気によって満たされてい
る。なお、このとき第１のエアオペレートバルブ17、第
２のエアオペレートバルブ22および第３のエアオペレー
トバルブ27はオフ状態となっている。

【０００９】まず、真空吸着を行なう場合は、第１のエ
アオペレートバルブ17をオンさせ、他方の弁体17b を真
空吸着配管16とバキューム配管18との間に位置させる。
この動作により、ガラス基板12とステージ11の表面との
間隔Ｐにある空気およびガラス基板12の周囲にある空気
は、配管13、真空吸着配管16、弁体17b およびバキュー
ム配管18を通して真空排気され、ガラス基板12はステー
ジ11上に真空吸着される。

【００１０】また、真空排気過程において、ガラス基板
12とステージ11の表面との間隔Ｐにある空気およびガラ
ス基板12の周囲にある空気は、ガラス基板12の裏面と摩
擦を生じ、このガラス基板12の裏面およびステージ11の
表面に摩擦帯電が発生する。

【００１１】次に、ステージ11上に真空吸着されたガラ
ス基板12を分離するべくエアブローを行なう場合を説明
する。

【００１２】まず、真空吸着を解除するため、第１のエ
アオペレートバルブ17をオフ状態に操作し、ステージ11
の配管13に通じる真空吸着配管16とバキューム配管18と
の間を遮断する。次に、第３のエアオペレートバルブ27
をオン操作して、連通配管26とエキゾースト配管28との
間を連通させる。このとき、連通配管26は、第２のエア
オペレートバルブ22の一方の弁体22a によってエアブロ
ー配管21およびステージ11の配管13に通じており、第３
のエアオペレートバルブ27がオン状態となることによ
り、ステージ11の表面とガラス基板12との間は大気解放
され、真空破壊される。

【００１３】次に、第２のエアオペレートバルブ22をオ
ン操作すると、他方の弁体22b を通してエア配管23とエ
アブロー配管21とが連通する。このため、エア配管23か
ら供給される空気がエアブロー配管21およびステージ11
の配管13を通ってステージ11の表面とガラス基板12との
間にエアブローされ、ガラス基板12に対する真空吸着解
除が行なわれる。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
真空吸着ステージでは、エアブローされた空気がガラス
基板12の裏面と摩擦することにより、ガラス基板12の裏
面とステージ11の表面に摩擦帯電が生じ、ガラス基板12
の真空吸着時および真空吸着解除のためのエアブロー時
に、ガラス基板12の帯電電荷量が増加する。このため、
ガラス基板12に形成されている半導体に静電破壊が生じ
たり、ガラス基板12に隣接する導電体との間でスパーク
放電が生じ、ガラス基板12上にコーティングされたレジ
ストなどの破壊が生じたりする。そして、これらの破壊
による発塵等を誘発し、製品の歩留まりが低下する。

【００１５】本発明の目的は、真空吸着時およびエアブ
ロー時の空気の流れによる摩擦帯電を防止した真空吸着
ステージを提供することにある。

【００１６】

【課題を解決するための手段】本発明は、バキューム系
の作動により被吸着物をステージに真空吸着し、エアブ
ロー系の作動により前記被吸着物と前記ステージとの間
に空気を送って前記被吸着物をステージ表面から剥離さ
せる真空吸着装置において、前記バキューム系および前
記エアブロー系の少なくともいずれか一方の作動に伴っ
てイオンを発生して供給するイオン発生装置を具備した
ものである。

【００１７】

【作用】本発明は、被吸着物をステージ上に真空吸着す
る場合、バキューム系の作動に伴ってイオン発生装置に
よりイオンを発生させ、このイオンを周囲の空気ととも
にガラス基板とステージ表面との間隔に取り込ませ、被
吸着物の裏面と空気との摩擦による帯電電荷はイオンに
よって中和され、ガラス基板の帯電を防止でき、また、
エアブローを行なう場合は、イオン発生装置により、エ
アブロー用の空気中にイオンを発生させ、エアブローさ
れた空気とガラス基板の裏面との摩擦による帯電電荷が
イオンによって中和され、ガラス基板の帯電を防止す
る。

【００１８】

【実施例】以下、本発明の真空吸着装置の一実施例を図
面を参照して説明する。なお、図３に示す従来例に対応
する部分には、同一符号を付して説明する。

【００１９】図１に示すように、吸着保持用のステージ
11の表面に、被吸着物であるガラス基板12を吸着保持
し、ステージ11は、吸着面である表面の数箇所にガラス
基板12を吸着、剥離する開口を備えた配管13を有してい
る。

【００２０】また、ステージ11の配管13にはバキューム
系15が連通して接続され、このバキューム系15は真空吸
着配管16を有し、この真空吸着配管16は第１のエアオペ
レートバルブ17を介してバキューム配管18と連結してい
る。そして、バキューム配管18の先端部には図示しない
真空機器が連結されており、バキューム配管18内は真空
状態となっている。また、この第１のエアオペレートバ
ルブ17は、真空吸着配管16とバキューム配管18との間を
遮断しオフする一方の弁体17a と、真空吸着配管16とバ
キューム配管18との間を連通しオンする他方の弁体17b
とを有し、これら一方の弁体17a および他方の弁体17b
は切り換え可能になっている。

【００２１】さらに、ステージ11の配管13にはエアブロ
ー系20が連通して接続され、このエアブロー系20はエア
ブロー配管21を有し、このエアブロー配管21は第２のエ
アオペレートバルブ22を介してエア配管23と連結してい
る。そして、このエア配管23の先端部には図示しない送
風設備が設けられており、エア配管23内に加圧空気を供
給する。また、第２のエアオペレートバルブ22は、エア
ブロー配管21とエア配管23との間を遮断しオフする一方
の弁体22a と、エアブロー配管21とエア配管23との間を
連通しオンする他方の弁体22b とを有し、これら一方の
弁体22a および他方の弁体22b は切り換え可能になって
いる。

