JPH08244201A - 回転体の液体掻き取り装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 第２ブレードを外すことなくワイピングロー
ラ周囲にスペースを確保する。 【構成】 ドクタブレード３２の接触部に対してワイピ
ングローラ２６の回転方向後側のワイピングローラ２６
の周面に接触する第２ブレード６１を設け、第２ブレー
ド６１をワイピングローラ２６の周面に対して離反させ
る回動機構６３を備え、回動機構６３によって第２ブレ
ード６１をワイピングローラ２６の周面に対して離反さ
せ、第２ブレード６１を外すことなくワイピングローラ
２６の周囲にスペースを確保する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、回転体の液体掻き取り
装置に関し、印刷機の胴の表面に付着したインキを除去
するワイピング装置に適用して好適である。

【０００２】

【従来の技術】例えば、凹版印刷機による印刷作業は、
インキ装置によって凹版胴上の凹版面にインキを転移さ
せ、転移したインキのうち画線部分以外の箇所に付着し
たインキを凹版面に対接して回転するワイピングローラ
で拭き取った後、残った画線部分のインキを凹版胴と圧
胴との間を通過する紙に転写させて印刷を施すものであ
る。ワイピングローラは液槽内に入れた苛性ソーダ水溶
液等の洗浄液体に浸漬されて駆動回転され、表面に着い
たインキが取り除かれている。駆動回転されているワイ
ピングローラは液体掻き取り装置によって液槽内の洗浄
液体の連れ回りが防止され、洗浄液体が凹版胴に付着し
ないようになっている。

【０００３】図５に基づいて従来の液体掻き取り装置を
説明する。図５には従来の液体掻き取り装置を備えたワ
イピング装置の全体状況を示してある。

【０００４】図に示すように、図示しない機台フレーム
には凹版胴１が図中矢印Ａ方向に回転自在に支持され、
凹版胴１の周面には画線部分が凹状に形成された凹版２
が装着されている。ワイピング装置３には箱状の液槽４
が備えられ、液槽４には洗浄液５が蓄えられている。液
槽４にはワイピングローラ６が回転自在且つ軸方向に往
復動自在に支持され、ワイピングローラ６の下方部分は
洗浄液５に浸漬されている。ワイピングローラ６は凹版
胴１と反対の図中矢印Ｂ方向に駆動回転され、ワイピン
グローラ６の周面は凹版胴１の凹版２の表面に対接して
いる。

【０００５】また、液槽４にはワイピングローラ６の軸
方向に沿って４本のブラシ軸７が設けられ、ブラシ軸７
にはベース８が取り付けられている。ベース８にはブラ
シ９が植設され、ブラシ９はパッド１０を介して洗浄液
５内でワイピングローラ６の周面に接触している。ワイ
ピングローラ６の洗浄液５からの出側における液槽４に
はドクタ１１が設けられており、ドクタ１１にはワイピ
ングローラ６の周面に当接するドクタブレード１２が備
えられている。ドクタ１１はねじハンドル１３を操作す
ることによりワイピングローラ６に対して進退自在とな
り、ドクタブレード１２とワイピングローラ６との隙間
が調節される。ドクタブレード１２により、ワイピング
ローラ６の周面に付着して連れ回る洗浄液５が掻き取ら
れるようになっている。

【０００６】図に示すように、ドクタ１１の下方におけ
る液槽４には板ばね１９の基端が固定され、板ばね１９
の先端にはパッド２０が固定されている。パッド２０は
ワイピングローラ６の周面に当接し、パッド２０によっ
てワイピングローラ６の周面の洗浄液５が掻き取られ
る。インキが取り除かれたワイピングローラ６には洗浄
液５から出た時に洗浄液５が連れ回って付着している
が、周面の洗浄液５は先ずパッド２０によって掻き取ら
れ、続けてドクタブレード１２によって掻き取られる。
これにより、ドクタブレード１２の接触圧を高くするこ
となく洗浄液５の掻き取りが十分に行えるようになる。