【００２２】一方、第２のエアオペレートバルブ22には
エキゾースト系25が接続され、このエキゾースト系25は
第２のエアオペレートバルブ22がオフ状態にあるとき一
方の弁体22a を介してエアブロー配管21に通じる連通配
管26を有する。そして、この連通配管26は第３のエアオ
ペレートバルブ27を介してエキゾースト配管28と連結し
ている。このエキゾースト配管28の先端部は大気に開放
している。また、第３のエアオペレートバルブ27は、連
通配管26とエキゾースト配管28との間に位置して遮断し
オフする一方の弁体27a と、連通配管26とエキゾースト
配管28との間を挿通させオンする他方の弁体27b とを有
している。

【００２３】また、ステージ11上に載置されたガラス基
板12の周囲には、図２に示すように、イオン発生装置と
しての第１のイオナイザ30が配置されている。この第１
のイオナイザ30は、バキューム系15の作動、すなわち第
１のエアオペレートバルブ17がオン操作され、真空吸着
配管16がバキューム配管18に連通したとき、正負イオン
を発生する。

【００２４】さらに、エアブロー系20に連結する配管、
たとえばエアブロー配管21の途中には、イオン発生装置
としての第２のイオナイザ31が設けられている。この第
２のイオナイザ31は、エアブロー系20の作動、すなわち
第２のエアオペレートバルブ22がオン操作され、エアブ
ロー配管21がエア配管23に連通したとき、これに伴って
正負イオンを発生する。

【００２５】次に、上記実施例の動作について説明す
る。

【００２６】まず、ガラス基板12は図示しない搬送装置
により真空吸着用のステージ11上に載置される。ステー
ジ11による真空吸着が行なわれていない場合、ステージ
11の上面とガラス基板12との間には微少な間隔Ｐが生
じ、この間隔Ｐは微少量の空気によって満たされてい
る。

【００２７】そして、真空吸着を行なう場合は、バキュ
ーム系15を作動させるべく、第１のエアオペレートバル
ブ17をオンさせ、他方の弁体17b を介して真空吸着配管
16とバキューム配管18とを連通させる。この動作によ
り、ガラス基板12とステージ11の表面との間隔Ｐにある
空気およびガラス基板12の周囲にある空気は、ステージ
11の表面から配管13、真空吸着配管16、弁体17b および
バキューム配管18を通して真空排気され、ガラス基板12
はステージ11上に真空吸着される。

【００２８】このとき、ガラス基板12の周囲に設けられ
た第１のイオナイザ30は正負イオンを生じており、これ
ら正負イオンは真空排気過程において、周囲の空気とと
もにガラス基板12とステージ11との間隔Ｐ内に引き込ま
れる。そして、間隔Ｐ内では、ガラス基板12の裏面に空
気との摩擦による静電気が発生するが、この静電気は間
隔Ｐ内に引き込まれた正負イオンにより中和される。こ
のため、ガラス基板12に対する帯電を防止することがで
きる。

【００２９】次に、ステージ11上に真空吸着されたガラ
ス基板12を分離するべくエアブローを行なう場合、ま
ず、第１のエアオペレートバルブ17をオフにし、真空吸
着配管16とバキューム配管18との間を遮断する。次に、
第３のエアオペレートバルブ27をオン操作して、連通配
管26とエキゾースト配管28との間を連通させ、第２のエ
アオペレートバルブ22の一方の弁体22a を通してステー
ジ11の表面とガラス基板12との間を大気解放する。

【００３０】次に、エアブロー系20を作動させるべく第
２のエアオペレートバルブ22をオン操作し、その他方の
弁体22b を通してエア配管23とエアブロー配管21とを連
通させ、エア配管23からエアブロー配管21に空気を供給
する。

【００３１】このとき、エアブロー配管21に設けられた
第２のイオナイザ31は正負イオンを発生しているので、
この正負イオンはエア配管23からの空気とともに配管13
を通ってステージ11の表面からエアブローされる。

【００３２】したがって、エアブローによりガラス基板
12の裏面には空気との摩擦によって静電気が生じるが、
この空気は正負イオンを含むため、この静電気は中和さ
れる。このため、ガラス基板12に対する帯電を防止でき
る。

【００３３】

【発明の効果】本発明の真空吸着装置によれば、真空吸
着時および真空吸着解除時に、ガラス基板と空気との摩
擦により生じる静電気を、イオン発生装置によりこの静
電気発生部分に供給されるイオンで中和するので、ガラ
ス基板への帯電を防止でき、帯電電荷による不具合の発
生を防止し、製品歩留まりを向上できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の真空吸着装置の一実施例を示す系統図
である。

【図２】同上斜視図である。

【図３】従来例の真空吸着装置を示す系統図である。

【符号の説明】

11 ステージ 12 被吸着物としてのガラス基板 15 バキューム系 20 エアブロー系 30 イオン発生装置としての第１のイオナイザ 31 イオン発生装置としての第２のイオナイザ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 バキューム系の作動により被吸着物をス
   テージに真空吸着し、エアブロー系の作動により前記被
   吸着物と前記ステージとの間に空気を送って前記被吸着
   物をステージ表面から剥離させる真空吸着装置におい
   て、 前記バキューム系および前記エアブロー系の少なくとも
   いずれか一方の作動に伴ってイオンを発生して供給する
   イオン発生装置を具備したことを特徴とする真空吸着装
   置。