【０００７】凹版胴１上の凹版２の表面には図示しない
インキ装置によってインキが転移され、画線部分以外の
インキはワイピングローラ６に拭き取られてワイピング
ローラ６の周面に付着する。ワイピングローラ６に付着
したインキは、洗浄液５内で洗浄液５の溶解作用とパッ
ド１０の押し付け作用によって取り除かれる。インキが
取り除かれたワイピングローラ６には洗浄液５から出た
時に洗浄液５が連れ回って付着しているが、周面の洗浄
液５はパッド２０及びドクタブレード１２によって掻き
取られる。これにより、洗浄液５がワイピングローラ６
と共に連れ回って洗浄液５が凹版２に付着する虞がな
い。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】上述したワイピング装
置では、パッド２０は液槽４に固定された状態になって
いるため、ワイピングローラ６の清掃や交換を行う場
合、パッド２０を取り外す必要があり作業性が非常に悪
いものとなっていた。パッド２０を外さずに作業を行う
と、ワイピングローラ６を傷付ける虞があった。

【０００９】また、上述したワイピング装置では、ワイ
ピングローラ６の周面に付着している洗浄液５をドクタ
ブレード１２とパッド２０によって連続して掻き取るよ
うにしているので、洗浄液５の掻き取りが十分に行え
る。しかし、このワイピング装置のドクタブレード１２
及びパッド２０は、ワイピングローラ６の軸方向に沿っ
て長く延びて設けられているために、ドクタブレード１
２とパッド２０の間に洗浄液５が溜まってしまうことが
あった。即ち、パッド２０によって掻き取りきれなかっ
た洗浄液５がドクタブレード１２によって掻き取られる
が、ドクタブレード１２で掻き取られた洗浄液５は逃げ
場がないのでドクタブレード１２とパッド２０の間に溜
まってしまう。溜まった洗浄液５はワイピングローラ６
の側面６ａ側に流れ出し、遠心力によって洗浄液５が飛
散して凹版胴１に付着し、凹版２のインキを溶かし印刷
不良を起こす虞があった。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本発明の構成は、液体が付着して回転駆動される回転
体の周面に離反自在に接触するブレードを備えた回転体
の液体掻き取り装置において、前記ブレードの接触部に
対して前記回転体の回転方向後側の該回転体の周面に接
触する第２ブレードを設け、該第２ブレードを前記回転
体の周面に対して離反させる離反手段を備えたことを特
徴とする。そして、前記第２ブレードの前記回転体の周
面への接触圧力を調整する調整手段を備えたことを特徴
とする。

【００１１】

【作用】回転体の周面に付着している液体は、回転体の
回転に伴って第２ブレードによって掻き取られ続けてブ
レードによって掻き取られる。離反手段によって第２ブ
レードを回転体の周面に対して離反させることにより、
回転体の周囲にスペースを確保する。また、調整手段に
より接触圧力の調整を行うことで、回転体の摩耗や寸法
変化に対応する。

【００１２】

【実施例】図１乃至図３に基づいて本発明の回転体の液
体掻き取り装置を説明する。図に示したものは、印刷機
のワイピング装置におけるワイピングロールから洗浄液
を掻き取るための洗浄液掻き取り装置に適用したもので
ある。従って、ワイピング装置の詳細な説明は省略して
ある。図１には本発明の一実施例に係る液体掻き取り装
置を備えたワイピング装置の要部側面、図２には図１中
の展開平面、図３には図１中の状態から第２ブレードを
離反させた状態を示してある。

【００１３】図１に示すように、図示しない機台フレー
ムには凹版胴２１が図中矢印Ａ方向に回転自在に支持さ
れ、凹版胴２１の周面には画線部分が凹状に形成された
凹版２２が装着されている。ワイピング装置２３には箱
状の液槽２４が備えられ、液槽２４には洗浄液２５が蓄
えられている。液槽２４には回転体としてのワイピング
ローラ２６が回転自在且つ軸方向に往復動自在に支持さ
れており、ワイピングローラ２６の下方部分は洗浄液２
５に浸漬されている。ワイピングローラ２６は図中矢印
Ｂ方向に回転され、ワイピングローラ２６の周面は凹版
胴２１の凹版２２の表面に対接している。液槽２４内に
はワイピングローラ２６周面に接触してインキを取り除
くブラシ部材（図示省略）が設けられている。

【００１４】図１、図２に示すように、ワイピングロー
ラ２６の洗浄液２５からの出側における液槽２４の上面
には図示しない案内ガイドを介してスライドベース２７
がワイピングローラ２６に対して進退自在に支持されて
おり、スライドベース２７にはドクタ２８が移動自在に
支持されている。スライドベース２７はワイピングロー
ラ２６の凹版胴２１に対する着脱の際に図示しないカム
を介して連動して移動される。スライドベース２７には
油圧シリンダ２９が取り付けられ、油圧シリンダ２９の
作動部はピン３０によってドクタ２８に連結されてい
る。油圧シリンダ２９の作動によりスライドベース２７
に対してドクタ２８が移動し、ドクタ２８を単独でワイ
ピングローラ２６に対して進退させることができる。ま
た、ドクタ２８はねじハンドル３１によってもスライド
ベース２７に対して移動し、手動によってドクタ２８を
ワイピングローラ２６に対して進退させることができ
る。

【００１５】ドクタ２８にはワイピングローラ２６の軸
方向に沿って延びるブレードとしてのドクタブレード３
２が固定されており、ドクタブレード３２はワイピング
ローラ２６の周面に当接するようになっている。ねじハ
ンドル３１を操作してドクタ２８を移動させることによ
り、ドクタブレード３２とワイピングローラ２６との隙
間が調節される。

【００１６】一方、図に示すように、装置本体側として
のドクタ２８にはスクレーパユニット４３が着脱自在に
設けられており、スクレーパユニット４３にはワイピン
グローラ２６の側面３３に接触するスクレーパ４４が支
持されている。スクレーパユニット４３はハンドル４３
ａの操作によってドクタ２８に対して着脱される。スク
レーパユニット４３によりスクレーパ４４はワイピング
ローラ２６の軸方向の往復移動に追従して常に側面３３
に接触するようになっている。ワイピングローラ２６の
回転中心Ｐ側寄りのスクレーパ４４の端部４５に対して
スクレーパ４４の反対側の端部（ワイピングローラ２６
の反回転中心Ｐ側の端部）４６は、液槽２４内の洗浄液
２５側に傾斜した状態になっている。ワイピングローラ
２６の側面３３に付着して連れ回る洗浄液２５には、自
重による下方向の動きと遠心力によって外側に向かって
飛び出す方向の動きが同時に働き、ある角度をもって流
れ落ちる。スクレーパ４４の傾斜角度θは、この流れ落
ちる角度と略一致する20度乃至30度の範囲に設定されて
いる。

【００１７】スクレーパ４４の端部４６を液槽２４内の
洗浄液２５側に傾斜させたことにより、スクレーパ４４
で掻き落とされた洗浄液２５はスクレーパ４４の下面に
沿ってなめらかに流れ落ちて液槽２４内に戻される。こ
のため、液槽２４から洗浄液２５が周囲に飛散すること
がなくなり、洗浄液２５の霧状化を防止することができ
る。これにより、周辺部材の錆の発生が抑制されると共
に、作業環境が改善される。また、スクレーパユニット
４３を装置本体側に対して着脱自在に取り付けたので、
簡単に装置本体側から取り外すことができる。

【００１８】一方、ドクタブレード３２の接触部に対し
てワイピングローラ２６の回転方向後側（図中下側）に
はばね鋼で形成された第２ブレード６１が設けられ、第
２ブレード６１の先端部（図中上側）６２はワイピング
ローラ２６の周面に接触している。第２ブレード６１は
先端部位がワイピングローラ２６の回転方向前側に指向
する状態に傾斜して配されている。第２ブレード６１の
基端部は回動機構６３を介して液槽２４に回動自在に支
持され、第２ブレード６１の先端部６２はワイピングロ
ーラ２６の周面に対して離反自在となっている。つま
り、第２ブレード６１は下方から上向きに取り付けら
れ、ワイピングローラ２６の周面に対して面接触の状態
になっている。

【００１９】従って、第２ブレード６１を設けたことに
より、第２ブレード６１によって掻き落とされた洗浄液
２５は第２ブレード６１の下面に沿ってスムーズに液槽
２４内に戻されるので、掻き落とされた洗浄液２５が液
面にたたきつけられることにより生じる霧状化を防止す
ることができる。また、ドクタブレード３２により掻き
落とされた洗浄液２５は第２ブレード６１の上面に沿っ
てスムーズに液槽２４内に戻されるので、ドクタブレー
ド３２と第２ブレード６１との間に洗浄液２５が溜まる
ことがなく、洗浄液２５の霧状化を防止することができ
る。また、ドクタブレード３２の前側でワイピングロー
ラ２６の周面に付着して連れ回る洗浄液２５を掻き落と
すことができるので、ドクタブレード３２の負担を軽減
することが可能になる。また、第２ブレード６１の先端
部６２がワイピングローラ２６の周面に食い込むことが
なく、掻き落とされた洗浄液２５をスムーズに液槽２４
内に戻すことができる。また、第２ブレード６１の弾性
力によって先端部６２をワイピングローラ２６の周面に
面当たりさせているので、接触圧を高くして洗浄液２５
の掻き落としを十分に行うことができる。

【００２０】図１乃至図３に基づいて回動機構６３を説
明する。図１、図２に示すように、スライドベース２７
にはブラケット６５が固定され、ワイピングローラ２６
の中心軸と平行に延びる回転軸６６がブラケット６５に
回動自在に支持されている。また、ブラケット６５には
支持ブラケット６７が回動自在に支持されている。回転
軸６６には第１ホルダ６８及び第２ホルダ６９が固定さ
れ、第１ホルダ６８には第２ブレード６１の基端部が固
定されると共に、第２ホルダ６９には工具７０を挿入す
るための切欠部７１が形成されている。

【００２１】また、回転軸６６には第３ホルダ７２が固
定され、第３ホルダ７２には回動ピン７３が回動自在に
支持されている。回動ピン７３には支軸７４の基端部が
固定され、支軸７４の先端部は支持ブラケット６７に軸
方向に摺動自在に支持されている。支軸７４の先端は支
持ブラケット６７を貫通し、貫通した部位にはダブルナ
ット７５が取り付けられている。回動ピン７３と支持ブ
ラケット６７との間における支軸７４の外周部にはばね
７６が設けられており、ばね７６によって回動ピン７３
及び第３ホルダ７２を介して回転軸６６を一方側に回動
付勢している。ダブルナット７５の調整によって支軸７
４の支持ブラケット６７からの貫通長さを調整すること
によりばね７６の付勢力、即ち、第２ブレード６１のワ
イピングローラ２６への押し付け力を調節することがで
きる（調整手段）。

【００２２】ばね７６による回転軸６６の回動付勢方向
は、回転軸６６の軸心Ｓと支持ブラケット６７の回動中
心Ｔとを結ぶ線分に対して、回動ピン７３の回動中心ｔ
がワイピングローラ２６側に位置する時には図１中反時
計回り方向となって第２ブレード６１をワイピングロー
ラ２６に押し付ける状態にする（図１の状態）。回動ピ
ン７３の回動中心ｔが回転軸６５の軸心Ｓと支持ブラケ
ット６７の回動中心Ｔとを結ぶ線分に対して反ワイピン
グローラ２６側に位置する時には、回転軸６６の回動付
勢方向は時計回り方向となって第２ブレード６１をワイ
ピングローラ２６から離反させる状態にする（図３の状
態）。尚、図中の符号で７７は、第２ブレード６１をワ
イピングローラ２６から離反させる状態に回動させた際
に、第３ホルダ７２に当接することで回転軸６６の回動
位置を規制するストッパである。

【００２３】従って、回動機構６３によって第２ブレー
ド６１を回動自在に保持したことにより、第２ブレード
６１のワイピングローラ２６の周面からの離反が容易に
行えると共に、ダブルナット７５の調整によって第２ブ
レード６１のワイピングローラ２６の周面への接触圧を
自在に調節することが可能になる。また、ワイピングロ
ーラ２６の交換時や液槽２４内の清掃時に第２ブレード
６１をワイピングローラ２６の周面から離しておく必要
がある時には、回動ピン７３の回動中心ｔが回転軸６６
の軸心Ｓと支持ブラケット６７の回動中心Ｔとを結ぶ線
分に対して反ワイピングローラ２６側に位置する状態に
回転軸６６を回転させることにより、第２ブレード６１
をワイピングローラ２６の周面から離反した状態に維持
させることができる。

【００２４】第２ブレード６１を支持する機構として
は、図４に示したうように、エアシリンダ８１によって
第２ブレード６１の基端部を回動自在に支持するように
することも可能である。即ち、回転軸６６にはホルダ８
２が固定され、ホルダ８２には第２ブレード６１の基端
部が固定されている。また、回転軸６６には別のホルダ
９１が固定され、ホルダ９１には回動ピン８３が回動自
在に支持される一方、ブラケット６５にはエアシリンダ
８１の本体８４が回動自在に支持されている。そして、
エアシリンダ８１のピストンロッド８５の先端が回動ピ
ン８３に固定されている。エアシリンダ８１の駆動によ
りピストンロッド８５が縮んだ際に第２ブレード６１が
ワイピングローラ２６に押し付けられ（図中実線の状
態）、ピストンロッド８５が伸長した際に第２ブレード
６１がワイピングローラ２６から離反する（図中破線の
状態）。

【００２５】尚、図中の符号で８６は、ピストンロッド
８５が縮んだ際にホルダ９１が当接して第２ブレード６
１のワイピングローラ２６への接触位置を規制するスト
ッパである。この時、エアシリンダ８１はピストンロッ
ド８５のストロークに余裕を持たせて使用されており、
第２ブレード６１の押し付け圧の調整やワイピングロー
ラ２６の径の変化に対応できるようになっている。ま
た、第２ブレード６１がワイピングローラ２６から離反
した際の位置規制は、ピストンロッド８５の伸長方向の
ストロークエンドによって行われる。

【００２６】上述した実施例は、液体掻き取り装置とし
て、印刷機のワイピング装置におけるワイピングロール
の洗浄液を掻き取る場合に適用したものを示したが、本
発明の液体掻き取り装置は、グラビア印刷機の版胴の周
面から余分なインキを掻き落とす装置（ドクタ装置）と
して適用することも可能である。また、回転体は液体に
漬浸されているものに限らず、ノズル等によって周面に
液体が供給されている回転体に本願発明を適用すること
も可能である。

【００２７】洗浄液掻き取り装置を備えた印刷機のワイ
ピング装置では、ワイピングローラ２６に付着したイン
キが洗浄液２５内で取り除かれる。インキが取り除かれ
たワイピングローラ２６には洗浄液２５から出た時に洗
浄液２５が連れ回って付着しているが、周面の洗浄液２
５は先ず第２ブレード６１によって掻き取られる。ダブ
ルナット７５の調整によって第２ブレード６１のワイピ
ングローラ２６への押し付け力を調節し、洗浄液２５の
ほとんどを第２ブレード６１によって掻き取るようにす
る。第２ブレード６１は下方から上方に延びて全体が傾
斜して配され、先端部６２がワイピングローラ２６の回
転方向前側に指向した状態になっているので、接触圧を
高くしてもワイピングローラ２６の表面に傷が付くこと
がなく、ワイピングローラ２６の周面の状況に係わらず
第２ブレード６１の先端部６２が上方に変形して破損が
生じる虞がない。

【００２８】ワイピングローラ２６の側面３３に付着す
る洗浄液２５は、ワイピングローラ２６の軸方向の移動
に追従して側面３３に接触するスクレーパ４４によって
掻き取られる。ワイピングローラ２６の洗浄液２５に浸
かっている幅よりもスクレーパ４４の側面３３への接触
長さを長くすることにより、側面３３に付着する全ての
洗浄液２５を掻き取ることができる。また、第２ブレー
ド６１によって掻き取ることができなかった洗浄液２５
が側面３３側に流れても、流れた洗浄液２５はスクレー
パ４４によって掻き取られる。

【００２９】この後、ドクタブレード３２によって残っ
た洗浄液２５が掻き取られ、ワイピングローラ２６の周
面を洗浄液２５のない状態に仕上げる。ドクタブレード
３２によって掻き取られた洗浄液２５は、第２ブレード
６１の裏面側を通過して液槽２４内に戻される。このた
め、ドクタブレード３２と第２ブレード６１との間に洗
浄液２５が溜まって側方から洗浄液２５が飛び出すこと
がない。

【００３０】ワイピングローラ２６の洗浄時及び取外し
時には、ドクタブレード３２、スクレーパ４４及び第２
ブレード６１をワイピングローラ２６から離反させる必
要がある。この場合、先ず油圧シリンダ２９の作動によ
ってスライドベース２７と共にドクタブレード３２及び
スクレーパ４４をワイピングローラ２６から離す。次
に、第２ホルダ６９の切欠部７０に工具７０を挿入し、
回転軸６６を時計回り方向に回動させる。これにより、
第２ブレード６１がワイピングローラ２６の周面から離
れる。回転軸６６が一定以上回動すると、ばね７６のば
ね力によって回転軸６６が時計回り方向に付勢され、第
２ブレード６１がワイピングローラ２６の周面から離れ
た状態が維持される。

【００３１】上述した洗浄液掻き取り装置では、ダブル
ナット７５の調整によって第２ブレード６１のワイピン
グローラ２６への押し付け力を調節することで、洗浄液
２５のほとんどを第２ブレード６１によって掻き取るこ
とができるようになるので、ワイピングローラ２６の寸
法変化に対応できると共に、ドクタブレード３２の接触
圧を低くしてワイピングローラ２６やドクタブレード３
２の摩耗を減少させることができる。また、第２ブレー
ド６１は下方から上方に延びて全体が傾斜し、先端部６
２がワイピングローラ２６の回転方向前側に指向した状
態になっているので、接触圧を高くしても第２ブレード
６１を破損させる虞がない。また、回動機構６３によっ
て第２ブレード６１を支持したことにより、第２ブレー
ド６１をワイピングローラ２６の周面から離れた状態に
維持することができ、ワイピングローラ２６の洗浄時及
び取外し時のスペースを確保することができると共に、
スクレーパユニット４３はハンドル４３ａの操作によっ
て簡単に着脱できるので、保守作業が容易となる。

【００３２】上述した洗浄液掻き取り装置を備えたこと
により、ワイピングローラ２６やドクタブレード３２の
摩耗を減少させることができ、ワイピングローラ２６や
ドクタブレード３２の寿命を延ばすことができる。ま
た、ドクタブレード３２と第２ブレード６１との間に洗
浄液２５が溜まることがないので、洗浄液２５が飛び出
して周囲に飛散することがなくなる。更に、第２ブレー
ド６１をワイピングローラ２６の周面から離れた状態に
維持してスペースを確保することができるので、ワイピ
ングローラ２６の洗浄時及び取外し時の作業性が大幅に
向上する。また、ダブルナット７５の調整によって第２
ブレード６１のワイピングローラ２６への押し付け力を
調節することができるので、ワイピングローラ２６の寸
法変化に対しても容易に対処することができる。

【００３３】

【発明の効果】本発明の回転体の液体掻き取り装置は、
ブレードの接触部に対して回転体の回転方向後側の回転
体の周面に接触する第２ブレードを設け、第２ブレード
を回転体の周面に対して離反させる離反手段を備え、離
反手段によって第２ブレードを回転体の周面に対して離
反させるようにしたので、回転体の周囲にスペースを確
保することができる。この結果、回転体の清掃や交換を
行う際の作業性が大幅に向上する。また、第２ブレード
の回転体の周面への接触圧力を調整する調整手段を備え
たので、回転体の摩耗や寸法変化に容易に対処すること
が可能になる。この結果、回転体及びベレードの寿命が
延びて生産性が向上し、周囲への液体の飛散がなくな
り、周辺部品の錆の発生防止と周辺環境の改善を図るこ
とが可能になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例に係る液体掻き取り装置を備
えたワイピング装置の側面図。

【図２】図１中の展開平面図。

【図３】図１中の状態から第２ブレードを離反させた状
態の側面図。

【図４】第２ブレードの支持機構の他の例を表すワイピ
ング装置の側面図。

【図５】従来の液体掻き取り装置を備えたワイピング装
置の全体図。

【符号の説明】

２１ 凹版胴 ２２ 凹版 ２３ ワイピング装置 ２４ 液槽 ２５ 洗浄液 ２６ ワイピングローラ ２７ スライドベース ２８ ドクタ ２９ 油圧シリンダ ３０ ピン ３１ ねじハンドル ３２ ドクタブレード ３３ 側面 ４３ スクレーパユニット ４４ スクレーパ ６１ 第２ブレード ６２ 先端部 ６３ 回動機構 ６５ ブラケット ６６ 回動軸 ６７ 支持ブラケット ６８ 第１ホルダ ６９ 第２ホルダ ７０ 工具 ７１ 切欠部 ７２ 第３ホルダ ７３ 回動ピン ７４ 支軸 ７５ ダブルナット ７６ ばね ７７ ストッパ ８１ エアシリンダ ８２ ホルダ ８３ 回動ピン ８５ 本体 ８５ ピストンロッド ８６ ストッパ

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 液体が付着して回転駆動される回転体の
   周面に離反自在に接触するブレードを備えた回転体の液
   体掻き取り装置において、前記ブレードの接触部に対し
   て前記回転体の回転方向後側の該回転体の周面に接触す
   る第２ブレードを設け、該第２ブレードを前記回転体の
   周面に対して離反させる離反手段を備えたことを特徴と
   する回転体の液体掻き取り装置。
2. 【請求項２】 前記第２ブレードの前記回転体の周面へ
   の接触圧力を調整する調整手段を備えたことを特徴とす
   る請求項１に記載の回転体の液体掻き取り装置。